JPH079255A - 放電加工装置 - Google Patents
放電加工装置Info
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- JPH079255A JPH079255A JP5162727A JP16272793A JPH079255A JP H079255 A JPH079255 A JP H079255A JP 5162727 A JP5162727 A JP 5162727A JP 16272793 A JP16272793 A JP 16272793A JP H079255 A JPH079255 A JP H079255A
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- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- B23H1/022—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges for shaping the discharge pulse train
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/14—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
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- B23H2300/20—Relaxation circuit power supplies for supplying the machining current, e.g. capacitor or inductance energy storage circuits
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- Electrochemistry (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 加工速度の向上、電極消耗の低減、加工面あ
らさの向上を図る。 【構成】 加工電流を供給する直流電源２と、該直流電
源２に直列に接続された１０Ω以上の電流制限素子３
と、該直流電源２および電流制限素子３に直列に接続さ
れたスイッチング素子４と、加工間隙に対して並列に設
けられた、５０〜５００μＨのインダクタンス７と０．
０２〜２μＦのコンデンサ８からなる直列回路を備える
構成とした。
らさの向上を図る。 【構成】 加工電流を供給する直流電源２と、該直流電
源２に直列に接続された１０Ω以上の電流制限素子３
と、該直流電源２および電流制限素子３に直列に接続さ
れたスイッチング素子４と、加工間隙に対して並列に設
けられた、５０〜５００μＨのインダクタンス７と０．
０２〜２μＦのコンデンサ８からなる直列回路を備える
構成とした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、仕上げ加工並びに鏡
面加工に係る放電加工装置に関するものである。
面加工に係る放電加工装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図１３は従来の放電加工装置を示す図で
ある。図において、１は電極・工作物から形成される極
間、２は極間１に加工電流を供給する直流電源であり、
通常８０〜１００Ｖ程度の直流電源である。また３は電
流制限用の抵抗、４は電圧の印加および出力電流の遮断
を行うスイッチング素子、５はスイッチング素子４を駆
動する駆動回路、６は極間１の電極・工作物の対向部分
に形成される静電容量である。
ある。図において、１は電極・工作物から形成される極
間、２は極間１に加工電流を供給する直流電源であり、
通常８０〜１００Ｖ程度の直流電源である。また３は電
流制限用の抵抗、４は電圧の印加および出力電流の遮断
を行うスイッチング素子、５はスイッチング素子４を駆
動する駆動回路、６は極間１の電極・工作物の対向部分
に形成される静電容量である。
【０００３】次に動作について説明する。加工中、電極
・工作物により形成された極間１に電圧が印加され、加
工が行われる。即ち、まず駆動回路５によりスイッチン
グ素子４がＯＮされることにより、極間１に電圧が印加
される。極間１においてはこの印加電圧により放電が発
生するが、図示されない放電検出回路により放電が検出
された後、所定の電流パルス継続時間（パルス幅）経過
後にスイッチング素子４はＯＦＦされ、所定のパルス幅
の電流パルスが供給される。その後、所定の休止時間の
後再びスイッチング素子４がＯＮされ、電圧が印加され
る。以上の動作を繰り返しながら、加工が行われる。
・工作物により形成された極間１に電圧が印加され、加
工が行われる。即ち、まず駆動回路５によりスイッチン
グ素子４がＯＮされることにより、極間１に電圧が印加
される。極間１においてはこの印加電圧により放電が発
生するが、図示されない放電検出回路により放電が検出
された後、所定の電流パルス継続時間（パルス幅）経過
後にスイッチング素子４はＯＦＦされ、所定のパルス幅
の電流パルスが供給される。その後、所定の休止時間の
後再びスイッチング素子４がＯＮされ、電圧が印加され
る。以上の動作を繰り返しながら、加工が行われる。
【０００４】なお、上記の加工において、加工の能力、
加工面あらさは、極間１に供給される電流パルスの電流
値により左右される。即ち、電流パルスの電流値が高く
なると加工速度は増大するが、加工面あらさは悪化す
る。また、電流パルスの電流値が低くなると加工面あら
さは改善されるが加工速度が低下する。即ち、電流パル
スの電流値を変化させることにより、所望の加工特性を
得ることができる。極間１に供給されるパルス電流値
は、直流電源２の電圧および電流制限抵抗３の値により
決定されるが、パルス電流値の制御は一般に電流制限抵
抗３の切り替えにより行われる。
加工面あらさは、極間１に供給される電流パルスの電流
値により左右される。即ち、電流パルスの電流値が高く
なると加工速度は増大するが、加工面あらさは悪化す
る。また、電流パルスの電流値が低くなると加工面あら
さは改善されるが加工速度が低下する。即ち、電流パル
スの電流値を変化させることにより、所望の加工特性を
得ることができる。極間１に供給されるパルス電流値
は、直流電源２の電圧および電流制限抵抗３の値により
決定されるが、パルス電流値の制御は一般に電流制限抵
抗３の切り替えにより行われる。
【０００５】良質な加工面を要する仕上加工において
は、電流制限抵抗３の値は大きな値が選択されるが、こ
の場合、極間１における電極・工作物の対向面積が変化
することにより、電流パルスの波形は大きく変化する。
即ち、極間１の対向面積が大きくなると、極間に静電容
量６が形成されるが、こうした静電容量の増加は、図１
４（ａ）に示すように直流アーク成分３０に先立つコン
デンサ放電成分３１を増大させるとともに、図１４
（ｂ）のようにコンデンサ放電３１の後のアークが遮断
された、直流アーク成分３０のない電流波形の発生を招
く。こうした、直流アークの遮断は一般にパルス割れ現
象と呼ばれるが、パルス幅のきわめて短いコンデンサ放
電成分３１による加工となるため、加工速度が低下する
とともに、電極の消耗が著しく増大する。また、電極消
耗により電極表面が荒らされ、加工面あらさも低下する
傾向にある。直流アークの遮断、即ちパルス割れ現象
は、一般に、コンデンサ（静電容量）が大きいほど、ま
た電流制限抵抗値が大きいほど発生しやすい。具体的に
は、直流電源２が８０Ｖ、制限抵抗３が１０Ω以上（電
流値８Ａ以下）、かつ、極間に形成される静電容量が１
０００ｐＦ以上の場合には、パルス割れに移行し易く、
加工特性が著しく劣化する傾向にあり、特に電流値が５
Ａ以下の場合は、その傾向が著しい。
は、電流制限抵抗３の値は大きな値が選択されるが、こ
の場合、極間１における電極・工作物の対向面積が変化
することにより、電流パルスの波形は大きく変化する。
即ち、極間１の対向面積が大きくなると、極間に静電容
量６が形成されるが、こうした静電容量の増加は、図１
４（ａ）に示すように直流アーク成分３０に先立つコン
デンサ放電成分３１を増大させるとともに、図１４
（ｂ）のようにコンデンサ放電３１の後のアークが遮断
された、直流アーク成分３０のない電流波形の発生を招
く。こうした、直流アークの遮断は一般にパルス割れ現
象と呼ばれるが、パルス幅のきわめて短いコンデンサ放
電成分３１による加工となるため、加工速度が低下する
とともに、電極の消耗が著しく増大する。また、電極消
耗により電極表面が荒らされ、加工面あらさも低下する
傾向にある。直流アークの遮断、即ちパルス割れ現象
は、一般に、コンデンサ（静電容量）が大きいほど、ま
た電流制限抵抗値が大きいほど発生しやすい。具体的に
は、直流電源２が８０Ｖ、制限抵抗３が１０Ω以上（電
流値８Ａ以下）、かつ、極間に形成される静電容量が１
０００ｐＦ以上の場合には、パルス割れに移行し易く、
加工特性が著しく劣化する傾向にあり、特に電流値が５
Ａ以下の場合は、その傾向が著しい。
【０００６】一方、電極消耗、および加工速度を改善す
る方法として、特開昭５０−７８９９３号公報に開示さ
れているように、極間に並列に２０μＨ以下のインダク
タンスと２μＦ以下のコンデンサの直列回路を接続した
ものが開示されている。この引例では、加工電流が２０
