JPH08107263A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板の製造方法

Info

Publication number
JPH08107263A
JPH08107263A JP26325694A JP26325694A JPH08107263A JP H08107263 A JPH08107263 A JP H08107263A JP 26325694 A JP26325694 A JP 26325694A JP 26325694 A JP26325694 A JP 26325694A JP H08107263 A JPH08107263 A JP H08107263A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
plated
circuit pattern
copper
resist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26325694A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Kobayashi
修 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Avionics Co Ltd
Original Assignee
Nippon Avionics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Avionics Co Ltd filed Critical Nippon Avionics Co Ltd
Priority to JP26325694A priority Critical patent/JPH08107263A/ja
Publication of JPH08107263A publication Critical patent/JPH08107263A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 同一の面に銅めっきした回路パターンと、銅
または銅以外の金属めっきを施した回路パターンとを持
つ場合に、回路パターンを高精度にし、微細パターンに
適し、歩留まりを向上させる。 【構成】 a.絶縁基板に無電解銅めっきを施し、b.
前記両回路パターン部分を除いて無電解銅めっき層の表
面をパターン形成用めっきレジストで覆い、c.前記両
回路パターン部分に電解銅めっきを施し、d.銅めっき
にする回路パターン部分の電解銅めっき層をマスキング
用めっきレジストで覆い、e.金属めっきを施す回路パ
ターン部分の電解銅めっきに、必要な金属めっきを施
し、f.前記工程bおよびdで覆ったパターン形成用め
っきレジストおよびマスキング用めっきレジストを除去
し、g.前記工程fにより前記両回路パターン以外の部
分に表れる無電解銅めっき層をフラッシュエッチングに
より除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、同一の面に銅めっきし
た回路パターン部分と、銅または銅以外の金属めっきを
施した回路パターン部分とを持ったプリント配線板の製
造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子回路の高密度化に伴って、プリント
配線板に裸の半導体素子(ベアチップ)やコンデンサ、
抵抗などの部品を直接搭載したハイブリッドICが用い
られるようになった。この場合、半導体素子とプリント
配線板との接続のため、プリント配線板のパット(電
極)に予め金(Au)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)
あるいははんだ(Sn−Pb)などをめっきすることが
必要になる場合がある。
【0003】またICなどの部品をプリント配線板に実
装する際にも、そのはんだ付け性を向上させたり耐久
性、耐食性を向上させたりするために、プリント配線板
の一部の回路パターンに特別な金属めっきを施すことが
必要になることがある。
【0004】このように一部の回路パターンを銅めっき
とし、他の一部の回路パターンを銅あるいは銅以外の金
属めっきとする場合、従来は図2に示す工程で製造して
いた。この方法は銅張積層板を用いるサブトラクティブ
法に類似するものである。
【0005】この図2の(A)は銅張積層板10を示
し、12は絶縁基板、14はその上面に接着された銅箔
である。この銅箔は約35μmの厚さである。なおこの
図2は実際の厚さは考慮せずに構造のみを模式的に示す
ものである。この銅箔14の上にはパターン形成用めっ
きレジスト16がドライフィルムを用いて形成される
(図2の(B)参照)。すなわちドライフィルムを銅箔
14の全面に張り付け、金属めっきを必要とする回路パ
ターンのフィルムを通して紫外線露光して回路パターン
を焼き付け、現像し、金属めっきの回路パターン部分1
8のみのレジストを除去するものである。
【0006】次にこの基板10は必要とする金属めっき
の種類に応じた金属めっき浴に浸漬されて電解または無
