JPH08104821A - ヒダントイン置換アシルアセトアニリド化合物及びその製造方法 - Google Patents
ヒダントイン置換アシルアセトアニリド化合物及びその製造方法Info
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- JPH08104821A JPH08104821A JP6239227A JP23922794A JPH08104821A JP H08104821 A JPH08104821 A JP H08104821A JP 6239227 A JP6239227 A JP 6239227A JP 23922794 A JP23922794 A JP 23922794A JP H08104821 A JPH08104821 A JP H08104821A
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- C07D233/72—Two oxygen atoms, e.g. hydantoin
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- C07D233/86—Oxygen and sulfur atoms, e.g. thiohydantoin
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/305—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers
- G03C7/30511—Substances liberating photographically active agents, e.g. development-inhibiting releasing couplers characterised by the releasing group
- G03C7/30517—2-equivalent couplers, i.e. with a substitution on the coupling site being compulsory with the exception of halogen-substitution
- G03C7/30535—2-equivalent couplers, i.e. with a substitution on the coupling site being compulsory with the exception of halogen-substitution having the coupling site not in rings of cyclic compounds
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】カラー写真用イエローカプラーを収率よく、短
工程で得ることを可能とする合成中間体及びその製造方
法を提供する。 【構成】式のヒダントイン置換アシルアセトアニリド化
合物。（Ｒ1 はｔ−ブチル基又はｐ−アルコキシフェニ
ル基を、Ｒ2 はＣｌ7 又はアルコキシ基を、Ｒ3は水素
原子、アルキル基、ベンジル基、アルキルスルホニル基
又はアリールスルホニル基を、Ｒ4 は水素原子又はアル
キル基を、Ｒ5 はアルキル基又はアルコキシ基を表わ
す。 【化１】
工程で得ることを可能とする合成中間体及びその製造方
法を提供する。 【構成】式のヒダントイン置換アシルアセトアニリド化
合物。（Ｒ1 はｔ−ブチル基又はｐ−アルコキシフェニ
ル基を、Ｒ2 はＣｌ7 又はアルコキシ基を、Ｒ3は水素
原子、アルキル基、ベンジル基、アルキルスルホニル基
又はアリールスルホニル基を、Ｒ4 は水素原子又はアル
キル基を、Ｒ5 はアルキル基又はアルコキシ基を表わ
す。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀カラー写
真感光材料に用いられるイエローカプラーの合成中間体
として用いられる新規なヒダントイン置換アシルアセト
アニリド化合物に関する。
真感光材料に用いられるイエローカプラーの合成中間体
として用いられる新規なヒダントイン置換アシルアセト
アニリド化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー写真用に用いられるイエローカプ
ラーとしては、主にピバロイルアセトアニリド骨格、ベ
ンゾイルアセトアニリド骨格を基本骨格とし、色素形成
反応の際の反応点にヒダントイン等の５員複素環を有す
る構造の化合物が用いられる（特公昭５８−１０７３９
号、特公昭５６−４５１３５号、特公昭５６−４４４２
０号など参照）。さらに、色素形成反応の効率向上、生
成する色素の色相の最適化を目指した。アニリド部の置
換基の最適化が進められ、一般式（II）で表わされる２
−クロロ（またはアルコキシ）−５−アシルアミノ型カ
プラーに到達している。一般式（II）
ラーとしては、主にピバロイルアセトアニリド骨格、ベ
ンゾイルアセトアニリド骨格を基本骨格とし、色素形成
反応の際の反応点にヒダントイン等の５員複素環を有す
る構造の化合物が用いられる（特公昭５８−１０７３９
号、特公昭５６−４５１３５号、特公昭５６−４４４２
０号など参照）。さらに、色素形成反応の効率向上、生
成する色素の色相の最適化を目指した。アニリド部の置
換基の最適化が進められ、一般式（II）で表わされる２
−クロロ（またはアルコキシ）−５−アシルアミノ型カ
プラーに到達している。一般式（II）
【０００３】
【化５】
【０００４】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は
一般式（Ｉ）におけるものと同義であり、Ｒ6 は置換ま
たは無置換のアルキル基を表わす。）
一般式（Ｉ）におけるものと同義であり、Ｒ6 は置換ま
たは無置換のアルキル基を表わす。）
【０００５】その合成法は、以下に示すように、β−ケ
トエステル化合物１をキー中間体とし、アニリンとの反
応により、アシルアセトアニリド化合物２を得、さらに
ハロゲン化（３を得る）、置換反応（一般式（II）で表
わされるイエローカプラーを得る）を行う方法が一般的
である。
トエステル化合物１をキー中間体とし、アニリンとの反
応により、アシルアセトアニリド化合物２を得、さらに
ハロゲン化（３を得る）、置換反応（一般式（II）で表
わされるイエローカプラーを得る）を行う方法が一般的
である。
【０００６】
【化６】
【０００７】しかし、３から一般式（II）で表わされる
イエローカプラーを得る際に３が２個の電子吸引性基に
より置換された活性ハロゲン化物であるために、還元に
より２が得られる場合があること、また、３がヒダント
イン化合物と同程度にｐＫａの低いハロゲン化物であ
り、反応条件下、ヒダントインの反応性を落とすため反
応を完結させるために、式
イエローカプラーを得る際に３が２個の電子吸引性基に
より置換された活性ハロゲン化物であるために、還元に
より２が得られる場合があること、また、３がヒダント
イン化合物と同程度にｐＫａの低いハロゲン化物であ
り、反応条件下、ヒダントインの反応性を落とすため反
応を完結させるために、式
【０００８】
【化７】
【０００９】で表わされるヒダントイン化合物を３に対
して過剰に用いる必要があることなど、幾つかの問題点
が残されており、改良が望まれていた。
して過剰に用いる必要があることなど、幾つかの問題点
が残されており、改良が望まれていた。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
