JPH08100027A - シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法 - Google Patents
シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法Info
- Publication number
- JPH08100027A JPH08100027A JP23647794A JP23647794A JPH08100027A JP H08100027 A JPH08100027 A JP H08100027A JP 23647794 A JP23647794 A JP 23647794A JP 23647794 A JP23647794 A JP 23647794A JP H08100027 A JPH08100027 A JP H08100027A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cyclodextrin
- derivative
- monomer
- maleic anhydride
- immobilized
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】α，β不飽和酸あるいはその誘導体を酸ハロゲ
ン化する必要がなく、しかも高い導入率でシクロデキス
トリンの誘導体を固定するシクロデキストリン固定化ポ
リマーの製造方法を提供することを目的とする。 【構成】無水マレイン酸にシクロデキストリン誘導体を
反応させたモノマーと、α，β不飽和酸あるいはその誘
導体のモノマーとを共重合させるか、α，β不飽和酸あ
るいはその誘導体のモノマーと無水マレイン酸との共重
合体に、シクロデキストリン誘導体を反応させることに
よりシクロデキストリン固定化ポリマーを製造する。
ン化する必要がなく、しかも高い導入率でシクロデキス
トリンの誘導体を固定するシクロデキストリン固定化ポ
リマーの製造方法を提供することを目的とする。 【構成】無水マレイン酸にシクロデキストリン誘導体を
反応させたモノマーと、α，β不飽和酸あるいはその誘
導体のモノマーとを共重合させるか、α，β不飽和酸あ
るいはその誘導体のモノマーと無水マレイン酸との共重
合体に、シクロデキストリン誘導体を反応させることに
よりシクロデキストリン固定化ポリマーを製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシクロデキストリン固定
化ポリマーの製造方法に関する。
化ポリマーの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】シクロデキストリンはグルコースが６単
位以上α−１，４結合した環状オリゴ糖で、グルコース
単位６、７、８個のものは特によく知られ、それらの応
用に関する公知文献も多い。これらの応用例はいずれも
シクロデキストリン環の内部が疎水性であり、なおかつ
この環の大きさがグルコース単位量で定まっていること
による選択的包接能を利用するもので、クロマト分離用
の充填剤、触媒、あるいは食品の異味、異臭のマスキン
グ、揮発性物質の保持、難溶性物質の可溶化などに用い
られている。
位以上α−１，４結合した環状オリゴ糖で、グルコース
単位６、７、８個のものは特によく知られ、それらの応
用に関する公知文献も多い。これらの応用例はいずれも
シクロデキストリン環の内部が疎水性であり、なおかつ
この環の大きさがグルコース単位量で定まっていること
による選択的包接能を利用するもので、クロマト分離用
の充填剤、触媒、あるいは食品の異味、異臭のマスキン
グ、揮発性物質の保持、難溶性物質の可溶化などに用い
られている。
【０００３】このような選択的包接能が疎水性物質の分
離や抽出にあたっての有力な手段になろうことは容易に
予測できるが、シクロデキストリンが水溶性であるため
分離、抽出剤として用いるには、反応系から包接化合物
を分離すること、および包接された化合物をシクロデキ
ストリンから分離することが困難であるなど、解決すべ
き課題が多い。
離や抽出にあたっての有力な手段になろうことは容易に
予測できるが、シクロデキストリンが水溶性であるため
分離、抽出剤として用いるには、反応系から包接化合物
を分離すること、および包接された化合物をシクロデキ
ストリンから分離することが困難であるなど、解決すべ
き課題が多い。
【０００４】シクロデキストリンの持つ包接能を維持し
たままでポリマー等に固定すればそれをカラムに充填
し、イオン交換樹脂や活性炭と同様に吸着、脱着操作
で、あるいはクロマトグラフィー操作で成分の分離、回
収、除去が容易にできる。
たままでポリマー等に固定すればそれをカラムに充填
し、イオン交換樹脂や活性炭と同様に吸着、脱着操作
で、あるいはクロマトグラフィー操作で成分の分離、回
収、除去が容易にできる。
【０００５】そこで、これまでシクロデキストリンの固
