JPH08106792A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH08106792A
JPH08106792A JP24312894A JP24312894A JPH08106792A JP H08106792 A JPH08106792 A JP H08106792A JP 24312894 A JP24312894 A JP 24312894A JP 24312894 A JP24312894 A JP 24312894A JP H08106792 A JPH08106792 A JP H08106792A
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JP
Japan
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memory cell
power supply
program circuit
supplied
side power
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JP24312894A
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Tomoaki Kojo
智章 古城
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は多数の記憶セルに十分な書き込み電流
を同時に供給可能として、動作試験に要する時間を短縮
可能とした半導体記憶装置を提供することを目的とす
る。 【構成】セル情報の読み出し動作時には第一の高電位側
電源Vccに基づいてロウデコーダ2及びコラムデコーダ
5が動作して、メモリセルアレイ1内で選択された記憶
セルからセル情報が読み出しデータDout として読み出
される。セル情報の書き込み動作時には第一の高電位側
電源Vccより高電圧の第二の高電位側電源Vppがロウデ
コーダ2及びコラムデコーダ5とプログラム回路4とに
供給され、プログラム回路4に入力される入力データD
inに基づいて、選択された記憶セルに書き込み動作が行
われる。動作試験における書き込み動作時には、外部端
子Pからプログラム回路4に第二の高電位側電源Vppが
直接に供給される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、通常電源より高い電
圧で記憶セルに書き込み動作を行うEPROM等の半導
体記憶装置に関するものである。
【0002】近年、半導体記憶装置は益々高集積化及び
大容量化が進んでいる。半導体記憶装置は、その出荷前
に動作試験が行われるが、大容量化にともなって、動作
試験に要する時間が長くなり、試験コストが上昇する傾
向にある。
【0003】また、書き込み動作時に通常電源より高い
電圧を必要とするEPROM等の不揮発性半導体記憶装
置においても、大容量化にともなって動作試験に要する
時間が長くなっている。
【0004】そこで、試験コストを低減するために、試
験時間の短縮を図ることが必要となっている。
【0005】
【従来の技術】従来のEPROMの一例を図7に示す。
メモリセルアレイ1内には多数のEPROMセルが配設
され、各セルにはワード線(図示しない)及びビット線
BLが接続される。
【0006】前記メモリセルアレイ1に隣接してロウデ
コーダ2が配設され、同ロウデコーダ2には外部からロ
ウアドレス信号ADrが入力される。そして、ロウデコ
ーダ2は入力されたロウアドレス信号ADrに基づいて
いずれか一本のワード線を選択する。
【0007】前記各ビット線BLは、それぞれNチャネ
ルMOSトランジスタで構成される転送ゲートTg を介
してセンスアンプ3及びプログラム回路4に接続され
る。前記メモリセルアレイ1に隣接してコラムデコーダ
5が配設され、同コラムデコーダ5には外部からコラム
アドレス信号ADcが入力される。
【0008】そして、コラムデコーダ5は入力されたコ
ラムアドレス信号ADcに基づいてコラム選択信号を出
力して、いずれか一つの転送ゲートTg をオンさせるよ
うになっている。
【0009】前記センスアンプ3は、セル情報の読み出
し動作時に活性化され、前記ロウアドレス信号ADr及
びコラムアドレス信号ADcに基づいて選択されたEP
ROMセルから読みだされるセル情報を増幅して、読み
出しデータDout として出力する。
【0010】前記プログラム回路4には、「1」若しく
