JPH0799116A - 多層セラミック電子部品及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 各種電気機器に用いられるインダクタ部品や
その複合部品を小型高性能化した多層セラミック電子部
品において、層間接続部のビア形状をより最適化するこ
とで、より小型化を達成し、高歩留まりを可能にする多
層セラミック電子部品を提供することを目的とする。 【構成】 図１において、１５は内部電極であり、外部
電極１６と、テーパー１３を有したテーパービア１２を
介して接続されている。このように本発明の多層セラミ
ック電子部品の場合、テーパー１３を形成することで、
焼成時の収縮によるクラック発生を防止でき、内部電極
２と外部電極４をより確実に接続することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はインダクタ部品あるいは
これらの複合部品を小型高性能化した多層セラミック電
子部品及びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、フェライトなどのセラミックを用
いたインダクタ部品は小型化、高性能化のための多層
化、複合化が進み、内部電極と外部電極の接続部分の信
頼性や歩留まり向上が望まれている。従来より、内部電
極と外部電極の接続部分をビアを設けることで接触面積
を広げることが行われてきた。

【０００３】図１２〜図１３を用いて、ビアを用いて内
部電極と外部電極を接続した多層セラミック電子部品の
一例の断面図を示す。図１２は全体図であり、セラミッ
ク層１の内部の複数の内部電極２は、層間接続部である
ビア３を介して接続されている。また図１３は図１２の
部分図であり、セラミック電子部品の内部側より、内部
電極２と外部電極４がビア３によって接続されている様
子を示す。図１２及び図１３において、外部電極４はビ
ア３と広い面積で接触している。しかし内部電極２とビ
ア３は、内部電極２の断面積でしか接続されない。この
ためセラミック層１、内部電極２、ビア３等の焼結時に
収縮応力がこの位置に発生しやすく、この結果、図１２
及び図１３に示すクラック５がビア３と内部電極２の接
続部で生じやすくなる。

【０００４】次に、従来のセラミック生シートでのビア
の形成時の課題について説明する。通常、セラミック生
シートのビア孔形成には、金型やレーザーによる加工が
行われる。金型加工（１孔〜数千孔用）の場合、多孔化
するほど高精度化も難しく、金型が高くなり、メンテナ
ンス費用も大きくなる。そのため、一つの金型を一定距
離ずらせたり、反転させたりすることが提案されてい
る。しかしビア孔には、一定の割合で不良が含まれてい
る。

【０００５】図１４を用いて、金型加工した場合のセラ
ミック生シートの孔不良について説明する。図１４
（ａ）において、６はセラミック生シートであり、ベー
スフィルム７の上に形成されている。図１４（ｂ）にお
いて、８はビア孔であり金型によって打ち抜かれて形成
されている。この際、バリ１０がベースフィルム７に形
成されやすい。バリ１０の発生頻度や大きさは、金型精
度や打ち抜かれるベースフィルム７の材質や厚みの影響
を受ける。また打ち抜かれたセラミック生シート６等が
カス９としてビア孔８の中に残ることがある。このカス
９はビア孔８に斜めに残ることが多く、エアーブロー程
度では除去しきれない。バリ１０やカス９は、次にビア
埋め工程で不良原因となり、内部電極と外部電極の接続
歩留まりを落としてしまう。これを防止するには、金型
の清掃や金型の精度チェックを繰り返す必要がある。ま
た金型の場合、更に打ち抜きピンの折れ等も発生しやす
く加工速度の上昇に限度がある。

【０００６】次にレーザーを用いた場合のセラミック生
シートへのビア孔形成について説明する。レーザーとし
ては、炭酸ガスやＹＡＧが一般的であるが、このビア孔
にも一定の割合で不良が含まれる。

【０００７】図１５を用いて、レーザーで加工した場合
のセラミック生シートの孔不良について説明する。図１
５（ａ）において、６はセラミック生シートでありベー
スフィルム７の上に形成されている。図１５（ｂ）にお
いて、８はビア孔でありレーザー照射で形成されてい
る。このビア孔８の加工の際、バリ１０がベースフィル
ム７側やセラミック生シート６側に形成されやすい。こ
れはレーザー加工と同時にエアー（または窒素）を吹き
付けてビア孔８内部の溶解物を飛ばしてできたものであ
る。このレーザーでのバリ１０も金型でのバリ１０と同
様に内部電極と外部電極の接続歩留まりを落とす。この
溶解物がセラミック生シート６やベースフィルム７、更
にビア孔８の内部にも再付着しやすく付着物１１とな
る。この付着物１１は熱的に付着するため特にセラミッ
ク生シート６の表面に対しては、付着が強行であり除去
することは難しい。この付着物１１は次の内部電極と外
部電極の接続性を落とし、積層や層間接続の際にも不良
発生の原因となる。こうしたレーザー加工の課題を解決
すべくエキシマ等も提案されているが、セラミック粒子
に対する加工速度が遅く、実用化は難しい。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の多層セラミック電子部品では、内部電極と外部電極
の接続をビアを介して行う場合、セラミック生シートの
ビア孔加工時にレーザーや金型を用いていたためビア接
続部分にクッラクが発生しやすく、さらにビア自体の歩
留まりにも課題があった。

【０００９】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、厚み方向にテーパーもしくは丸みを有したビアを用
いることでクラック発生を防止し、内部電極と外部電極
の接続を安定させ、特性の優れた多層セラミック電子部
品を低コストで提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の多層セラミック電子部品は、複数層の内部電
極が１個以上のビアを介して接続され、２個以上の外部
電極を介して外部に取り出される多層セラミック電子部
品であって、厚み方向にテーパーもしくは丸みを有した
ビアを介して前記内部電極と前記外部電極を接続する構
成としたものである。

【００１１】

【作用】この構成によって、内部電極と外部電極の交点
であるビアに応力が集中することがなくなる。更にこの
ビアを従来の高価なレーザー装置や複雑な金型を用いな
くとも安価でバリや付着物のない孔の形成により安価に
製造できる。

【００１２】

【実施例】

（実施例１）実施例１として、厚み方向にテーパーまた
は丸みを有したビアを介して内部電極と外部電極が接続
されている多層セラミック電子部品について説明する。
図１は厚み方向にテーパーまたは丸みを有したビアを介
して内部電極と外部電極が接続されている多層セラミッ
ク電子部品の一例の断面図を示す。図１において、１２
はテーパービアであり厚み方向にテーパー１３を有して
いる。１４はフェライトなどからなるセラミック層、１
５は内部電極、１６は外部電極、１７は一般的なビアを
示す。本実施例の場合、外部電極１６と内部電極１５の
間にテーパー１３を有するテーパービア１２が形成され
ているため、焼成時にクラックが発生しにくく接続の安
定性を向上できる。

【００１３】図２を用いて、テーパー部分を更に詳しく
説明する。図２は内部電極１５と外部電極１６の接続部
分を内部電極側から観察したものであり、内部電極１５
が厚み方向にテーパー１３を有するテーパービア１２を
介して接続されている。このように内部電極１５と外部
電極１６とのテーパービア１２の接続部分にテーパー１
３を持たせることで焼成時の収縮率の差を吸収できる。

【００１４】（実施例２）実施例２として、複数層の内
部電極が１個以上のビアを介して接続され、２個以上の
外部電極を介して外部に取り出される多層セラミック電
子部品であって、厚み方向にテーパーまたは丸みを有し
た小判型もしくは長丸型のビアを介して前記内部電極と
前記外部電極は接続されている多層セラミック電子部品
の一例について、図３を用いて説明する。図３は内部電
極１５と外部電極１６の接合位置の部分図を示すもので
あり、外部電極１６と、内部電極１５は長丸を分断した
形状の異形ビア１８を介して接続することでより広い面
積で接続できる。また異形ビア１８内部電極１５は、テ
ーパー１３を有するテーパービア１２を介して接続する
ことでその接続性を向上できる。

【００１５】（実施例３）以下、実施例３について図４
を用いて説明する。図４は内部電極の局所的に厚く構成
された所定部分で内部電極と外部電極が接続されている
多層セラミック電子部品の一例を説明するものである。

【００１６】図４において、１９は厚電極部で、内部電
極１５の一部が局所的に厚く形成されたものである。こ
のように内部電極１５を局所的に厚く形成しておき、こ
の内部電極１５の厚電極部１９で、内部電極１５と外部
電極１６を接続することができる。この場合も、焼成時
でのダメージを防止するためテーパーを形成することが
効果的である。あるいは、図２〜図３のビアを無くし、
テーパー１３そのものを介して、内部電極１５と外部電
極１６を接続しても良い。このようなテーパー１３は、
以下の実施例で説明するサンドブラスト方法を用いるこ
とで容易に形成することができる。

【００１７】（実施例４）実施例４として、セラミック
生シートにマスクを介してサンドブラストでビア孔を形
成し、このビア孔に電極材料を充填し、電極パターンを
印刷し、所定枚数積層し、前記孔位置で所定形状に切断
した後焼成し、前記切断面に露出したビア孔を介して内
部電極と外部電極を接続する多層セラミック電子部品の
一例について図５〜図８を用いて説明する。

【００１８】図５でサンドブラスト方法を用いてビア孔
をセラミック生シートに形成する様子を説明する。図５
（ａ）において２０はフェライトペーストなどからなる
セラミック生シートである。次に図５（ｂ）に示すよう
にサンドブラストを用いてセラミック生シート２０にビ
ア孔２１を形成する。サンドブラストは微細な粒子を高
圧のエアーで被加工物表面に吹き付ける手法のためでき
上がったビア孔２１の周辺にはバリが発生せず一定の丸
み２２が生じる。次に図５（ｃ）に示すようにビア孔２
１に電極材料を充填することで、穴埋め２３を行う。な
お穴埋めの形状は２３ｂのような少ない充填量であって
も、２３ａのような多い充填量のものでも任意に選んで
行うことができる。またビア孔２１の周辺には一定の丸
み２２が形成されているため穴埋め２３は容易に行え
る。

【００１９】このような穴埋め２３を形成したセラミッ
ク生シート２０に所定電極材料を印刷し、所定枚数積層
後、この穴埋め位置で切断することで内部電極と外部電
極の接続を確実にすることができる。

【００２０】次に図６を用いてサンドブラストを更に詳
しく説明する。図６において、２４はノズルであり、圧
縮空気２５によって粒子２６を高速度で吹き出してい
る。２７はピンであり、マスク２８及びホルダー２９、
セラミック生シート２０を台３０の上にアライメントし
た状態で固定する。ホルダー２９はセラミック生シート
２０を固定している。３１は孔でありマスク２８に所定
形状に形成されている。孔３１の形状は、丸孔以外に長
丸や小判、楕円形等であってもよい。マスク２８への孔
３１の形成方法としては、通常のエッチング、レーザ
ー、アディティブメッキ等がある。枠状のホルダー２９
に固定されたセラミック生シート２０の必要部分がマス
ク２８に密着することになる。

【００２１】図７を用いてサンドブラストによりセラミ
ック生シートにビア孔の形成される様子を説明する。図
７（ａ）は、セラミック生シート２０の孔が貫通できて
いない状態のものである。図７（ａ）において、３２は
未貫通孔であり、そのマスク２８との接触位置において
は、丸み２２が形成されている。この丸み２２は、マス
ク２８の孔３１から粒子２６がセラミック生シート２０
に噴射される際に圧縮空気２５がマスク２８の裏側に回
り込む現象に起因するものである。この回り込みは、圧
縮性気体が孔３１より外に出る際の圧力変化（更にセラ
ミック生シート２０との衝突効果）により生じ、同様の
現象は高分子液体をノズルから吐出した際のバラス効果
がある。