Ａの条件において、特にインダクタンスが２０μＨ以上
の場合は加工速度がかえって低下するため、インダクタ
ンスは１５μＨ以下が望ましいとしている。この公報に
示されているような電流値が高い（２０Ａ以上）の加工
条件下においては、もともとパルス割れ現象が発生しに
くいため、インダクタンスが２０μＨ以上になると上記
のようにかえって加工特性の劣化を招く。しかしなが
ら、発明者の研究によれば、電流値が８Ａ以下（仕上げ
電流値）と低い場合、インダクタンスが２０μＨ以下の
場合はパルス割れ現象が発生し、電極消耗の増大、加工
速度の低下するため、インダクタンスを大きくしたほう
が加工特性が向上することが明かとなった。
る方法として、特開昭５０−７８９９３号公報に開示さ
れているように、極間に並列に２０μＨ以下のインダク
タンスと２μＦ以下のコンデンサの直列回路を接続した
ものが開示されている。この引例では、加工電流が２０
Ａの条件において、特にインダクタンスが２０μＨ以上
の場合は加工速度がかえって低下するため、インダクタ
ンスは１５μＨ以下が望ましいとしている。この公報に
示されているような電流値が高い（２０Ａ以上）の加工
条件下においては、もともとパルス割れ現象が発生しに
くいため、インダクタンスが２０μＨ以上になると上記
のようにかえって加工特性の劣化を招く。しかしなが
ら、発明者の研究によれば、電流値が８Ａ以下（仕上げ
電流値）と低い場合、インダクタンスが２０μＨ以下の
場合はパルス割れ現象が発生し、電極消耗の増大、加工
速度の低下するため、インダクタンスを大きくしたほう
が加工特性が向上することが明かとなった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来の放電加工装置
は、上記のように構成されており、加工電流が低く、且
つ電極・工作物の対向面積が増大すると、直流アークが
遮断されたパルス割れが頻発するため、加工速度の低
下、電極の消耗の増大、加工面あらさの低下を招くなど
の問題があった。また、特開昭５０−７８９９３号公報
のように２０μＨ以下のインダクタンスとコンデンサの
直列回路を極間に並列に接続した場合においても、特に
パルス電流値が８Ａ以下の仕上条件にて電極面積の大き
な加工を行った際にはパルス割れ現象が多発し、電極消
耗の増大、加工速度の減少を招くなどの問題があった。
なお、他の従来例として特開昭５０−１０３７９１号公
報があり、この公報には、加工間隙に直列または並列に
リアクタンスを有する回路を接続し、好ましい放電の放
電電流中に含まれる交流成分の基調波もしくは高調波に
同調共振するように加工を行うことにより、加工面荒さ
が向上する例が開示されているが、１００ｐＦ程度のコ
ンデンサを用いるために電流パルス幅が極めて小さくな
るため、電極消耗が著しく増大する等の問題があった。
は、上記のように構成されており、加工電流が低く、且
つ電極・工作物の対向面積が増大すると、直流アークが
遮断されたパルス割れが頻発するため、加工速度の低
下、電極の消耗の増大、加工面あらさの低下を招くなど
の問題があった。また、特開昭５０−７８９９３号公報
のように２０μＨ以下のインダクタンスとコンデンサの
直列回路を極間に並列に接続した場合においても、特に
パルス電流値が８Ａ以下の仕上条件にて電極面積の大き
な加工を行った際にはパルス割れ現象が多発し、電極消
耗の増大、加工速度の減少を招くなどの問題があった。
なお、他の従来例として特開昭５０−１０３７９１号公
報があり、この公報には、加工間隙に直列または並列に
リアクタンスを有する回路を接続し、好ましい放電の放
電電流中に含まれる交流成分の基調波もしくは高調波に
同調共振するように加工を行うことにより、加工面荒さ
が向上する例が開示されているが、１００ｐＦ程度のコ
ンデンサを用いるために電流パルス幅が極めて小さくな
るため、電極消耗が著しく増大する等の問題があった。
【０００８】この発明は上記のような従来のものの課題
を解消するためになされたもので、電極面積の大きな場
合の仕上加工においても、パルス割れの発生を抑制し、
電極消耗の低減、加工速度の向上、加工面品質の向上を
図ることのできる放電加工装置を提供することを目的と
するものである。
を解消するためになされたもので、電極面積の大きな場
合の仕上加工においても、パルス割れの発生を抑制し、
電極消耗の低減、加工速度の向上、加工面品質の向上を
図ることのできる放電加工装置を提供することを目的と
するものである。
【０００９】またこの発明は、特に鏡面加工を行う際に
は、低ピークでパルス幅の短い電流パルスを安定して供
給し、大面積での最良面あらさの向上を図ることのでき
る放電加工装置を提供することを目的とするものであ
る。
は、低ピークでパルス幅の短い電流パルスを安定して供
給し、大面積での最良面あらさの向上を図ることのでき
る放電加工装置を提供することを目的とするものであ
る。
【００１０】さらに、電極面積・加工条件の変化に対し
て常に最適な仕上加工を行うことのできる放電加工装置
を提供することを目的とするものである。
て常に最適な仕上加工を行うことのできる放電加工装置
を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明に係る放電加工装
置は、加工電流を供給する直流電源と、該直流電源に直
列に接続され、加工電流を仕上げ加工電流（８Ａ以下）
に制限する電流制限素子と、該直流電源および電流制限
素子に直列に接続されたスイッチング素子と、加工間隙
に対して並列に設けられ、コンデンサ放電電流成分に引
き続く直流パルス電流成分の中断を抑制する、インダク
タンス（５０〜５００μＨ）とコンデンサ（０．０２〜
２μＦ）との直列回路と、を備える構成としたものであ
る。
置は、加工電流を供給する直流電源と、該直流電源に直
列に接続され、加工電流を仕上げ加工電流（８Ａ以下）
に制限する電流制限素子と、該直流電源および電流制限
素子に直列に接続されたスイッチング素子と、加工間隙
に対して並列に設けられ、コンデンサ放電電流成分に引
き続く直流パルス電流成分の中断を抑制する、インダク
タンス（５０〜５００μＨ）とコンデンサ（０．０２〜
２μＦ）との直列回路と、を備える構成としたものであ
る。
【００１２】また本発明に係る放電加工装置は、加工電
流を供給する直流電源と、該直流電源に直列に接続さ
れ、加工電流を鏡面加工電流（２Ａ以下）に制限する電
流制限素子と、該直流電源および電流制限素子に直列に
接続されたスイッチング素子と、加工間隙に対して並列
に設けられ、コンデンサ放電電流成分に引き続く直流パ
ルス電流成分の継続を抑制する、インダクタンス（２０
〜５０μＨ）とコンデンサ（０．００１〜０．０２μ
Ｆ）との直列回路と、を備える構成としたものである。
流を供給する直流電源と、該直流電源に直列に接続さ
れ、加工電流を鏡面加工電流（２Ａ以下）に制限する電
流制限素子と、該直流電源および電流制限素子に直列に
接続されたスイッチング素子と、加工間隙に対して並列
に設けられ、コンデンサ放電電流成分に引き続く直流パ
ルス電流成分の継続を抑制する、インダクタンス（２０
〜５０μＨ）とコンデンサ（０．００１〜０．０２μ
Ｆ）との直列回路と、を備える構成としたものである。
【００１３】また本発明に係る放電加工装置は、直流電
源、リアクトル、ダイオード、および第１のスイッチン
グ素子を有し、仕上げ加工電流（８Ａ以下）を供給する
定電流供給手段と、第２のスイッチング素子を有する出
力電流断続手段と、加工間隙に対して並列に設けられ、
コンデンサ放電電流成分に引き続く直流パルス電流成分
の中断を抑制する、インダクタンス（５０〜５００μ
Ｈ）とコンデンサ（０．０２〜２μＦ）との直列回路
と、を備える構成としたものである。
源、リアクトル、ダイオード、および第１のスイッチン
グ素子を有し、仕上げ加工電流（８Ａ以下）を供給する
定電流供給手段と、第２のスイッチング素子を有する出
力電流断続手段と、加工間隙に対して並列に設けられ、
コンデンサ放電電流成分に引き続く直流パルス電流成分
の中断を抑制する、インダクタンス（５０〜５００μ
Ｈ）とコンデンサ（０．０２〜２μＦ）との直列回路
と、を備える構成としたものである。
【００１４】また本発明に係る放電加工装置は、直流電
源、リアクトル、ダイオード、および第１のスイッチン
グ素子を有し、鏡面加工電流（２Ａ以下）を供給する定
電流供給手段と、第２のスイッチング素子を有する出力
電流断続手段と、加工間隙に対して並列に設けられ、コ
ンデンサ放電電流成分に引き続く直流パルス電流成分の
継続を抑制する、インダクタンス（２０〜５０μＨ）と
コンデンサ（０．００１〜０．０２μＦ）との直列回路
と、を備える構成としたものである。
源、リアクトル、ダイオード、および第１のスイッチン
グ素子を有し、鏡面加工電流（２Ａ以下）を供給する定
電流供給手段と、第２のスイッチング素子を有する出力
電流断続手段と、加工間隙に対して並列に設けられ、コ
ンデンサ放電電流成分に引き続く直流パルス電流成分の
継続を抑制する、インダクタンス（２０〜５０μＨ）と
コンデンサ（０．００１〜０．０２μＦ）との直列回路
と、を備える構成としたものである。
【００１５】更にまた、本発明に係る放電加工装置は、
上記放電加工装置において、インダクタンスとコンデン
サの直列回路を、極間に対して複数並列接続するととも
に、該複数の直列回路を切り替える切り替え手段を設け
たものである。
上記放電加工装置において、インダクタンスとコンデン
サの直列回路を、極間に対して複数並列接続するととも
に、該複数の直列回路を切り替える切り替え手段を設け
たものである。
【００１６】
【作用】本発明によれば、コンデンサ放電電流成分に引
き続く直流パルス電流成分の中断を抑制しつつ仕上げ加
工を行うことができる。
き続く直流パルス電流成分の中断を抑制しつつ仕上げ加
工を行うことができる。
【００１７】また、本発明によれば、コンデンサ放電電
流成分に引き続く直流パルス電流成分の継続を抑制しつ
つ鏡面加工を行うことができる。
流成分に引き続く直流パルス電流成分の継続を抑制しつ
つ鏡面加工を行うことができる。
【００１８】更にまた、本発明に係わる放電加工装置
は、インダクタンスとコンデンサからなる複数の直列回
路を切り替えるながら加工を行うことにより、電極面積
・加工条件の変化などに対して最適な電流波形を発生さ
せつつ加工を行うことができる。
は、インダクタンスとコンデンサからなる複数の直列回
路を切り替えるながら加工を行うことにより、電極面積
・加工条件の変化などに対して最適な電流波形を発生さ
せつつ加工を行うことができる。
【００１９】
実施例１．以下、本発明の一実施例を図１〜図４に基づ
き説明する。図１は本発明の一実施例を示す図であり、
１は電極・工作物により形成される極間、２は極間１に
加工電流を供給する直流電源、３は電流制限用の抵抗器
であり、直流電源２として８０Ｖのものが用いられる場
合、仕上げ加工電流（８Ａ以下）を得るため、１０Ω以
上の値とされる。４は電圧の印加および出力電流の遮断
を行うスイッチング素子、５はスイッチング素子４を駆
動する駆動回路、６は極間１の電極・工作物の対向部分
に形成される静電容量、７は極間１に対して並列に接続
されたコイル、８はコイル７に直列に接続されるコンデ
ンサ、１５ａ，１５ｂ，１６ａ，１６ｂは極性切り替え
スイッチであり、本実施例ではスイッチ１５ａ，１５ｂ
を閉状態とすることにより、電極極性が（＋）となるよ
う接続される。
き説明する。図１は本発明の一実施例を示す図であり、
１は電極・工作物により形成される極間、２は極間１に
加工電流を供給する直流電源、３は電流制限用の抵抗器
であり、直流電源２として８０Ｖのものが用いられる場
合、仕上げ加工電流（８Ａ以下）を得るため、１０Ω以
上の値とされる。４は電圧の印加および出力電流の遮断
を行うスイッチング素子、５はスイッチング素子４を駆
動する駆動回路、６は極間１の電極・工作物の対向部分
に形成される静電容量、７は極間１に対して並列に接続
されたコイル、８はコイル７に直列に接続されるコンデ
ンサ、１５ａ，１５ｂ，１６ａ，１６ｂは極性切り替え
スイッチであり、本実施例ではスイッチ１５ａ，１５ｂ
を閉状態とすることにより、電極極性が（＋）となるよ
う接続される。
【００２０】次に、動作について説明する。従来例同
様、電極・工作物により形成された極間１に電圧が印加
され、加工が行われる。即ち、駆動回路５によりスイッ
チング素子４がＯＮされることにより、極間１に電圧が
印加されるとともに、図示されない放電検出回路により
放電が検出された後、所定の電流パルス継続時間（パル
ス幅）経過後にスイッチング素子４はＯＦＦされ、所定
のパルス幅の電流パルスが供給される。その後、所定の
休止時間の後再びスイッチング素子４がＯＮされ、電圧
が印加される。以上の動作を繰り返しながら、加工が行
われる。
様、電極・工作物により形成された極間１に電圧が印加
され、加工が行われる。即ち、駆動回路５によりスイッ
チング素子４がＯＮされることにより、極間１に電圧が
印加されるとともに、図示されない放電検出回路により
放電が検出された後、所定の電流パルス継続時間（パル
ス幅）経過後にスイッチング素子４はＯＦＦされ、所定
のパルス幅の電流パルスが供給される。その後、所定の
休止時間の後再びスイッチング素子４がＯＮされ、電圧
が印加される。以上の動作を繰り返しながら、加工が行
われる。
【００２１】従来例同様、極間１の対向面積が大きくな
ると、極間に静電容量６が形成されるため直流アーク成
分３０に先立ってコンデンサ放電成分３１がまず極間に
放出されるが、コンデンサ８に充電されていた大きな静
電エネルギーがコイル７を介して極間に供給されるとと
もに、それに引き続いて直流アーク成分が継続した電流
波形が供給される。図２は本実施例における電流波形を
示したものであり、波形としては直流パルス成分３０に
コンデンサ８による電流成分３２が重畳された波形が得
られる。なお、図２（ａ）は加工面積が小の場合、図２
（ｂ）は加工面積が大の場合を示す。コンデンサ８の電
流成分３２はコイル７のインダクタンスのためになまさ
れた波形となっており、電流ピークが低く抑えられると
ともに、パルス割れがなく確実に直流アーク成分３０に
継続された波形が安定して得られる。コンデンサ８の静
電容量は、極間１に形成される静電容量（通常数千ｐＦ
程度）に比較して十分に大きく取っているため、加工面
積が増大しても確実にパルス割れを防止することが可能
である。
ると、極間に静電容量６が形成されるため直流アーク成
分３０に先立ってコンデンサ放電成分３１がまず極間に
放出されるが、コンデンサ８に充電されていた大きな静
電エネルギーがコイル７を介して極間に供給されるとと
もに、それに引き続いて直流アーク成分が継続した電流
波形が供給される。図２は本実施例における電流波形を
示したものであり、波形としては直流パルス成分３０に
コンデンサ８による電流成分３２が重畳された波形が得
られる。なお、図２（ａ）は加工面積が小の場合、図２
（ｂ）は加工面積が大の場合を示す。コンデンサ８の電
流成分３２はコイル７のインダクタンスのためになまさ
れた波形となっており、電流ピークが低く抑えられると
ともに、パルス割れがなく確実に直流アーク成分３０に
継続された波形が安定して得られる。コンデンサ８の静
電容量は、極間１に形成される静電容量（通常数千ｐＦ
程度）に比較して十分に大きく取っているため、加工面
積が増大しても確実にパルス割れを防止することが可能
である。
【００２２】図３に、印加電圧として８０Ｖ、コイル７
のインダクタンスとして４００μＨ、コンデンサ８の静
電容量として１μＦ、電流制限抵抗として２０Ω（電流
値４Ａ）の場合において、加工面積に対する加工速度
（重量加工速度）、重量消耗比（電極消耗量／加工量）
を、従来の場合と比較した実験結果を示す。図より、パ
ルス割れ防止を行うことにより、加工速度、電極消耗と
もに従来に比較して大幅に改善されており、特に加工面
積が大きな加工の場合における効果が著しいことがわか
る。
のインダクタンスとして４００μＨ、コンデンサ８の静
電容量として１μＦ、電流制限抵抗として２０Ω（電流
値４Ａ）の場合において、加工面積に対する加工速度
（重量加工速度）、重量消耗比（電極消耗量／加工量）
を、従来の場合と比較した実験結果を示す。図より、パ
ルス割れ防止を行うことにより、加工速度、電極消耗と
もに従来に比較して大幅に改善されており、特に加工面
積が大きな加工の場合における効果が著しいことがわか
る。
【００２３】上記のように、特に電流値が８Ａ以下の仕
上げ電流パルスでの加工においてコンデンサ放電成分３
１の後のパルス割れを防止し、コンデンサ放電の後の確
実に直流パルスを連続させ加工を行うためには、コイル
７のインダクタンスとして５０〜５００μＨ、コンデン
サとして０．０２〜２μＦ程度とすると良い。図４に、
インダクタンス・コンデンサ容量と、パルス割れ発生確
率の関係を示す。図より、インダクタンス、コンデンサ
容量の組み合わせにより、パルス割れ発生確率が異なる
ことがわかり、特にインダクタンスが５０〜５００μ
Ｈ、コンデンサが０．０２〜２μＦの範囲の適切な値の
組み合わせにより、加工特性が大幅に改善されることが
わかる。
上げ電流パルスでの加工においてコンデンサ放電成分３
１の後のパルス割れを防止し、コンデンサ放電の後の確
実に直流パルスを連続させ加工を行うためには、コイル
７のインダクタンスとして５０〜５００μＨ、コンデン
サとして０．０２〜２μＦ程度とすると良い。図４に、
インダクタンス・コンデンサ容量と、パルス割れ発生確
率の関係を示す。図より、インダクタンス、コンデンサ
容量の組み合わせにより、パルス割れ発生確率が異なる
ことがわかり、特にインダクタンスが５０〜５００μ
Ｈ、コンデンサが０．０２〜２μＦの範囲の適切な値の
組み合わせにより、加工特性が大幅に改善されることが
わかる。
【００２４】実施例２．次に、本発明の第２の実施例を
図５〜図７に基づき説明する。図５において、１は電極
・工作物により形成される極間、２は極間１に加工電流
を供給する直流電源であり、第１の実施例とは逆の極
性、即ち電極が（−）、工作物が（＋）となるよう極間
１に対して接続される。３は電流制限用の抵抗であり、
直流電源２として８０Ｖのものが用いられる場合、鏡面
加工電流（２Ａ以下）を得るため、４０Ω以上の値とさ
れる。４は電圧の印加および出力電流の遮断を行うスイ
ッチング素子、５はスイッチング素子４を駆動する駆動
回路、６は極間１の電極・工作物の対向部分に形成され
る静電容量、７は極間１に対して並列に接続されたコイ
ル、８はコイル７に直列に接続されるコンデンサであ
る。ここでは、コイル７のインダクタンスとして２０〜
５０μＨ、コンデンサ８の静電容量として０．００１〜
０．０２μＦが設定されている。また１５ａ，１５ｂ，
１６ａ，１６ｂは極性切り替えスイッチであり、本実施
例ではスイッチ１６ａ，１６ｂを閉状態とすることによ
り、電極極性が（−）となるよう接続される。
図５〜図７に基づき説明する。図５において、１は電極
・工作物により形成される極間、２は極間１に加工電流
を供給する直流電源であり、第１の実施例とは逆の極
性、即ち電極が（−）、工作物が（＋）となるよう極間
１に対して接続される。３は電流制限用の抵抗であり、
直流電源２として８０Ｖのものが用いられる場合、鏡面
加工電流（２Ａ以下）を得るため、４０Ω以上の値とさ
れる。４は電圧の印加および出力電流の遮断を行うスイ
ッチング素子、５はスイッチング素子４を駆動する駆動
回路、６は極間１の電極・工作物の対向部分に形成され
る静電容量、７は極間１に対して並列に接続されたコイ
ル、８はコイル７に直列に接続されるコンデンサであ
る。ここでは、コイル７のインダクタンスとして２０〜
５０μＨ、コンデンサ８の静電容量として０．００１〜
０．０２μＦが設定されている。また１５ａ，１５ｂ，
１６ａ，１６ｂは極性切り替えスイッチであり、本実施
例ではスイッチ１６ａ，１６ｂを閉状態とすることによ
り、電極極性が（−）となるよう接続される。
【００２５】次に、動作について説明する。実施例１と
同様、電極・工作物により形成された極間１に電圧が印
加され、加工が行われる。即ち、駆動回路５によりスイ
ッチング素子４がＯＮされることにより、極間１に電圧
が印加されるとともに、図示されない放電検出回路によ
り放電が検出された後、所定の電流パルス継続時間（パ
ルス幅）経過後にスイッチング素子４はＯＦＦされ、所
定のパルス幅の電流パルスが供給される。その後、所定
の休止時間の後再びスイッチング素子４がＯＮされ、電
圧が印加される。以上の動作を繰り返しながら、加工が
行われる。
同様、電極・工作物により形成された極間１に電圧が印
加され、加工が行われる。即ち、駆動回路５によりスイ
ッチング素子４がＯＮされることにより、極間１に電圧
が印加されるとともに、図示されない放電検出回路によ
り放電が検出された後、所定の電流パルス継続時間（パ
ルス幅）経過後にスイッチング素子４はＯＦＦされ、所
定のパルス幅の電流パルスが供給される。その後、所定
の休止時間の後再びスイッチング素子４がＯＮされ、電
圧が印加される。以上の動作を繰り返しながら、加工が
行われる。
【００２６】実施例１と同様、極間１の対向面積が大き
くなると、極間に静電容量が形成されるため直流アーク
成分３０に先立ってコンデンサ放電成分３１がまず極間
に放出される。次いで、コンデンサ８に充電されていた
大きな静電エネルギーがコイル７を介して極間に供給さ
れるが、本実施例のように電流制限抵抗３の値として４
０Ω以上（電流値２Ａ以下）の場合には、コイル７およ
びコンデンサ８の値を小さく取ることにより、実施例１
とは逆に直流アーク成分３０が継続しない低ピーク、短
パルス幅の電流波形を得ることができる。図６は本実施
例における電流波形を示したものであり、波形としては
直流パルス成分３０が継続しないほぼコンデンサ８によ
る電流成分３２のみの波形が得られる。コンデンサ８の
電流成分３２はコイル７のインダクタンスのためになま
された波形となっており、電流ピークが低く抑えられる
とともに、確実に直流アーク成分３０が遮断された波形
が安定して得られる。本実施例のように電極（−）の極
性にて、このように電流ピークが低く、パルス幅が短い
波形にて仕上加工を行うことにより、大面積においても
鏡面に近い加工を行うことが可能となる。実験によれ
ば、５０ｍｍ角の銅電極による仕上加工加工において、
５０μＨのインダクタンス，０．００５μＦのコンデン
サとし、上記の波形により加工を行うことにより、面あ
らさ１μｍＲｍａｘ以下の鏡面が得られた。
くなると、極間に静電容量が形成されるため直流アーク
成分３０に先立ってコンデンサ放電成分３１がまず極間
に放出される。次いで、コンデンサ８に充電されていた
大きな静電エネルギーがコイル７を介して極間に供給さ
れるが、本実施例のように電流制限抵抗３の値として４
０Ω以上（電流値２Ａ以下）の場合には、コイル７およ
びコンデンサ８の値を小さく取ることにより、実施例１
とは逆に直流アーク成分３０が継続しない低ピーク、短
パルス幅の電流波形を得ることができる。図６は本実施
例における電流波形を示したものであり、波形としては
直流パルス成分３０が継続しないほぼコンデンサ８によ
る電流成分３２のみの波形が得られる。コンデンサ８の
電流成分３２はコイル７のインダクタンスのためになま
された波形となっており、電流ピークが低く抑えられる
とともに、確実に直流アーク成分３０が遮断された波形
が安定して得られる。本実施例のように電極（−）の極
性にて、このように電流ピークが低く、パルス幅が短い
波形にて仕上加工を行うことにより、大面積においても
鏡面に近い加工を行うことが可能となる。実験によれ
ば、５０ｍｍ角の銅電極による仕上加工加工において、
５０μＨのインダクタンス，０．００５μＦのコンデン
サとし、上記の波形により加工を行うことにより、面あ
らさ１μｍＲｍａｘ以下の鏡面が得られた。
【００２７】上記のように、特に電流値が２Ａ以下の電
流パルスでの加工においてコンデンサ放電成分３２の後
確実に直流パルスを遮断しつつ加工を行うためには、コ
イル７のインダクタンスとして２０〜５０μＨ、コンデ
ンサとして０．００１〜０．０２μＦ程度とすると良
い。図７に、インダクタンス・コンデンサ容量と、加工
面あらさの関係を示す。図より、インダクタンス、コン
デンサ容量の組み合わせにより、加工面あらさが異なる
ことがわかり、特にインダクタンスが２０〜５０μＨ、
コンデンサが０．００１〜０．０２μＦの範囲の適切な
値の組み合わせにより、加工面あらさが大幅に改善され
ることがわかる。特にコンデンサが０．００１〜０．０
０５μＦの場合は、鏡面加工条件である数μｓ以下のパ
ルス幅が得られる。
流パルスでの加工においてコンデンサ放電成分３２の後
確実に直流パルスを遮断しつつ加工を行うためには、コ
イル７のインダクタンスとして２０〜５０μＨ、コンデ
ンサとして０．００１〜０．０２μＦ程度とすると良
い。図７に、インダクタンス・コンデンサ容量と、加工
面あらさの関係を示す。図より、インダクタンス、コン
デンサ容量の組み合わせにより、加工面あらさが異なる
ことがわかり、特にインダクタンスが２０〜５０μＨ、
コンデンサが０．００１〜０．０２μＦの範囲の適切な
値の組み合わせにより、加工面あらさが大幅に改善され
ることがわかる。特にコンデンサが０．００１〜０．０
０５μＦの場合は、鏡面加工条件である数μｓ以下のパ
ルス幅が得られる。
【００２８】実施例３．以下、本発明の一実施例を図８
及び図９に基づき説明する。図８は本発明の一実施例を
示すものであり、図において１は電極・工作物により形
成される極間、２は直流電源、１００は第１のスイッチ
ング素子１０１、ダイオード１０２、リアクトル１０３
により構成され、仕上げ加工電流（８Ａ以下）を供給す
る定電流供給部であり、第１のスイッチング素子１０１
とダイオード１０２、リアクトル１０３による降圧チョ
ッパにより構成され、出力と入力の間にはダイオード１
０４が接続されるとともに、リアクトル１０３の電流を
検出する電流検出器１０５を備えている。また、出力電
流断続部１１０は、第２のスイッチング素子１１１とダ
イオード１１２と電圧源１１３との直列回路、およびダ
イオード１１４により構成される。１０６、１１５はそ
れぞれ第１のスイッチング素子１０１および第２のスイ
ッチング素子１１１を駆動する駆動回路である。また、
６は極間１の電極・工作物の対向部分に形成される静電
容量、７は極間１に対して並列に接続されたコイル、８
はコイル７に直列に接続されるコンデンサである。ここ
では、コイル７のインダクタンスとして５０〜５００μ
Ｈ、コンデンサ８の静電容量として０．０２〜２μＦが
設定されている。また１１５ａ，１１５ｂ，１１６ａ，
１１６ｂは極性切り替えスイッチであり、本実施例では
スイッチ１１５ａ，１１５ｂを閉状態とすることによ
り、電極極性が（＋）となるよう接続される。
及び図９に基づき説明する。図８は本発明の一実施例を
示すものであり、図において１は電極・工作物により形
成される極間、２は直流電源、１００は第１のスイッチ
ング素子１０１、ダイオード１０２、リアクトル１０３
により構成され、仕上げ加工電流（８Ａ以下）を供給す
る定電流供給部であり、第１のスイッチング素子１０１
とダイオード１０２、リアクトル１０３による降圧チョ
ッパにより構成され、出力と入力の間にはダイオード１
０４が接続されるとともに、リアクトル１０３の電流を
検出する電流検出器１０５を備えている。また、出力電
流断続部１１０は、第２のスイッチング素子１１１とダ
イオード１１２と電圧源１１３との直列回路、およびダ
イオード１１４により構成される。１０６、１１５はそ
れぞれ第１のスイッチング素子１０１および第２のスイ
ッチング素子１１１を駆動する駆動回路である。また、
６は極間１の電極・工作物の対向部分に形成される静電
容量、７は極間１に対して並列に接続されたコイル、８
はコイル７に直列に接続されるコンデンサである。ここ
では、コイル７のインダクタンスとして５０〜５００μ
Ｈ、コンデンサ８の静電容量として０．０２〜２μＦが
設定されている。また１１５ａ，１１５ｂ，１１６ａ，
１１６ｂは極性切り替えスイッチであり、本実施例では
スイッチ１１５ａ，１１５ｂを閉状態とすることによ
り、電極極性が（＋）となるよう接続される。
【００２９】次に、動作について説明する。放電が発生
すると、第１のスイッチング素子１０１、リアクトル１
０３、第２のスイッチング素子１１１、ダイオード１１
４を通り直流電源２から極間１に電流が供給される。図
９にその電流波形を示す。この電流はリアクトル１０３
のインダクタンスにより決まる電流増加率により増加す
る。電流検出器１０５は、電流が上限値に達した際には
第１のスイッチング素子１０１をオフする。この後出力
電流はダイオード１０２、リアクトル１０３、第２のス
イッチング素子１１１、ダイオード１１４を通り極間１
に供給されて電流は減少する。電流検出器１０５により
電流が下限値まで低下したことが検出されると、第１の
スイッチング素子１０１は再びオンされる。この後出力
電流は第１のスイッチング素子１０１、リアクトル１０
３、第２のスイッチング素子１１１、ダイオード１１４
を通り極間１に供給され電流は増加する。このような動
作を繰り返し出力電流は図９（ａ）のような波形に制御
される。なお、実際の極間１における電流波形は、極間
に並列に接続されたコンデンサ８の静電エネルギーがコ
イル７を介して極間に放出されるため、図９（ｂ）のよ
うな波形が極間に供給される。所望のパルス幅に相当す
る時間だけ上記の動作を繰り返した後、出力電流遮断部
１１０の第２のスイッチング素子１１１をオフすること
により、電流が遮断され、所望の休止時間だけ電流の供
給が停止される。以上の動作を繰り返すことにより、放
電加工が行われる。
すると、第１のスイッチング素子１０１、リアクトル１
０３、第２のスイッチング素子１１１、ダイオード１１
４を通り直流電源２から極間１に電流が供給される。図
９にその電流波形を示す。この電流はリアクトル１０３
のインダクタンスにより決まる電流増加率により増加す
る。電流検出器１０５は、電流が上限値に達した際には
第１のスイッチング素子１０１をオフする。この後出力
電流はダイオード１０２、リアクトル１０３、第２のス
イッチング素子１１１、ダイオード１１４を通り極間１
に供給されて電流は減少する。電流検出器１０５により
電流が下限値まで低下したことが検出されると、第１の
スイッチング素子１０１は再びオンされる。この後出力
電流は第１のスイッチング素子１０１、リアクトル１０
３、第２のスイッチング素子１１１、ダイオード１１４
を通り極間１に供給され電流は増加する。このような動
作を繰り返し出力電流は図９（ａ）のような波形に制御
される。なお、実際の極間１における電流波形は、極間
に並列に接続されたコンデンサ８の静電エネルギーがコ
イル７を介して極間に放出されるため、図９（ｂ）のよ
うな波形が極間に供給される。所望のパルス幅に相当す
る時間だけ上記の動作を繰り返した後、出力電流遮断部
１１０の第２のスイッチング素子１１１をオフすること
により、電流が遮断され、所望の休止時間だけ電流の供
給が停止される。以上の動作を繰り返すことにより、放
電加工が行われる。
【００３０】本実施例においては、実施例１のような電
流制限用の抵抗３を必要としないため、電源が小型にで
き、抵抗器の発熱・ロスのない電源が構成できる反面、
コイル７、およびコンデンサ８がない場合は、図９
（ａ）に示すように電流リップルのある電流が極間に供
給されるため、特に仕上加工電流領域においては電流値
が０に近づき、直流アークが途切れる、所謂パルス割れ
現象が発生し易い。即ち、電流制限抵抗を用いた従来の
方式と比較すると、特に仕上電流領域においてパルス割
れによる加工特性の劣化が発生し易い問題がある。。
流制限用の抵抗３を必要としないため、電源が小型にで
き、抵抗器の発熱・ロスのない電源が構成できる反面、
コイル７、およびコンデンサ８がない場合は、図９
（ａ）に示すように電流リップルのある電流が極間に供
給されるため、特に仕上加工電流領域においては電流値
が０に近づき、直流アークが途切れる、所謂パルス割れ
現象が発生し易い。即ち、電流制限抵抗を用いた従来の
方式と比較すると、特に仕上電流領域においてパルス割
れによる加工特性の劣化が発生し易い問題がある。。
【００３１】本実施例においては、極間１の対向面積が
大きくなると、極間に静電容量が形成されるため図９
（ａ）の直流アーク成分に先立ってコンデンサ放電成分
３１がまず極間１に放出されるが、コンデンサ８に充電
されていた大きな静電エネルギーがコイル７を介して極
間に供給されるとともに、それに引き続いて直流アーク
成分が継続した図９（ｂ）に示すような電流波形が供給
される。波形としては直流パルス成分３０にコンデンサ
８による電流成分３２が重畳された波形が得られる。コ
ンデンサ８の電流成分３２はコイル７のインダクタンス
のためになまされた波形となっており、電流ピークが低
く抑えられるとともに、電流リップルに起因するパルス
割れがなく確実に直流アーク成分３０に継続された波形
が安定して得られる。なお、コンデンサ８の静電容量
は、極間１に形成される静電容量（通常数千ｐＦ程度）
に比較して十分に大きく取っているため、加工面積が増
大しても確実にパルス割れを防止することが可能であ
る。
大きくなると、極間に静電容量が形成されるため図９
（ａ）の直流アーク成分に先立ってコンデンサ放電成分
３１がまず極間１に放出されるが、コンデンサ８に充電
されていた大きな静電エネルギーがコイル７を介して極
間に供給されるとともに、それに引き続いて直流アーク
成分が継続した図９（ｂ）に示すような電流波形が供給
される。波形としては直流パルス成分３０にコンデンサ
８による電流成分３２が重畳された波形が得られる。コ
ンデンサ８の電流成分３２はコイル７のインダクタンス
のためになまされた波形となっており、電流ピークが低
く抑えられるとともに、電流リップルに起因するパルス
割れがなく確実に直流アーク成分３０に継続された波形
が安定して得られる。なお、コンデンサ８の静電容量
は、極間１に形成される静電容量（通常数千ｐＦ程度）
に比較して十分に大きく取っているため、加工面積が増
大しても確実にパルス割れを防止することが可能であ
る。
【００３２】本実施例において、パルス割れ防止による
効果は実施例１に示した図３の実験結果とほぼ同等の結
果が得られた。加工速度、電極消耗ともに従来に比較し
て大幅に改善されており、特に加工面積が大きな加工の
場合における効果が著しい。
効果は実施例１に示した図３の実験結果とほぼ同等の結
果が得られた。加工速度、電極消耗ともに従来に比較し
て大幅に改善されており、特に加工面積が大きな加工の
場合における効果が著しい。
【００３３】上記のように、特に電流値が８Ａ以下の仕
上げ電流パルスでの加工においてコンデンサ放電成分３
１の後のパルス割れ、および電流リップルによるパルス
割れを防止し、コンデンサ放電の後の確実に直流パルス
を連続させ加工を行うためのコイル７のインダクタンス
およびコンデンサの容量は、実施例１の場合と同様にそ
れぞれ５０〜５００μＨ、０．０２〜２μＦ程度とする
と良い。
上げ電流パルスでの加工においてコンデンサ放電成分３
１の後のパルス割れ、および電流リップルによるパルス
割れを防止し、コンデンサ放電の後の確実に直流パルス
を連続させ加工を行うためのコイル７のインダクタンス
およびコンデンサの容量は、実施例１の場合と同様にそ
れぞれ５０〜５００μＨ、０．０２〜２μＦ程度とする
と良い。
【００３４】実施例４．以下、本発明の一実施例を図１
０及び図１１に基づき説明する。図１０は本発明の一実
施例を示すものであり、図において１は電極・工作物に
より形成される極間、２は極間１に加工電流を供給する
直流電源であり、第３の実施例とは逆の極性、即ち電極
が（−）、工作物が（＋）となるよう極間１に対して接
続される。１００は第１のスイッチング素子１０１、ダ
イオード１０２、リアクトル１０３により構成され、鏡
面加工電流（２Ａ以下）を供給する定電流供給部であ
り、第１のスイッチング素子１０１とダイオード１０
２、リアクトル１０３による降圧チョッパにより構成さ
れ、出力と入力の間にはダイオード１０４が接続される
とともに、リアクトル１０３の電流を検出する電流検出
器１０５を備えている。また、出力電流断続部１１０
は、第２のスイッチング素子１１１とダイオード１１２
と電圧源１１３との直列回路、およびダイオード１１４
により構成される。１０６、１１５はそれぞれ第１のス
イッチング素子１０１および第２のスイッチング素子１
１１を駆動する駆動回路である。また、６は極間１の電
極・工作物の対向部分に形成される静電容量、７は極間
１に対して並列に接続されたコイル、８はコイル７に直
列に接続されるコンデンサである。ここでは、コイル７
のインダクタンスとして２０〜５０μＨ、コンデンサ８
の静電容量として０．００１〜０．０２μＦが設定され
ている。また１１５ａ，１１５ｂ，１１６ａ，１１６ｂ
は極性切り替えスイッチであり、本実施例ではスイッチ
１１６ａ，１１６ｂを閉状態とすることにより、電極極
性が（−）となるよう接続される。
０及び図１１に基づき説明する。図１０は本発明の一実
施例を示すものであり、図において１は電極・工作物に
より形成される極間、２は極間１に加工電流を供給する
直流電源であり、第３の実施例とは逆の極性、即ち電極
が（−）、工作物が（＋）となるよう極間１に対して接
続される。１００は第１のスイッチング素子１０１、ダ
イオード１０２、リアクトル１０３により構成され、鏡
面加工電流（２Ａ以下）を供給する定電流供給部であ
り、第１のスイッチング素子１０１とダイオード１０
２、リアクトル１０３による降圧チョッパにより構成さ
れ、出力と入力の間にはダイオード１０４が接続される
とともに、リアクトル１０３の電流を検出する電流検出
器１０５を備えている。また、出力電流断続部１１０
は、第２のスイッチング素子１１１とダイオード１１２
と電圧源１１３との直列回路、およびダイオード１１４
により構成される。１０６、１１５はそれぞれ第１のス
イッチング素子１０１および第２のスイッチング素子１
１１を駆動する駆動回路である。また、６は極間１の電
極・工作物の対向部分に形成される静電容量、７は極間
１に対して並列に接続されたコイル、８はコイル７に直
列に接続されるコンデンサである。ここでは、コイル７
のインダクタンスとして２０〜５０μＨ、コンデンサ８
の静電容量として０．００１〜０．０２μＦが設定され
ている。また１１５ａ，１１５ｂ，１１６ａ，１１６ｂ
は極性切り替えスイッチであり、本実施例ではスイッチ
１１６ａ，１１６ｂを閉状態とすることにより、電極極
性が（−）となるよう接続される。
【００３５】次に、動作について説明する。実施例３と
同様に放電が発生すると第１のスイッチング素子１０
１、リアクトル１０３、第２のスイッチング素子１１
１、ダイオオード１１４を通り直流電源２から極間１に
電流が供給される。電流検出器１０５は、電流が上限値
に達した際には第１のスイッチング素子１０１をオフす
る。この後出力電流はダイオード１０２、リアクトル１
０３、第２のスイッチング素子１１１、ダイオード１１
４を通り極間１に供給されて電流は減少する。電流検出
器１０５により電流が下限値まで低下したことが検出さ
れると、第１のスイッチング素子１０１は再びオンされ
る。この後出力電流は第１のスイッチング素子１０１、
リアクトル１０３、第２のスイッチング素子１１１、ダ
イオード１１４を通り電極１２０に供給され電流は増加
する。このような動作を繰り返し出力電流は図１１
（ａ）のような波形に制御される。所望のパルス幅に相
当する時間だけ上記の動作を繰り返した後、出力電流遮
断部１１０の第２のスイッチング素子１１１をオフする
ことにより、電流が遮断され、所望の休止時間だけ電流
の供給が停止される。以上の動作を繰り返すことによ
り、放電加工が行われる。
同様に放電が発生すると第１のスイッチング素子１０
１、リアクトル１０３、第２のスイッチング素子１１
１、ダイオオード１１４を通り直流電源２から極間１に
電流が供給される。電流検出器１０５は、電流が上限値
に達した際には第１のスイッチング素子１０１をオフす
る。この後出力電流はダイオード１０２、リアクトル１
０３、第２のスイッチング素子１１１、ダイオード１１
４を通り極間１に供給されて電流は減少する。電流検出
器１０５により電流が下限値まで低下したことが検出さ
れると、第１のスイッチング素子１０１は再びオンされ
る。この後出力電流は第１のスイッチング素子１０１、
リアクトル１０３、第２のスイッチング素子１１１、ダ
イオード１１４を通り電極１２０に供給され電流は増加
する。このような動作を繰り返し出力電流は図１１
（ａ）のような波形に制御される。所望のパルス幅に相
当する時間だけ上記の動作を繰り返した後、出力電流遮
断部１１０の第２のスイッチング素子１１１をオフする
ことにより、電流が遮断され、所望の休止時間だけ電流
の供給が停止される。以上の動作を繰り返すことによ
り、放電加工が行われる。
【００３６】実施例３と同様、極間１の対向面積が大き
くなると、極間に静電容量が形成されるため直流アーク
成分３０に先立ってコンデンサ放電成分３１がまず極間
１に放出される。次いで、コンデンサ８に充電されてい
た大きな静電エネルギーがコイル８を介して極間に供給
されるが、本実施例のように電流値が２Ａ以下の場合に
は、コイル７およびコンデンサ８の値を小さく取ること
により、実施例３とは逆に直流アーク成分３０が継続し
ない低ピーク、短パルス幅の電流波形を得ることができ
る。図１１（ｂ）は本実施例における電流波形を示した
ものであり、波形としては直流パルス成分３０が継続し
ないほぼコンデンサ８による電流成分３２のみの波形が
得られる。コンデンサ８の電流成分３２はコイル７のイ
ンダクタンス８のためになまされた波形となっており、
電流ピークが低く抑えられるとともに、確実に直流アー
ク成分３０が遮断された波形が安定して得られる。本実
施例のように電極（−）の極性にて、このように電流ピ
ークが低く、パルス幅が短い波形にて仕上加工を行うこ
とにより、実施例２と同様に大面積においても鏡面加工
を行うことが可能となる。実験によれば、６０ｍｍ角の
銅電極による仕上加工加工において、上記の波形により
加工を行うことにより、面あらさ０．７μｍＲｍａｘ以
下の鏡面が得られた。
くなると、極間に静電容量が形成されるため直流アーク
成分３０に先立ってコンデンサ放電成分３１がまず極間
１に放出される。次いで、コンデンサ８に充電されてい
た大きな静電エネルギーがコイル８を介して極間に供給
されるが、本実施例のように電流値が２Ａ以下の場合に
は、コイル７およびコンデンサ８の値を小さく取ること
により、実施例３とは逆に直流アーク成分３０が継続し
ない低ピーク、短パルス幅の電流波形を得ることができ
る。図１１（ｂ）は本実施例における電流波形を示した
ものであり、波形としては直流パルス成分３０が継続し
ないほぼコンデンサ８による電流成分３２のみの波形が
得られる。コンデンサ８の電流成分３２はコイル７のイ
ンダクタンス８のためになまされた波形となっており、
電流ピークが低く抑えられるとともに、確実に直流アー
ク成分３０が遮断された波形が安定して得られる。本実
施例のように電極（−）の極性にて、このように電流ピ
ークが低く、パルス幅が短い波形にて仕上加工を行うこ
とにより、実施例２と同様に大面積においても鏡面加工
を行うことが可能となる。実験によれば、６０ｍｍ角の
銅電極による仕上加工加工において、上記の波形により
加工を行うことにより、面あらさ０．７μｍＲｍａｘ以
下の鏡面が得られた。
【００３７】上記のように、特に電流値が２Ａ以下の電
流パルスでの加工においてコンデンサ放電成分３１の後
確実に直流パルスを遮断しつつ加工を行うためには、コ
イル７のインダクタンスおよびコンデンサの容量は、実
施例２の場合と同様にそれぞれ５０〜５００μＨ、０．
０２〜２μＦ程度とすると良い。既に説明したように、
図７より、インダクタンス、コンデンサ容量の組み合わ
せにより、加工面あらさが異なり、特にインダクタンス
が２０〜５０μＨ、コンデンサが０．００１〜０．０２
μＦの範囲の適切な値の組み合わせにより、加工面あら
さが大幅に改善される。特にコンデンサが０．００１〜
０．００５μＦ場合は、鏡面加工条件である数μｓ以下
のパルス幅が得られる。
流パルスでの加工においてコンデンサ放電成分３１の後
確実に直流パルスを遮断しつつ加工を行うためには、コ
イル７のインダクタンスおよびコンデンサの容量は、実
施例２の場合と同様にそれぞれ５０〜５００μＨ、０．
０２〜２μＦ程度とすると良い。既に説明したように、
図７より、インダクタンス、コンデンサ容量の組み合わ
せにより、加工面あらさが異なり、特にインダクタンス
が２０〜５０μＨ、コンデンサが０．００１〜０．０２
μＦの範囲の適切な値の組み合わせにより、加工面あら
さが大幅に改善される。特にコンデンサが０．００１〜
０．００５μＦ場合は、鏡面加工条件である数μｓ以下
のパルス幅が得られる。
【００３８】実施例５．なお、上記実施例においてはコ
イル７、コンデンサ８からなる直列回路を１つ極間に接
続した例を示したが、図１２に示すように、コイル、コ
ンデンサ、スイッチからなる複数の直列回路（コイル７
ａ、コンデンサ８ａ、スイッチ９ａからなる直列回路、
コイル７ｂ、コンデンサ８ｂ、スイッチ９ｂからなる直
列回路）を設けるとともに、抵抗とスイッチとからなる
複数の直列回路（抵抗３ａとスイッチ９ａとの直列回
路、抵抗３ｂとスイッチ９ｂとの直列回路、抵抗３ｃと
スイッチ９ｃとの直列回路）を設け、スイッチ９ａ，９
ｂ，９ｃを切り替えることにより所望する加工電流値を
得るとともに、切り替え手段を構成するスイッチ９ａ，
９ｂによりコイル、コンデンサからなる直列回路を切り
替えることにより、加工条件・電極面積が異なる際や変
化する際に、常に最適な加工特性を得ることが可能であ
る。
イル７、コンデンサ８からなる直列回路を１つ極間に接
続した例を示したが、図１２に示すように、コイル、コ
ンデンサ、スイッチからなる複数の直列回路（コイル７
ａ、コンデンサ８ａ、スイッチ９ａからなる直列回路、
コイル７ｂ、コンデンサ８ｂ、スイッチ９ｂからなる直
列回路）を設けるとともに、抵抗とスイッチとからなる
複数の直列回路（抵抗３ａとスイッチ９ａとの直列回
路、抵抗３ｂとスイッチ９ｂとの直列回路、抵抗３ｃと
スイッチ９ｃとの直列回路）を設け、スイッチ９ａ，９
ｂ，９ｃを切り替えることにより所望する加工電流値を
得るとともに、切り替え手段を構成するスイッチ９ａ，
９ｂによりコイル、コンデンサからなる直列回路を切り
替えることにより、加工条件・電極面積が異なる際や変
化する際に、常に最適な加工特性を得ることが可能であ
る。
【００３９】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、加工電流
を供給する直流電源と、該直流電源に直列に接続され、
加工電流を仕上げ加工電流に制限する電流制限素子と、
該直流電源および電流制限素子に直列に接続されたスイ
ッチング素子と、加工間隙に対して並列に設けられ、コ
ンデンサ放電電流成分に引き続く直流パルス電流成分の
中断を抑制する、インダクタンスとコンデンサとの直列
回路とを備える構成としたので、仕上げ加工電流領域に
おいて、電極面積の大きな場合においても、パルス割れ
現象の発生を防止でき、また電極極性を（＋）とした
際、電極消耗が大幅に低減するとともに、加工速度が著
しく向上するなどの効果がある。また、電極表面の消耗
による加工面品質の低下を防止することができるなどの
効果もある。
を供給する直流電源と、該直流電源に直列に接続され、
加工電流を仕上げ加工電流に制限する電流制限素子と、
該直流電源および電流制限素子に直列に接続されたスイ
ッチング素子と、加工間隙に対して並列に設けられ、コ
ンデンサ放電電流成分に引き続く直流パルス電流成分の
中断を抑制する、インダクタンスとコンデンサとの直列
回路とを備える構成としたので、仕上げ加工電流領域に
おいて、電極面積の大きな場合においても、パルス割れ
現象の発生を防止でき、また電極極性を（＋）とした
際、電極消耗が大幅に低減するとともに、加工速度が著
しく向上するなどの効果がある。また、電極表面の消耗
による加工面品質の低下を防止することができるなどの
効果もある。
【００４０】また、本発明によれば、加工電流を供給す
る直流電源と、該直流電源に直列に接続され、加工電流
を鏡面加工電流に制限する電流制限素子と、該直流電源
および電流制限素子に直列に接続されたスイッチング素
子と、加工間隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放
電電流成分に引き続く直流パルス電流成分の継続を抑制
する、インダクタンスとコンデンサとの直列回路とを備
える構成としたので、コンデンサ放電の後に直流パルス
を連続させずに加工を行うとともに、コンデンサ放電波
形の電流ピークを抑えた波形を発生させて加工を行うこ
とができ、特に電極極性を（−）とした際、鏡面加工を
行う際において、低ピークでパルス幅の短い電流パルス
を安定して供給でき、ひいては大面積での最良面あらさ
が著しく向上するなどの効果がある。
る直流電源と、該直流電源に直列に接続され、加工電流
を鏡面加工電流に制限する電流制限素子と、該直流電源
および電流制限素子に直列に接続されたスイッチング素
子と、加工間隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放
電電流成分に引き続く直流パルス電流成分の継続を抑制
する、インダクタンスとコンデンサとの直列回路とを備
える構成としたので、コンデンサ放電の後に直流パルス
を連続させずに加工を行うとともに、コンデンサ放電波
形の電流ピークを抑えた波形を発生させて加工を行うこ
とができ、特に電極極性を（−）とした際、鏡面加工を
行う際において、低ピークでパルス幅の短い電流パルス
を安定して供給でき、ひいては大面積での最良面あらさ
が著しく向上するなどの効果がある。
【００４１】また、本発明によれば、直流電源、リアク
トル、ダイオード、および第１のスイッチング素子を有
し、仕上げ加工電流を供給する定電流供給手段と、第２
のスイッチング素子を有する出力電流断続手段と、加工
間隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放電電流成分
に引き続く直流パルス電流成分の中断を抑制する、イン
ダクタンスとコンデンサとの直列回路とを備える構成と
したので、仕上げ加工電流領域において、電極面積の大
きな場合においても、極間静電容量の増大や電流リップ
ルに起因するパルス割れ現象の発生を防止でき、また電
極極性を（＋）とした際、電極消耗が大幅に低減すると
ともに、加工速度が著しく向上するなどの効果がある。
また、電極表面の消耗による加工面品質の低下を防止す
ることができるなどの効果がある。また、電流制限用抵
抗が不要なため、電源が小型かつ安価にでき、エネルギ
ーロスや発熱のない電源が得られる効果がある。
トル、ダイオード、および第１のスイッチング素子を有
し、仕上げ加工電流を供給する定電流供給手段と、第２
のスイッチング素子を有する出力電流断続手段と、加工
間隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放電電流成分
に引き続く直流パルス電流成分の中断を抑制する、イン
ダクタンスとコンデンサとの直列回路とを備える構成と
したので、仕上げ加工電流領域において、電極面積の大
きな場合においても、極間静電容量の増大や電流リップ
ルに起因するパルス割れ現象の発生を防止でき、また電
極極性を（＋）とした際、電極消耗が大幅に低減すると
ともに、加工速度が著しく向上するなどの効果がある。
また、電極表面の消耗による加工面品質の低下を防止す
ることができるなどの効果がある。また、電流制限用抵
抗が不要なため、電源が小型かつ安価にでき、エネルギ
ーロスや発熱のない電源が得られる効果がある。
【００４２】また、本発明によれば、直流電源、リアク
トル、ダイオード、および第１のスイッチング素子を有
し、鏡面加工電流を供給する定電流供給手段と、第２の
スイッチング素子を有する出力電流断続手段と、加工間
隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放電電流成分に
引き続く直流パルス電流成分の継続を抑制する、インダ
クタンスとコンデンサとの直列回路とを備える構成とし
たので、コンデンサ放電の後に直流パルスを連続させず
に加工を行うとともに、コンデンサ放電波形の電流ピー
クを抑えた波形を発生させて加工を行うようにしたた
め、特に電極極性を（−）とした際の、鏡面加工を行う
場合において、低ピークでパルス幅の短い電流パルスを
安定して供給でき、ひいては大面積での最良面あらさが
著しく向上するなどの効果がある。また、電流制限用抵
抗が不要なため、電源が小型かつ安価にでき、エネルギ
ーロスや発熱のない電源が得られる効果もある。
トル、ダイオード、および第１のスイッチング素子を有
し、鏡面加工電流を供給する定電流供給手段と、第２の
スイッチング素子を有する出力電流断続手段と、加工間
隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放電電流成分に
引き続く直流パルス電流成分の継続を抑制する、インダ
クタンスとコンデンサとの直列回路とを備える構成とし
たので、コンデンサ放電の後に直流パルスを連続させず
に加工を行うとともに、コンデンサ放電波形の電流ピー
クを抑えた波形を発生させて加工を行うようにしたた
め、特に電極極性を（−）とした際の、鏡面加工を行う
場合において、低ピークでパルス幅の短い電流パルスを
安定して供給でき、ひいては大面積での最良面あらさが
著しく向上するなどの効果がある。また、電流制限用抵
抗が不要なため、電源が小型かつ安価にでき、エネルギ
ーロスや発熱のない電源が得られる効果もある。
【００４３】また、本発明によれば、インダクタンスと
コンデンサからなる直列回路を、極間に対して複数並列
に設けるとともに、該複数の直列回路を切り替える切り
替え手段を設け、この切り替え手段により、該複数の直
列回路を切り替えるながら加工を行うことができるよう
にしたため、電極面積・加工条件の変化などに対して最
適な電流波形を発生させつつ加工を行うことができ、電
極消耗が大幅に低減するとともに、加工速度が著しく向
上するなどの効果がある。また、電極表面の消耗による
加工面品質の低下を防止することができるなどの効果が
ある。さらに、特に鏡面加工を行う際において、低ピー
クでパルス幅の短い電流パルスを安定して供給でき、ひ
いては大面積での最良面あらさが著しく向上するなどの
効果がある。
コンデンサからなる直列回路を、極間に対して複数並列
に設けるとともに、該複数の直列回路を切り替える切り
替え手段を設け、この切り替え手段により、該複数の直
列回路を切り替えるながら加工を行うことができるよう
にしたため、電極面積・加工条件の変化などに対して最
適な電流波形を発生させつつ加工を行うことができ、電
極消耗が大幅に低減するとともに、加工速度が著しく向
上するなどの効果がある。また、電極表面の消耗による
加工面品質の低下を防止することができるなどの効果が
ある。さらに、特に鏡面加工を行う際において、低ピー
クでパルス幅の短い電流パルスを安定して供給でき、ひ
いては大面積での最良面あらさが著しく向上するなどの
効果がある。
【図１】本発明の第１の実施例の構成を示す図である。
【図２】本発明の第１の実施例における電流波形を示す
図である。
図である。
【図３】本発明の第１の実施例における加工速度と加工
面積、重量消耗比と加工面積の各関係を示す図である。
面積、重量消耗比と加工面積の各関係を示す図である。
【図４】本発明の第１、第３の実施例におけるインダク
タンス・コンデンサ容量とパルス割れ発生確立の関係を
示す図である。
タンス・コンデンサ容量とパルス割れ発生確立の関係を
示す図である。
【図５】本発明の第２の実施例の構成を示す図である。
【図６】本発明の第２の実施例における電流波形を示す
図である。
図である。
【図７】本発明の第２、第４の実施例におけるインダク
タンス・コンデンサ容量と面あらさの関係を示す図であ
る。
タンス・コンデンサ容量と面あらさの関係を示す図であ
る。
【図８】本発明の第３の実施例の構成を示す図である。
【図９】本発明の第３の実施例における電流波形を示す
図である。
図である。
【図１０】本発明の第４の実施例の構成を示す図であ
る。
る。
【図１１】本発明の第４の実施例における電流波形を示
す図である。
す図である。
【図１２】本発明の第５の実施例の構成を示す図であ
る。
る。
【図１３】従来の放電加工装置の構成を示す図である。
【図１４】従来の放電加工装置における電流波形を示す
図である。
図である。
１ 極間 ２ 直流電源 ３ 電流制限抵抗 ４ スイッチング素子 ５ 駆動回路 ６ 静電容量 ７、７ａ、７ｂ コイル ８、８ａ、８ｂ コンデンサ ９ａ、９ｂ リレー １００ 定電流供給部 １０１ 第１のスイッチング素子 １０２ ダイオード １０３ リアクトル １０４ ダイオード １０５ 電流検出器 １１０ 出力電流断続部 １１１ 第２のスイッチング素子 １１２ ダイオード １１３ 電圧源 １０６ 駆動回路 １１５ 駆動回路
Claims (7)
- 【請求項１】 電極と被加工物間に電圧を印加しつつ加
工を行う放電加工装置において、加工電流を供給する直
流電源と、該直流電源に直列に接続され、加工電流を仕
上げ加工電流に制限する電流制限素子と、該直流電源お
よび電流制限素子に直列に接続されたスイッチング素子
と、加工間隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放電
電流成分に引き続く直流パルス電流成分の中断を抑制す
る、インダクタンスとコンデンサとの直列回路と、を備
えてなる放電加工装置。 - 【請求項２】 電極と被加工物間に電圧を印加しつつ加
工を行う放電加工装置において、加工電流を供給する直
流電源と、該直流電源に直列に接続され、加工電流を鏡
面加工電流に制限する電流制限素子と、該直流電源およ
び電流制限素子に直列に接続されたスイッチング素子
と、加工間隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放電
電流成分に引き続く直流パルス電流成分の継続を抑制す
る、インダクタンスとコンデンサとの直列回路と、を備
えてなる放電加工装置。 - 【請求項３】 電極と被加工物間に電圧を印加しつつ加
工を行う放電加工装置において、直流電源、リアクト
ル、ダイオード、および第１のスイッチング素子を有
し、仕上げ加工電流を供給する定電流供給手段と、第２
のスイッチング素子を有する出力電流断続手段と、加工
間隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放電電流成分
に引き続く直流パルス電流成分の中断を抑制する、イン
ダクタンスとコンデンサとの直列回路と、を備えてなる
放電加工装置。 - 【請求項４】 電極と被加工物間に電圧を印加しつつ加
工を行う放電加工装置において、直流電源、リアクト
ル、ダイオード、および第１のスイッチング素子を有
し、鏡面加工電流を供給する定電流供給手段と、第２の
スイッチング素子を有する出力電流断続手段と、加工間
隙に対して並列に設けられ、コンデンサ放電電流成分に
引き続く直流パルス電流成分の継続を抑制する、インダ
クタンスとコンデンサとの直列回路と、を備えてなる放
電加工装置。 - 【請求項５】 インダクタンスとコンデンサの直列回路
を、極間に対して複数並列接続するとともに、該複数の
直列回路を切り替える切り替え手段を設けたことを特徴
とする請求項１〜請求項４の何れかに記載の放電加工装
置。 - 【請求項６】 仕上げ加工電流値が８Ａ以下であり、且
つ直列回路のインダクタンスの値を、５０〜５００μＨ
とするとともに、直列回路のコンデンサの値を、０．０
２〜２μＦとしたことを特徴とする請求項１、請求項
３、請求項５の何れかに記載の放電加工装置。 - 【請求項７】 鏡面加工電流値が２Ａ以下であり、直列
回路のインダクタンスの値を、２０〜５０μＨとすると
ともに、直列回路のコンデンサの値を、０．００１〜
０．０２μＦとしたことを特徴とする請求項２、請求項
４、請求項５の何れかに記載の放電加工装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5162727A JP2914103B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 放電加工装置 |
| KR94015254A KR0119481B1 (en) | 1993-06-30 | 1994-06-29 | Equipment and method for electric discharge machine |
| CH02070/94A CH688578A5 (de) | 1993-06-30 | 1994-06-29 | Elektroerosions-Maschine. |
| DE4422820A DE4422820C2 (de) | 1993-06-30 | 1994-06-29 | Elektrische Funkenerodiermaschine |
| CN94107707A CN1058435C (zh) | 1993-06-30 | 1994-06-29 | 放电加工装置及采用该装置的放电加工方法 |
| US08/269,350 US5580469A (en) | 1993-06-30 | 1994-06-30 | Electrical discharge machine with prevention of pulse crack phenomenon |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5162727A JP2914103B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 放電加工装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10242679A Division JP2984664B2 (ja) | 1998-08-28 | 1998-08-28 | 放電加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH079255A true JPH079255A (ja) | 1995-01-13 |
| JP2914103B2 JP2914103B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=15760130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5162727A Expired - Fee Related JP2914103B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 放電加工装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5580469A (ja) |
| JP (1) | JP2914103B2 (ja) |
| KR (1) | KR0119481B1 (ja) |
| CN (1) | CN1058435C (ja) |
| CH (1) | CH688578A5 (ja) |
| DE (1) | DE4422820C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020090073A1 (ja) | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 株式会社牧野フライス製作所 | 放電加工機の電源装置 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005246551A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Fanuc Ltd | 放電加工用電源装置 |
| US8735763B2 (en) * | 2008-09-02 | 2014-05-27 | Mitsubishi Electric Corporation | Power supply device for electrical discharge machine |
| US9278399B2 (en) * | 2011-04-12 | 2016-03-08 | Mitsubishi Electric Corporation | Power supply device for electric discharge machining apparatus and electric discharge machining method |
| JP5804056B2 (ja) * | 2011-06-06 | 2015-11-04 | 三菱電機株式会社 | 高周波電源装置 |
| CN104066540B (zh) * | 2012-10-30 | 2016-04-20 | 三菱电机株式会社 | 放电加工装置 |
| CN103433577B (zh) * | 2013-08-12 | 2015-08-12 | 清华大学 | 应用于电火花放电加工的脉冲电源 |
| CN107276405B (zh) * | 2017-05-27 | 2019-06-04 | 南京理工大学 | 微细电火花脉冲电源及基于该电源的分段控制方法 |
| CN107086810A (zh) * | 2017-06-29 | 2017-08-22 | 张玉炜 | 一种高能脉冲电源控制电路 |
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