は「0」の入力データDinが入力される。また、前記プ
ログラム回路4、ロウデコーダ2及びコラムデコーダ5
には通常電源Vccと、高電位電源Vppのいずれかがスイ
ッチ回路6を介して入力される。
【0011】前記スイッチ回路6は、NチャネルMOS
トランジスタTr1,Tr2のソースが互いに接続されて、
前記プログラム回路4、ロウデコーダ2及びコラムデコ
ーダ5に接続される。
【0012】前記トランジスタTr1のドレインは電源V
ppに接続され、前記トランジスタTr2のドレインは電源
Vccに接続される。前記トランジスタTr1,Tr2のゲー
トには相補制御信号CL,バーCLが入力される。
【0013】そして、セル情報の書き込み動作時にはト
ランジスタTr1がオンされて、プログラム回路4、ロウ
デコーダ2及びコラムデコーダ5に電源Vppが供給さ
れ、読み出し動作時にはトランジスタTr2がオンされ
て、電源Vccが供給される。
【0014】前記プログラム回路4の具体的構成を図8
に従って説明する。前記入力データDinは2段のインバ
ータ回路7a,7bを介してNチャネルMOSトランジ
スタTr3のゲートに入力される。
【0015】前記トランジスタTr3のドレインには、書
き込み動作時に前記スイッチ回路6から電源Vppが供給
される。そして、トランジスタTr3のソースが転送ゲー
トTg を介して前記ビット線BLに接続される。
【0016】このような構成により、入力データDinが
Hレベルとなると、トランジスタTr3がオンされて電源
Vppが選択されたビット線BLに供給され、入力データ
DinがLレベルとなると、トランジスタTr3がオフされ
て、電源Vppの供給は遮断される。
【0017】なお、インバータ回路7bには電源Vppを
供給して、同インバータ回路7bのHレベルの出力信号
を電源Vppレベルとすることにより、トランジスタTr3
のソースからビット線BLに電源Vppレベルに近い電位
が供給されるようになっている。
【0018】このように構成されたEPROMでは、書
き込み動作時にはスイッチ回路6のトランジスタTr1が
オンされて、前記プログラム回路4、ロウデコーダ2及
びコラムデコーダ5に電源Vppが供給される。
【0019】そして、ロウデコーダ2にロウアドレス信
号ADrが入力されると、選択されたワード線に電源V
ppが供給され、コラムデコーダ5にコラムアドレス信号
ADcが入力されると、選択された転送ゲートTg に電
源Vppが供給されて、同転送ゲートTg に接続された特
定のビット線BLが選択され、プログラム回路4に接続
される。
【0020】また、プログラム回路4に入力される入力
データDinが「1」すなわちHレベルであれば、同プロ
グラム回路4に供給された電源Vppが、選択されたビッ
ト線BLに出力され、入力データDinが「0」すなわち
Lレベルであれば、ビット線BLへの電源Vppの供給は
遮断される。
【0021】このような動作により、選択されたEPR
OMセルのゲート及びドレインに電源Vppが供給される
と、「1」のセル情報が書き込まれ、ドレインに電源V
ppが供給されない場合には、初期値を保持する。
【0022】読み出し動作時には、スイッチ回路6のト
ランジスタTr2がオンされて、前記プログラム回路4、
ロウデコーダ2及びコラムデコーダ5に電源Vccが供給
される。
【0023】ロウデコーダ2にロウアドレス信号ADr
が入力されると、選択されたワード線に電源Vccが供給
され、コラムデコーダ5にコラムアドレス信号ADcが
入力されると、選択された転送ゲートTg に電源Vccが
供給されて、特定のEPROMセルからセル情報が読み
だされる。
【0024】そして、読みだされたセル情報がセンスア
ンプ3で増幅されて、読み出しデータDout として出力
される。
【0025】
【発明が解決しようとする課題】上記のように構成され
たEPROMでは、書き込み動作時にEPROMセルの
ドレインに供給される電源Vppは、スイッチ回路6及び
プログラム回路4及び当該EPROMセルに接続される
ビット線BLを介して供給される。
【0026】このため、動作試験時において、例えば複
数本のビット線BLを同時に選択することにより、同時
に多数のEPROMセルに書き込み動作を行って、試験
時間を短縮しようとしても、スイッチ回路6及びプログ
ラム回路4の電流供給能力が不足する。
【0027】また、スイッチ回路6及びプログラム回路
4に十分な電流供給能力を確保しようとすると、トラン
ジスタTr1,Tr3のサイズを大きくする必要があって、
集積度が低下するため、好ましくない。
【0028】従って、同時に書き込み動作を行うことが
可能なセル数は、せいぜい数個となり、試験時間を十分
に短縮することができないという問題点がある。この発
明の目的は、多数の記憶セルに十分な書き込み電流を同
時に供給可能として、動作試験に要する時間を短縮可能
とした半導体記憶装置を提供することにある。
【0029】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。すなわち、セル情報の読み出し動作時には第
一の高電位側電源Vccに基づいてロウデコーダ2及びコ
ラムデコーダ5が動作して、メモリセルアレイ1内で選
択された記憶セルからセル情報が読み出しデータDout
として読み出される。セル情報の書き込み動作時には前
記第一の高電位側電源Vccより高電圧の第二の高電位側
電源Vppが前記ロウデコーダ2及びコラムデコーダ5と
プログラム回路4とに供給され、前記プログラム回路4
に入力される入力データDinに基づいて、選択された記
憶セルに書き込み動作が行われる。前記第二の高電位側
電源Vppを供給するための外部端子Pが備えられ、動作
試験における書き込み動作時には、前記外部端子Pから
前記プログラム回路4に前記第二の高電位側電源Vppが
直接に供給される。
【0030】また、図2に示すように前記メモリセルア
レイ1は複数のブロックB1,B2に分割され、前記プ
ログラム回路4a,4bが前記各ブロックB1,B2毎
に設けられ、前記プログラム回路4a,4bには該プロ
グラム回路を動作させるか否かを選択する選択装置9が
接続される。通常動作時には前記選択装置9に入力され
るアドレス信号ADpに基づいていずれか一つずつのプ
ログラム回路が動作し、動作試験時には前記選択装置9
に入力されるテスト信号TSに基づいて各プログラム回
路4a,4bが同時に動作する。
【0031】また、図3に示すように前記記憶セルに接
続されるビット線BLを選択するコラムデコーダ5a
は、動作試験時に入力されるテスト信号TSに基づい
て、偶数番のビット線及び奇数番のビット線のいずれか
を交互に同時に選択する。
【0032】また、前記記憶セルに接続されるワード線
を選択するロウデコーダは、動作試験時に入力されるテ
スト信号に基づいて、偶数番のワード線及び奇数番のワ
ード線のいずれかを交互に同時に選択する。
【0033】
【作用】動作試験における書き込み動作時には、外部端
子Pからプログラム回路4に直接に第二の高電位側電源
Vppが供給されるので、プログラム回路4に十分な書き
込み電流が供給される。
【0034】また、図2においては動作試験における書
き込み動作時に、メモリセルアレイ1の各ブロックB
1,B2毎に設けられたプログラム回路4a,4bが同
時に動作して、各ブロックB1,B2内の複数の記憶セ
ルに同時に書き込み動作が行われる。
【0035】また、図3においては動作試験における書
き込み動作時に、コラムデコーダ5が偶数番のビット線
及び奇数番のビット線のいずれかを交互に同時に選択す
るので、ワード線を順次選択することにより、メモリセ
ルアレイ1内の記憶セルに対し、一つおきの記憶セルに
同一データが速やかに書き込まれる。
【0036】また、動作試験における書き込み動作時
に、ロウデコーダ5が偶数番のワード線及び奇数番のワ
ード線のいずれかを交互に同時に選択するので、ビット
線を順次選択することにより、メモリセルアレイ1内の
記憶セルに対し、一つおきの記憶セルに同一データが速
やかに書き込まれる。
【0037】
【実施例】図2はこの発明を具体化した第一の実施例を
示す。なお、前記従来例と同一構成部分は同一符号を付
してその説明を省略する。
【0038】メモリセルアレイ1は、複数のブロックB
1,B2に分割され、センスアンプ3a,3b及びプロ
グラム回路4a,4bは、メモリセルアレイ1の各ブロ
ックB1,B2毎にそれぞれ設けられる。
【0039】前記プログラム回路4a,4bには、入力
データDinがそれぞれ入力され、前記センスアンプ3
a,3bの出力信号は、デコーダ8で選択されて読み出
しデータDout として出力される。
【0040】前記プログラム回路4a,4bには、外部
端子Pが接続され、動作試験時にはその外部端子Pから
プログラム回路4a,4bに電源VPPを供給可能となっ
ている。
【0041】また、前記プログラム回路4a,4bに
は、前記スイッチ回路6が接続され、通常の書き込み動
作及び読み出し動作時には、電源VPP及び電源Vccのい
