JPH0796938B2 - ガス吸収装置を備えたクリーンルーム及びガス吸収装置 - Google Patents
ガス吸収装置を備えたクリーンルーム及びガス吸収装置Info
- Publication number
- JPH0796938B2 JPH0796938B2 JP3048388A JP4838891A JPH0796938B2 JP H0796938 B2 JPH0796938 B2 JP H0796938B2 JP 3048388 A JP3048388 A JP 3048388A JP 4838891 A JP4838891 A JP 4838891A JP H0796938 B2 JPH0796938 B2 JP H0796938B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- air
- activated carbon
- gas absorption
- lattice
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Central Air Conditioning (AREA)
- Ventilation (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、集積回路等に利用され
るクリーンルームに係り、特に超高集積度の集積回路素
子の製造に適した超清浄クリーンルームに関する。
るクリーンルームに係り、特に超高集積度の集積回路素
子の製造に適した超清浄クリーンルームに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体製造等ではクリーンルー
ム内において、洗浄やエッチング等でＨＦやＨＣｌ等を
使用している。従来のクリーンルームでは、このような
薬品等の漏れによる装置の腐食やＨＥＰＡフイルタの損
傷を防止するため、ガスを除去するガス吸収フイルタを
設けている。図１１は半導体集積回路素子（ＬＳＩ）の
製造に利用されるクリーンルームを示している。清浄作
業域１の天井にはファンフイルタユニット１Ａ、１Ｂが
設置され、ファンフイルタユニット１Ａ、１Ｂにはそれ
ぞれ送風フアン２Ａ、２Ｂと、高性能フイルタ（以下Ｈ
ＥＰＡフイルタと称する）３Ａ、３Ｂを有している。清
浄作業域１には製造装置４が配置されている。ファンフ
イルタユニット１Ａ、１Ｂから吹き出された清浄空気は
開口床５、床下空間６を通り、保守域６Ａ、６Ｂを上昇
してファンフイルタユニット１Ａ、１Ｂの空気取り入れ
口１Ｃ、１Ｄに入る。床下空間６から一部の空気は、換
気ダクト６Ｃを通って空気調和機７に送られる。空気調
和機７はミキシングチャンバ７Ａ、温湿度調整部７Ｂ、
送風ファン７Ｃ、ＨＥＰＡフイルタ７Ｄ等より成り、ミ
キシングチャンバ７Ａでは、クリーンルームからのエア
と外気８とが混合される。混合空気は、空気調和機の各
部分を通って温湿度が調和され、清浄化されて供給ダク
ト９を通って、ファンフイルタユニット１Ａ、１Ｂに入
る。
ム内において、洗浄やエッチング等でＨＦやＨＣｌ等を
使用している。従来のクリーンルームでは、このような
薬品等の漏れによる装置の腐食やＨＥＰＡフイルタの損
傷を防止するため、ガスを除去するガス吸収フイルタを
設けている。図１１は半導体集積回路素子（ＬＳＩ）の
製造に利用されるクリーンルームを示している。清浄作
業域１の天井にはファンフイルタユニット１Ａ、１Ｂが
設置され、ファンフイルタユニット１Ａ、１Ｂにはそれ
ぞれ送風フアン２Ａ、２Ｂと、高性能フイルタ（以下Ｈ
ＥＰＡフイルタと称する）３Ａ、３Ｂを有している。清
浄作業域１には製造装置４が配置されている。ファンフ
イルタユニット１Ａ、１Ｂから吹き出された清浄空気は
開口床５、床下空間６を通り、保守域６Ａ、６Ｂを上昇
してファンフイルタユニット１Ａ、１Ｂの空気取り入れ
口１Ｃ、１Ｄに入る。床下空間６から一部の空気は、換
気ダクト６Ｃを通って空気調和機７に送られる。空気調
和機７はミキシングチャンバ７Ａ、温湿度調整部７Ｂ、
送風ファン７Ｃ、ＨＥＰＡフイルタ７Ｄ等より成り、ミ
キシングチャンバ７Ａでは、クリーンルームからのエア
と外気８とが混合される。混合空気は、空気調和機の各
部分を通って温湿度が調和され、清浄化されて供給ダク
ト９を通って、ファンフイルタユニット１Ａ、１Ｂに入
る。
【０００３】ところでＬＳＩは、微細化の進展に伴っ
て、製造環境の清浄度への要求も厳しくなっており、塵
埃の外、外気からの硫黄酸化物（ＳＯ2 ）、窒素酸化物
類（ＮＯX ）の侵入の防止も求められるようになった。
このため活性炭を主材とするガス吸収フイルタを用いる
ことが提案されている。例えば、第９回超ＬＳＩウルト
ラクリーンテクノロジーシンポジウム「クリーンルーム
及びその付帯設備」（平成元年６月）のプロシーディン
