JPH0795528B2 - 縦型拡散cvd装置のロードロック室ガスコントロール装置 - Google Patents
縦型拡散cvd装置のロードロック室ガスコントロール装置Info
- Publication number
- JPH0795528B2 JPH0795528B2 JP6916491A JP6916491A JPH0795528B2 JP H0795528 B2 JPH0795528 B2 JP H0795528B2 JP 6916491 A JP6916491 A JP 6916491A JP 6916491 A JP6916491 A JP 6916491A JP H0795528 B2 JPH0795528 B2 JP H0795528B2
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- Japan
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- load lock
- lock chamber
- valve
- oxygen concentration
- nitrogen gas
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置の1つ
である縦型拡散CVD装置に設けられるロードロック室
のガスコントロールの改善に関するものである。
である縦型拡散CVD装置に設けられるロードロック室
のガスコントロールの改善に関するものである。
【0002】
【従来の技術】縦型拡散CVD装置は、垂直に設けられ
た石英管からなる気密な反応室と、該反応室を囲繞して
設けられたヒータと、前記反応室の下方に連設して設け
られる気密なロードロック室と、該ロードロック室の内
部に設けられるウェーハ装入機構、ウェーハ移載機構、
前記ウェーハ装入機構に載置されウェーハが多段に装填
されるボート等から構成される。
た石英管からなる気密な反応室と、該反応室を囲繞して
設けられたヒータと、前記反応室の下方に連設して設け
られる気密なロードロック室と、該ロードロック室の内
部に設けられるウェーハ装入機構、ウェーハ移載機構、
前記ウェーハ装入機構に載置されウェーハが多段に装填
されるボート等から構成される。
【0003】ウェーハの処理は、前記ロードロック室に
搬入されたウェーハをウェーハ移載機構によって前記ボ
ートに装填し、該ボートを前記ウェーハ装入機構で反応
室内部に装入し、高温反応ガス雰囲気でウェーハの処理
を行い、ウェーハの処理が完了すると前記ウェーハ装入
機構でボートをロードロック室に引出し、更に前記ウェ
ーハ移載機構によって、ウェーハがボートより取出され
る。
搬入されたウェーハをウェーハ移載機構によって前記ボ
ートに装填し、該ボートを前記ウェーハ装入機構で反応
室内部に装入し、高温反応ガス雰囲気でウェーハの処理
を行い、ウェーハの処理が完了すると前記ウェーハ装入
機構でボートをロードロック室に引出し、更に前記ウェ
ーハ移載機構によって、ウェーハがボートより取出され
る。
【0004】上記した一連のウェーハ処理に於いて、ロ
ードロック室はウェーハの酸化防止の為、或はパーティ
クルによる汚染防止の為、清浄な窒素ガス(雰囲気ガ
ス)に保つ必要がある。
ードロック室はウェーハの酸化防止の為、或はパーティ
クルによる汚染防止の為、清浄な窒素ガス(雰囲気ガ
ス)に保つ必要がある。
【0005】従来のロードロック室のガスコントロール
方法としては、図2に示すものがある。
方法としては、図2に示すものがある。
【0006】反応室1下方に設けられたロードロック室
2には、窒素ガス供給管3及び排気管4が接続され、該
ガス供給管3及び排気管4に真空開閉弁5,6が設けら
れていると共に該排気管4には真空ポンプ7が設けられ
ている。この従来のものでは、真空開閉弁5を閉塞した
状態で、前記真空ポンプ7でロードロック室2を真空引
し、その後窒素ガスを充填し、窒素ガス雰囲気の大気圧
にする。窒素ガスを充填後は、ロードロック室を密閉す
る。
2には、窒素ガス供給管3及び排気管4が接続され、該
ガス供給管3及び排気管4に真空開閉弁5,6が設けら
れていると共に該排気管4には真空ポンプ7が設けられ
ている。この従来のものでは、真空開閉弁5を閉塞した
状態で、前記真空ポンプ7でロードロック室2を真空引
し、その後窒素ガスを充填し、窒素ガス雰囲気の大気圧
にする。窒素ガスを充填後は、ロードロック室を密閉す
る。
【0007】又、図3に示すものでは、ロードロック室
2を真空に引くことなく、最初から窒素ガスを流し続
け、窒素ガスに置換すると共に置換後も窒素ガスを流し
続けて清浄を維持する。
2を真空に引くことなく、最初から窒素ガスを流し続
け、窒素ガスに置換すると共に置換後も窒素ガスを流し
続けて清浄を維持する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、図2に示す
従来のものでは、ロードロック室真空時にロードロック
室に大気圧が掛かる為、ロードロック室を頑丈なものと
しなければならず、大重量大型化すると共に製作費も高
価となる。
従来のものでは、ロードロック室真空時にロードロック