定化が様々な方法で試みられているが、固定化されたシ
クロデキストリンの利用率が低かったり、またシクロデ
キストリンを固定化した母体ポリマーが疎水性物質を吸
着するために、選択性が不十分となったり、また製造に
多大の費用を要するものであるなど、産業上有利に利用
するにはいずれも不適当なものであった。
定化が様々な方法で試みられているが、固定化されたシ
クロデキストリンの利用率が低かったり、またシクロデ
キストリンを固定化した母体ポリマーが疎水性物質を吸
着するために、選択性が不十分となったり、また製造に
多大の費用を要するものであるなど、産業上有利に利用
するにはいずれも不適当なものであった。
【０００６】例えば、特公昭５５−２７０８３号、特公
昭５５−４１６４３号、特公昭５６−１５８０６号の各
公報には、シクロデキストリン誘導体を有するポリスチ
レン系重合体の製造法が記載されており、この方法によ
ればスチレンモノマーに対し、必ず１ユニットのシクロ
デキストリン誘導体が固定されるが、その高分子反応に
おいては、反応性が低く固定量は十分でない。また、特
開昭５５−７５４０２号、特開昭６３−３１４２０１号
の各公報では、グリシジル基あるいはそのエポキシ環を
開環した箇所にシクロデキストリンを高分子反応させて
固定化を行っているが、この方法においても十分な量の
シクロデキストリンを母体に結合するには、長時間の反
応によらねばならず、また実際に結合されたシクロデキ
ストリンは仕込みの量の一部にすぎず、モノマーに対し
必ずシクロデキストリンを１つ固定化することはでき
ず、優れたシクロデキストリンの包接能を種々の目的で
活用するには経済性の面で問題があった。
昭５５−４１６４３号、特公昭５６−１５８０６号の各
公報には、シクロデキストリン誘導体を有するポリスチ
レン系重合体の製造法が記載されており、この方法によ
ればスチレンモノマーに対し、必ず１ユニットのシクロ
デキストリン誘導体が固定されるが、その高分子反応に
おいては、反応性が低く固定量は十分でない。また、特
開昭５５−７５４０２号、特開昭６３−３１４２０１号
の各公報では、グリシジル基あるいはそのエポキシ環を
開環した箇所にシクロデキストリンを高分子反応させて
固定化を行っているが、この方法においても十分な量の
シクロデキストリンを母体に結合するには、長時間の反
応によらねばならず、また実際に結合されたシクロデキ
ストリンは仕込みの量の一部にすぎず、モノマーに対し
必ずシクロデキストリンを１つ固定化することはでき
ず、優れたシクロデキストリンの包接能を種々の目的で
活用するには経済性の面で問題があった。
【０００７】本発明者らは、上記の問題点を解決するた
めに、特開平３−２２１５０１号、特開平３−２２１５
０２号、特開平４−２５５０３号、特開平４−２５５０
４号、特開平５−２５２０３号の各公報に記載のよう
に、α，β不飽和酸あるいはその誘導体の酸ハロゲン化
モノマー、または末端にイソシアネート基を有するα，
β不飽和酸あるいはその誘導体のモノマーと、シクロデ
キストリンの誘導体を反応させることにより高い導入率
でシクロデキストリンを含有させることができた。
めに、特開平３−２２１５０１号、特開平３−２２１５
０２号、特開平４−２５５０３号、特開平４−２５５０
４号、特開平５−２５２０３号の各公報に記載のよう
に、α，β不飽和酸あるいはその誘導体の酸ハロゲン化
モノマー、または末端にイソシアネート基を有するα，
β不飽和酸あるいはその誘導体のモノマーと、シクロデ
キストリンの誘導体を反応させることにより高い導入率
でシクロデキストリンを含有させることができた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしこの方法では、
シクロデキストリンの誘導体を反応させるために、α，
β不飽和酸あるいはその誘導体を酸ハロゲン化したり、
末端にイソシアネート基を導入する必要があり、この合
成に手間がかかっていた。
シクロデキストリンの誘導体を反応させるために、α，
β不飽和酸あるいはその誘導体を酸ハロゲン化したり、
末端にイソシアネート基を導入する必要があり、この合
成に手間がかかっていた。
【０００９】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであって、α，β不飽和酸あるいはその誘導
体を酸ハロゲン化する必要がなく、しかも高い導入率で
シクロデキストリンの誘導体を固定するシクロデキスト
リン固定化ポリマーの製造方法を提供することを目的と
する。
されたものであって、α，β不飽和酸あるいはその誘導
体を酸ハロゲン化する必要がなく、しかも高い導入率で
シクロデキストリンの誘導体を固定するシクロデキスト
リン固定化ポリマーの製造方法を提供することを目的と
する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題に
鑑みて鋭意研究の結果、無水マレイン酸にシクロデキス