【００２２】なお、孔３１に示すように、マスク２８の
被加工物に面する部分に予め面取りを行っておいてもよ
い。この場合、サンドブラストが回り込みやすくより簡
単に丸み２２を形成できる。最後に未貫通孔３２は、図
７（ｂ）で示すように貫通し、ビア孔２１となる。この
貫通の際も圧縮空気２５の回り込み現象によって丸み２
２が形成される。こうして、サンドブラストで形成され
たビア孔２１の場合、そのビア孔２１の形状や大きさに
関係なく、そのビア孔２１の両面に丸み２２が自動的に
形成されることになりバリも発生しない。これはビア孔
２１の内部では圧縮空気２５に乗って粒子２６が流れて
いるためである。このため、たとえビア孔２１の内部に
カスが入ったとしても粒子２６によって研磨され無くな
る。こうして本実施例の場合、従来の孔形成方法に比較
して、ビア孔２１の内部にカスが残留する確率は極めて
小さい。このため、積層後この孔位置で切断した場合、
内部電極と外部電極の接続がより確実になる。

【００２３】（実施例５）次に図８を用いてベースフィ
ルム上に形成されたセラミック生シートにマスクを介し
てサンドブラストでビア孔を形成し、このビア孔に電極
材料を充填し、電極パターンを印刷し、所定枚数積層
し、前記孔位置で所定形状に切断した後焼成し、前記切
断面に露出したビア孔を介して内部電極と外部電極を接
続する多層セラミック電子部品の製造方法の一例につい
て説明する。

【００２４】図８により、サンドブラスト方法を用いて
ビア孔をベースフィルムごとセラミック生シートに孔を
形成する様子を説明する。図８（ａ）において２０はセ
ラミック生シートであり、ベースフィルム３３の表面に
形成されている。次に図８（ｂ）に示すようにサンドブ
ラスト方法を用いてセラミック生シート２０及びベース
フィルム３３にビア孔２１を形成する。サンドブラスト
方法は微細な粒子を高圧のエアーで被加工物表面に吹き
付ける手法のため、でき上がったビア孔２１の周辺には
バリが発生せず、両端に一定の丸み２２が生じる。

【００２５】ここで図８（ｂ）に示すようにセラミック
生シート２０及びベースフィルム３３を同時に貫通する
ビア孔２１を形成した場合でも、セラミック生シート２
０に形成されたビア孔２１の両面には丸み２２が形成さ
れる。これは実施例４で説明した現象と同様のものであ
り、柔らかいセラミック生シート２０から硬いベースフ
ィルム３３へ圧縮空気が当たる際の回り込み現象として
説明できる。最後に図８（ｃ）に示すようにビア孔２１
に電極材料を充填することで穴埋め２３を行う。なお穴
埋め２３は２３ｂのような少ない充填量であっても、２
３ａのような多い充填量のものでも任意に選んで行うこ
とができる。またビア孔２１の周辺には一定の丸み２２
が形成されているため、穴埋め２３は容易に行える。

【００２６】このような穴埋め２３が形成されたセラミ
ック生シート２０に所定電極材料を印刷し、所定枚数積
層し、このビア孔の位置でビア孔が分割されるように切
断することで、内部電極と外部電極の接続をより確実に
できる。

【００２７】このようにセラミック生シート２０をベー
スフィルム３３と共にビア孔２１を形成することで、ビ
ア孔２１の位置精度高精度化、高密度化、微細化のみな
らず、セラミック生シート２０の薄膜化にも対応でき
る。また内部電極とビアの接続部分にもテーパーが形成
され接続性が向上する。

【００２８】（実施例６）次に実施例６として、ベース
フィルム上に電極を埋め込むように形成されたセラミッ
ク生シートにマスクを介してサンドブラストでビア孔を
形成し、前記ビア孔に電極材料を充填した後、所定枚数
積層し、前記ビア孔位置で所定形状に切断した後、焼成
し、前記切断面に露出したビア孔を介して内部電極と外
部電極を接続する多層セラミック電子部品の製造方法の
一例について図９を用いて説明する。

【００２９】図９を用いてサンドブラスト方法を用いて
ビア孔を電極の埋め込まれたセラミック生シートをベー
スフィルムごと孔を形成する様子を説明する。図９
（ａ）において２０はセラミック生シートであり、内部
に電極３４を埋め込んだ状態でベースフィルム３３の表
面に形成されている。次に図９（ｂ）に示すようにサン
ドブラスト方法を用いてセラミック生シート２０及びベ
ースフィルム３３にビア孔２１を形成する。サンドブラ
スト方法は微細な粒子を高圧のエアーで被加工物表面に
吹き付ける手法のため、でき上がったビア孔２１の周辺
にはバリが発生せず、一定の丸み２２が生じる。ここで
図９（ｂ）に示すようにセラミック生シート２０及びベ
ースフィルム３３を同時に貫通するビア孔２１を形成し
た場合でも、セラミック生シート２０に形成されたビア
孔２１の両面（電極３４にも）には丸み２２が形成され
る。これは実施例５で説明した現象と同様のものであ
り、柔らかいセラミック生シート２０から硬いベースフ
ィルム３３へ圧縮空気が当たる際の回り込み現象として
説明できる。

【００３０】最後に図９（ｃ）に示すようにビア孔２１
に電極材料を充填することで、穴埋め２３を行う。なお
穴埋めは、２３ｂのような少ない充填量であっても、２
３ａのような多い充填量のものでも、任意に選んで行う
ことができる。またビア孔２１の周辺には一定の丸み２
２が形成されているため、穴埋め２３は容易に行える。
また電極３４の一部が削られることになり、その接触面
積が増加するため、電極３４と穴埋め２３の電極材料の
接続をより確実にすることができる。

【００３１】このような穴埋めされたセラミック生シー
ト２０に所定電極材料を印刷し、所定枚数積層し、所定
形状に切断、焼成することで多層セラミック電子部品を
製造することができる。

【００３２】このようにセラミック生シート２０をベー
スフィルム３３と共にビア孔２１を形成することで、ビ
ア孔２１の位置精度高精度化、高密度化、微細化のみな
らず、セラミック生シート２０の薄膜化にも対応でき
る。また電極３４をセラミック生シート２０の内部に埋
め込むことで、多層化した際の内部電極の厚みに起因す
る凹凸発生を防止でき、積層精度を向上できる。

【００３３】（実施例７）次に実施例７として、ベース
フィルム上の表面に電極の形成されたセラミック生シー
トにマスクを介してサンドブラストでビア孔を形成し、
前記ビア孔に電極材料を充填した後、所定枚数積層し、
前記孔位置で所定形状に切断した後焼成し、前記切断面
に露出した内部電極と外部電極を接続する多層セラミッ
ク電子部品の製造方法の一例について図１０を用いて説
明する。

【００３４】図１０を用いて、サンドブラスト方法を用
いてビア孔をベースフィルム上の電極の形成されたセラ
ミック生シートに、ベースフィルムごとビア孔を形成す
る様子を説明する。図１０（ａ）において２０はセラミ
ック生シートであり、表面に電極３４が形成されてい
る。この電極３４はセラミック生シート２０上にあって
も、表面に食い込んだ状態で埋め込まれていてもよい。

【００３５】次に図１０（ｂ）に示すようにサンドブラ
スト方法を用いてセラミック生シート２０及びベースフ
ィルム３３にビア孔２１を形成する。サンドブラスト方
法は微細な粒子を高圧のエアーで被加工物表面に吹き付
ける手法のため、でき上がったビア孔２１の周辺にはバ
リが発生せず、一定の丸み２２が生じる。ここで図１０
（ｂ）に示すようにセラミック生シート２０及びベース
フィルム３３を同時に貫通するビア孔２１を形成した場
合でも、セラミック生シート２０に形成されたビア孔２
１の両面（電極３４にも）には丸み２２が形成される。
これは実施例５で説明した現象と同様のものであり、柔
らかいセラミック生シート２０から硬いベースフィルム
３３へ圧縮空気が当たる際の回り込み現象として説明で
きる。

【００３６】最後に図１０（ｃ）に示すようにビア孔２
１に電極材料を充填することで穴埋め２３を行う。なお
穴埋め２３は、２３ｂのような少ない充填量であって
も、２３ａのような多い充填量のものでも、任意に選ん
で行うことができる。またビア孔２１の周辺には一定の
丸み２２が形成されているため、穴埋め２３は容易に行
える。また電極３４の一部が削られることになり、その
接触面積が増加するため、電極３４と穴埋め２３の電極
材料の接続をより確実にすることができる。

【００３７】このような穴埋め２３の形成されたセラミ
ック生シート２０に所定電極材料を印刷し、所定枚数積
層し、所定形状に切断、焼成することで多層セラミック
電子部品を製造することができる。

【００３８】このようにセラミック生シート２０をベー
スフィルム３３と共にビア孔２１を形成することで、ビ
ア孔２１の位置精度高精度化、高密度化、微細化のみな
らず、セラミック生シート２０の薄膜化にも対応でき
る。また電極３４をセラミック生シート２０の内部に食
い込ませることで、多層化した際の内部電極の厚みに起
因する凹凸発生を防止でき積層精度を向上できる。

【００３９】（実施例８）次に実施例８として、セラミ
ック生シートにビア孔を形成し、ベースフィルムにはビ
ア孔を形成しない多層セラミック電子部品の製造方法の
一例について図１１を用いて説明する。

【００４０】図１１は、ベースフィルムにはビア孔を形
成することなく、ベースフィルム上に形成されたセラミ
ック生シートのみにビア孔を形成する様子を説明するも
のである。図１１（ａ）において、２０はセラミック生
シートであり、ベースフィルム３３上に形成されてい
る。次に図１１（ｂ）に示すようにサンドブラスト方法
を用いてセラミック生シート２０のみにビア孔２１を形
成する。サンドブラスト方法は微細な粒子を高圧のエア
ーで被加工物表面に吹き付ける手法のため、でき上がっ
たビア孔２１の周辺にはバリが発生せず、ビア孔２１の
両面（ベースフィルム３３側にも）一定の丸み２２が生
じる。これは実施例５で説明した現象と同様のものであ
り、柔らかいセラミック生シート２０から硬いベースフ
ィルム３３へ圧縮空気が当たる際の回り込み現象として
説明できる。最後に図１１（ｃ）に示すようにビア孔２
１に電極材料を充填することで、穴埋め２３を行う。な
お穴埋めは、２３ｂのような少ない充填量であっても、
２３ａのような多い充填量のものでも任意に選んで行う
ことができる。またビア孔２１の周辺には一定の丸み２
２が形成されているため穴埋め２３は容易に行える。

【００４１】特に本実施例では、図１１（ｃ）に示すよ
うに、穴埋め２３の厚みがセラミック生シート２０の厚
みで規定される。このためセラミック生シート２０を積
層する場合、ビア接続部分の電極充填量を一定に保てる
ため、層間接続の歩留まりを向上できる。

【００４２】サンドブラスト時にベースフィルム３３の
孔の有無の選択は、サンドブラスト条件（圧力、圧縮空
気の流量、照射時間等）以外に、使用する粒子の材質
（硬さ、脆さ、弾性等）、ベースフィルム自体（材質、
厚み等）を選ぶことができる。

【００４３】また図１１（ａ）のセラミック生シート２
０として、図９（ａ），図１０（ａ）の電極の形成され
たセラミック生シートを用いることができることは言う
までもない。この場合も、予め形成された電極と穴埋め
された電極材料の接続部において、丸み２２の効果によ
り優れた接続性を示す。

【００４４】（実施例９）実施例９として、サンドブラ
スト時に使用するマスクの表面保護について説明する。
サンドブラスト時に、市販のサンドブラスト用ドライフ
ィルムをマスクとして用いることもできる。しかし、こ
の場合前記ドライフィルムは被加工物（ここではセラミ
ック生シート）に直接張り付けるため使い捨てになりコ
スト的に高いものになる。このためサンドブラスト用マ
スクとしては複数回の使用に耐えるものが望ましい。こ
のようなマスクとしては、金属、セラミック、樹脂の単
独または複合体よりなる孔あき薄板またはフィルムが使
用できるが、マスク表面がサンドブラストで研磨されて
しまうことがある。このため、前記マスク表面に樹脂等
の保護層を塗布しておくことでマスクをサンドブラスト
から保護することができる。また前記保護層を剥離可能
な状態にしておき保護層を取り替えることで同じマスク
を傷つけることなく何回でも使用できる。

【００４５】使用する樹脂にゴム系のものを用いること
で、保護層自体の耐久性も長くできる。この保護層は溶
剤等で剥離できる。また保護層にドライフィルムを用い
ることもできる。あるいはマスクにＳＵＳ板をエッチン
グして用いる際、前記エッチングに用いたレジスト層を
そのまま保護層として用いることもできる。

【００４６】なおマスク自体にも、フッ素系樹脂やセラ
ミック粒子を含むマトリックスメッキ（複合メッキ、あ
るいは分散メッキ）等の処理を行うことでも、その寿命
を長くすることができる。

【００４７】（実施例１０）実施例１０として、マスク
とセラミック生シートの固定方法の一例について説明す
る。サンドブラストを行っている最中には、マスクとセ
ラミック生シートがすれていると孔の位置がずれてしま
う。このため、マスクとセラミック生シートは、粘着
力、磁力、バキューム力、静電気力等を用いて充分密着
させておくことで歩留まりを向上できる。例えば、マス
ク材料にＳＵＳ４３０等の磁石付着性のある材料を用
い、台２６８に磁石を用いることができる。磁石に電磁
石を用いることで保持強度も調節できる。また磁石の磁
極間隔を最適化することでマスク材料の浮きも防止でき
る。

【００４８】（実施例１１）実施例１１として、マスク
が金属、セラミック、樹脂の単独または複合体よりな
り、セラミック生シートの表面に印刷または転写によっ
て形成する場合について説明する。マスク材料として
は、サンドブラスト用ドライフィルムを転写したり、レ
ジスト材料を直接印刷することができる。このような市
販のマスク材料は、サンドブラスト後簡単に剥離するこ
とができる。この剥離時に、サンドブラスト後に残った
粒子もマスクと同時に除去ができる。

【００４９】（実施例１２）実施例１２として、サンド
ブラストに用いたマスクでビア孔に電極材料を充填する
方法の一例について説明する。まずドライフィルムマス
クを用いセラミック生シートにビア孔を形成した後、前
記ドライフィルムマスクを印刷マスクとしてビア孔に電
極材料を充填印刷することができる。この後前記ドライ
フィルムを剥離することで、通常のセラミック生シート
の積層プロセスを用いて多層化することができる。

【００５０】

【発明の効果】以上のように本発明は、複数層の内部電
極が１個以上のビアを介して接続され、２個以上の外部
電極を介して外部に取り出される多層セラミック電子部
品であって、厚み方向にテーパーもしくは丸みを有した
ビアを介して、前記内部電極と前記外部電極は接続する
ことで、内部電極と外部電極の接続をより確実にするこ
とができ、高精度、低コストの多層セラミック電子部品
を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における多層セラミック電子
部品の要部切欠斜視図