ずれかが供給される。
【0042】前記プログラム回路4a,4bには、デコ
ーダ9が接続され、同デコーダ9には外部から入力され
るアドレス信号ADpと、テスト信号TSが入力され
る。そして、前記デコーダ9はアドレス信号ADpに基
づいて、プログラム回路4a,4bのうち、いずれか一
つを選択して動作させる。
【0043】また、前記テスト信号TSは動作試験時に
外部からデコーダ9に入力され、同デコーダ9はそのテ
スト信号TSに基づいて、アドレス信号ADpに関わら
ず、プログラム回路4a,4bを同時に並行して動作さ
せる。
【0044】このように構成されたEPROMでは、動
作試験時には外部端子Pに電源VPPを供給し、デコーダ
9にテスト信号TSを入力する。すると、デコーダ9に
よりプログラム回路4a,4bが同時に選択され、入力
データDinに基づいて同プログラム回路4a,4bから
メモリセルアレイ1の各ブロックB1,B2に電源VPP
が供給される。
【0045】この状態で、ロウアドレス信号ADrによ
りワード線を1本選択し、コラムアドレス信号ADcに
より、例えば複数本のビット線BLを選択すれば、各ブ
ロックB1,B2において多数のEPROMセルが同時
に選択されて書き込み動作が行われる。
【0046】また、通常の書き込み動作時には、デコー
ダ9にテスト信号TSが入力されないため、デコーダ9
に入力されるアドレス信号ADpにより、プログラム回
路4a,4bのいずれかが選択される。
【0047】すると、スイッチ回路6から入力される電
源VPPはブロックB1,B2のいずれかに供給される。
そして、コラムアドレス信号ADcと、ロウアドレス信
号ADrに基づいて選択されるEPROMセルに入力デ
ータDinに基づいて書き込み動作が行われる。
【0048】また、セル情報の読み出し動作時には、コ
ラムアドレス信号ADcと、ロウアドレス信号ADrに
基づいて、ブロックB1,B2でそれぞれ選択されたE
PROMセルからセル情報が読みだされる。
【0049】読みだされたセル情報は、それぞれセンス
アンプ3a,3bを介してデコーダ8に入力され、同デ
コーダ8によりいずれかのセル情報が選択されて読み出
しデータDout として出力される。
【0050】以上のようにこのEPROMでは、動作試
験時には外部端子Pからプログラム回路4a,4bに電
源VPPが直接供給されるため、スイッチ回路6の電流供
給能力に関わらず、プログラム回路4a,4bに十分な
書き込み電流を供給することができる。
【0051】そして、プログラム回路4a,4bは各ブ
ロックB1,B2毎に設けられるので、各プログラム回
路4a,4bから各ブロックB1,B2に十分な書き込
み電流を供給することができる。
【0052】また、コラムアドレス信号ADcに基づい
て、コラムデコーダ5により同時に多数本のビット線B
Lを選択すれば、同時に多数のEPROMセルに入力デ
ータDinに基づくセル情報を書き込むことができる。従
って、動作試験に要する時間を短縮することができる。
【0053】次に、この発明を具体化した第二の実施例
を図3に従って説明する。この実施例は、コラムデコー
ダ5aにテスト信号TSを入力して、同テスト信号TS
の入力時には多数本のビット線のうち、偶数番のビット
線及び奇数番のビット線を交互に選択するようにしたも
のであり、その他の構成は前記第一の実施例と同様であ
る。
【0054】前記コラムデコーダ5aの一例を図4に従
って説明する。このコラムデコーダ5aは、2ビットの
コラムアドレス信号A0,A1に基づいて、4本のビッ
ト線BL0〜BL3の中から何れかを選択するものであ
る。
【0055】前記アドレス信号A0は、インバータ回路
7cを介してNAND回路10a,10cの一方の入力
端子に入力され、NAND回路10b,10dの一方の
入力端子に入力される。
【0056】前記アドレス信号A1は、NAND回路1
0eの一方の入力端子に入力され、インバータ回路7d
を介してNAND回路10fの一方の入力端子に入力さ
れる。
【0057】前記テスト信号TSは、NAND回路10
e,10fの他方の入力端子に入力される。前記NAN
D回路10eの出力信号は、NAND回路10a,10
bの他方の入力端子に入力され、前記NAND回路10
fの出力信号は、NAND回路10c,10dの他方の
入力端子に入力される。
【0058】前記NAND回路10aの出力信号は、3
段のインバータ回路を介してコラム選択信号CL0とし
て出力され、そのコラム選択信号CL0はビット線BL
0に接続された転送ゲートTgに入力される。
