JPH0785664A - ダイナミック型mosメモリ - Google Patents
ダイナミック型mosメモリInfo
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- JPH0785664A JPH0785664A JP5233885A JP23388593A JPH0785664A JP H0785664 A JPH0785664 A JP H0785664A JP 5233885 A JP5233885 A JP 5233885A JP 23388593 A JP23388593 A JP 23388593A JP H0785664 A JPH0785664 A JP H0785664A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】消費電流を低減する。
【構成】電源配線VIIと電源配線VISSの電位を従
来よりも基板バイアス電圧の絶対値だけ高電位側へシフ
トさせ、電源配線VSSの電位を基板バイアス電位とし
て用い、従来の基板バイアス発生回路の代わりに、交流
動作の必要がない降圧型の電圧変換回路22を備えてい
る。
来よりも基板バイアス電圧の絶対値だけ高電位側へシフ
トさせ、電源配線VSSの電位を基板バイアス電位とし
て用い、従来の基板バイアス発生回路の代わりに、交流
動作の必要がない降圧型の電圧変換回路22を備えてい
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ダイナミック型MOS
メモリに関する。
メモリに関する。
【0002】
【従来の技術】図4は、従来のダイナミック型MOSメ
モリを示す。MOSメモリ回路10は、電源配線VII
と電源配線(グランド線)VSSとの間の電圧により動
作する。回路素子の微細化及び低消費電力化により、そ
の動作電圧が低電圧、例えば3.3Vとなっている。一
方、このダイナミック型MOSメモリを各種情報処理装
置に組み込んだ場合、動作電圧が5Vの他の回路が存在
する。そこで、ダイナミック型MOSメモリに供給する
電源電圧VCCを5Vとし、ダイナミック型MOSメモ
リの内部に電圧変換回路11を設けて、VCC=5Vを
VII=3.3Vに降圧している。
モリを示す。MOSメモリ回路10は、電源配線VII
と電源配線(グランド線)VSSとの間の電圧により動
作する。回路素子の微細化及び低消費電力化により、そ
の動作電圧が低電圧、例えば3.3Vとなっている。一
方、このダイナミック型MOSメモリを各種情報処理装
置に組み込んだ場合、動作電圧が5Vの他の回路が存在
する。そこで、ダイナミック型MOSメモリに供給する
電源電圧VCCを5Vとし、ダイナミック型MOSメモ
リの内部に電圧変換回路11を設けて、VCC=5Vを
VII=3.3Vに降圧している。
【0003】MOSメモリ回路10は、メモリセルアレ
イ、アドレスバッファレジスタ、ロウデコーダ、コラム
デーコダ、センスアンプ、I/Oゲート、データ入出力
バッファレジスタ及び内部クロック生成回路などを備え
ている。メモリセルは、キャパシタ10aとnMOSト
ランジスタ10bとからなり、キャパシタ10aの一端
に電位VII/2が印加され、他端がnMOSトランジ
スタ10bのソースSに接続され、nMOSトランジス
タ10bのドレインD及びゲートがそれぞれビット線B
L及びワード線WLに接続されている。
イ、アドレスバッファレジスタ、ロウデコーダ、コラム
デーコダ、センスアンプ、I/Oゲート、データ入出力
バッファレジスタ及び内部クロック生成回路などを備え
ている。メモリセルは、キャパシタ10aとnMOSト
ランジスタ10bとからなり、キャパシタ10aの一端
に電位VII/2が印加され、他端がnMOSトランジ
スタ10bのソースSに接続され、nMOSトランジス
タ10bのドレインD及びゲートがそれぞれビット線B
L及びワード線WLに接続されている。
【0004】ノイズによりnMOSトランジスタ10b
のソースSと、p型基板又はp型ウエルとのpn接合
に、順方向電流が流れると、キャパシタ10aに保持さ
れた電荷が流出して記憶内容が失われる。そこで、この
pn接合の一方のp型基板又はp型ウエルに負の逆バイ
アス電圧VBB、例えば−1Vを印加することにより、
このようなエラーの発生を防止している。この逆バイア
ス電圧VBBは、電源配線VIIと電源配線VSSとの
間の電圧を用いて、基板バイアス発生回路12により発
生される。
のソースSと、p型基板又はp型ウエルとのpn接合
に、順方向電流が流れると、キャパシタ10aに保持さ
れた電荷が流出して記憶内容が失われる。そこで、この
pn接合の一方のp型基板又はp型ウエルに負の逆バイ
アス電圧VBB、例えば−1Vを印加することにより、
このようなエラーの発生を防止している。この逆バイア