グｐ３５には、図１１に示すように活性炭吸着層７Ｅを
外気処理機の中に用いる例が示されている。また特開昭
６０−４４７４２号公報では、図１１に示すように活性
炭素繊維からなるフイルタ９Ａを供給ダクト９の途中に
用いる例が示されている。
て、製造環境の清浄度への要求も厳しくなっており、塵
埃の外、外気からの硫黄酸化物（ＳＯ2 ）、窒素酸化物
類（ＮＯX ）の侵入の防止も求められるようになった。
このため活性炭を主材とするガス吸収フイルタを用いる
ことが提案されている。例えば、第９回超ＬＳＩウルト
ラクリーンテクノロジーシンポジウム「クリーンルーム
及びその付帯設備」（平成元年６月）のプロシーディン
グｐ３５には、図１１に示すように活性炭吸着層７Ｅを
外気処理機の中に用いる例が示されている。また特開昭
６０−４４７４２号公報では、図１１に示すように活性
炭素繊維からなるフイルタ９Ａを供給ダクト９の途中に
用いる例が示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、クリー
ンルームに供給される空気の大部分は保守域６Ａ、６Ｂ
を通って循環しており、内部での汚染、特に製造装置４
からの汚染、それもＨＥＰＡフイルタでは除去されない
ガス状物質による汚染が発生すると、これを除去するの
は容易ではない。特に洗浄装置で多量に使用している弗
化水素ガスが漏洩すると、室内壁面等への吸着、脱着な
どを繰り返しながらクリーンルーム内全域へ拡散する。
弗化水素ガスはＨＥＰＡフイルタに接触すると、フイル
タを構成するガラス繊維を腐食させ、ガラス中に含まれ
る酸化ボロンの極微粒子を放出する危険性がある。酸化
ボロンはシリコン半導体のウエハに付着し、ＬＳＩの性
能や歩留りを悪くする。
ンルームに供給される空気の大部分は保守域６Ａ、６Ｂ
を通って循環しており、内部での汚染、特に製造装置４
からの汚染、それもＨＥＰＡフイルタでは除去されない
ガス状物質による汚染が発生すると、これを除去するの
は容易ではない。特に洗浄装置で多量に使用している弗
化水素ガスが漏洩すると、室内壁面等への吸着、脱着な
どを繰り返しながらクリーンルーム内全域へ拡散する。
弗化水素ガスはＨＥＰＡフイルタに接触すると、フイル
タを構成するガラス繊維を腐食させ、ガラス中に含まれ
る酸化ボロンの極微粒子を放出する危険性がある。酸化
ボロンはシリコン半導体のウエハに付着し、ＬＳＩの性
能や歩留りを悪くする。
【０００５】本発明は、弗酸や塩酸などの酸性ガスを効
果的に除去する低圧損の構造のガス吸収装置を空気循環
系に設けることによって、ＨＥＰＡフイルタの素材の腐
食を防ぎ、酸化硼素を含むガラス繊維の微粒子がクリー
ンルームに拡散することの防止を目的とする。その結
果、ＬＳＩの製造歩留りの向上に寄与するものである。
果的に除去する低圧損の構造のガス吸収装置を空気循環
系に設けることによって、ＨＥＰＡフイルタの素材の腐
食を防ぎ、酸化硼素を含むガラス繊維の微粒子がクリー
ンルームに拡散することの防止を目的とする。その結
果、ＬＳＩの製造歩留りの向上に寄与するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のガス吸収装置
は、前記目的を達成する為に、多数の格子状貫通孔が形
成されて成る格子構造状活性炭と、前記格子構造状活性
炭がその中で整列配置される枠体と、前記枠体内の各格
子構造体の間に介在される緩衝材と、前記枠体内に整列
配置された格子構造状活性炭の少なくとも下流側に配置
される除塵フイルタと、から成ることを特徴とする。
は、前記目的を達成する為に、多数の格子状貫通孔が形
成されて成る格子構造状活性炭と、前記格子構造状活性
炭がその中で整列配置される枠体と、前記枠体内の各格
子構造体の間に介在される緩衝材と、前記枠体内に整列
配置された格子構造状活性炭の少なくとも下流側に配置
される除塵フイルタと、から成ることを特徴とする。
【０００７】
【作用】このように本発明によれば、清浄エア域内の洗
浄装置等の製造装置で漏れたガスは、ガス吸収装置によ
り吸収除去され、前記ガスがクリーンルームに供給され
ることは確実に防止され、したがって該ガスによってク
リーンルーム全体が汚染されるようなことはない。
浄装置等の製造装置で漏れたガスは、ガス吸収装置によ
り吸収除去され、前記ガスがクリーンルームに供給され
ることは確実に防止され、したがって該ガスによってク
リーンルーム全体が汚染されるようなことはない。
【０００８】
【実施例】以下、図に示す実施例を用いて本発明の詳細
を説明する。図１は本発明に係るクリーンルームの一実
施例を示す概略構成図である。本クリーンルームは、空
気調和機１０及び供給ダクト１１から成る空気供給系を
具備していると共に、天井部分には送風ファン１２及び