トリン誘導体を反応させたモノマーと、α，β不飽和酸
あるいはその誘導体のモノマーとを共重合させるか、あ
るいは、α，β不飽和酸あるいはその誘導体のモノマー
と無水マレイン酸との共重合体に、シクロデキストリン
誘導体を反応させることにより上記目的を達成されるこ
とを見いだした。
鑑みて鋭意研究の結果、無水マレイン酸にシクロデキス
トリン誘導体を反応させたモノマーと、α，β不飽和酸
あるいはその誘導体のモノマーとを共重合させるか、あ
るいは、α，β不飽和酸あるいはその誘導体のモノマー
と無水マレイン酸との共重合体に、シクロデキストリン
誘導体を反応させることにより上記目的を達成されるこ
とを見いだした。
【００１１】
【実施例】以下に本発明をさらに詳細に説明する。
【００１２】本発明に用いられるシクロデキストリン誘
導体としては、１個の一級水酸基を残して残りの水酸基
を保護基にて保護したシクロデキストリン誘導体や、シ
クロデキストリンの一級水酸基の１個のみをアルコール
アミン、メルカプトエチルアルコールおよびグリコール
酸で置換したシクロデキストリン誘導体が挙げられる。
これらシクロデキストリン誘導体の合成方法について
は、特開平５−２５２０３号公報に詳細に記載されてい
る。なお、シクロデキストリン（以下場合によりＣＤと
いう）としては、α−ＣＤ、β−ＣＤ、γ−ＣＤ等のい
ずれも用いることができる。
導体としては、１個の一級水酸基を残して残りの水酸基
を保護基にて保護したシクロデキストリン誘導体や、シ
クロデキストリンの一級水酸基の１個のみをアルコール
アミン、メルカプトエチルアルコールおよびグリコール
酸で置換したシクロデキストリン誘導体が挙げられる。
これらシクロデキストリン誘導体の合成方法について
は、特開平５−２５２０３号公報に詳細に記載されてい
る。なお、シクロデキストリン（以下場合によりＣＤと
いう）としては、α−ＣＤ、β−ＣＤ、γ−ＣＤ等のい
ずれも用いることができる。
【００１３】また、本発明に用いられるα，β不飽和酸
あるいはその誘導体としては、エチレン、スチレン、ア
クリル酸、メタクリル酸およびこれらの誘導体等が挙げ
られる。
あるいはその誘導体としては、エチレン、スチレン、ア
クリル酸、メタクリル酸およびこれらの誘導体等が挙げ
られる。
【００１４】以下に、本発明によるシクロデキストリン
固定化ポリマーの合成方法の反応例を示す。
固定化ポリマーの合成方法の反応例を示す。
【００１５】
【化１】
【００１６】［実施例１］脱水したピリジン中に無水マ
レイン酸を溶解し、室温下で６−モノヒドロキシ−ｐｅ
ｒメチルβ−ＣＤを加える。添加後５０〜６０℃下で２
４時間反応させる。反応終了後放冷し、減圧下ピリジン
を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて分離精製しＣＤモノマーを得る（収率約９０
％）。得られたＣＤモノマーをジオキサンに加熱して溶
解し、次いでスチレンをＣＤモノマーと等モル量添加溶
解、さらに開始剤（２，２’−アゾビスイソブチロニト
リル（ＡＩＢＮ）またはベンゾイルパーオキサイド（Ｂ
ＰＯ））を加える。系が発熱するので冷却しながら５０
〜６０℃に抑えながら撹拌重合させる。３０分後さらに
ジオキサンを加え２時間反応、アセトンを系に加えて希
釈してから大量のベンゼン中に注ぎ再沈殿させる。得ら
れた沈殿物はよくｎ−ヘキサンで洗浄し減圧乾燥するこ
とで共重合体を得る（化１参照）。得られたポリマーの
重合度をＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）を用い
て測定したところ、平均分子量は約２５，０００であっ
た。
レイン酸を溶解し、室温下で６−モノヒドロキシ−ｐｅ
ｒメチルβ−ＣＤを加える。添加後５０〜６０℃下で２
４時間反応させる。反応終了後放冷し、減圧下ピリジン
を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて分離精製しＣＤモノマーを得る（収率約９０
％）。得られたＣＤモノマーをジオキサンに加熱して溶
解し、次いでスチレンをＣＤモノマーと等モル量添加溶
解、さらに開始剤（２，２’−アゾビスイソブチロニト
リル（ＡＩＢＮ）またはベンゾイルパーオキサイド（Ｂ
ＰＯ））を加える。系が発熱するので冷却しながら５０
〜６０℃に抑えながら撹拌重合させる。３０分後さらに
ジオキサンを加え２時間反応、アセトンを系に加えて希
釈してから大量のベンゼン中に注ぎ再沈殿させる。得ら
れた沈殿物はよくｎ−ヘキサンで洗浄し減圧乾燥するこ
とで共重合体を得る（化１参照）。得られたポリマーの
重合度をＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）を用い
て測定したところ、平均分子量は約２５，０００であっ
た。
【００１７】
【化２】
【００１８】［実施例２］エチレン−無水マレイン酸交
互共重合体を脱水したジオキサン（あるいはアセトン）