ス電圧VBBは、電源配線VIIと電源配線VSSとの
間の電圧を用いて、基板バイアス発生回路12により発
生される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、基板バイアス
発生回路12は 正電位から負電位を生成しなければな
らず、オシレータの出力を、キャパシタを介しダイオー
ドに供給して負の逆バイアス電圧VBBを発生させてい
る。このため、交流動作による消費電力が比較的大き
い。ダイナミック型MOSメモリがアクセスされない非
活性状態のときには、ダイナミック型MOSメモリ全体
で200μA程度の電流を消費するが、この内、50〜
100μAの電流が基板バイアス発生回路12で消費さ
れる。
発生回路12は 正電位から負電位を生成しなければな
らず、オシレータの出力を、キャパシタを介しダイオー
ドに供給して負の逆バイアス電圧VBBを発生させてい
る。このため、交流動作による消費電力が比較的大き
い。ダイナミック型MOSメモリがアクセスされない非
活性状態のときには、ダイナミック型MOSメモリ全体
で200μA程度の電流を消費するが、この内、50〜
100μAの電流が基板バイアス発生回路12で消費さ
れる。
【0006】本発明の目的は、このような問題点に鑑
み、消費電流を低減できるダイナミック型MOSメモリ
を提供することにある。
み、消費電流を低減できるダイナミック型MOSメモリ
を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段及びその作用】本発明に係
るダイナミック型MOSメモリを、実施例図中の対応す
る構成要素の符号を引用して説明する。このダイナミッ
ク型MOSメモリは、例えば図1に示す如く、外部から
第1電位及び該第1電位より低い第2電位がそれぞれ供
給される1対の第1電源配線VCC及び第2電源配線V
SSと、1対の第3電源配線VII及び第4電源配線V
ISSと、該第1電位を所定値だけ降圧して一定の第3
電位を生成し、これを第3電源配線VIIに供給する第
1電圧変換回路21と、キャパシタ10aとキャパシタ
10aの一端にソースSが接続されたnMOSトランジ
スタ10bとを有するメモリセルを備え、nMOSトラ
ンジスタ10bのソースSとpn接合を形成するp型基
板又はp型ウエルに第2電源配線VSSが接続され、第
3電源配線VIIと第4電源配線VISSとの間の電圧
で動作するMOSメモリ回路10と、第4電源配線VI
SSの第4電位を所定値だけ降圧したものが該第2電位
になるようにして該第4電位を該第3電位よりも低い一
定値に保つ第2電圧変換回路22と、を備えている。
るダイナミック型MOSメモリを、実施例図中の対応す
る構成要素の符号を引用して説明する。このダイナミッ
ク型MOSメモリは、例えば図1に示す如く、外部から
第1電位及び該第1電位より低い第2電位がそれぞれ供
給される1対の第1電源配線VCC及び第2電源配線V
SSと、1対の第3電源配線VII及び第4電源配線V
ISSと、該第1電位を所定値だけ降圧して一定の第3
電位を生成し、これを第3電源配線VIIに供給する第
1電圧変換回路21と、キャパシタ10aとキャパシタ
10aの一端にソースSが接続されたnMOSトランジ
スタ10bとを有するメモリセルを備え、nMOSトラ
ンジスタ10bのソースSとpn接合を形成するp型基
板又はp型ウエルに第2電源配線VSSが接続され、第
3電源配線VIIと第4電源配線VISSとの間の電圧
で動作するMOSメモリ回路10と、第4電源配線VI
SSの第4電位を所定値だけ降圧したものが該第2電位
になるようにして該第4電位を該第3電位よりも低い一
定値に保つ第2電圧変換回路22と、を備えている。
【0008】従来では、基板バイアス発生回路により正
電位から負電位を生成していたので、オシレータの出力
を、キャパシタを介しダイオードに供給しなければなら
ず、交流動作による消費電力が比較的大きいのに対し、
本発明では、例えば図2に示す如く、第3電源配線VI
Iと第4電源配線VISSの電位を従来よりも基板バイ
アス電圧の絶対値だけ高電位側へシフトさせ、第2電源
配線VSSの電位を基板バイアス電位として用いている
ので、従来の基板バイアス発生回路の代わりに、交流動
作の必要がない降圧型の第2電圧変換回路22を備えれ
ばよく、その消費電流を従来の基板バイアス発生回路よ
りも大幅に低減できる。
電位から負電位を生成していたので、オシレータの出力
を、キャパシタを介しダイオードに供給しなければなら
ず、交流動作による消費電力が比較的大きいのに対し、
本発明では、例えば図2に示す如く、第3電源配線VI
Iと第4電源配線VISSの電位を従来よりも基板バイ
アス電圧の絶対値だけ高電位側へシフトさせ、第2電源
配線VSSの電位を基板バイアス電位として用いている