【図２】同内部電極と外部電極の接続部分を内部電極側
から観察した斜視図

【図３】同内部電極と外部電極の接合位置の部分図を示
す斜視図

【図４】同内部電極の局所的に厚くされた所定部分で内
部電極と外部電極が接続されている多層セラミック電子
部品の一例を説明する斜視図

【図５】同サンドブラスト方法を用いてビア孔をセラミ
ック生シートに形成する様子を説明する断面図

【図６】同サンドブラスト方法を更に詳しく説明する斜
視図

【図７】同サンドブラストによりセラミック生シートに
孔の形成される様子を説明する断面図

【図８】同ベースフィルム上に形成されたセラミック生
シートにマスクを介してサンドブラストでビア孔を形成
する方法を示す断面図

【図９】同ベースフィルム上に電極を埋め込むように形
成されたセラミック生シートにマスクを介してサンドブ
ラストでビア孔を形成する方法を示す断面図

【図１０】同サンドブラスト方法を用いてビア孔をベー
スフィルム上の電極の形成されたセラミック生シートに
ビア孔を形成する様子を説明する断面図

【図１１】同ベースフィルムには孔を形成せずセラミッ
ク生シートのみに孔を形成する様子を説明する断面図

【図１２】従来のビアを用いて内部電極と外部電極を接
続した多層セラミック電子部品の要部切欠斜視図

【図１３】同要部の斜視図

【図１４】金型で加工した場合のセラミック生シートの
孔不良について説明する断面図

【図１５】レーザーで加工した場合のセラミック生シー
トの孔不良について説明する断面図

【符号の説明】

１２ テーパービア １３ テーパー １４ セラミック層 １５ 内部電極 １６ 外部電極 １７ ビア １８ 異形ビア １９ 厚電極部 ２０ セラミック生シート ２１ ビア孔 ２２ 丸み ２３ 穴埋め ２４ ノズル ２５ 圧縮空気 ２６ 粒子 ２７ ピン ２８ マスク ２９ ホルダー ３０ 台 ３１ 孔 ３３ ベースフィルム ３４ 電極

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数層の内部電極が１個以上のビアを介
   して接続され、２個以上の外部電極を介して外部に取り
   出され、厚み方向にテーパーまたは丸みを有したビアを
   介して前記内部電極と前記外部電極を接続した多層セラ
   ミック電子部品。
2. 【請求項２】 複数層の内部電極が１個以上のビアを介
   して接続され、２個以上の外部電極を介して外部に取り
   出され、厚み方向にテーパーまたは丸みを有した小判型
   もしくは長丸型のビアを介して前記内部電極と前記外部
   電極を接続した多層セラミック電子部品。
3. 【請求項３】 複数層の内部電極が１個以上のビアを介
   して接続され、２個以上の外部電極を介して外部に取り
   出され、前記内部電極の局所的に厚く構成された部分を
   前記外部電極に接続した多層セラミック電子部品。
4. 【請求項４】 セラミック生シートにマスクを介してサ
   ンドブラストでビア孔を形成し、このビア孔に電極材料
   を充填し、電極パターンを印刷し、所定枚数積層し、前
   記ビア孔位置で所定形状に切断した後焼成し、前記切断
   面に露出したビア孔を介して内部電極と外部電極を接続
   する多層セラミック電子部品の製造方法。
5. 【請求項５】 ベースフィルム上に形成されたセラミッ
   ク生シートにマスクを介してサンドブラストでビア孔を
   形成し、このビア孔に電極材料を充填し、電極パターン
   を印刷し、所定枚数積層し、前記ビア孔位置で所定形状
   に切断した後焼成し、前記切断面に露出したビア孔を介
   して内部電極と外部電極を接続する多層セラミック電子
   部品の製造方法。
6. 【請求項６】 ベースフィルム上に電極を埋め込むよう
   に形成されたセラミック生シートにマスクを介してサン
   ドブラストでビア孔を形成し、このビア孔に電極材料を
   充填した後、所定枚数積層し、前記ビア孔位置で所定形
   状に切断した後焼成し、前記切断面に露出したビア孔を
   介して内部電極と外部電極を接続する多層セラミック電
   子部品の製造方法。
7. 【請求項７】 ベースフィルム上の表面に電極の形成さ
   れたセラミック生シートにマスクを介してサンドブラス
   トでビア孔を形成し、このビア孔に電極材料を充填した
   後、所定枚数積層し、前記孔位置で所定形状に切断した
   後焼成し、前記切断面に露出した内部電極と外部電極を
   接続する多層セラミック電子部品の製造方法。
8. 【請求項８】 セラミック生シート部分と接する側のマ
   スクの孔周辺にテーパーをつけておく請求項４記載の多
   層セラミック電子部品の製造方法。
9. 【請求項９】 少なくともサンドブラスト最中にマスク
   とセラミック生シートは粘着力、磁力、バキューム力、
   静電気力の単独力または複合力で密着させる請求項４記
   載の多層セラミック電子部品の製造方法。
10. 【請求項１０】 マスクを用いてサンドブラストした
    後、前記マスクを用いてビア孔に電極材料を印刷、充填
    する請求項４記載の多層セラミック電子部品の製造方
    法。