に溶解し少量のピリジンを添加する。次いで室温下で６
−モノヒドロキシｐｅｒアセチルβ−ＣＤのジオキサン
（あるいはアセトン）溶液を滴下する。滴下終了後５０
〜６０℃で２４時間反応させる。反応終了後放冷し、減
圧下溶媒を留去し、残渣を大量のベンゼン中に注ぎ再沈
殿させる。得られた沈殿物はよくｎ−ヘキサンで洗浄
し、減圧乾燥することで目的物を得る（化２参照）。得
られたポリマーの核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトルを測
定して構造解析し、さらに滴定法にてカルボキシル基の
量を測定したところ、無水マレイン酸部分の約７５％に
ＣＤ誘導体が導入されていた。
互共重合体を脱水したジオキサン（あるいはアセトン）
に溶解し少量のピリジンを添加する。次いで室温下で６
−モノヒドロキシｐｅｒアセチルβ−ＣＤのジオキサン
（あるいはアセトン）溶液を滴下する。滴下終了後５０
〜６０℃で２４時間反応させる。反応終了後放冷し、減
圧下溶媒を留去し、残渣を大量のベンゼン中に注ぎ再沈
殿させる。得られた沈殿物はよくｎ−ヘキサンで洗浄
し、減圧乾燥することで目的物を得る（化２参照）。得
られたポリマーの核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトルを測
定して構造解析し、さらに滴定法にてカルボキシル基の
量を測定したところ、無水マレイン酸部分の約７５％に
ＣＤ誘導体が導入されていた。
【００１９】
【化３】
【００２０】［実施例３］脱水したピリジン中に無水マ
レイン酸を溶解し、室温下で６−モノグリコリル−ｐｅ
ｒメチルβ−ＣＤを加える。添加後５０〜６０℃下で２
４時間反応させる。反応終了後放冷し、減圧下ピリジン
を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて分離精製し、ＣＤモノマーを得る（収率約９０
％）。得られたＣＤモノマーをテトラヒドロフランに溶
解し、次いでアクリル酸メチルを添加溶解し、さらに開
始剤（ＡＩＢＮまたはＢＰＯ）を加える。この溶液を減
圧下で封管し、５０〜６０℃で６時間重合させる。反応
終了後放冷し、アセトンを系に加え希釈後大量のベンゼ
ン中に注ぎ再沈殿させる。得られた沈殿物はよくｎ−ヘ
キサンで洗浄し減圧乾燥することで共重合体を得る（化
３参照）。
レイン酸を溶解し、室温下で６−モノグリコリル−ｐｅ
ｒメチルβ−ＣＤを加える。添加後５０〜６０℃下で２
４時間反応させる。反応終了後放冷し、減圧下ピリジン
を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて分離精製し、ＣＤモノマーを得る（収率約９０
％）。得られたＣＤモノマーをテトラヒドロフランに溶
解し、次いでアクリル酸メチルを添加溶解し、さらに開
始剤（ＡＩＢＮまたはＢＰＯ）を加える。この溶液を減
圧下で封管し、５０〜６０℃で６時間重合させる。反応
終了後放冷し、アセトンを系に加え希釈後大量のベンゼ
ン中に注ぎ再沈殿させる。得られた沈殿物はよくｎ−ヘ
キサンで洗浄し減圧乾燥することで共重合体を得る（化
３参照）。
【００２１】
【化４】
【００２２】［実施例４］６−モノグリコリル−ｐｅｒ
メチルβ−ＣＤを６−モノヒドロキシエチルアミノ−ｐ
ｅｒメチルβ−ＣＤとし（ＣＤモノマーの収率：約８０
％）、アクリル酸メチルをメタクリル酸メチルにした以
外は実施例３と同様にして共重合体を得る（化４参
照）。
メチルβ−ＣＤを６−モノヒドロキシエチルアミノ−ｐ
ｅｒメチルβ−ＣＤとし（ＣＤモノマーの収率：約８０
％）、アクリル酸メチルをメタクリル酸メチルにした以
外は実施例３と同様にして共重合体を得る（化４参
照）。
【００２３】
【化５】
【００２４】［実施例５］６−モノグリコリル−ｐｅｒ
メチルβ−ＣＤを６−モノヒドロキシエチルチオ−ｐｅ
ｒメチルβ−ＣＤとし（ＣＤモノマーの収率：約７０
％）、アクリル酸メチルをメタクリル酸メチルにした以
外は実施例３と同様にして共重合体を得る（化５参
照）。
メチルβ−ＣＤを６−モノヒドロキシエチルチオ−ｐｅ
ｒメチルβ−ＣＤとし（ＣＤモノマーの収率：約７０
％）、アクリル酸メチルをメタクリル酸メチルにした以
外は実施例３と同様にして共重合体を得る（化５参
照）。
【００２５】
【化６】
【００２６】［実施例６］エチレン−無水マレイン酸共
重合体（エチレン：マレイン酸＝１：１）を脱水したジ
オキサン（あるいはアセトン）に溶解し少量のピリジン
を添加する。次いで室温下６−モノヒドロキシエチルア
ミノｐｅｒメチルβ−ＣＤのジオキサン（あるいはアセ
トン）溶液を滴下する。滴下終了後５０〜６０℃で２４
時間反応させる。反応終了後放冷し、減圧下溶媒を留去
し、残渣を大量のベンゼン中に注ぎ再沈殿させる。得ら
れた沈殿物はよくｎ−ヘキサンで洗浄し、減圧乾燥する
ことで目的物を得る（化６参照）。
重合体（エチレン：マレイン酸＝１：１）を脱水したジ
オキサン（あるいはアセトン）に溶解し少量のピリジン
を添加する。次いで室温下６−モノヒドロキシエチルア
ミノｐｅｒメチルβ−ＣＤのジオキサン（あるいはアセ
トン）溶液を滴下する。滴下終了後５０〜６０℃で２４
時間反応させる。反応終了後放冷し、減圧下溶媒を留去
し、残渣を大量のベンゼン中に注ぎ再沈殿させる。得ら
れた沈殿物はよくｎ−ヘキサンで洗浄し、減圧乾燥する
ことで目的物を得る（化６参照）。
【００２７】
【化７】
【００２８】［実施例７］イソブテン−無水マレイン酸
交互共重合体を脱水したＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）（あるいはジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ））に溶解し、少量のピリジン（またはイミダゾー
ル）を添加する。次いで室温下で６−モノヒドロキシエ
チルチオｐｅｒアセチルβ−ＣＤのＤＭＦ（あるいはＤ
ＭＳＯ）溶液を滴下する。滴下終了後５０〜６０℃で２
４時間反応させる。反応終了後放冷し、減圧下溶媒を留
去し残渣を大量のシクロヘキサン中に注ぎ再沈殿させ
る。得られた沈殿物はよくｎ−ヘキサンで洗浄し、減圧
乾燥することで目的物を得る（化７参照）。
交互共重合体を脱水したＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）（あるいはジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ））に溶解し、少量のピリジン（またはイミダゾー
ル）を添加する。次いで室温下で６−モノヒドロキシエ
チルチオｐｅｒアセチルβ−ＣＤのＤＭＦ（あるいはＤ
ＭＳＯ）溶液を滴下する。滴下終了後５０〜６０℃で２
４時間反応させる。反応終了後放冷し、減圧下溶媒を留
去し残渣を大量のシクロヘキサン中に注ぎ再沈殿させ
る。得られた沈殿物はよくｎ−ヘキサンで洗浄し、減圧
乾燥することで目的物を得る（化７参照）。
【００２９】
【化８】
【００３０】［実施例８］６−モノヒドロキシエチルチ
オｐｅｒアセチルβ−ＣＤを６−モノグリコリルｐｅｒ
エチルβ−ＣＤにした以外は実施例７と同様にして目的
物を得る（化８参照）。
オｐｅｒアセチルβ−ＣＤを６−モノグリコリルｐｅｒ
エチルβ−ＣＤにした以外は実施例７と同様にして目的
物を得る（化８参照）。
【００３１】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の方
法によれば、ＣＤを１つ導入したモノマーとα，β不飽
和酸（誘導体）とを交互共重合させるか、あるいはα，
β不飽和酸（誘導体）−無水マレイン酸共重合体のマレ
イン酸部分に直接ＣＤ誘導体を反応させるので、得られ
るポリマー中に高い導入率でシクロデキストリンを含有
させることができる。しかも、本発明の方法はα，β不
飽和酸あるいはその誘導体を酸ハロゲン化する必要がな
く、簡単な製造方法である。
法によれば、ＣＤを１つ導入したモノマーとα，β不飽
和酸（誘導体）とを交互共重合させるか、あるいはα，
β不飽和酸（誘導体）−無水マレイン酸共重合体のマレ
イン酸部分に直接ＣＤ誘導体を反応させるので、得られ
るポリマー中に高い導入率でシクロデキストリンを含有
させることができる。しかも、本発明の方法はα，β不
飽和酸あるいはその誘導体を酸ハロゲン化する必要がな
く、簡単な製造方法である。
Claims (2)
- 【請求項１】無水マレイン酸にシクロデキストリン誘導
体を反応させたモノマーと、α，β不飽和酸あるいはそ
の誘導体のモノマーとを共重合させることを特徴とする
シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法。 - 【請求項２】α，β不飽和酸あるいはその誘導体のモノ
マーと無水マレイン酸との共重合体に、シクロデキスト
リン誘導体を反応させることを特徴とするシクロデキス
トリン固定化ポリマーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23647794A JPH08100027A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23647794A JPH08100027A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08100027A true JPH08100027A (ja) | 1996-04-16 |
Family
ID=17001323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23647794A Pending JPH08100027A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08100027A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004197084A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-15 | Cellresin Technologies Llc | グラフトさせたシクロデキストリン |