【0059】前記NAND回路10bの出力信号は、3
段のインバータ回路を介してコラム選択信号CL1とし
て出力され、そのコラム選択信号CL1はビット線BL
1に接続された転送ゲートTgに入力される。
【0060】前記NAND回路10cの出力信号は、3
段のインバータ回路を介してコラム選択信号CL2とし
て出力され、そのコラム選択信号CL2はビット線BL
2に接続された転送ゲートTgに入力される。
【0061】前記NAND回路10dの出力信号は、3
段のインバータ回路を介してコラム選択信号CL3とし
て出力され、そのコラム選択信号CL3はビット線BL
3に接続された転送ゲートTgに入力される。
【0062】上記のように構成されたコラムデコーダ5
aの動作を図5に従って説明する。通常モードでは、コ
ラムデコーダ5aにHレベルのテスト信号TSが入力さ
れる。すると、アドレス信号A0,A1の切り換えに基
づいて、コラム選択信号CL0〜CL3はいずれか一つ
がHレベルとなり、ビット線BL0〜BL3のいずれか
1本が選択されて、前記プログラム回路あるいはセンス
アンプに接続される。
【0063】テストモードでは、コラムデコーダ5aに
Lレベルのテスト信号TSが入力される。すると、アド
レス信号A0,A1の切り換えに基づいて、コラム選択
信号CL0〜CL3は奇数番のコラム選択信号CL1,
CL3と、偶数番のコラム選択信号CL0,CL2のい
ずれかがHレベルとなる。
【0064】この結果、奇数番のビット線BL1,BL
3と、偶数番のビット線BL0,BL2の何れかが同時
に選択されて、プログラム回路に接続される。このよう
なコラムデコーダ5aを備えたEPROMの動作試験の
一例を図6に従って説明する。なお、図6(a)〜
(c)において、黒丸が選択状態、白丸が非選択状態を
示す。
【0065】図6(a)に示すように、コラムデコーダ
5aから出力されるコラム選択信号CL0〜CL3のう
ち、偶数番のコラム選択信号CL0,CL2をHレベル
とし、この状態で、ロウデコーダ2によりワード線WL
1を選択する。
【0066】すると、ワード線WL1と、ビット線BL
0,BL2に接続されたセルが選択され、書き込み動作
が行われる。次いで、図6(b)に示すように奇数番の
コラム選択信号CL1,CL3をHレベルとし、この状
態で、ロウデコーダ2によりワード線WL2を選択す
る。すると、ワード線WL2と、ビット線BL1,BL
3に接続されたセルが選択され、書き込み動作が行われ
る。
【0067】次いで、図6(c)に示すように偶数番の
コラム選択信号CL0,CL2をHレベルとし、この状
態で、ロウデコーダ2によりワード線WL3を選択す
る。すると、ワード線WL3と、ビット線BL0,BL
2に接続されたセルが選択され、書き込み動作が行われ
る。
【0068】このようにして、ワード線を順次選択する
毎に、偶数番と奇数番のビット線を交互に選択すると、
メモリセルアレイ1内の一つおきのEPROMセルに同
一データを書き込んだ場合における各セルの動作を試験
するチェッカーパターン試験が可能となる。
【0069】そして、この実施例においても、動作試験
時には電源Vppが外部端子Pからプログラム回路4a,
4bに直接に供給され、同プログラム回路4a,4bは
メモリセルアレイ1の各ブロックB1,B2毎に設けら
れて同時に動作するため、十分な書き込み電流を確保し
て、多数のセルに同時に書き込み動作を行うことができ
る。従って、動作試験に要する時間を短縮することがで
きる。
【0070】また、前記第二の実施例ではコラムデコー
ダにより、偶数番及び奇数番のビット線のいずれかを同
時に選択する構成としたが、ロウデコーダにより、偶数
番及び奇数番のワード線のいずれかを交互に選択し、コ
ラムデコーダによりビット線を順次選択する構成として
もよい。このような構成により、上記のようなチェッカ
ーパターン試験を行うことができる。
【0071】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1の発明で
は、外部端子からプログラム回路に直接に供給される第
二の高電位側電源に基づいて、多数の記憶セルに十分な
書き込み電流を同時に供給可能として、動作試験に要す
る時間を短縮可能とした半導体記憶装置を提供すること
ができる。
【0072】請求項2の発明では、外部端子から、メモ
リセルアレイの各ブロック毎に設けられたプログラム回
路を介して、選択された記憶セルに書き込み電流が供給
されるので、プログラム回路の電流供給能力を向上させ
ることなく、十分な書き込み電流を確保することができ
る。
【0073】請求項3及び請求項4の発明では、十分な
書き込み電流の確保に基づいて、チェッカーパターン試
験を短時間で行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の原理説明図である。
【図2】 第一の実施例を示す回路図である。
【図3】 第二の実施例を示す回路図である。
【図4】 第二の実施例のコラムデコーダを示す回路図
である。
【図5】 図4に示すコラムデコーダの動作を示す波形
図である。
【図6】 第二の実施例におけるの動作試験時の書き込
み動作を示す説明図である。
【図7】 従来例を示す回路図である。
【図8】 プログラム回路を示す回路図である。
【符号の説明】
1 メモリセルアレイ 2 ロウデコーダ 4 プログラム回路 5 コラムデコーダ Vcc 第一の高電位側電源 Vpp 第二の高電位側電源 Din 入力データ P 外部端子 Dout 読み出しデータ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セル情報の読み出し動作時にはロウデコ
    ーダ及びコラムデコーダが第一の高電位側電源に基づい
    て動作して、メモリセルアレイ内で選択された記憶セル
    からセル情報を読み出しデータとして読み出し、セル情
    報の書き込み動作時には前記第一の高電位側電源より高
    電圧の第二の高電位側電源が前記ロウデコーダ及びコラ
    ムデコーダとプログラム回路とに供給され、前記プログ
    ラム回路に入力される入力データに基づいて、選択され
    た記憶セルに書き込み動作を行う半導体記憶装置であっ
    て、 前記第二の高電位側電源を供給するための外部端子を備
    え、動作試験における書き込み動作時には、前記外部端
    子から前記プログラム回路に前記第二の高電位側電源を
    直接に供給することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記メモリセルアレイを複数のブロック
    に分割し、前記プログラム回路を前記各ブロック毎に設
    け、前記プログラム回路には該プログラム回路を動作さ
    せるか否かを選択する選択装置を接続し、通常動作時に
    は前記選択装置に入力されるアドレス信号に基づいてい
    ずれか一つずつのプログラム回路を動作させ、動作試験
    時には前記選択装置に入力されるテスト信号に基づいて
    各プログラム回路を同時に動作させることを特徴とする
    請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記記憶セルに接続されるビット線を選
    択するコラムデコーダは、動作試験時に入力されるテス
    ト信号に基づいて、偶数番のビット線及び奇数番のビッ
    ト線のいずれかを同時に選択することを特徴とする請求
    項1乃至2のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記記憶セルに接続されるワード線を選
    択するロウデコーダは、動作試験時に入力されるテスト
    信号に基づいて、偶数番のワード線及び奇数番のワード
    線のいずれかを同時に選択することを特徴とする請求項
    1乃至2のいずれかに記載の半導体記憶装置。
JP24312894A 1994-10-06 1994-10-06 半導体記憶装置 Withdrawn JPH08106792A (ja)

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JP24312894A JPH08106792A (ja) 1994-10-06 1994-10-06 半導体記憶装置

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JP24312894A JPH08106792A (ja) 1994-10-06 1994-10-06 半導体記憶装置

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JP24312894A Withdrawn JPH08106792A (ja) 1994-10-06 1994-10-06 半導体記憶装置

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