電解金属めっきが行われる(図2の(C))。この時め
っきレジスト16は金属めっきの回路パターン部分18
以外を覆っているから、この部分18だけに金属めっき
が施される。20はこの金属メッキ層を示す。
【0007】ここに金属めっきは、金、ニッケル、銅、
はんだ、あるいは他の合金のめっきでもよい。複数の金
属めっきを重ねてもよい。そしてエッチングレジスト1
6を剥離すれば(図2の(D))、金属メッキの回路パ
ターン20が形成される。
【0008】次に銅めっきの回路パターン部分22をパ
ターン形成用エッチングレジスト24で形成する。すな
わち積層板10の上面全体を再びドライフィルムで覆
い、露光、現像、剥離の処理により銅めっき回路パター
ン部分22のみを残すものである(図2の(E))。そ
してエッチングにより銅箔14の不要な部分を除去する
(図2の(F))。
【0009】この時、金属めっき層20はエッチングの
レジストとして機能する。このため銅箔14は、金属め
っきの回路パターン部分20で覆われた部分26と、エ
ッチングレジスト24で覆われた銅めっきの回路パター
ン部分22とが残る。そしてエッチングレジスト24を
除去すれば、図2(G)に示すように製品が完成する。
【0010】
【従来の技術の問題点】このように従来の方法は、ドラ
イフィルムを2度用いてめっきレジストおよびエッチン
グレジストを形成するため、回路パターンを写し込んだ
ポジまたはネガのフィルムの位置合せ精度が低下し易
く、高精度な製品の製造が困難であった。
【0011】また銅箔14をエッチング(ハードエッチ
ング)するため、レジスト24やレジストとして機能す
る金属めっき層20の下の銅箔までエッチングが進み、
いわゆるアンダーカットが発生する。このため回路パタ
ーンの線幅を十分に狭くすることができない。従って狭
ピッチの微細パターンを形成することが困難となってい
た。さらに特にエッチングレジスト24を形成する際に
ドライフィルムを張り付けると、金属めっき層20のた
めに張り付け面が平坦でないから、ドライフィルムと基
板との間に空隙が生じ易く、製品歩留まりが悪くなるこ
ともあった。
【0012】
【発明の目的】本発明はこのような事情に鑑みなされた
ものであり、同一の面に銅めっきした回路パターンと、
銅または銅以外の金属めっきを施した回路パターンとを
持つ場合に、高精度な回路パターンを形成でき、微細パ
ターンに適し、歩留まりも向上させることが可能なプリ
ント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【0013】
【発明の構成】本発明によればこの目的は、銅めっきを
した回路パターン部分と銅または銅以外の金属めっきを
した回路パターン部分とを同一面に有するプリント配線
板の製造方法において、 a.絶縁基板に無電解銅めっきを施し、 b.前記両回路パターン部分を除いて無電解銅めっき層
の表面をパターン形成用めっきレジストで覆い、 c.前記両回路パターン部分に電解銅めっきを施し、 d.銅めっきにする回路パターン部分の電解銅めっき層
をマスキング用めっきレジストで覆い、 e.金属めっきを施す回路パターン部分の電解銅めっき
に、必要な金属めっきを施し、 f.前記工程bおよびdで覆ったパターン形成用めっき
レジストおよびマスキング用めっきレジストを除去し、 g.前記工程fにより前記両回路パターン以外の部分に
表れる無電解銅めっき層をフラッシュエッチングにより
除去する、ことを特徴とするプリント配線板の製造方
法、により達成される。
【0014】
【実施例】図1は本発明の製造方法の一実施例を示す図
である。この方法は、銅箔を張り付けてない絶縁基板5
0を素材として使用し(図1の(A)参照)、回路パタ
ーン部分だけに導電材料を折出固着させて回路パターン
を形成するアディティブ法に類似するものである。
【0015】まず絶縁基板50のパターン形成面(上
面)に無電解銅めっきを行う。図1の(B)で52はこ
のめっき処理で形成された無電解銅めっき層である。こ
の無電解銅めっき層52の上にはマスキング用めっきレ
ジスト54が形成される。このレジスト54はスクリー
ン印刷法で形成することができるが、ドライフィルムを
用いて回路パターンの露光・現像・剥離の各処理により
形成することも可能である。特にドライフィルムを用い
る場合、無電解銅めっき層52が平坦であるため、ドラ
イフィルムとこの無電解銅めっき層52との間に空隙が
できるおそれが少なく、歩留まり低下を招くおそれがな
い。
【0016】このレジスト54は、銅めっきの回路パタ
ーン部分56と金属めっきの回路パターン部分58とを
除く領域を覆うものである(図1の(C))。レジスト
54を形成した基板50は銅めっき浴に浸漬し、これら
両回路パターン部分56、58に電解銅めっきを施す。
図1の(D)で56A、58Aはそれぞれ電解銅めっき
層であり、25μm以上の厚さにするのが望ましい。
【0017】次に銅めっき回路パターン部分56をマス
キング用めっきレジスト60で覆う(図1の(E))。
このレジスト60はスクリーン印刷法により供給され
る。ここにレジスト60は回路パターン部分56よりも
広い範囲を覆うようにしておくことにより、スクリーン
印刷の位置決め精度をあまり高めることなく歩留まり低
下を防ぐことができる。
【0018】このように銅めっき回路パターン部分56
の銅めっき層56Aをレジスト60でマスキングした
後、全体を金属めっき浴に浸漬し、必要な金属をめっき
する。図1の(F)で62はこの金属めっき層である。
この金属めっきは、例えばはんだ付け性を向上させるも
のであり、金、ニッケル、銅、はんだ(錫−鉛)などで
ある。
【0019】勿論これらの金属めっきに限られるもので
はなく、他の金属や複数の金属を重ねてめっきしてもよ
い。なおこの金属めっき層62に銅をめっきする場合に
は、電解銅めっき層58Aの上に同じ銅を重ねてめっき
することになる。このように同種の銅を重ねることによ
り銅めっき層の厚さを高精度に管理することができる。
【0020】この金属めっきが終ると、前記図1の
(C)および(E)で説明したマスキング用めっきレジ
スト54および60を除去する(図1の(G))。この
状態では両回路パターン部分56、58以外の部分が図
1の(B)で説明した無電解銅めっき層52で覆われて
いる。
【0021】そこでこれをフラッシュエッチングにより
除去する(図1の(H))。ここにフラッシュエッチン
グは銅表面層を軽く溶解除去して1〜5μm程度の軽い
エッチングを行うものであり、無電解銅めっき層52は
十分に薄く施されるから、銅めっき層56Aや金属めっ
き層62にほとんど影響を与えることなくこの不用な無
電解銅めっき層52のみを完全に除去することができ
る。
【0022】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、マスキング用
めっきレジスト(54)に銅めっき回路パターン部分
(56)と金属めっき回路パターン部分(58)とを同
時に形成すると共に、後の工程で銅めっきパターン(5
6A)をマスキングするめっきレジスト(60)はこの
回路パターン(56A)より広くマスキングすることが
許されるから、両回路パターン(56Aと58A)の位
置ずれが発生するおそれが無い。このため高精度な回路
パターンを形成することができる。
【0023】またエッチング処理は最後の不要な無電解
銅めっき層(52)の除去で用いられるだけであり、こ
のめっき層(52)は極めて薄いから回路パターン(5
6A、58A)のアンダーカットが発生しない。このた
め回路パターンの線間隔を十分に狭くすることができ、
微細回路パターンの形成が可能である。さらにドライフ
ィルムをレジストとして用いるとしても、平坦な無電解
銅めっき層(52)の上面全体に張り付けるから、両者
間に空隙ができるおそれが少なくなり、製品の歩留まり
低下を招くおそれがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一製造工程説明図
【図2】従来の製造工程説明図
【符号の説明】
50 絶縁基板 52 無電解銅めっき層 54 マスキング用めっきレジスト 56 銅めっき回路パターン部分 56A 銅めっき層 58 金属メッキ回路パターン部分 58A 銅めっき層 60 マスキングめっきレジスト 62 金属めっき層

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 銅めっきをした回路パターン部分と銅ま
    たは銅以外の金属めっきをした回路パターン部分とを同
    一面に有するプリント配線板の製造方法において、 a.絶縁基板に無電解銅めっきを施し、 b.前記両回路パターン部分を除いて無電解銅めっき層
    の表面をパターン形成用めっきレジストで覆い、 c.前記両回路パターン部分に電解銅めっきを施し、 d.銅めっきにする回路パターン部分の電解銅めっき層
    をマスキング用めっきレジストで覆い、 e.金属めっきを施す回路パターン部分の電解銅めっき
    に、必要な金属めっきを施し、 f.前記工程bおよびdで覆ったパターン形成用めっき
    レジストおよびマスキング用めっきレジストを除去し、 g.前記工程fにより前記両回路パターン以外の部分に
    表れる無電解銅めっき層をフラッシュエッチングにより
    除去する、ことを特徴とするプリント配線板の製造方
    法。
JP26325694A 1994-10-04 1994-10-04 プリント配線板の製造方法 Pending JPH08107263A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26325694A JPH08107263A (ja) 1994-10-04 1994-10-04 プリント配線板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26325694A JPH08107263A (ja) 1994-10-04 1994-10-04 プリント配線板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08107263A true JPH08107263A (ja) 1996-04-23

Family

ID=17386949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26325694A Pending JPH08107263A (ja) 1994-10-04 1994-10-04 プリント配線板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08107263A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030005007A (ko) * 2001-07-05 2003-01-15 스미토모덴키고교가부시키가이샤 회로기판과 그 제조방법 및 고출력 모듈
KR100684864B1 (ko) * 2004-01-23 2007-02-22 가시오 마이크로닉스 가부시키가이샤 프린트 배선 기판, 그 제조 방법과 제조 장치, 배선 회로패턴 및 프린트 배선판
KR100752016B1 (ko) * 2006-01-19 2007-08-28 삼성전기주식회사 인쇄회로기판의 제조방법
KR100891199B1 (ko) * 2007-09-07 2009-04-02 주식회사 코리아써키트 표면처리방법을 개선한 기판 제조 방법
KR100914337B1 (ko) * 2007-12-10 2009-08-27 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 제조 방법
JP2022027927A (ja) * 2019-12-10 2022-02-14 日東電工株式会社 配線回路基板の製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030005007A (ko) * 2001-07-05 2003-01-15 스미토모덴키고교가부시키가이샤 회로기판과 그 제조방법 및 고출력 모듈
KR100684864B1 (ko) * 2004-01-23 2007-02-22 가시오 마이크로닉스 가부시키가이샤 프린트 배선 기판, 그 제조 방법과 제조 장치, 배선 회로패턴 및 프린트 배선판
KR100752016B1 (ko) * 2006-01-19 2007-08-28 삼성전기주식회사 인쇄회로기판의 제조방법
KR100891199B1 (ko) * 2007-09-07 2009-04-02 주식회사 코리아써키트 표면처리방법을 개선한 기판 제조 방법
KR100914337B1 (ko) * 2007-12-10 2009-08-27 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 제조 방법
JP2022027927A (ja) * 2019-12-10 2022-02-14 日東電工株式会社 配線回路基板の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3666955B2 (ja) 可撓性回路基板の製造法
US3778530A (en) Flatpack lead positioning device
JPH09246719A (ja) 基板の導体層の形成方法
US7080448B2 (en) PCB with inlaid outer-layer circuits and production methods thereof
US4610758A (en) Manufacture of printed circuit boards
KR20050093595A (ko) 선택도금에 의한 양면연성 인쇄회로기판의 제조방법
JPH08107263A (ja) プリント配線板の製造方法
JPH05259639A (ja) プリント配線板の製造方法
KR20060066971A (ko) 양면 연성회로기판 제조방법
JPH036880A (ja) ブリント配線板及びその製造方法
JPH1117315A (ja) 可撓性回路基板の製造法
JPH06252529A (ja) プリント配線板の製造方法
JPH03225894A (ja) プリント配線板の製造方法
JPH06112628A (ja) 配線パターンを有する回路基板の製造方法
JPH0548246A (ja) フレキシブルプリント配線板の製造方法
JPH0567871A (ja) 印刷配線板及びその製造方法
JPH08255870A (ja) 電子部品実装板及びその製造方法
KR20030042873A (ko) 순수금속의 레지스트 도금을 이용한 인쇄회로기판의회로형성방법
JPH01196196A (ja) プリント配線板における半田層の形成方法
JP3648753B2 (ja) 配線基板の製造方法
JPH05259609A (ja) プリント配線板の製造方法
JPH05251848A (ja) プリント配線板の製造方法
JPS5832798B2 (ja) 印刷配線板の製造法
JPS60208895A (ja) プリント配線板の製造方法
KR20110131045A (ko) 단층인쇄회로기판 및 그 제조방법