ＨＥＰＡフイルタ１３を有するファンフイルタユニット
１４が配置されており、該ファンフイルタユニット１４
の空気取り入れ口には第１のガス吸収フイルタ１５が設
けられている。また、ファンフイルタユニット１４の周
囲側面は間仕切り部材１６で仕切られており、該間仕切
り部材１６が清浄作業域１７を構成している。該清浄作
業域１７のグレーチング床１８は一定の開口比率を有し
ており、該グレーチング床１８上には製造装置である洗
浄装置１９及び生産設備２０が載置されている。尚、前
記第１のガス吸収フイルタ１５は該洗浄装置１９等の上
方に位置するファンフイルタユニット１４の空気取り入
れ口に設けられている。また、該グレーチング床１８の
下側の床下空間２１は前記空気調和機１０と換気ダクト
２２を介して接続されており、該換気ダクト２２の途中
には第２のガス吸収フイルタ２３が配置されている。
を説明する。図１は本発明に係るクリーンルームの一実
施例を示す概略構成図である。本クリーンルームは、空
気調和機１０及び供給ダクト１１から成る空気供給系を
具備していると共に、天井部分には送風ファン１２及び
ＨＥＰＡフイルタ１３を有するファンフイルタユニット
１４が配置されており、該ファンフイルタユニット１４
の空気取り入れ口には第１のガス吸収フイルタ１５が設
けられている。また、ファンフイルタユニット１４の周
囲側面は間仕切り部材１６で仕切られており、該間仕切
り部材１６が清浄作業域１７を構成している。該清浄作
業域１７のグレーチング床１８は一定の開口比率を有し
ており、該グレーチング床１８上には製造装置である洗
浄装置１９及び生産設備２０が載置されている。尚、前
記第１のガス吸収フイルタ１５は該洗浄装置１９等の上
方に位置するファンフイルタユニット１４の空気取り入
れ口に設けられている。また、該グレーチング床１８の
下側の床下空間２１は前記空気調和機１０と換気ダクト
２２を介して接続されており、該換気ダクト２２の途中
には第２のガス吸収フイルタ２３が配置されている。
【０００９】次に、以上のように構成されたクリーンル
ームの作用について説明する。空気調和機１０から供給
ダクト１１を介してファンフイルタユニット１４の上方
に送られた空気は、該ファンフイルタユニット１４に備
えられた送風ファン１２及びＨＥＰＡフイルタ１３を介
して清浄空気となって清浄作業域１７に吹き出される。
清浄空気は清浄作業域１７内を垂直層流状態で流下した
後、グレーチング床１８を通過し、床下空間２１に排出
される。この空気の大部分は保守域２４を通って再びフ
ァンフイルタユニット１４側に供給される。このとき清
浄作業域１７内の洗浄装置１９等で漏れたガスは、その
一部がこの空気と同時にファンフイルタユニット１４側
へ送られ、該ファンフイルタユニット１４の空気取り入
れ口側に設けられた第１のガス吸収フイルタ１５によっ
て吸収除去される。また、残りのガスは、床下空間２１
から換気ダクト２２内に入り、空気調和機１０に送られ
るが、このときガスは第２のガス吸収フイルタ２３によ
り吸収除去されるため、空気調和機１０から供給ダクト
１１を通ってファンフイルタユニット１４の上方へ送ら
れる空気は清浄な空気となり、これによってクリーンル
ーム全体が汚染されるようなことはない。
ームの作用について説明する。空気調和機１０から供給
ダクト１１を介してファンフイルタユニット１４の上方
に送られた空気は、該ファンフイルタユニット１４に備
えられた送風ファン１２及びＨＥＰＡフイルタ１３を介
して清浄空気となって清浄作業域１７に吹き出される。
清浄空気は清浄作業域１７内を垂直層流状態で流下した
後、グレーチング床１８を通過し、床下空間２１に排出
される。この空気の大部分は保守域２４を通って再びフ
ァンフイルタユニット１４側に供給される。このとき清
浄作業域１７内の洗浄装置１９等で漏れたガスは、その
一部がこの空気と同時にファンフイルタユニット１４側
へ送られ、該ファンフイルタユニット１４の空気取り入
れ口側に設けられた第１のガス吸収フイルタ１５によっ
て吸収除去される。また、残りのガスは、床下空間２１
から換気ダクト２２内に入り、空気調和機１０に送られ
るが、このときガスは第２のガス吸収フイルタ２３によ
り吸収除去されるため、空気調和機１０から供給ダクト
１１を通ってファンフイルタユニット１４の上方へ送ら
れる空気は清浄な空気となり、これによってクリーンル
ーム全体が汚染されるようなことはない。
【００１０】尚、該第２のガス吸収フイルタ２３は空気
調和機１０内の換気取入れ室に設けた構成としてもよ
い。図２は本発明に係るクリーンルームの他の実施例を
示すもので、クリーンルームの天井にはＨＥＰＡフイル
タ１３のみが配置されており、該ＨＥＰＡフイルタ１３
の周囲側面を仕切る間仕切り部材はクリーンルームの側
壁２５が兼用している。該クリーンルームのＨＥＰＡフ