| EP1921109A2 (en) * | 2004-01-29 | 2008-05-14 | Cellresin Technologies, LLC | Grafted cyclodextrin |
| JP2010059330A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Showa Highpolymer Co Ltd | グラフト変性澱粉の水性組成物 |
| WO2010146875A1 (ja) | 2009-06-18 | 2010-12-23 | オーミケンシ株式会社 | ヨウ素およびアミロースを含有する繊維、その製造法およびその利用 |
| JP2013513719A (ja) * | 2009-12-14 | 2013-04-22 | セルレシン テクノロジーズ， エルエルシー | ポリマー、繊維、フィルム、シートまたは包装からの成熟または熟成抑制剤の放出 |
| US9074106B2 (en) | 2011-03-27 | 2015-07-07 | Cellresin Technologies, Llc | Cyclodextrin compositions, articles, and methods |
| US9316905B2 (en) * | 2014-06-30 | 2016-04-19 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Cyclodextrin derivatives and method for preparing the same, photoresist composition and display device |
| US9320288B2 (en) | 2012-11-30 | 2016-04-26 | Cellresin Technologies, Llc | Controlled release compositions and methods of using |
| US9421793B2 (en) | 2014-06-26 | 2016-08-23 | Cellresin Technologies, Llc | Electrostatic printing of cyclodextrin compositions |
| WO2017159346A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | 国立大学法人大阪大学 | 高分子材料及びその製造方法、並びに重合性単量体組成物 |
| US10182567B2 (en) | 2011-03-27 | 2019-01-22 | Cellresin Technologies, Llc | Cyclodextrin compositions, articles, and methods |
-
1994
- 1994-09-30 JP JP23647794A patent/JPH08100027A/ja active Pending
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004197084A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-15 | Cellresin Technologies Llc | グラフトさせたシクロデキストリン |
| US7166671B2 (en) | 2002-12-10 | 2007-01-23 | Cellresin Technologies, Llc | Grafted cyclodextrin |
| EP2143759A3 (en) * | 2004-01-29 | 2010-03-10 | Cellresin Technologies, LLC | Grafted cyclodextrin |
| EP2284219A1 (en) * | 2004-01-29 | 2011-02-16 | Cellresin Technologies, LLC | Grafted cyclodextrin |
| EP1921109A2 (en) * | 2004-01-29 | 2008-05-14 | Cellresin Technologies, LLC | Grafted cyclodextrin |
| EP1921109A3 (en) * | 2004-01-29 | 2008-08-27 | Cellresin Technologies, LLC | Grafted cyclodextrin |
| JP2010059330A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Showa Highpolymer Co Ltd | グラフト変性澱粉の水性組成物 |
| WO2010146875A1 (ja) | 2009-06-18 | 2010-12-23 | オーミケンシ株式会社 | ヨウ素およびアミロースを含有する繊維、その製造法およびその利用 |
| JP2013513719A (ja) * | 2009-12-14 | 2013-04-22 | セルレシン テクノロジーズ， エルエルシー | ポリマー、繊維、フィルム、シートまたは包装からの成熟または熟成抑制剤の放出 |
| JP2016028155A (ja) * | 2009-12-14 | 2016-02-25 | セルレシン テクノロジーズ， エルエルシー | ポリマー、繊維、フィルム、シートまたは包装からの成熟または熟成抑制剤の放出 |
| US9642356B2 (en) | 2009-12-14 | 2017-05-09 | Cellresin Technologies, Llc | Maturation or ripening inhibitor release from polymer, fiber, film, sheet or packaging |
| US9074106B2 (en) | 2011-03-27 | 2015-07-07 | Cellresin Technologies, Llc | Cyclodextrin compositions, articles, and methods |
| USRE49501E1 (en) | 2011-03-27 | 2023-04-25 | Verdant Technologies, Llc | Cyclodextrin compositions, articles, and methods |
| US9675069B2 (en) | 2011-03-27 | 2017-06-13 | Cellresin Technologies, Llc | Cyclodextrin compositions, articles, and methods |
| US9353282B2 (en) | 2011-03-27 | 2016-05-31 | Cellresin Technologies, Llc | Cyclodextrin compositions, articles, and methods |
| US10182567B2 (en) | 2011-03-27 | 2019-01-22 | Cellresin Technologies, Llc | Cyclodextrin compositions, articles, and methods |
| US9320288B2 (en) | 2012-11-30 | 2016-04-26 | Cellresin Technologies, Llc | Controlled release compositions and methods of using |
| US9713329B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-07-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Controlled release compositions and methods of using |
| US10212931B2 (en) | 2012-11-30 | 2019-02-26 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Controlled release compositions and methods of using |
| US9421793B2 (en) | 2014-06-26 | 2016-08-23 | Cellresin Technologies, Llc | Electrostatic printing of cyclodextrin compositions |
| US10376472B2 (en) | 2014-06-26 | 2019-08-13 | Cellresin Technologies, Llc | Electrostatic printing of cyclodextrin compositions |
| USRE49985E1 (en) | 2014-06-26 | 2024-05-28 | Verdant Technologies, Llc | Electrostatic printing of cyclodextrin compositions |