ので、従来の基板バイアス発生回路の代わりに、交流動
作の必要がない降圧型の第2電圧変換回路22を備えれ
ばよく、その消費電流を従来の基板バイアス発生回路よ
りも大幅に低減できる。
【0009】第2電圧変換回路には、以下のような各種
態様のものがある。本発明の第1態様では、例えば図2
(A)に示す如く、第2電圧変換回路は、アノード及び
カソードがそれぞれ第4電源配線VISS及び第2電源
配線VSSに接続されたpn接合ダイオード22Aであ
る。この第1態様は、pn接合ダイオードの順方向電圧
が一定の約0.8Vとなることを利用したものであり、
構成が簡単である。
態様のものがある。本発明の第1態様では、例えば図2
(A)に示す如く、第2電圧変換回路は、アノード及び
カソードがそれぞれ第4電源配線VISS及び第2電源
配線VSSに接続されたpn接合ダイオード22Aであ
る。この第1態様は、pn接合ダイオードの順方向電圧
が一定の約0.8Vとなることを利用したものであり、
構成が簡単である。
【0010】本発明の第2態様では、例えば図2(B)
に示す如く、第2電圧変換回路は、ゲートとドレイン間
が接続され、ソース及びドレインがそれぞれ第2電源配
線VSS及び第4電源配線VISSに接続されたnMO
Sトランジスタ22Bである。この第2態様は、ゲート
とドレイン間が接続されたnMOSトランジスタのしき
い電圧が一定であることを利用したものであり、構成が
簡単である。また、第2態様は、nMOSトランジスタ
のドレイン電圧をゲートにフィードバックした、最も簡
単な電圧検出型である。
に示す如く、第2電圧変換回路は、ゲートとドレイン間
が接続され、ソース及びドレインがそれぞれ第2電源配
線VSS及び第4電源配線VISSに接続されたnMO
Sトランジスタ22Bである。この第2態様は、ゲート
とドレイン間が接続されたnMOSトランジスタのしき
い電圧が一定であることを利用したものであり、構成が
簡単である。また、第2態様は、nMOSトランジスタ
のドレイン電圧をゲートにフィードバックした、最も簡
単な電圧検出型である。
【0011】本発明の第3態様では、例えば図2(C)
に示す如く、第2電圧変換回路は、ソースが第2電源配
線VSSに接続されたnMOSトランジスタ1と、一端
が第4電源配線VISSに接続され、他端がnMOSト
ランジスタ1のドレインに接続された抵抗2と、抵抗2
の端子間電圧に基づいて、上第4電位が一定になるよう
にnMOSトランジスタ1のゲート電位を制御する制御
回路3と、を有する。
に示す如く、第2電圧変換回路は、ソースが第2電源配
線VSSに接続されたnMOSトランジスタ1と、一端
が第4電源配線VISSに接続され、他端がnMOSト
ランジスタ1のドレインに接続された抵抗2と、抵抗2
の端子間電圧に基づいて、上第4電位が一定になるよう
にnMOSトランジスタ1のゲート電位を制御する制御
回路3と、を有する。
【0012】この第3態様は、電圧比較型である。本発
明の第4態様では、例えば図2(D)に示す如く、第2
電圧変換回路は、ソースが第2電源配線VSSに接続さ
れ、ドレインが第4電源配線VISSに接続されたnM
OSトランジスタ1と、基準電位を発生する基準電位発
生回路5と、第4電位と該基準電圧との差を増幅してn
MOSトランジスタ1のゲート電位を制御する差動増幅
回路4と、を有する。
明の第4態様では、例えば図2(D)に示す如く、第2
電圧変換回路は、ソースが第2電源配線VSSに接続さ
れ、ドレインが第4電源配線VISSに接続されたnM
OSトランジスタ1と、基準電位を発生する基準電位発
生回路5と、第4電位と該基準電圧との差を増幅してn
MOSトランジスタ1のゲート電位を制御する差動増幅
回路4と、を有する。
【0013】この第4態様は、電圧比較型である。
【0014】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。図1は、ダイナミック型MOSメモリを示す。こ
のダイナミック型MOSメモリは、見かけ上、電源配線
VCCと電源配線(グランド線)VSSとの間に供給さ
れる5Vにより動作する。一方、MOSメモリ回路10
は、電源配線VIIと電源配線VISSとの間の低電
圧、例えば3.3Vで動作する。電源配線VII及び電
源配線VISSの電位はそれぞれ、例えば4.3V及び
1Vである。
する。図1は、ダイナミック型MOSメモリを示す。こ
のダイナミック型MOSメモリは、見かけ上、電源配線
VCCと電源配線(グランド線)VSSとの間に供給さ
れる5Vにより動作する。一方、MOSメモリ回路10
は、電源配線VIIと電源配線VISSとの間の低電
圧、例えば3.3Vで動作する。電源配線VII及び電
源配線VISSの電位はそれぞれ、例えば4.3V及び
1Vである。
【0015】電圧変換回路21は、5Vを降圧して4.
3Vにし、これを電源配線VIIに供給する。電圧変換
回路21は、図4に示す電圧変換回路11と同様の構成
であり、出力電位が電圧変換回路11よりも1V高い点
が電圧変換回路11と相違している。他方、電圧変換回
路22により電源配線VISSの電位が1Vにされる。
MOSメモリ回路10の各メモリセルはnMOSトラン
ジスタ10bを有し、そのソースSとpn接合を構成す
るp型ウエル又はp型基板には、電源配線VSSが接続
されて、このpn接合に逆バイアス電圧が印加される。
3Vにし、これを電源配線VIIに供給する。電圧変換
回路21は、図4に示す電圧変換回路11と同様の構成
であり、出力電位が電圧変換回路11よりも1V高い点
が電圧変換回路11と相違している。他方、電圧変換回
路22により電源配線VISSの電位が1Vにされる。
MOSメモリ回路10の各メモリセルはnMOSトラン
ジスタ10bを有し、そのソースSとpn接合を構成す
るp型ウエル又はp型基板には、電源配線VSSが接続
されて、このpn接合に逆バイアス電圧が印加される。
【0016】図1の内部電源配線の電位と、図4の内部
電源配線の電位との関係を図2に示す。次に、電圧変換
回路22の構成例22A〜22Dを図3(A)〜(D)
に基づいて説明する。 [構成例1]電圧変換回路22Aは、pn接合ダイオー
ドで構成されており、そのアノード及びカソードがそれ
ぞれ電源配線VISS及び電源配線VSSに接続されて
いる。電圧変換回路22Aは、pn接合ダイオードの順
方向電圧が一定の約0.8Vとなることを利用したもの
である。
電源配線の電位との関係を図2に示す。次に、電圧変換
回路22の構成例22A〜22Dを図3(A)〜(D)
に基づいて説明する。 [構成例1]電圧変換回路22Aは、pn接合ダイオー
ドで構成されており、そのアノード及びカソードがそれ
ぞれ電源配線VISS及び電源配線VSSに接続されて
いる。電圧変換回路22Aは、pn接合ダイオードの順
方向電圧が一定の約0.8Vとなることを利用したもの
である。
【0017】[構成例2]電圧変換回路22Bは、nM
OSトランジスタのゲートとドレイン間を接続し、ソー
ス及びドレインをそれぞれ電源配線VSS及び電源配線
VISSに接続している。電圧変換回路22Bは、その
しきい電圧が一定であることを利用したものである。電
圧変換回路22Bは、nMOSトランジスタのドレイン
電圧をゲートにフィードバックした、最も簡単な電圧検
出型である。
OSトランジスタのゲートとドレイン間を接続し、ソー
ス及びドレインをそれぞれ電源配線VSS及び電源配線
VISSに接続している。電圧変換回路22Bは、その
しきい電圧が一定であることを利用したものである。電
圧変換回路22Bは、nMOSトランジスタのドレイン
電圧をゲートにフィードバックした、最も簡単な電圧検
出型である。
【0018】[構成例3]電圧変換回路22Cは、電流
検出型であり、nMOSトランジスタ1のソース及びド
レインがそれぞれ電源配線VSS及び電流/電圧変換用
抵抗2の一端に接続され、抵抗2の他端が電源配線VI
SSに接続され、抵抗2の両端の検出電圧が制御回路3
のフィードバック入力端に接続され、制御回路3の出力
端がnMOSトランジスタ1のゲートに接続されてい
る。制御回路3は、検出電圧とnMOSトランジスタ1
のドレイン・ソース間の電圧との和が一定値になるよう
に、nMOSトランジスタ1のゲート電位を制御する。
検出型であり、nMOSトランジスタ1のソース及びド
レインがそれぞれ電源配線VSS及び電流/電圧変換用
抵抗2の一端に接続され、抵抗2の他端が電源配線VI
SSに接続され、抵抗2の両端の検出電圧が制御回路3
のフィードバック入力端に接続され、制御回路3の出力
端がnMOSトランジスタ1のゲートに接続されてい
る。制御回路3は、検出電圧とnMOSトランジスタ1
のドレイン・ソース間の電圧との和が一定値になるよう
に、nMOSトランジスタ1のゲート電位を制御する。
【0019】[構成例4]電圧変換回路22Dは、電圧
比較型であり、nMOSトランジスタ1のソース、ドレ
イン及びゲートがそれぞれ電源配線VSS、電源配線V
ISS及び差動増幅回路4の出力端に接続されている。
差動増幅回路4の非反転入力端及び反転入力端にはそれ
ぞれ、電源配線VISS及び分圧回路5の出力端が接続
されている。分圧回路5は、電源配線VIIと電源配線
VSSとの間の電圧を分圧して、フィードバック電圧V
ISSを1Vに制御するための基準電圧を出力する。
比較型であり、nMOSトランジスタ1のソース、ドレ
イン及びゲートがそれぞれ電源配線VSS、電源配線V
ISS及び差動増幅回路4の出力端に接続されている。
差動増幅回路4の非反転入力端及び反転入力端にはそれ
ぞれ、電源配線VISS及び分圧回路5の出力端が接続
されている。分圧回路5は、電源配線VIIと電源配線
VSSとの間の電圧を分圧して、フィードバック電圧V
ISSを1Vに制御するための基準電圧を出力する。
【0020】上記電圧変換回路22A〜22Dはいずれ
も、交流動作の必要がない簡単な降圧型の構成であり、
その消費電力を従来よりも大幅に低減することができ
る。<<ノイズ低減の効果については、記載しておりま
せん。MOSメモリ回路10は電源配線VSSでなく電
源配線VISSを用いているものの、従来、基板バイア
ス発生回路で逆バイアス電圧を生成しているのに対し、
本案では電源配線VSSを直接逆バイアス電圧として用
いているからです。>>
も、交流動作の必要がない簡単な降圧型の構成であり、
その消費電力を従来よりも大幅に低減することができ
る。<<ノイズ低減の効果については、記載しておりま
せん。MOSメモリ回路10は電源配線VSSでなく電
源配線VISSを用いているものの、従来、基板バイア
ス発生回路で逆バイアス電圧を生成しているのに対し、
本案では電源配線VSSを直接逆バイアス電圧として用
いているからです。>>
【0021】
【発明の効果】本発明に係るダイナミック型MOSメモ
リでは、第3電源配線と第4電源配線の電位を従来より
も基板バイアス電圧の絶対値だけ高電位側へシフトさ
せ、第2電源配線の電位を基板バイアス電位として用い
ているので、従来の基板バイアス発生回路の代わりに、
交流動作の必要がない降圧型の第2電圧変換回路を備え
ればよく、その消費電流を従来の基板バイアス発生回路
よりも大幅に低減できるという効果を奏し、特に携帯型
情報機器の低消費電力化に寄与するところが大きい。
リでは、第3電源配線と第4電源配線の電位を従来より
も基板バイアス電圧の絶対値だけ高電位側へシフトさ
せ、第2電源配線の電位を基板バイアス電位として用い
ているので、従来の基板バイアス発生回路の代わりに、
交流動作の必要がない降圧型の第2電圧変換回路を備え
ればよく、その消費電流を従来の基板バイアス発生回路
よりも大幅に低減できるという効果を奏し、特に携帯型
情報機器の低消費電力化に寄与するところが大きい。
【図1】本発明の原理構成を示すブロック図である。
【図2】図1のダイナミック型MOSメモリの内部電源
配線の電位と、図4のダイナミック型MOSメモリの内
部電源配線の電位との関係を示す線図である。
配線の電位と、図4のダイナミック型MOSメモリの内
部電源配線の電位との関係を示す線図である。
【図3】図1中の電圧変換回路22の構成例を示す図で
ある。
ある。
【図4】従来のダイナミック型MOSメモリを示すブロ
ック図である。
ック図である。
1、10b nMOSトランジスタ 2 抵抗 3 制御回路 4 差動増幅回路 5 分圧回路 10 MOSメモリ回路 10a キャパシタ 11、21、22、22A〜22D 電圧変換回路
Claims (5)
- 【請求項1】 外部から第1電位及び該第1電位より低
い第2電位がそれぞれ供給される1対の第1電源配線
(VCC)及び第2電源配線(VSS)と、 1対の第3電源配線(VII)及び第4電源配線(VI
SS)と、 該第1電位を所定値だけ降圧して一定の第3電位を生成
し、これを該第3電源配線に供給する第1電圧変換回路
(21)と、 キャパシタ(10a)と該キャパシタの一端にソース
(S)が接続されたnMOSトランジスタ(10b)と
を有するメモリセルを備え、該nMOSトランジスタの
ソースとpn接合を形成するp型基板又はp型ウエルに
該第2電源配線が接続され、該第3電源配線と該第4電
源配線との間の電圧で動作するMOSメモリ回路(1
0)と、 該第4電源配線の第4電位を所定値だけ降圧したものが
該第2電位になるようにして該第4電位を該第3電位よ
りも低い一定値に保つ第2電圧変換回路(22)と、 を有することを特徴とするダイナミック型MOSメモ
リ。 - 【請求項2】 前記第2電圧変換回路は、アノード及び
カソードがそれぞれ前記第4電源配線(VISS)及び
前記第2電源配線(VSS)に接続されたpn接合ダイ
オード(22A)であることを特徴とする請求項1記載
のダイナミック型MOSメモリ。 - 【請求項3】 前記第2電圧変換回路は、ゲートとドレ
イン間が接続され、ソース及びドレインがそれぞれ前記
第2電源配線(VSS)及び前記第4電源配線(VIS
S)に接続されたnMOSトランジスタ(22B)であ
ることを特徴とする請求項1記載のダイナミック型MO
Sメモリ。 - 【請求項4】 前記第2電圧変換回路は、 ソースが前記第2電源配線(VSS)に接続されたnM
OSトランジスタ(1)と、 一端が前記第4電源配線(VISS)に接続され、他端
が該nMOSトランジスタのドレインに接続された抵抗
(2)と、 該抵抗の端子間電圧に基づいて、前記第4電位が一定に
なるように該nMOSトランジスタのゲート電位を制御
する制御回路(3)と、 を有することを特徴とする請求項1記載のダイナミック
型MOSメモリ。 - 【請求項5】 前記第2電圧変換回路は、 ソースが前記第2電源配線(VSS)に接続され、ドレ
インが前記第4電源配線(VISS)に接続されたnM
OSトランジスタ(1)と、 基準電位を発生する基準電位発生回路(5)と、 前記第4電位と該基準電圧との差を増幅して該nMOS
トランジスタのゲート電位を制御する差動増幅回路
(4)と、 を有することを特徴とする請求項1記載のダイナミック
型MOSメモリ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5233885A JPH0785664A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | ダイナミック型mosメモリ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5233885A JPH0785664A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | ダイナミック型mosメモリ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0785664A true JPH0785664A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=16962089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5233885A Withdrawn JPH0785664A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | ダイナミック型mosメモリ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0785664A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09106676A (ja) * | 1995-08-18 | 1997-04-22 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | 複数の内部電源電圧を用いる半導体メモリ装置 |
KR100612944B1 (ko) * | 2005-04-29 | 2006-08-14 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자 |
WO2015079931A1 (ja) | 2013-11-26 | 2015-06-04 | 株式会社庄内クリエート工業 | 高周波がん温熱治療装置 |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP5233885A patent/JPH0785664A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09106676A (ja) * | 1995-08-18 | 1997-04-22 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | 複数の内部電源電圧を用いる半導体メモリ装置 |
KR100612944B1 (ko) * | 2005-04-29 | 2006-08-14 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자 |
US7358797B2 (en) | 2005-04-29 | 2008-04-15 | Hynix Semiconductor Inc. | Semiconductor device having secure operating characteristic under low power environment |
WO2015079931A1 (ja) | 2013-11-26 | 2015-06-04 | 株式会社庄内クリエート工業 | 高周波がん温熱治療装置 |
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