イルタ１３とグレーチング床１８とで画成される部分が
清浄作業域１７を構成しており、該清浄作業域１７のグ
レーチング床１８上に洗浄装置１９及び生産設備２０が
載置されている。また、空気調和機１０から供給ダクト
１１を介してＨＥＰＡフイルタ１３の上方空間に空気が
送られる点及び空気調和機１０と床下空間２１とを接続
する換気ダクト２２の途中に第２のガス吸収フイルタ２
３が設けられている点は上述した第１実施例と同じであ
る。
調和機１０内の換気取入れ室に設けた構成としてもよ
い。図２は本発明に係るクリーンルームの他の実施例を
示すもので、クリーンルームの天井にはＨＥＰＡフイル
タ１３のみが配置されており、該ＨＥＰＡフイルタ１３
の周囲側面を仕切る間仕切り部材はクリーンルームの側
壁２５が兼用している。該クリーンルームのＨＥＰＡフ
イルタ１３とグレーチング床１８とで画成される部分が
清浄作業域１７を構成しており、該清浄作業域１７のグ
レーチング床１８上に洗浄装置１９及び生産設備２０が
載置されている。また、空気調和機１０から供給ダクト
１１を介してＨＥＰＡフイルタ１３の上方空間に空気が
送られる点及び空気調和機１０と床下空間２１とを接続
する換気ダクト２２の途中に第２のガス吸収フイルタ２
３が設けられている点は上述した第１実施例と同じであ
る。
【００１１】更に、本実施例においては、天井のＨＥＰ
Ａフイルタ１３の送風系として、床下空間２１とＨＥＰ
Ａフイルタ１３の上方空間とを接続する循環ダクト２６
を有しており、該循環ダクト２６の途中に第１のガス吸
収フイルタ２７及び循環ファン２８を設けた構成として
いる。本実施例にあっては、空気調和機１０から供給ダ
クト１１を介してＨＥＰＡフイルタ１３の上方空間内に
送られた空気は、ＨＥＰＡフイルタ１３を介して清浄空
気となって清浄作業域１７に吹き出される。清浄空気は
清浄作業域１７内を垂直層流状態で流下した後、グレー
チング床１８を通過し、床下空間２１に排出される。こ
の空気の大部分は循環ダクト２６を通って再びＨＥＰＡ
フイルタ１３の上方空間に供給されるが、このとき洗浄
装置１９等で漏れたガスは、その一部が循環ダクト２６
に設けられた第１のガス吸収フイルタ２７によって吸収
除去される。また、残りのガスは、床下空間２１から換
気ダクト２２内に入り、空気調和機１０に送られるが、
このときガスは第２のガス吸収フイルタ２３により吸収
除去される。従って、空気調和機１０から供給ダクト１
１を通ってＨＥＰＡフイルタ１３の上方空間へ送られる
空気は清浄なものとなり、クリーンルームの汚染は防止
される。
Ａフイルタ１３の送風系として、床下空間２１とＨＥＰ
Ａフイルタ１３の上方空間とを接続する循環ダクト２６
を有しており、該循環ダクト２６の途中に第１のガス吸
収フイルタ２７及び循環ファン２８を設けた構成として
いる。本実施例にあっては、空気調和機１０から供給ダ
クト１１を介してＨＥＰＡフイルタ１３の上方空間内に
送られた空気は、ＨＥＰＡフイルタ１３を介して清浄空
気となって清浄作業域１７に吹き出される。清浄空気は
清浄作業域１７内を垂直層流状態で流下した後、グレー
チング床１８を通過し、床下空間２１に排出される。こ
の空気の大部分は循環ダクト２６を通って再びＨＥＰＡ
フイルタ１３の上方空間に供給されるが、このとき洗浄
装置１９等で漏れたガスは、その一部が循環ダクト２６
に設けられた第１のガス吸収フイルタ２７によって吸収
除去される。また、残りのガスは、床下空間２１から換
気ダクト２２内に入り、空気調和機１０に送られるが、
このときガスは第２のガス吸収フイルタ２３により吸収
除去される。従って、空気調和機１０から供給ダクト１
１を通ってＨＥＰＡフイルタ１３の上方空間へ送られる
空気は清浄なものとなり、クリーンルームの汚染は防止
される。
【００１２】また、図３は本発明に係るクリーンルーム
の更に他の実施例を示すものである。クリーンルームの
天井には送風ファン１２及びＨＥＰＡフイルタ１３を有
するファンフイルタユニット１４が配置されていると共
に、該ファンフイルタユニット１４の周囲側面は間仕切
り部材１６で仕切られており、該間仕切り部材１６内が
清浄作業域１７を構成している。該清浄作業域１７のグ
レーチング床１８上には洗浄装置１９及び生産設備２０
が載置されている。また、グレーチング床１８の下側の
床下空間２１は空気調和機１０と換気ダクト２２を介し
て接続されており、該換気ダクト２２の途中には第２の
ガス吸収フイルタ２３が配設されている。また、空気調
和機１０は供給ダクト１１を介してファンフイルタユニ
ット１４の上方に接続されている。
の更に他の実施例を示すものである。クリーンルームの
天井には送風ファン１２及びＨＥＰＡフイルタ１３を有
するファンフイルタユニット１４が配置されていると共
に、該ファンフイルタユニット１４の周囲側面は間仕切
り部材１６で仕切られており、該間仕切り部材１６内が
清浄作業域１７を構成している。該清浄作業域１７のグ
レーチング床１８上には洗浄装置１９及び生産設備２０
が載置されている。また、グレーチング床１８の下側の
床下空間２１は空気調和機１０と換気ダクト２２を介し
て接続されており、該換気ダクト２２の途中には第２の
ガス吸収フイルタ２３が配設されている。また、空気調
和機１０は供給ダクト１１を介してファンフイルタユニ
ット１４の上方に接続されている。
【００１３】更に、本実施例においては、クリーンルー
ム内の清浄作業域１７周囲に天井のＨＥＰＡフイルタ１
３の送風経路を成す循環通路２９を設けると共に、循環
通路２９入口に第１のガス吸収フイルタ３０を設けた構
成としたものである。このような構成にしても上述した
第１実施例と同様の効果が得られる。図４では、本発明
の第１、第２のガス吸収フイルタを構成する格子構造状
活性炭４０が示され、活性炭４０は全体として直方体状
に形成されている。活性炭４０は、図５に示すように、
多数の貫通した格子状孔４２を有し、格子孔４２は例え
ば開口径ｌ＝0.7 〜1.2mm 、壁圧ｔ＝0.2 〜0.4mm で構
成されている。活性炭４０は、格子構造状に限らず、ハ
ニカム構造でもよい。
ム内の清浄作業域１７周囲に天井のＨＥＰＡフイルタ１
３の送風経路を成す循環通路２９を設けると共に、循環
通路２９入口に第１のガス吸収フイルタ３０を設けた構
成としたものである。このような構成にしても上述した
第１実施例と同様の効果が得られる。図４では、本発明
の第１、第２のガス吸収フイルタを構成する格子構造状
活性炭４０が示され、活性炭４０は全体として直方体状
に形成されている。活性炭４０は、図５に示すように、
多数の貫通した格子状孔４２を有し、格子孔４２は例え
ば開口径ｌ＝0.7 〜1.2mm 、壁圧ｔ＝0.2 〜0.4mm で構
成されている。活性炭４０は、格子構造状に限らず、ハ
ニカム構造でもよい。
【００１４】このように構成された活性炭４０は図６で
示す発砲スチロール製中枠４４内に複数個整列して配置
される。各活性炭４０の間にはポリエステル繊維製緩衝
材４６が配置され、活性炭４０同士が直接接触しないよ
うになっている。これにより活性炭４０同士の接触によ
って生ずる微粒子の発生を防止できる。更に、活性炭４
０の上面、下面にはポリエステル繊維製保護シート４
８、５０が設けられる。更に、このように構成された活
性炭４０には、下枠５２、下側エクスパンダメタル５
４、粗フイルタ５６、上側エクスパンダメタル５８、上
枠６０が重ねられ、ボルト６２に一体にされてガス吸収
フイルタを構成する。
示す発砲スチロール製中枠４４内に複数個整列して配置
される。各活性炭４０の間にはポリエステル繊維製緩衝
材４６が配置され、活性炭４０同士が直接接触しないよ
うになっている。これにより活性炭４０同士の接触によ
って生ずる微粒子の発生を防止できる。更に、活性炭４
０の上面、下面にはポリエステル繊維製保護シート４
８、５０が設けられる。更に、このように構成された活
性炭４０には、下枠５２、下側エクスパンダメタル５
４、粗フイルタ５６、上側エクスパンダメタル５８、上
枠６０が重ねられ、ボルト６２に一体にされてガス吸収
フイルタを構成する。
【００１５】図７は、横軸にガスの直線速度、縦軸に圧
力損失をとり、従来の粒状活性炭と本発明の開口率を変
えたガス吸収フイルタとを比較したものである。これに
よると、従来知られている粒状活性炭は流速が増すのに
比例して圧損が大きくなることが分かる。また、本発明
のガス吸収フイルタでは開口率が小さくなる程、即ち格
子孔径ｌが小さくなる程圧損が大きくなり、活性炭４０
の開口率は６０％以下の場合には振動が発生するので、
開口率６０％以上であることが必要である。
力損失をとり、従来の粒状活性炭と本発明の開口率を変
えたガス吸収フイルタとを比較したものである。これに
よると、従来知られている粒状活性炭は流速が増すのに
比例して圧損が大きくなることが分かる。また、本発明
のガス吸収フイルタでは開口率が小さくなる程、即ち格
子孔径ｌが小さくなる程圧損が大きくなり、活性炭４０
の開口率は６０％以下の場合には振動が発生するので、
開口率６０％以上であることが必要である。
【００１６】長さ１４０mm、幅７０mm、厚さ４０mm、の
直方体の格子構造状活性炭４０を３列１２行に並べ（36
ケ）、これを縦４５０mm、幅８６０mm、厚さ６０mmの枠
内に収容した。表面と裏面に厚さ３mmの不織布（ポリエ
ステル）製の保護シート４８、５０、フイルタ５６で覆
い、上下から挟み付けて空気を流した。５時間後の微粒
子発生数を測定し、その結果を図８に示す。図８による
と、従来の粒状活性炭は流速が増すのに比例して、微粒
子発生数は大きくなる。また、格子構造状活性炭４０の
上下にのみフイルタ４８、５０、５６を設けたものは、
流速１ｍ／ｓを越えると急激に微粒子の発生が大きくな
る。活性炭４０の下流にフイルタ５６、側方に緩衝材４
６を配置したものは、流速１０ｍ／Ｓまでは微粒子の発
生数は略同じであった。従って、このことより活性炭４
０の上下にフイルタ４８、５０、５６を配置したのみで
は、流速１ｍ／Ｓを越えると活性炭４０同士が接触して
発塵するので実用的ではなく、活性炭４０同士の接触を
防ぐ緩衝材４６が必要なことが分かる。
直方体の格子構造状活性炭４０を３列１２行に並べ（36
ケ）、これを縦４５０mm、幅８６０mm、厚さ６０mmの枠
内に収容した。表面と裏面に厚さ３mmの不織布（ポリエ
ステル）製の保護シート４８、５０、フイルタ５６で覆
い、上下から挟み付けて空気を流した。５時間後の微粒
子発生数を測定し、その結果を図８に示す。図８による
と、従来の粒状活性炭は流速が増すのに比例して、微粒
子発生数は大きくなる。また、格子構造状活性炭４０の
上下にのみフイルタ４８、５０、５６を設けたものは、
流速１ｍ／ｓを越えると急激に微粒子の発生が大きくな
る。活性炭４０の下流にフイルタ５６、側方に緩衝材４
６を配置したものは、流速１０ｍ／Ｓまでは微粒子の発
生数は略同じであった。従って、このことより活性炭４
０の上下にフイルタ４８、５０、５６を配置したのみで
は、流速１ｍ／Ｓを越えると活性炭４０同士が接触して
発塵するので実用的ではなく、活性炭４０同士の接触を
防ぐ緩衝材４６が必要なことが分かる。
【００１７】図９では、横軸に通気時間、縦軸に経過時
間における１立方フィート当たりの吹出空気中に含まれ
る微粒子（0.1 μm 以上の径）発生数を示してある。図
９によれば、開口率が小さいほど、即ち格子孔径が小さ
いほど微粒子の発生数が多いことが分かる。図１０で
は、横軸に通気時間、縦軸に経過時間における塩酸ガス
除去率をとってある。
間における１立方フィート当たりの吹出空気中に含まれ
る微粒子（0.1 μm 以上の径）発生数を示してある。図
９によれば、開口率が小さいほど、即ち格子孔径が小さ
いほど微粒子の発生数が多いことが分かる。図１０で
は、横軸に通気時間、縦軸に経過時間における塩酸ガス
除去率をとってある。
【００１８】格子構造状活性炭４０の場合、開口率が８
０％を越えると、ガスと活性炭との接触効率が下がり、
十分な除去率が得られなくなる。従って８０％以下の開
口率とすることが必要である。以上のように格子構造状
活性炭４０の開口率は、圧力損失、微粒子発生数の観点
から、開口率の下限は５７％以上、好ましくは６０以上
であり、上限はガス除去率の観点から８０％である。
０％を越えると、ガスと活性炭との接触効率が下がり、
十分な除去率が得られなくなる。従って８０％以下の開
口率とすることが必要である。以上のように格子構造状
活性炭４０の開口率は、圧力損失、微粒子発生数の観点
から、開口率の下限は５７％以上、好ましくは６０以上
であり、上限はガス除去率の観点から８０％である。
【００１９】従って、格子構造状活性炭４０の開口率は
６０％〜８０％であることが必要である。
６０％〜８０％であることが必要である。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明はクリーン
ルームに還流する清浄空気の全部もしくは一部をガス吸
収フイルタに通すことによって、有害ガスを除去し、Ｈ
ＥＰＡフイルタの腐食を防止し、フイルタ材料からの酸
化ボロンの飛散を防ぐので、集積回路素子の歩留りを向
上し性能の低下を防止することができる。
ルームに還流する清浄空気の全部もしくは一部をガス吸
収フイルタに通すことによって、有害ガスを除去し、Ｈ
ＥＰＡフイルタの腐食を防止し、フイルタ材料からの酸
化ボロンの飛散を防ぐので、集積回路素子の歩留りを向
上し性能の低下を防止することができる。
【図１】図１は本発明に係るクリーンルームの一実施例
を示す概略構成図
を示す概略構成図
【図２】図２はクリーンルームの他の実施例を示す概略
構成図
構成図
【図３】図３はクリーンルームの他の実施例を示す概略
構成図
構成図
【図４】図４は本発明の格子構造体状活性炭の斜視図
【図５】図５は本発明の活性炭の拡大斜視図
【図６】図６は本発明のガス吸収フイルタの分解斜視図
【図７】図７は本発明の活性炭の開口率を変えた場合の
夫々の圧力損失を示す特性図
夫々の圧力損失を示す特性図
【図８】図８は本発明の活性炭と従来の活性炭との微粒
子発生数を示す特性図
子発生数を示す特性図
【図９】図９は本発明の活性炭の開口率を変えた場合の
夫々の微粒子発生数を示す特性図
夫々の微粒子発生数を示す特性図
【図１０】図１０は本発明の活性炭の開口率を変えた場
合の夫々のＨＣＬ除去率を示す特性図
合の夫々のＨＣＬ除去率を示す特性図
【図１１】図１１は従来のクリーンルームの一例を示す