| US9316905B2 (en) * | 2014-06-30 | 2016-04-19 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Cyclodextrin derivatives and method for preparing the same, photoresist composition and display device |
| WO2017159346A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2017-09-21 | 国立大学法人大阪大学 | 高分子材料及びその製造方法、並びに重合性単量体組成物 |
| JPWO2017159346A1 (ja) * | 2016-03-18 | 2018-12-06 | 国立大学法人大阪大学 | 高分子材料及びその製造方法、並びに重合性単量体組成物 |
| CN109071730A (zh) * | 2016-03-18 | 2018-12-21 | 国立大学法人大阪大学 | 高分子材料及其制造方法、以及聚合性单体组合物 |
| US11535691B2 (en) | 2016-03-18 | 2022-12-27 | Osaka University | Macromolecular material, method for producing same, and polymerizable monomer composition |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0513358B1 (en) | Process for producing cyclodextrin derivative and polymer containing cyclodextrin immobilized therein | |
| JPH08100027A (ja) | シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法 | |
| WO1997006202A1 (fr) | Polymere sequence pourvu de groupes fonctionnels aux deux extremites | |
| JP2010215921A (ja) | 不飽和モノマーの包接複合体、そのポリマー及びこれらの調製方法 | |
| CN112375191A (zh) | 嵌段共聚物及其制备方法和应用 | |
| EP0953009A1 (en) | A process for preparing polymeric microgels | |
| JP7144064B2 (ja) | 分岐ポリマー | |
| JP2847242B2 (ja) | カルボキシル基含有マクロモノマーの製造方法 | |
| Petrova et al. | Amide-linked N-methacryloyl sucrose containing polymers | |
| JP2006299170A (ja) | シクロデキストリン含有アクリル系重合体の製造方法 | |
| Summers et al. | RAFT polymerization of styrene mediated by oxazolyl-functionalized trithiocarbonate RAFT agents | |
| JP2890758B2 (ja) | マクロモノマーの製造方法 | |
| JP2717445B2 (ja) | 重合性金属フタロシアニン誘導体およびその製造方法 | |
| JPH08100002A (ja) | シクロデキストリンポリマーの製造方法 | |
| JP2597272B2 (ja) | グラフト重合体の製造方法 | |
| JPH0525203A (ja) | シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法 | |
| JPH02113008A (ja) | 片末端に非置換もしくは置換ビニル基を有する共役ジエン系マクロモノマー、及びその製造方法及びそれを含有する組成物 | |
| JPH115817A (ja) | 重合性高分子とその重合体 | |
| JPH01178512A (ja) | アクリル酸系マクロモノマ及びその製造方法 | |
| JP3836421B2 (ja) | 両親媒性グラフト共重合体 | |
| JPH03221502A (ja) | シクロデキストリンポリマーの合成方法及びシクロデキストリン膜の製造方法 | |
| JPH0425504A (ja) | シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法 | |
| KR950010230B1 (ko) | 침전 중합법에 의한 고분자 미크로겔의 제조방법 | |
| JPH0425503A (ja) | シクロデキストリン固定化ポリマーの製造方法 | |
| JPH01132601A (ja) | マクロモノマーの製造方法 |