JPH0793413B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JPH0793413B2
JPH0793413B2 JP62054603A JP5460387A JPH0793413B2 JP H0793413 B2 JPH0793413 B2 JP H0793413B2 JP 62054603 A JP62054603 A JP 62054603A JP 5460387 A JP5460387 A JP 5460387A JP H0793413 B2 JPH0793413 B2 JP H0793413B2
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    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路の製造方法、特に半導体集積回
路の電気試験方法に関する。
〔従来の技術〕
半導体集積回路の製造において、回路の機種が多種多様
でしかも一品種の需要が比較的少ないことがある。この
場合、マスタースライス方式、即ち回路内に必要な素子
を設けておき配線パターンだけを変えて異なった回路を
つくる方式がとられる。従来、マスタースライス方式で
の配線パターンを形成する時に使用するマスクは一種類
の品種のみを有するように形成されていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従って半導体集積回路の品種を多く製造する場合には、
一品種の需要に比べ製造する量が必然的に増加しウェハ
ー状態での電気試験の所要時間も増え、さらに余剰製品
の保管数及び保管場所が増大するという欠点がある。
本発明の目的は、多品種の半導体集積回路を製造する場
合に余剰製品を少なくし、ひいてはその保管数及び保管
場所の増大化を防止するために最適な半導体集積回路の
製造方法を提供することである。
〔発明の従来技術に対する相違点(独創性)の内容〕
上述した従来のウェハーでの電気試験法に対し、本発明
は多品種少量生産方式において、二種以上の品種が収納
されているウェハーの所望の半導体集積回路の電気試験
を実施する場合、半導体集積回路にある認識コードを識
別することにより電気試験を実施するという独創的内容
を有する。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は二種以上の品種の半導体集積回路が収納されて
いるウェハーの所望の半導体集積回路の電気試験を実施
する場合、半導体集積回路にある認識コードを識別して
電気試験する試験方法を有している。
〔実施例〕
図面を参照して本発明の実施例を説明する。まず、第1
図に示すように半導体集積回路A.11と半導体集積回路B.
12を収納するウェハー1において、半導体集積回路Aの
みを電気試験する場合、第3図に示すように半導体集積
回路3内にある認識コード2を認識してから電気試験を
実施するようにする。
すなわち、第2図に示すようにウェハ1の半導体集積回
路Aのみを矢印21,22,23,24の如く順番に電気試験を実
施することが可能となる。本実施例では異なる二種類の
半導体集積回路AとBの場合の電気試験方法を説明した
が、三種類以上の半導体集積回路A,B,C,…を収納する場
合も同様の試験方法が可能である。尚、認識コードとし
ては識別パッド間のオープンやショート及び抵抗値によ
る電気的方法と、識別マークを光学的に識別する方法が
ある。
〔実施例2〕 実施例1では、1ペレット毎に半導体集積回路内の認識
コードを認識してから電気試験を実施していた。第2の
実施例としては、第4図に示すように電気試験を実施す
る前に第1図に示すような半導体集積回路Aと半導体集
積回路Bのマップを電気試験機に電気試験を実施前に登
録しておく。次に、半導体集積回路Aを電気試験をする
場合、あらかじめ登録しておいた前記マップに従い第2
図に示す電気試験の移動方向21,22,23,24の列が変わっ
た時のみ、最初のペレットの前記認識コードを認識し、
同一列の他のペレットの認識コードの認識をしないで順
次所望の半導体集積回路の電気試験をする。この実施例
では、1ペレット毎に前記認識コードを認識しなくて良
い利点がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば多品種少量生産方
式により少量の半導体集積回路を生産する場合に、二種
以上の品種の半導体集積回路の配線パターンを有するウ
ェハーを電気試験することができるので、余剰製品を少
なくでき、さらに製品の保管数及び保管場所の増大化を
防止できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の実施例の説明図、第3図は
半導体集積回路の部分拡大図、第4図は実施例2の作業
フロー図である。 1……ウェハー、2……認識コード、3……半導体集積
回路、4……バンプ、5……ショート防止バンプ、11…
…半導体集積回路A、12……半導体集積回路B、21,22,
23,24……電気試験の移動方向。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】マスタースライス方式により製造する半導
    体集積回路において、二種以上の品種の半導体集積回路
    の配線パターンを有するウエハーを電気試験する場合、
    認識コードを識別して同一種類の半導体集積回路のみを
    連続的に電気試験するようにしたことを特徴とする半導
    体装置の製造方法。
JP62054603A 1987-03-09 1987-03-09 半導体装置の製造方法 Expired - Fee Related JPH0793413B2 (ja)

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