カラー写真用イエローカプラーの製造における難点を克
服し、カラー写真用イエローカプラーを収率よく短工程
で得ることを可能にする新規な合成中間体及びその製造
方法を提供することである。
カラー写真用イエローカプラーの製造における難点を克
服し、カラー写真用イエローカプラーを収率よく短工程
で得ることを可能にする新規な合成中間体及びその製造
方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記のよう
な従来のイエローカプラーの製造に際しての難点を克服
するため、鋭意研究を行った結果、一般式（Ｉ）で表わ
される化合物が一般式(III) で表わされる置換アセチル
化合物（対応するハロアセチル化合物とほぼ等モルのヒ
ダントイン化合物より容易に得られる）と一般式（IV）
で表わされるフェニルウレタン化合物との反応により収
率よく得られ、さらに、還元、アシル化により収率よく
一般式（II）で表わされるイエローカプラーへ導かれる
ことを見出し、この知見に基づき、本発明をなすに至っ
た。
な従来のイエローカプラーの製造に際しての難点を克服
するため、鋭意研究を行った結果、一般式（Ｉ）で表わ
される化合物が一般式(III) で表わされる置換アセチル
化合物（対応するハロアセチル化合物とほぼ等モルのヒ
ダントイン化合物より容易に得られる）と一般式（IV）
で表わされるフェニルウレタン化合物との反応により収
率よく得られ、さらに、還元、アシル化により収率よく
一般式（II）で表わされるイエローカプラーへ導かれる
ことを見出し、この知見に基づき、本発明をなすに至っ
た。
【００１２】
【化８】
【００１３】すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）
【００１４】
【化９】
【００１５】（式中、Ｒ1 はｔｅｒｔ−ブチル基または
ｐ−アルコキシフェニル基を表わし、Ｒ2 は塩素原子ま
たはアルコキシ基を表わし、Ｒ3 は水素原子、アルキル
基、ベンジル基、アルキルスルホニル基またはアリール
スルホニル基を表わし、Ｒ4は水素原子またはアルキル
基を表わし、Ｒ5 はアルキル基またはアルコキシ基を表
わす。）で表わされるヒダントイン置換アシルアセトア
ニリド化合物、及び一般式(III)で表わされるヒダント
イン置換アセチル化合物と一般式（IV）で表わされるウ
レタン化合物とを塩基存在下反応させることを特徴とす
る一般式（Ｉ）で表わされるヒダントイン置換アシルア
セトアニリド化合物の製造方法、である。
ｐ−アルコキシフェニル基を表わし、Ｒ2 は塩素原子ま
たはアルコキシ基を表わし、Ｒ3 は水素原子、アルキル
基、ベンジル基、アルキルスルホニル基またはアリール
スルホニル基を表わし、Ｒ4は水素原子またはアルキル
基を表わし、Ｒ5 はアルキル基またはアルコキシ基を表
わす。）で表わされるヒダントイン置換アシルアセトア
ニリド化合物、及び一般式(III)で表わされるヒダント
イン置換アセチル化合物と一般式（IV）で表わされるウ
レタン化合物とを塩基存在下反応させることを特徴とす
る一般式（Ｉ）で表わされるヒダントイン置換アシルア
セトアニリド化合物の製造方法、である。
【００１６】
【化１０】
【００１７】（式中、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は一般式
（Ｉ）におけるものと同義である。）
（Ｉ）におけるものと同義である。）
【００１８】
【化１１】
【００１９】（式中、Ｒ2 は一般式（Ｉ）におけるもの
と同義である。）
と同義である。）
【００２０】
【化１２】
【００２１】（式中、Ｒ1 はｔｅｒｔ−ブチル基または
ｐ−アルコキシフェニル基を表わし、Ｒ2 は塩素原子ま
たはアルコキシ基を表わし、Ｒ3 は水素原子、アルキル
基、ベンジル基、アルキルスルホニル基またはアリール
スルホニル基を表わし、Ｒ4は水素原子またはアルキル
基を表わし、Ｒ5 はアルキル基またはアルコキシ基を表
わす。）
ｐ−アルコキシフェニル基を表わし、Ｒ2 は塩素原子ま
たはアルコキシ基を表わし、Ｒ3 は水素原子、アルキル
基、ベンジル基、アルキルスルホニル基またはアリール
スルホニル基を表わし、Ｒ4は水素原子またはアルキル
基を表わし、Ｒ5 はアルキル基またはアルコキシ基を表
わす。）
【００２２】以下に、本発明の化合物について詳しく説
明する。Ｒ1 は、ｔｅｒｔ−ブチル基またはｐ位に好ま
しくは炭素数１〜１８、より好ましくは炭素数１〜４の
アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、オクトキ
シ、ヘキサデコキシ、オクタデコキシ）を有するフェニ
ル基を表わし、好ましくは、ｔｅｒｔ−ブチル基または
ｐ−メトキシフェニル基を表わし、特に好ましくはｔｅ
ｒｔ−ブチル基を表わす。
明する。Ｒ1 は、ｔｅｒｔ−ブチル基またはｐ位に好ま
しくは炭素数１〜１８、より好ましくは炭素数１〜４の
アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、オクトキ
シ、ヘキサデコキシ、オクタデコキシ）を有するフェニ
ル基を表わし、好ましくは、ｔｅｒｔ−ブチル基または
ｐ−メトキシフェニル基を表わし、特に好ましくはｔｅ
ｒｔ−ブチル基を表わす。
【００２３】Ｒ2 は塩素原子または好ましくは炭素数１
〜１８、より好ましくは炭素数１〜４のアルコキシ基
（例えば、メトキシ、エトキシ、オクトキシ、ヘキサデ
コキシ、オクタデコキシ）を表わし、好ましくは塩素原
子またはメトキシ基を表わす。
〜１８、より好ましくは炭素数１〜４のアルコキシ基
（例えば、メトキシ、エトキシ、オクトキシ、ヘキサデ
コキシ、オクタデコキシ）を表わし、好ましくは塩素原
子またはメトキシ基を表わす。
【００２４】Ｒ3 は水素原子、好ましくは炭素数１〜１
８、より好ましくは炭素数１〜６の無置換またはアルコ
キシ置換のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ヘキ
シル、オクチル、オクタデシル、メトキシメチル、メト
キシエトキシメチル）、ベンジル基、好ましくは炭素数
１〜１８、より好ましくは炭素数１〜４のアルキルスル
ホニル基（例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニ
ル、ヘキサデカンスルホニル）、または好ましくは炭素
数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１０のアリール
スルホニル基（例えばベンゼンスルホニル、ｐ−トルエ
ンスルホニル）を表わし、特に好ましくは、水素原子、
メトキシメチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基を表
わす。
８、より好ましくは炭素数１〜６の無置換またはアルコ
キシ置換のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ヘキ
シル、オクチル、オクタデシル、メトキシメチル、メト
キシエトキシメチル）、ベンジル基、好ましくは炭素数
１〜１８、より好ましくは炭素数１〜４のアルキルスル
ホニル基（例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニ
ル、ヘキサデカンスルホニル）、または好ましくは炭素
数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１０のアリール
スルホニル基（例えばベンゼンスルホニル、ｐ−トルエ
ンスルホニル）を表わし、特に好ましくは、水素原子、
メトキシメチル基、ベンジル基、メタンスルホニル基、
ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基を表
わす。
【００２５】Ｒ4 は水素原子または好ましくは炭素数１
〜１８、より好ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例
えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、
ヘキサデシル）を表わし、好ましくは水素原子またはメ
チル基を表わす。
〜１８、より好ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例
えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、
ヘキサデシル）を表わし、好ましくは水素原子またはメ
チル基を表わす。
【００２６】Ｒ5 は好ましくは炭素数１〜１８、より好
ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、オクチル、ヘキサデシル）ま
たは好ましくは炭素数１〜１８、より好ましくは炭素数
１〜４のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ヘ
キサデコキシ）を表わし、好ましくはメチル基またはエ
トキシ基を表わす。
ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、オクチル、ヘキサデシル）ま
たは好ましくは炭素数１〜１８、より好ましくは炭素数
１〜４のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ヘ
キサデコキシ）を表わし、好ましくはメチル基またはエ
トキシ基を表わす。
【００２７】本発明においては、Ｒ1 がｔ−ブチル基を
表わし、Ｒ2 が塩素原子又はメトキシ基を表わす組合せ
が好ましく、なかでもＲ4 が水素原子を表わす時にはＲ
3 がベンジル基であり、Ｒ5 がアルコキシ基であること
がより好ましく、特にＲ3 がベンジル基であり、Ｒ5 が
エトキシ基であることが特に好ましく、Ｒ4 がアルキル
基を表わす時にはＲ5 はアルキル基であることが好まし
く、特にＲ4 がメチル基を表わす時にはＲ5 はメチル基
を表わすことが好ましく、Ｒ4 がメチル基の表わす際の
Ｒ3 としては水素原子、メトキシメチル基、ベンジル
基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基または
ｐ−トルエンスルホニル基を表わすことが好ましい。
表わし、Ｒ2 が塩素原子又はメトキシ基を表わす組合せ
が好ましく、なかでもＲ4 が水素原子を表わす時にはＲ
3 がベンジル基であり、Ｒ5 がアルコキシ基であること
がより好ましく、特にＲ3 がベンジル基であり、Ｒ5 が
エトキシ基であることが特に好ましく、Ｒ4 がアルキル
基を表わす時にはＲ5 はアルキル基であることが好まし
く、特にＲ4 がメチル基を表わす時にはＲ5 はメチル基
を表わすことが好ましく、Ｒ4 がメチル基の表わす際の
Ｒ3 としては水素原子、メトキシメチル基、ベンジル
基、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基または
ｐ−トルエンスルホニル基を表わすことが好ましい。
【００２８】次に本発明の化合物の製造方法について説
明する。本発明の化合物は一般式(III) で表わされる置
換アセチル化合物と、一般式（IV）で表わされるフェニ
ルウレタン化合物とを塩基存在下、反応させることによ
り、収率よく得られる。塩基としてはＬＤＡ（リチウム
ジイソプロピルアミド）、水素化ナトリウムなどが一般
式（IV）で表わされる化合物に対して０．９〜５モル、
好ましくは１〜３モル用いられる。水素化ナトリウムが
特に好ましい。
明する。本発明の化合物は一般式(III) で表わされる置
換アセチル化合物と、一般式（IV）で表わされるフェニ
ルウレタン化合物とを塩基存在下、反応させることによ
り、収率よく得られる。塩基としてはＬＤＡ（リチウム
ジイソプロピルアミド）、水素化ナトリウムなどが一般
式（IV）で表わされる化合物に対して０．９〜５モル、
好ましくは１〜３モル用いられる。水素化ナトリウムが
特に好ましい。
【００２９】反応溶媒としては、エーテル、テトラヒド
ロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素系溶媒、ＤＭＦ、ＤＭＡｃ、ＤＭ
Ｉ、ＮＭＰなどのアミド系溶媒が用いられる。
ロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素系溶媒、ＤＭＦ、ＤＭＡｃ、ＤＭ
Ｉ、ＮＭＰなどのアミド系溶媒が用いられる。
【００３０】反応温度は−２０℃〜１４０℃、好ましく
は０〜８０℃である。
は０〜８０℃である。
【００３１】一般式(III) で表わされる置換アセチル化
合物は対応するα−ハロアセチル化合物に対して、０．
５〜２モル好ましくは０．９〜１．１モルの式
合物は対応するα−ハロアセチル化合物に対して、０．
５〜２モル好ましくは０．９〜１．１モルの式
【００３２】
【化１３】
【００３３】を塩基存在下、反応させることにより収率
よく得られる。ヒダントイン類をα−ハロアセチル化合
物に対して、ほぼ等モル用い、収率よく得られるところ
に特徴がある。
よく得られる。ヒダントイン類をα−ハロアセチル化合
物に対して、ほぼ等モル用い、収率よく得られるところ
に特徴がある。
【００３４】塩基としては、水素化ナトリウム、カリウ
ムｔｅｒｔ−ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、ナトリウムメトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの無機塩基、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、Ｎ，Ｎ−ジイソ
プロピルエチルアミン、トリエチルアミンなどの有機塩
基が用いられる。反応溶媒としては、エーテル、テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、アセトニトリ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、１，３−ジメチ
ル−２−イミダゾリドン（ＤＭＩ）、１−メチル−２−
ピロリドン（ＮＭＰ）などが用いられる。反応温度は０
〜１４０℃、好ましくは１０〜１００℃である。
ムｔｅｒｔ−ブトキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、ナトリウムメトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの無機塩基、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、Ｎ，Ｎ−ジイソ
プロピルエチルアミン、トリエチルアミンなどの有機塩
基が用いられる。反応溶媒としては、エーテル、テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、アセトニトリ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、１，３−ジメチ
ル−２−イミダゾリドン（ＤＭＩ）、１−メチル−２−
ピロリドン（ＮＭＰ）などが用いられる。反応温度は０
〜１４０℃、好ましくは１０〜１００℃である。
【００３５】一般式（IV）で表わされるフェニルウレタ
ン化合物は対応するアニリン誘導体とクロロ炭酸フェニ
ルを反応させることで容易に合成できる。溶媒として
は、一般式(III) の化合物の合成にて示したものと同様
のものが用いられる。
ン化合物は対応するアニリン誘導体とクロロ炭酸フェニ
ルを反応させることで容易に合成できる。溶媒として
は、一般式(III) の化合物の合成にて示したものと同様
のものが用いられる。
【００３６】次に本発明の化合物の有用性について述べ
る。本発明の化合物は、以下に示すように、写真用イエ
ローカプラーの合成中間体として有用である。
る。本発明の化合物は、以下に示すように、写真用イエ
ローカプラーの合成中間体として有用である。
【００３７】
【化１４】
【００３８】本発明の化合物は、ニトロ基を還元してア
ミノ基としたのち、種々の酸クロリド（Ｒ6 ＣＯＣｌ）
と反応することにより収率よく、一般式（II）で表わさ
れるイエローカプラーへと導かれる。
ミノ基としたのち、種々の酸クロリド（Ｒ6 ＣＯＣｌ）
と反応することにより収率よく、一般式（II）で表わさ
れるイエローカプラーへと導かれる。
【００３９】ニトロ基のアミノ基への変換については、
種々の条件が知られており（例えば新実験化学講座１４
〔III 〕ｐ．１３３３、丸善（１９７５）など参照）、
それらが適用できる。代表的な還元剤（還元条件）とし
ては、亜鉛、鉄、スズ、塩化スズ（II）などの各種金
属、硫化ナトリウム、ナトリウムヒドロスルフィド、亜
二チオン酸ナトリウム、硫化アンモニウムなどの硫化
物、白金、ラネーニッケル、白金黒、パラジウム−炭素
などを触媒とする接触還元、ヒドラジン、ギ酸などが挙
げられる。
種々の条件が知られており（例えば新実験化学講座１４
〔III 〕ｐ．１３３３、丸善（１９７５）など参照）、
それらが適用できる。代表的な還元剤（還元条件）とし
ては、亜鉛、鉄、スズ、塩化スズ（II）などの各種金
属、硫化ナトリウム、ナトリウムヒドロスルフィド、亜
二チオン酸ナトリウム、硫化アンモニウムなどの硫化
物、白金、ラネーニッケル、白金黒、パラジウム−炭素
などを触媒とする接触還元、ヒドラジン、ギ酸などが挙
げられる。
【００４０】アミノ基と酸クロリドとの反応によるアミ
ド化反応は、極めてオーソドックスな高収率の反応とし
て知られている。（例えば新実験化学講座１４〔II〕
ｐ．１１４２、丸善（１９７５）など参照）
ド化反応は、極めてオーソドックスな高収率の反応とし
て知られている。（例えば新実験化学講座１４〔II〕
ｐ．１１４２、丸善（１９７５）など参照）
【００４１】アセトニトリル、エーテルの他Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミドなどのアミド系溶媒を用いて、ピリ
ジンなどの第３級アミン共存下、アミン体と酸クロリド
を０℃〜１００℃にて混合することにより容易にアミド
化できる。
メチルホルムアミドなどのアミド系溶媒を用いて、ピリ
ジンなどの第３級アミン共存下、アミン体と酸クロリド
を０℃〜１００℃にて混合することにより容易にアミド
化できる。
【００４２】無機塩基（水酸化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム
など）の水溶液にアミンを加え、アミンを溶解させるた
めに必要に応じて有機溶媒（塩化メチレンなどのハロゲ
ン系溶媒、酢酸エチルなど）を加え、これに酸クロリド
を滴下する、いわゆる Schotten-Baumann 法によってア
ミド化することもできる。
ウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム
など）の水溶液にアミンを加え、アミンを溶解させるた
めに必要に応じて有機溶媒（塩化メチレンなどのハロゲ
ン系溶媒、酢酸エチルなど）を加え、これに酸クロリド
を滴下する、いわゆる Schotten-Baumann 法によってア
ミド化することもできる。
【００４３】以下に本発明の化合物の具体例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４４】
【表１】
【００４５】
【表２】
【００４６】
【表３】
【００４７】
【表４】
【００４８】
【表５】
【００４９】
【表６】
【００５０】
【表７】
【００５１】
【表８】
【００５２】
【表９】
【００５３】
【表１０】
【００５４】
【表１１】
【００５５】
【表１２】
【００５６】
【表１３】
【００５７】
【表１４】
【００５８】
【表１５】
【００５９】
【表１６】
【００６０】
【表１７】
【００６１】
【表１８】
【００６２】
【表１９】
【００６３】
【表２０】
【００６４】
【表２１】
【００６５】
【表２２】
【００６６】
【実施例】次に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００６７】実施例１．化合物（１）の合成 まず、原料の置換アセチル化合物である、ｔｅｒｔ−ブ
チル（５，５−ジメチルヒダントイン−３−イル）メチ
ルケトンを合成した。５，５−ジメチルヒダントイン３
８．４ｇ（０．３モル）、炭酸カリウム４６．０ｇ
（０．３３モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０
０mlに分散し、これに室温にてα−クロロピナコロン
（ｔｅｒｔ−ブチルクロロメチルケトン）４０．０ｇ
（０．３モル）を１５分かけて滴下した。滴下後、スチ
ームバスにて２時間加熱した。次いで氷浴にて冷却を行
ない、水７００mlを少量ずつ滴下した。析出した結晶を
濾過し、ｔｅｒｔ−ブチル（５，５−ジメチルヒダント
イン−３−イル）メチルケトンを無色結晶として５８．
０ｇ得た。収率８５％。
チル（５，５−ジメチルヒダントイン−３−イル）メチ
ルケトンを合成した。５，５−ジメチルヒダントイン３
８．４ｇ（０．３モル）、炭酸カリウム４６．０ｇ
（０．３３モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０
０mlに分散し、これに室温にてα−クロロピナコロン
（ｔｅｒｔ−ブチルクロロメチルケトン）４０．０ｇ
（０．３モル）を１５分かけて滴下した。滴下後、スチ
ームバスにて２時間加熱した。次いで氷浴にて冷却を行
ない、水７００mlを少量ずつ滴下した。析出した結晶を
濾過し、ｔｅｒｔ−ブチル（５，５−ジメチルヒダント
イン−３−イル）メチルケトンを無色結晶として５８．
０ｇ得た。収率８５％。
【００６８】さらにもう一方の原料である４−クロロ−
５−フェノキシカルボニルアミノニトロベンゼンを合成
した。２−クロロ−５−ニトロアニリン１７．３ｇ
（０．１モル）をアセトニトリル８０mlに分散し、これ
にクロロ炭酸フェニル１３．２ml（０．１０５モル）を
加え、２．５時間加熱還流した。アセトニトリルを５０
ml加え、室温にもどし、析出した結晶を濾過し、４−ク
ロロ−５−フェノキシカルボニルアミノニトロベンゼン
を結晶として２３．１ｇ得た。収率７９％。
５−フェノキシカルボニルアミノニトロベンゼンを合成
した。２−クロロ−５−ニトロアニリン１７．３ｇ
（０．１モル）をアセトニトリル８０mlに分散し、これ
にクロロ炭酸フェニル１３．２ml（０．１０５モル）を
加え、２．５時間加熱還流した。アセトニトリルを５０
ml加え、室温にもどし、析出した結晶を濾過し、４−ク
ロロ−５−フェノキシカルボニルアミノニトロベンゼン
を結晶として２３．１ｇ得た。収率７９％。
【００６９】水素化ナトリウム（６０％）２．７ｇ
（０．０６６モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルム３０mlに
分散し、氷冷下、窒素雰囲気にてｔｅｒｔ−ブチル
（５，５−ジメチルヒダントイン−３−イル）メチルケ
トン６．８ｇ（０．０３モル）、４−クロロ−５−フェ
ノキシカルボニルアミノニトロベンゼン８．８ｇ（０．
０３モル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（５０
ml）を２時間かけて滴下し、そのまま室温にもどし、二
晩放置した。氷水に注ぎ、希塩酸を用いて中和した後、
酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥、濃縮後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル
＝２／１）にて精製を行ない、化合物（１）をアモルフ
ァスとして、０．６９ｇ得た。収率５．４％。
（０．０６６モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルム３０mlに
分散し、氷冷下、窒素雰囲気にてｔｅｒｔ−ブチル
（５，５−ジメチルヒダントイン−３−イル）メチルケ
トン６．８ｇ（０．０３モル）、４−クロロ−５−フェ
ノキシカルボニルアミノニトロベンゼン８．８ｇ（０．
０３モル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（５０
ml）を２時間かけて滴下し、そのまま室温にもどし、二
晩放置した。氷水に注ぎ、希塩酸を用いて中和した後、
酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥、濃縮後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル
＝２／１）にて精製を行ない、化合物（１）をアモルフ
ァスとして、０．６９ｇ得た。収率５．４％。
【００７０】1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３０（ｓ，９Ｈ） １．５４（ｓ，３Ｈ） １．５８（ｓ，３Ｈ） ５．６９（ｓ，１Ｈ） ６．２５（ｓ，１Ｈ） ７．５７（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．３Ｈｚ） ７．９６（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．３Ｈｚ、３．３Ｈｚ） ９．２５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝３．３Ｈｚ） １０．０（ｓ，１Ｈ）
【００７１】実施例２．化合物（５）の合成 水素化ナトリウム（６０％）０．２２ｇ（５．５ミリモ
ル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０mlに分散し、
窒素雰囲気下、実施例１にて合成したｔｅｒｔ−ブチル
（５，５−ジメチルヒダントイン３−イル）メチルケト
ン１．１３ｇ（５ミリモル）を加え、１０分室温に攪拌
した。これにベンジルクロリド０．５８ml（５ミリモ
ル）を加え、室温にて２時間攪拌した。水素化ナトリウ
ム０．４４ｇ（１１ミリモル）を加え、これに、実施例
１にて合成した４−クロロ−５−フェノキシカルボニル
アミノニトロベンゼン１．４７ｇ（５ミリモル）のＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド５ml溶液を氷冷下１０分かけ
て滴下した。室温にもどし３時間攪拌後、希塩酸水に反
応混合物を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。２回水洗した
のち、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）にて精製
し、化合物（５）をアモルファスとして、１．７１ｇ得
た。収率６６％。
ル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０mlに分散し、
窒素雰囲気下、実施例１にて合成したｔｅｒｔ−ブチル
（５，５−ジメチルヒダントイン３−イル）メチルケト
ン１．１３ｇ（５ミリモル）を加え、１０分室温に攪拌
した。これにベンジルクロリド０．５８ml（５ミリモ
ル）を加え、室温にて２時間攪拌した。水素化ナトリウ
ム０．４４ｇ（１１ミリモル）を加え、これに、実施例
１にて合成した４−クロロ−５−フェノキシカルボニル
アミノニトロベンゼン１．４７ｇ（５ミリモル）のＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド５ml溶液を氷冷下１０分かけ
て滴下した。室温にもどし３時間攪拌後、希塩酸水に反
応混合物を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。２回水洗した
のち、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）にて精製
し、化合物（５）をアモルファスとして、１．７１ｇ得
た。収率６６％。
【００７２】1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３１（ｓ，９Ｈ） １．５７（ｓ，６Ｈ） ４．５２（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１６．０Ｈｚ） ４．６４（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１６．０Ｈｚ） ５．７３（ｓ，１Ｈ） ７．３３（ｍ，５Ｈ） ７．５６（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ） ７．９５（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ、２．０Ｈｚ） ９．２７（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．０Ｈｚ） １０．１４（ｓ，１Ｈ）
【００７３】実施例３．化合物（２０）の合成 実施例１とほぼ同様の方法にて合成した。収率７５％ 融点 １２４−１２７℃1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３０（ｓ，９Ｈ） ３．４８（ｍ，１Ｈ） ３．６８（ｍ，１Ｈ） ４．２７（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１６．０Ｈｚ） ４．９２（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１６．０Ｈｚ） ５．０４（ｓ，１Ｈ） ５．７０（ｓ，１Ｈ） ７．３２（ｍ，５Ｈ） ７．５５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ） ７．９５（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ、２．０Ｈｚ） ９．２５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．０Ｈｚ） ９．９０（ｓ，１Ｈ）
【００７４】実施例４．化合物（２１）の合成 実施例２のベンジルクロリドのかわりにクロロメチルメ
チルエーテルを用いて合成した。収率７５％ 融点 １６７−１７０℃1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．２９（ｓ，９Ｈ） １．５６（ｓ，３Ｈ） １．６１（ｓ，３Ｈ） ３．４０（ｓ，３Ｈ） ４．９０（ｓ，２Ｈ） ５．７２（ｓ，１Ｈ） ７．５７（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝８．７Ｈｚ） ７．９６（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝８．７Ｈｚ、２．７Ｈｚ） ９．２６（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） １０．０５（ｓ，１Ｈ）
チルエーテルを用いて合成した。収率７５％ 融点 １６７−１７０℃1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．２９（ｓ，９Ｈ） １．５６（ｓ，３Ｈ） １．６１（ｓ，３Ｈ） ３．４０（ｓ，３Ｈ） ４．９０（ｓ，２Ｈ） ５．７２（ｓ，１Ｈ） ７．５７（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝８．７Ｈｚ） ７．９６（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝８．７Ｈｚ、２．７Ｈｚ） ９．２６（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） １０．０５（ｓ，１Ｈ）
【００７５】実施例５．化合物（３１）の合成 ２−クロロ−５−ニトロアニリンのかわりに、２−メト
キシ−５−ニトロアニリンを用いて、実施例１と同様の
方法にて合成した。 アモルファス1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３２（ｓ，９Ｈ） １．５３（ｓ，３Ｈ） １．５８（ｓ，３Ｈ） ４．０３（ｓ，３Ｈ） ５．７０（ｓ，１Ｈ） ６．１５（ｓ，１Ｈ） ６．９５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１０．０Ｈｚ） ８．０２（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝１０．０Ｈｚ、２．７Ｈ
ｚ） ９．１７（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） ９．４０（ｓ，１Ｈ）
キシ−５−ニトロアニリンを用いて、実施例１と同様の
方法にて合成した。 アモルファス1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３２（ｓ，９Ｈ） １．５３（ｓ，３Ｈ） １．５８（ｓ，３Ｈ） ４．０３（ｓ，３Ｈ） ５．７０（ｓ，１Ｈ） ６．１５（ｓ，１Ｈ） ６．９５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１０．０Ｈｚ） ８．０２（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝１０．０Ｈｚ、２．７Ｈ
ｚ） ９．１７（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） ９．４０（ｓ，１Ｈ）
【００７６】実施例６．化合物（３５）の合成 同様にして合成した。収率７４％ 融点 １５１−１５３℃1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３２（ｓ，９Ｈ） １．３５（ｓ，３Ｈ） １．４２（ｓ，３Ｈ） ３．９９（ｓ，３Ｈ） ４．５４（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１６．７Ｈｚ） ４．６４（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１６．７Ｈｚ） ５．７５（ｓ，１Ｈ） ６．９４（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ） ７．３４（ｍ，５Ｈ） ８．０３（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、３．０Ｈｚ） ９．２５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝３．０Ｈｚ） ９．９０（ｓ，１Ｈ）
【００７７】実施例７．化合物（５０）の合成 同様にして合成した。収率８２％。 アモルファス1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３０（ｓ，９Ｈ） ３．４０−３．７０（ｍ，２Ｈ） ４．００（ｓ，３Ｈ） ４．２０−４．３０（ｍ，１Ｈ） ４．８５−５．０５（ｍ，２Ｈ） ５．７０（ｓ，１Ｈ） ６．９５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ） ７．３５（ｍ，５Ｈ） ８．０５（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ、２．７Ｈｚ） ９．３１（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） ９．５０（ｓ，１Ｈ）
【００７８】実施例８．化合物（５１）の合成 同様にして合成した。収率７２％。 アモルファス1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．２８（ｓ，９Ｈ） １．５６（ｓ，３Ｈ） １．６０（ｓ，３Ｈ） ３．４０（ｓ，３Ｈ） ４．００（ｓ，３Ｈ） ４．９０（ｓ，２Ｈ） ５．７０（ｓ，１Ｈ） ６．９３（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ） ８．０２（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、２．７Ｈｚ） ９．２２（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） ９．７０（ｓ，１Ｈ）
【００７９】実施例９．化合物（８０）の合成 同様にして合成した。収率６９％。 アモルファス1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．０５−１．２５（ｍ，３Ｈ） ３．１５−３．７０（ｍ，２Ｈ） ３．９０（ｓ，３Ｈ） ４．０８−４．２８（ｍ，１Ｈ） ４．８２−５．００（ｍ，１Ｈ） ５．０２（ｓ，１Ｈ） ６．０８（ｓ，１Ｈ） ６．８８−７．１０（ｍ，２Ｈ） ７．０５−７．１４（ｍ，１Ｈ） ７．２０−７．４２（ｍ，４Ｈ） ７．５８（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ） ７．７７−８．１０（ｍ，３Ｈ） ９．３０（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） １０．５０（ｓ，１Ｈ）
【００８０】実施例１０．化合物（１１０）の合成 同様にして合成した。 アモルファス1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．０２−１．２５（ｍ，３Ｈ） ３．１３−３．６２（ｍ，２Ｈ） ３．８８（ｓ，３Ｈ） ４．００（ｓ，３Ｈ） ４．０５−４．２８（ｍ，２Ｈ） ５．００（ｓ，１Ｈ） ６．０８（ｓ，１Ｈ） ６．８３−６．９７（ｍ，３Ｈ） ７．０５−７．１７（ｍ，１Ｈ） ７．２２−７．４０（ｍ，４Ｈ） ７．７７−８．０（ｍ，３Ｈ） ９．２２（ｓ，１Ｈ） １０．０５（ｓ，１Ｈ）
【００８１】実施例１１．化合物（２１１）の合成 実施例２のベンジルクロリドのかわりにメタンスルホニ
ルクロリドを用いて合成した。収率６８％。1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３０（ｓ，９Ｈ） １．８３（ｓ，３Ｈ） １．８８（ｓ，３Ｈ） ３．４３（ｓ，３Ｈ） ５．６７（ｓ，１Ｈ） ７．５８（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．３Ｈｚ） ８．００（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．３Ｈｚ、２．７Ｈｚ） ９．２０（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） ９．７３（ｓ，１Ｈ）
ルクロリドを用いて合成した。収率６８％。1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３０（ｓ，９Ｈ） １．８３（ｓ，３Ｈ） １．８８（ｓ，３Ｈ） ３．４３（ｓ，３Ｈ） ５．６７（ｓ，１Ｈ） ７．５８（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．３Ｈｚ） ８．００（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．３Ｈｚ、２．７Ｈｚ） ９．２０（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） ９．７３（ｓ，１Ｈ）
【００８２】実施例１２．化合物（２１４）の合成 実施例２のベンジルクロリドのかわりにｐ−トルエンス
ルホニルクロリドを用いて合成した。収率７０％。 アモルファス1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．２２（ｓ，９Ｈ） １．８３（ｓ，３Ｈ） １．９０（ｓ，３Ｈ） ２．４４（ｓ，３Ｈ） ５．５５（ｓ，１Ｈ） ７．３ （ｍ，２Ｈ） ７．５２（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ） ７．９５（ｍ，３Ｈ） ９．１３（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） ９．６５（ｓ，１Ｈ）
ルホニルクロリドを用いて合成した。収率７０％。 アモルファス1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．２２（ｓ，９Ｈ） １．８３（ｓ，３Ｈ） １．９０（ｓ，３Ｈ） ２．４４（ｓ，３Ｈ） ５．５５（ｓ，１Ｈ） ７．３ （ｍ，２Ｈ） ７．５２（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ） ７．９５（ｍ，３Ｈ） ９．１３（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） ９．６５（ｓ，１Ｈ）
【００８３】実施例１３．化合物（１）の合成 （実施例１と異なる条件：化合物（２１４）を用いる方
法）実施例１２にて合成した化合物（２１４）５．８０
ｇ（０．０１モル）をメタノール１００mlに溶かし、こ
れにナトリウムメトキシドメタノール溶液（２８％）１
０．０ml（０．０５モル）を加え、１時間加熱還流し
た。室温にもどし、塩酸を用いて酸性化したのち、酢酸
エチルにて抽出、水洗、乾燥、濃縮を行ない、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチ
ル＝２／１）にて精製を行ない化合物（１）をアモルフ
ァスとして３．１４ｇ得た。収率７４％。
法）実施例１２にて合成した化合物（２１４）５．８０
ｇ（０．０１モル）をメタノール１００mlに溶かし、こ
れにナトリウムメトキシドメタノール溶液（２８％）１
０．０ml（０．０５モル）を加え、１時間加熱還流し
た。室温にもどし、塩酸を用いて酸性化したのち、酢酸
エチルにて抽出、水洗、乾燥、濃縮を行ない、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチ
ル＝２／１）にて精製を行ない化合物（１）をアモルフ
ァスとして３．１４ｇ得た。収率７４％。
【００８４】参考例．化合物（２０）を用いたイエロー
カプラー（Ｙ−１）の合成
カプラー（Ｙ−１）の合成
【００８５】
【化１５】
【００８６】還元鉄４．４４ｇ、塩化アンモニウム０．
３５ｇに水３ml、エタノール２０mlを加え、窒素雰囲気
下、スチームバスにて３０分加熱攪拌した。ここへ、化
合物（２０）７．０６ｇを加え、さらに酢酸を２ml加
え、５時間還流した。セライト濾過にて酸化鉄を除去
し、濾液を酢酸エチル５０mlに溶解し、２回水洗した。
芒硝にて乾燥後、溶媒を留去し、これにＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド２０ml、（２−２，４−ジ−ｔｅｒｔ−
アミルフェノキシ）ブタノイルクロリド４．３０ｇを加
え、室温にて２時間攪拌した。水１００mlを加え、酢酸
エチルにて抽出、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製を行ない（Ｙ−１）をアモルファスとして８．
７６ｇ得た。収率８２％。
３５ｇに水３ml、エタノール２０mlを加え、窒素雰囲気
下、スチームバスにて３０分加熱攪拌した。ここへ、化
合物（２０）７．０６ｇを加え、さらに酢酸を２ml加
え、５時間還流した。セライト濾過にて酸化鉄を除去
し、濾液を酢酸エチル５０mlに溶解し、２回水洗した。
芒硝にて乾燥後、溶媒を留去し、これにＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド２０ml、（２−２，４−ジ−ｔｅｒｔ−
アミルフェノキシ）ブタノイルクロリド４．３０ｇを加
え、室温にて２時間攪拌した。水１００mlを加え、酢酸
エチルにて抽出、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製を行ない（Ｙ−１）をアモルファスとして８．
７６ｇ得た。収率８２％。
【００８７】（Ｙ−１）は特公昭５６−４５１３５号
（米国特許第（以下、ＵＳ）４，０２２，６２０号）に
包含されるイエローカプラーであり、ＵＳ４，８４０，
８７８号、ＵＳ４，８５７，４４４号、ＵＳ４，９２
７，７４３号、ＵＳ５，００１，０４５号、ＵＳ５，０
２８，５１５号、ＵＳ５，１８３，７３１号などの特許
で開示されているように、発色性に優れ、得られる色像
の堅牢性にすぐれるイエローカプラーであり、広く用い
ることができる。
（米国特許第（以下、ＵＳ）４，０２２，６２０号）に
包含されるイエローカプラーであり、ＵＳ４，８４０，
８７８号、ＵＳ４，８５７，４４４号、ＵＳ４，９２
７，７４３号、ＵＳ５，００１，０４５号、ＵＳ５，０
２８，５１５号、ＵＳ５，１８３，７３１号などの特許
で開示されているように、発色性に優れ、得られる色像
の堅牢性にすぐれるイエローカプラーであり、広く用い
ることができる。
【００８８】
【発明の効果】本発明の化合物を用いることで写真用イ
エローカプラーを短工程で製造することができる。
エローカプラーを短工程で製造することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年１０月３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７３】実施例３．化合物（２０）の合成 実施例１とほぼ同様の方法にて合成した。収率７５％ 融点 １２４−１２７℃1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３０（ｓ，９Ｈ） １．１８（ｔ，３Ｈ、Ｊ＝７．５Ｈｚ） ３．４８（ｍ，１Ｈ） ３．６８（ｍ，１Ｈ） ４．２７（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１６．０Ｈｚ） ４．９２（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝１６．０Ｈｚ） ５．０４（ｓ，１Ｈ） ５．７０（ｓ，１Ｈ） ７．３２（ｍ，５Ｈ） ７．５５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ） ７．９５（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ、２．０Ｈｚ） ９．２５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．０Ｈｚ） ９．９０（ｓ，１Ｈ）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００７７】実施例７．化合物（５０）の合成 同様にして合成した。収率８２％。 アモルファス1 Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＣＤＣｌ3 ） δｐｐｍ １．３０（ｓ，９Ｈ） １．１６（ｔ，３Ｈ、Ｊ＝７．５Ｈｚ） ３．４０−３．７０（ｍ，２Ｈ） ４．００（ｓ，３Ｈ） ４．２０−４．３０（ｍ，１Ｈ） ４．８５−５．０５（ｍ，２Ｈ） ５．７０（ｓ，１Ｈ） ６．９５（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ） ７．３５（ｍ，５Ｈ） ８．０５（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ、２．７Ｈｚ） ９．３１（ｄ，１Ｈ、Ｊ＝２．７Ｈｚ） ９．５０（ｓ，１Ｈ）
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 はｔｅｒｔ−ブチル基またはｐ−アルコキ
シフェニル基を表わし、Ｒ2 は塩素原子またはアルコキ
シ基を表わし、Ｒ3 は水素原子、アルキル基、ベンジル
基、アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基
を表わし、Ｒ4は水素原子またはアルキル基を表わし、
Ｒ5 はアルキル基、またはアルコキシ基を表わす。）で
表わされるヒダントイン置換アシルアセトアニリド化合
物。 - 【請求項２】 一般式(III) で表わされるヒダントイン
置換アセチル化合物と一般式（IV）で表わされるウレタ
ン化合物とを塩基存在下反応させることを特徴とする一
般式（Ｉ）で表わされるヒダントイン置換アシルアセト
アニリド化合物の製造方法。 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 は一般式（Ｉ）におけ
るものと同義である。） 【化３】 （式中、Ｒ2 は一般式（Ｉ）におけるものと同義であ
る。） 【化４】 （式中、Ｒ1 はｔｅｒｔ−ブチル基またはｐ−アルコキ
シフェニル基を表わし、Ｒ2 は塩素原子またはアルコキ
シ基を表わし、Ｒ3 は水素原子、アルキル基、ベンジル
基、アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基
を表わし、Ｒ4は水素原子またはアルキル基を表わし、
Ｒ5 はアルキル基またはアルコキシ基を表わす。）
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6239227A JPH08104821A (ja) | 1994-10-03 | 1994-10-03 | ヒダントイン置換アシルアセトアニリド化合物及びその製造方法 |
| DE1995617902 DE69517902T2 (de) | 1994-10-03 | 1995-10-02 | Hydantoin-substituierte Acylacetanilid Verbindungen und Verfahren zu deren Herstellung |
| EP95115552A EP0705822B1 (en) | 1994-10-03 | 1995-10-02 | Hydantoin-substituted acylacetanilide compounds and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP6239227A JPH08104821A (ja) | 1994-10-03 | 1994-10-03 | ヒダントイン置換アシルアセトアニリド化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
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|---|---|
| JPH08104821A true JPH08104821A (ja) | 1996-04-23 |
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ID=17041645
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP6239227A Pending JPH08104821A (ja) | 1994-10-03 | 1994-10-03 | ヒダントイン置換アシルアセトアニリド化合物及びその製造方法 |
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| JP (1) | JPH08104821A (ja) |
| DE (1) | DE69517902T2 (ja) |
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-
1994
- 1994-10-03 JP JP6239227A patent/JPH08104821A/ja active Pending
-
1995
- 1995-10-02 EP EP95115552A patent/EP0705822B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-02 DE DE1995617902 patent/DE69517902T2/de not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
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| EP0705822B1 (en) | 2000-07-12 |
| DE69517902D1 (de) | 2000-08-17 |
| DE69517902T2 (de) | 2000-12-21 |
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