室に大気圧が掛かる為、ロードロック室を頑丈なものと
しなければならず、大重量大型化すると共に製作費も高
価となる。
【0009】又、図3に示す従来のものでは、ロードロ
ック室を軽量化でき、ロードロック室で発生したパーテ
ィクル等を直ちに排気できるという利点はあるが、窒素
ガスを流し続ける為大量の窒素ガスを必要とし、ランニ
ングコストが高くついていた。本発明は上記実情に鑑
み、ロードロック室を軽量化すると共に窒素ガスの使用
量を大幅に低減しようとするものである。
ック室を軽量化でき、ロードロック室で発生したパーテ
ィクル等を直ちに排気できるという利点はあるが、窒素
ガスを流し続ける為大量の窒素ガスを必要とし、ランニ
ングコストが高くついていた。本発明は上記実情に鑑
み、ロードロック室を軽量化すると共に窒素ガスの使用
量を大幅に低減しようとするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、反応室下方に
連設されたロードロック室に雰囲気ガス供給管及び排気
管を接続し、該供給管と該排気管とに開閉弁を設け、前
記供給管の開閉弁下流と前記排気管の開閉弁上流とを循
環ポンプ、フィルタを有するバイパス管で接続し、前記
ロードロック室に酸素濃度を検出する酸素濃度検出計を
設け、該酸素濃度検出計の検出結果に基づき、開閉弁の
開閉、循環ポンプの駆動を行う様構成したことを特徴と
するものである。
連設されたロードロック室に雰囲気ガス供給管及び排気
管を接続し、該供給管と該排気管とに開閉弁を設け、前
記供給管の開閉弁下流と前記排気管の開閉弁上流とを循
環ポンプ、フィルタを有するバイパス管で接続し、前記
ロードロック室に酸素濃度を検出する酸素濃度検出計を
設け、該酸素濃度検出計の検出結果に基づき、開閉弁の
開閉、循環ポンプの駆動を行う様構成したことを特徴と
するものである。
【0011】
【作用】酸素濃度が所定値以上の時には、両開閉弁を開
として雰囲気ガスを流通させ、酸素濃度が所定値以下の
時には両開閉弁を閉として、循環ポンプを駆動してロー
ドロック室の雰囲気ガスを循環させる。
として雰囲気ガスを流通させ、酸素濃度が所定値以下の
時には両開閉弁を閉として、循環ポンプを駆動してロー
ドロック室の雰囲気ガスを循環させる。
【0012】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
説明する。
【0013】尚、図1中図2中で示したものと同一のも
のには同符号を付し、その説明も省略する。
のには同符号を付し、その説明も省略する。
【0014】供給管3に開閉弁8、排気管4に開閉弁9
を設け、前記供給管3と前記排気管9とをバイパス管1
0で接続する。該バイパス管10の接続箇所は、前記開
閉弁8の下流側、前記開閉弁9の上流側とする。又、該
バイパス管10には循環ポンプ11、フィルタ12を設
け、前記ロードロック室2には酸素濃度検出計13及び
圧力計14を設ける。該酸素濃度検出計13、圧力計1
4の検出結果は、制御装置15に入力され、該制御装置
15は前記酸素濃度検出計13の検出結果を基に前記開
閉弁8,9、前記循環ポンプ11を動作させる。
を設け、前記供給管3と前記排気管9とをバイパス管1
0で接続する。該バイパス管10の接続箇所は、前記開
閉弁8の下流側、前記開閉弁9の上流側とする。又、該
バイパス管10には循環ポンプ11、フィルタ12を設
け、前記ロードロック室2には酸素濃度検出計13及び
圧力計14を設ける。該酸素濃度検出計13、圧力計1
4の検出結果は、制御装置15に入力され、該制御装置
15は前記酸素濃度検出計13の検出結果を基に前記開
閉弁8,9、前記循環ポンプ11を動作させる。
【0015】以下、作用を説明する。
【0016】先ず、開閉弁8、開閉弁9を開け、窒素ガ
スを流し、ロードロック室2内部を窒素ガスに置換す
る。この置換の過程で、ロードロック室2内部の酸素濃
度が設定した濃度、例えば1ppm 以下となったら、前記
開閉弁8、開閉弁9を閉塞する。前記循環ポンプ11を
駆動し、封入された窒素ガスをバイパス管10に流通循
環させる。尚、ロードロック室2、前記開閉弁8、開閉
弁9からのリークを考慮し、ロードロック室2内部の圧
力は大気よりも若干高くなる様に、前記制御装置15で
前記開閉弁8の開閉を制御する。
スを流し、ロードロック室2内部を窒素ガスに置換す
る。この置換の過程で、ロードロック室2内部の酸素濃
度が設定した濃度、例えば1ppm 以下となったら、前記
開閉弁8、開閉弁9を閉塞する。前記循環ポンプ11を
駆動し、封入された窒素ガスをバイパス管10に流通循
環させる。尚、ロードロック室2、前記開閉弁8、開閉
弁9からのリークを考慮し、ロードロック室2内部の圧
力は大気よりも若干高くなる様に、前記制御装置15で
前記開閉弁8の開閉を制御する。
【0017】前記した様に、ロードロック室2内部には
ウェーハ装入機構、ウェーハ移載機構が設けられ、ウェ
ーハの装填、移載が行われるが、これら動作時に発生し
たパーティクルは前記フィルタ12を流通する過程で除
去される。
ウェーハ装入機構、ウェーハ移載機構が設けられ、ウェ
ーハの装填、移載が行われるが、これら動作時に発生し
たパーティクルは前記フィルタ12を流通する過程で除
去される。
【0018】時間の経過と共に酸素濃度が変化し、前記
設定値を越えると、前記制御装置15は前記開閉弁8、
開閉弁9を開き、循環ポンプ11を停止させ、酸素濃度
が設定値以下となるまで、窒素ガスを流す。係る制御を
繰返してウェーハの処理を行う。
設定値を越えると、前記制御装置15は前記開閉弁8、
開閉弁9を開き、循環ポンプ11を停止させ、酸素濃度
が設定値以下となるまで、窒素ガスを流す。係る制御を
繰返してウェーハの処理を行う。
【0019】尚、前記フィルタの位置は、循環ポンプ1
1の上流であっても、下流であっても良く、更に循環ポ
ンプ11による封入窒素ガスの循環は、連続的であって
も又間欠的であっても良い。又、窒素ガスに代え各種不
活性ガスを使用することも可能である。
1の上流であっても、下流であっても良く、更に循環ポ
ンプ11による封入窒素ガスの循環は、連続的であって
も又間欠的であっても良い。又、窒素ガスに代え各種不
活性ガスを使用することも可能である。
【0020】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、窒素ガ
ス置換時に真空引きしないので、ロードロック室を軽量
とすることができ、又窒素ガス置換後は酸素濃度が所定
値以上となった時にのみ窒素ガスを流通させるので、窒
素ガスの使用量が大幅に低減する。
ス置換時に真空引きしないので、ロードロック室を軽量
とすることができ、又窒素ガス置換後は酸素濃度が所定
値以上となった時にのみ窒素ガスを流通させるので、窒
素ガスの使用量が大幅に低減する。
【図1】本発明の一実施例を示す説明図である。
【図2】従来例の説明図である。
【図3】他の従来例の説明図である。
【符号の説明】 1 反応室 2 ロードロック室 3 供給管 4 排気管 8 開閉弁 9 開閉弁 10 バイパス管 11 循環ポンプ 12 フィルタ 13 酸素濃度検出計
Claims (1)
- 【請求項1】 反応室下方に連設されたロードロック室
に雰囲気ガス供給管及び排気管を接続し、該供給管と該
排気管とに開閉弁を設け、前記供給管の開閉弁下流と前
記排気管の開閉弁上流とを循環ポンプ、フィルタを有す
るバイパス管で接続し、前記ロードロック室に酸素濃度
を検出する酸素濃度検出計を設け、該酸素濃度検出計の
検出結果に基づき、開閉弁の開閉、循環ポンプの駆動を
行う様構成したことを特徴とする縦型拡散CVD装置の
ロードロック室ガスコントロール装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6916491A JPH0795528B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 縦型拡散cvd装置のロードロック室ガスコントロール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6916491A JPH0795528B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 縦型拡散cvd装置のロードロック室ガスコントロール装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04280625A JPH04280625A (ja) | 1992-10-06 |
JPH0795528B2 true JPH0795528B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=13394797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6916491A Expired - Fee Related JPH0795528B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 縦型拡散cvd装置のロードロック室ガスコントロール装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0795528B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001023978A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造装置および製造方法 |
KR100497198B1 (ko) * | 2003-06-18 | 2005-06-23 | 동부아남반도체 주식회사 | 급속 열처리 장치 및 열처리 방법 |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP6916491A patent/JPH0795528B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04280625A (ja) | 1992-10-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |