JPH08105933A - 半導体装置の試験方法 - Google Patents

半導体装置の試験方法

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JPH08105933A
JPH08105933A JP6240989A JP24098994A JPH08105933A JP H08105933 A JPH08105933 A JP H08105933A JP 6240989 A JP6240989 A JP 6240989A JP 24098994 A JP24098994 A JP 24098994A JP H08105933 A JPH08105933 A JP H08105933A
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JP
Japan
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terminal
semiconductor device
voltage
semiconductor
dut
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JP6240989A
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English (en)
Inventor
Aaru Oorensu Resutaa
アール オーレンス レスター
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Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Publication date
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  • Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 半導体装置の端子の接続状態を判定するOS
テストを容易に行うことができる方法を提供すること。 【構成】 MOS(電界効果型)素子やバイポーラ素子
等からなる評価される半導体素子(DUT)1及び基準
となる半導体素子(REF)11と、DUT1及びRE
F11と、半導体素子の特定端子を選択するためのマル
チプレクサMUX2及び12と、各端子に電流を供給し
端子の電気的特性を測定するための電流源3及び13
と、電流を流した時の端子電圧を測定するための電圧変
換器4及び14と、DUT1とREF11との端子電圧
の差を増幅する差動増幅器5と、端子電圧の差の許容値
を規定するための電圧を発生する規格電圧発生器6と、
規格電圧の範囲内か否かを比較するための比較器7及び
8とからなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の試験方法に
関し、詳しくは半導体装置の入出力端子の接続状態の良
否及び内部半導体素子の素子特性の良否を判定する方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置の製造工程の中の組立
工程において、半導体素子を樹脂封止した際に半導体素
子と各端子とをつなぐワイヤが切れたり、他のワイヤや
半導体素子と接触したり、ワイヤボンディングの際に内
部素子を破壊したりして不良となっていないかを端子の
電気的特性を測定することにより判定し、その後に最終
的な試験を実施して各半導体装置の良否判定を行ってい
る。尚、以下の明細書中では各端子の電気的特性の測定
により上述のような不良を判定することをOS(Ope
n/Short)テスト、評価すべき半導体素子をDU
T(DeviceUnder Test:被測定物)、
基準となる半導体素子をREF(Ref−erenc
e)として説明する。
【0003】図3にCMOS型半導体素子の入力回路の
構成例及びその電圧−電流特性例を示す。図3(a)の
構成では、入力端子INは保護抵抗Rを介して電源線及
び接地線内に挿入されたダイオードD1及びD2に接続
されると共に、P型及びN型のMOSトランジスタT1
及びT2からなる入力回路に接続され、その出力IN1
は図示しない内部回路へ接続されている。ダイオードD
1及びD2は半導体素子の製造プロセスにより各端子に
寄生的に作り込まれると共に、静電破壊に対する保護素
子として形成されることが多い。
【0004】図3(b)の特性は、接地線及び電源線を
短絡して、IN端子に電圧を印加した時にIN端子に流
れる端子電流の関係を示している。正側の端子電圧の特
性線L1はダイオードD1の特性を示し、負側の端子電
圧の特性線L2はダイオードD2の特性を示している。
例えば、ダイオードD1による特性線L1は1μAの電
流が流れている時の電圧値は約0.6V〜0.7V(順
方向電圧という)で、端子電圧が1Vの時には数mAか
ら数10mAの電流が流れるような特性をしている。従
って、ダイオードD1が接続されているのを確認するに
は、図3(b)のA点の電圧(約0.3V)を印加した
時に第一の電流値(SA:例えば1μA)以下であり、
B点の電圧(約1.0V)を印加した時に第二の電流値
(SB:例えば10mA)以上にあることを確認すれば
良い。逆に、所定の定電流を流した時の端子電圧が所定
の電圧値になっていることを確認しても良い。このよう
にすれば、各端子と半導体素子が正常にワイヤ接続され
ているか否かを判定することができる。負側の端子電圧
の特性線L2についても同様な測定により接続状態を確
認することができる。各端子に対して同様に測定するこ
とにより、各端子のOSテストをすることができる。
【0005】図4は図3(a)の入力回路でワイヤの接
続状態が不良の時の特性例を示し、樹脂封止の際にワイ
ヤが切れたりワイヤボンディングがはずれた場合には図
4(a)のように開放状態の特性になり、ワイヤが他の
ワイヤと接触したり半導体素子に接触した場合には図4
(b)のように抵抗成分を持った短絡状態の特性にな
り、規格値(SA及びSB)を満たさなくなるので不良
と判断できる。
【0006】図5(a)はNMOSによるオープンドレ
イン出力等で端子にダイオードD2のみが形成されてい
る場合の回路を示し、図示しない内部回路からの出力O
UT1がトランジスタT2を介してOUT端子に接続さ
れると共に、OUT端子へつながる信号線にはダイオー
ドD2に接続されている。また、端子の電気的特性は図
5(b)のように、端子に正の電圧を印加した時には電
流の流れる経路が無いので開放状態の特性を示し、端子
に負の電圧を印加した時にはダイオードD2の電気的特
性を示している。
【0007】このように各端子の端子の電気的特性は、
入出力回路の形式や電流経路に挿入されている抵抗値に
より異なると共に、温度によっても変化する。従って、
半導体素子毎にOSテストのプログラムを開発する必要
がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来、図3(b)及び
図5(a)に示すような各端子の特性からOSテストの
規格値を決定する場合は、半導体素子のサンプルができ
た時に特性を測定するか予め計算するかして規格値を決
定し、各端子毎に規格値を設定したOSテストのプログ
ラムを作成していたので、プログラム作成に時間を要す
ると共に、プログラムの作成ミスや規格値の入力ミスに
より良品を不良品と判断してしまうこともあるという問
題があった。
【0009】そこで本発明はこれらの問題を解決し、O
Sテストを容易に行うことができる方法を提供すること
を目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上述の問題を解決するた
めに、請求項1の記載に係わる半導体装置の試験方法
は、半導体装置の入出力端子の電気的特性を測定するこ
とにより入出力端子と半導体装置内部の半導体素子との
接続状態の良否判定及び内部半導体素子の素子特性の良
否判定を行う半導体試験装置において、基準となる半導
体装置と評価すべき半導体装置との入出力端子の電気的
特性を各々測定し、その電気的特性の差異値により良否
判定を行うことを特徴とする。また、請求項2の記載に
係わる半導体装置の試験方法は、基準となる半導体装置
の入出力端子の電気的特性を予め測定し半導体試験装置
に記憶したのち、記憶値と評価すべき半導体装置との電
気的特性の差異値により良否判定を行うことを特徴とす
る。
【0011】
【作用】本発明のような半導体装置の試験方法をとるこ
とにより、OSテストのためのプログラムを簡単に作成
することができるようになる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1及び図2を参照
しながら詳細に説明する。尚、本明細書では全図面を通
して、同一または同様の回路要素には同一の符号を付し
ている。尚、以下の実施例中では端子の電気的特性の測
定により上述のような不良を判定することをOS(Op
en/Short)テスト、評価すべき半導体素子をD
UT(Device Under Test:被測定
物)、基準となる半導体素子をREF(Referen
ce)として説明する。
【0013】図1は本発明の実施例による半導体試験装
置の構成を示す。MOS(電界効果型)素子やバイポー
ラ素子等からなるDUT1及びREF11と、半導体素
子の特定端子を選択するためのマルチプレクサMUX2
及び12と、各端子に電流を供給し端子の電気的特性を
測定するための電流源3及び13と、電流を流した時の
端子電圧を測定するための電圧変換器4及び14と、D
UT1とREF11との端子電圧の差を増幅する差動増
幅器5と、端子電圧の差の許容値を規定するための電圧
を発生する規格電圧発生器6と、規格電圧の範囲内か否
かを比較するための比較器7及び8とからなる。
【0014】DUT1の各端子はMUX2及び電圧変換
器4を介して差動増幅器5の一方の入力に接続され、D
UT11の各端子はMUX12及び電圧変換器14を介
して差動増幅器5のもう一方の入力に接続されると共
に、規格電圧発生器6に接続されている。差動増幅器5
の出力は比較器7及び8の一方の入力に接続され、規格
電圧発生器6の出力電圧は比較器7及び8の他の入力に
接続され、比較器7及び8の出力は半導体テスタ等の試
験装置9に接続されている。また、MUX2及び12に
は電流源3及び13がそれぞれ接続されている。
【0015】次に測定方法について説明する。DUT1
及びREF11を試験装置の所定のソケット等に設置し
て、DUT1及びREF11の同じ端子に電流源3及び
13から所定の電流を流して端子電圧を測定することに
より、図3(b)に示すような電気的特性を測定し、R
EF11の測定結果をもとに規格電圧発生器6により決
定された規格電圧の範囲内にDUT1の電気的特性が入
っているか否かの比較結果が比較器7及び8から出力す
る。この測定を各端子に対して行い、各端子の結果を試
験装置9に入力してDUT1の良否を判定する。尚、電
流源3及び13と比較器7及び8は試験装置9の機能を
使用するようにしても良い。また、規格電圧としては、
温度や製造過程等でのばらつきを考慮してREF11の
端子電圧の±10〜±数10%程度の値を設定すること
が多い。
【0016】このような測定を各DUT1に対して行う
ことにより、半導体装置の製造工程の中の組立工程にお
ける樹脂封止の際に、半導体素子と各端子とをつなぐワ
イヤが切れたり、他のワイヤや半導体素子と接触した
り、ワイヤボンディングの際に内部素子を破壊したりし
て不良となっていないかを判定し、OSテストが良品と
なったDUT1に対してのみ、その後に最終的な試験を
実施して各半導体装置の良否判定を行っている。このよ
うに、不良のDUT1に対する測定を途中で中止するこ
とにより半導体装置の測定時間を短縮するようにしてい
る。
【0017】図2は本発明の他の実施例による半導体試
験装置の構成を示し、DUTまたはREFを設置するた
めのソケット等からなるDUT1′と、MUX2と、電
流源3と、電圧変換器4と、端子電圧をデジタル値とし
て取り込むためのアナログ−デジタル変換器ADC10
とからなる。DUT1′の各端子はMUX2及び電圧変
換器4を介してADC10に接続され、その出力は半導
体試験装置9に接続されている。また、MUX2には電
流源3が接続されている。
【0018】次に測定方法について説明する。まづ、R
EFをDUT1′に設置して図1のREFを測定する場
合と同様にして、各端子の端子電圧を次々に測定すると
共に、ADC10を介してテスタ等の半導体試験装置9
にデジタルデータとして取り込み、半導体試験装置9内
で演算処理により規格電圧を決定する。次に、DUTを
DUT1′に設置して各端子の端子の電気的特性を次々
に測定すると共に、ADC10を介して試験装置にデジ
タルデータとして取り込み、予めREFにより決定した
規格電圧と比較して規格電圧の範囲内か否かを判定して
DUT1の良否を判定するようになっている。その後
は、DUTのみを次々に設置して同様な判定を繰り返
す。
【0019】尚、本実施例では電流源をもちいて電圧を
測定するようにしているが、電圧源をもちいて電流を測
定するようにしても構わない。更に、測定点は従来で説
明したように2箇所の測定点が有れば端子の電気的特性
を確認できるので、2箇所以上で測定すれば良い。
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、OSテストのためのプ
ログラムを簡単に作成することができるようになるの
で、テストプログラム開発のための時間が短縮されると
共に、プログラムの入力ミスがなくなるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体試験装置の実施例を示す構成図
である。
【図2】本発明の半導体試験装置の他の実施例を示す構
成図である。
【図3】半導体素子の端子状態を示す説明図である。
【図4】ワイヤボンディング不良時の端子の電気的特性
を示す説明図である。
【図5】半導体素子の他の端子状態を示す説明図であ
る。
【符号の説明】
1 :評価される半導体素子(DUT) 11 :基準となる半導体素子(REF) 2、12:マルチプレクサ(MUX) 3、13:電流源 4、14:電圧変換器 5 :差動増幅器 6 :規格電圧発生器 7、8 :比較器 9 :試験装置(半導体テスタ) 10 :アナログ−デジタル変換器(ADC)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体装置の入出力端子の電気的特性を
    測定することにより前記入出力端子と半導体装置内部の
    半導体素子との接続状態の良否判定及び前記内部半導体
    素子の素子特性の良否判定を行う半導体試験装置におい
    て、基準となる半導体装置と評価すべき半導体装置との
    前記入出力端子の電気的特性を各々測定し、その電気的
    特性の差異値により良否判定を行うことを特徴とする半
    導体装置の試験方法。
  2. 【請求項2】 前記基準となる半導体装置の入出力端子
    の電気的特性を予め測定し半導体試験装置に記憶したの
    ち、前記記憶値と評価すべき半導体装置との電気的特性
    の差異値により良否判定を行うことを特徴とする請求項
    1に記載の半導体装置の試験方法。
JP6240989A 1994-10-05 1994-10-05 半導体装置の試験方法 Pending JPH08105933A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011077073A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Shinko Electric Ind Co Ltd 積層半導体装置及びその接続試験方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011077073A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Shinko Electric Ind Co Ltd 積層半導体装置及びその接続試験方法

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