概略構成図
概略構成図
１０…空気調和機 １１…供給ダクト １２…送風フアン １３…ＨＥＰＡフイルタ １４…ファンフイルタユニット １５…第１のガス吸収フイルタ １６…間仕切り部材 ２２…換気ダクト ２３…第２のガス吸収フイルタ ４０…格子構造状活性炭 ４６…緩衝材 ５２…下枠 ５６…フイルタ
フロントページの続き (72)発明者 高石 優 山梨県中巨摩郡竜王町西八幡4617番地 日 立製作所 甲府工場内 (72)発明者 小田切 幸成 山梨県中巨摩郡竜王町西八幡4617番地 日 立製作所 甲府工場内 (72)発明者 杉浦 匠 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 佐々木 典令 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 小塩 良次 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 大沼 務 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 鈴木 道夫 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 斉木 篤 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 浅見 欽一郎 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 小島 清二 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 河西 正隆 東京都豊島区北大塚１丁目13番４号 株式 会社 エイチ・ピー・シー産業内
Claims (4)
- 【請求項１】多数の格子状貫通孔が形成されて成る格子
構造状活性炭と、前記格子構造状活性炭がその中で整列
配置される枠体と、前記枠体内の各格子構造体の間に介
在される緩衝材と、前記枠体内に整列配置された格子構
造状活性炭の少なくとも下流側に配置される除塵フイル
タと、から成るガス吸収装置。 - 【請求項２】前記活性炭の格子状貫通孔の開口率は６０
％〜８０％である請求項１のガス吸収装置。 - 【請求項３】天井に配置されたＨＥＰＡフイルタと、Ｈ
ＥＰＡフイルタと接続され空気調和機と供給ダクトから
成る空気供給系と、該ＨＥＰＡフイルタから出た清浄エ
アのエア域を仕切る間仕切り部材と、前記ＨＥＰＡフイ
ルタの空気取り入れ口側に設けられた請求項１又は請求
項２のガス吸収装置を備えたクリーンルーム。 - 【請求項４】天井に配置されたＨＥＰＡフイルタと、空
気調和機と供給ダクトから成る空気供給系と、該ＨＥＰ
Ａフイルタから出た清浄エアのエア域を仕切る間仕切り
部材と、前記ＨＥＰＡフイルタの空気流入口側に設けら
れた請求項１又は請求項２のガス吸収フイルタと、ＨＥ
ＰＡフイルタから吹き出されたエアの少なくとも一部を
ＨＥＰＡフイルタに戻す換気ダクト系に設けられた請求
項１又は請求項２のガス吸収装置を備えたクリーンルー
ム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3048388A JPH0796938B2 (ja) | 1990-03-13 | 1991-03-13 | ガス吸収装置を備えたクリーンルーム及びガス吸収装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6238390 | 1990-03-13 | ||
| JP2-62383 | 1990-03-13 | ||
| JP3048388A JPH0796938B2 (ja) | 1990-03-13 | 1991-03-13 | ガス吸収装置を備えたクリーンルーム及びガス吸収装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04214137A JPH04214137A (ja) | 1992-08-05 |
| JPH0796938B2 true JPH0796938B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=26388641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3048388A Expired - Fee Related JPH0796938B2 (ja) | 1990-03-13 | 1991-03-13 | ガス吸収装置を備えたクリーンルーム及びガス吸収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0796938B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7178465B1 (ja) * | 2021-08-31 | 2022-11-25 | ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション | 半導体記憶装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3090088B2 (ja) * | 1997-02-07 | 2000-09-18 | 富士電機株式会社 | クリーンルームのファンフィルタユニット |
| JP4722456B2 (ja) * | 2004-10-29 | 2011-07-13 | 日本無機株式会社 | 乾燥炉用フィルタろ材及びそれを用いた乾燥炉用フィルタ |
| KR100669442B1 (ko) * | 2005-02-16 | 2007-01-15 | 중앙티앤에스(주) | 실내 유해 가스 농도 조절 시스템 |
| CN106871251A (zh) * | 2016-12-30 | 2017-06-20 | 芜湖顺景自动化设备有限公司 | 一种高效环保安全的空气净化处理设备 |
-
1991
- 1991-03-13 JP JP3048388A patent/JPH0796938B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7178465B1 (ja) * | 2021-08-31 | 2022-11-25 | ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション | 半導体記憶装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04214137A (ja) | 1992-08-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3090088B2 (ja) | クリーンルームのファンフィルタユニット | |
| US7258728B2 (en) | Apparatus and method for cleaning air | |
| US6284020B1 (en) | Method of maintaining cleanliness of substrates and box for accommodating substrates | |
| KR20040016890A (ko) | 공기 청정 방법 및 이것에 이용하는 공기 청정 장치 | |
| JPH0796938B2 (ja) | ガス吸収装置を備えたクリーンルーム及びガス吸収装置 | |
| US6641635B1 (en) | Liquid based air filtration system | |
| JP3694046B2 (ja) | クリーンルームシステム | |
| JP3750800B2 (ja) | 空気清浄装置 | |
| CN101683610A (zh) | 空气过滤系统及其化学滤网 | |
| JP3941029B2 (ja) | クリーンルーム汚染物質除去システム | |
| TW201914673A (zh) | 氣液接觸體 | |
| JP3164159B2 (ja) | 海塩粒子除去用エレクトレットエアフィルター | |
| JP3878275B2 (ja) | クリーンルーム | |
| JP4166909B2 (ja) | 高度清浄装置，局所清浄システム及びオゾン分解フィルタとその製造方法 | |
| JP3552141B2 (ja) | ケミカルフィルタおよびそれを用いた空気濾過方法 | |
| KR200452883Y1 (ko) | 가스 불순물 제거 장치 | |
| JP3223656B2 (ja) | ガス吸収装置 | |
| JPH10165730A (ja) | ガス状不純物吸着フィルタ | |
| JP3163722B2 (ja) | クリーンルーム用給気装置 | |
| JPH04305218A (ja) | クリーンルームのガス除去装置 | |
| JP3434587B2 (ja) | エアフィルタ用ろ材 | |
| JPH04309735A (ja) | クリーンルーム | |
| JP2612198B2 (ja) | 空気調和装置 | |
| KR20080097605A (ko) | 가스 불순물 제거 장치 | |
| JPH04309736A (ja) | クリーンルームの床ユニット |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081018 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |