JPH0785499A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JPH0785499A
JPH0785499A JP5181909A JP18190993A JPH0785499A JP H0785499 A JPH0785499 A JP H0785499A JP 5181909 A JP5181909 A JP 5181909A JP 18190993 A JP18190993 A JP 18190993A JP H0785499 A JPH0785499 A JP H0785499A
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indolizine
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貴彦 鈴木
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 アゾメチン基およびメチン基のうちの少なく
とも一方あるいは両方の基で構成されるCおよび/また
はNの個数の総計が奇数個の連結基によりインドリジン
環の1位あるいは3位で連結した2個のインドリジン環
を有し、2個のインドリジン環の3位または1位にそれ
ぞれフェニル基を導入し、少なくとも一方のフェニル基
の2位および6位のうちの一方、あるいは両方にメチル
基、メトキシ基等の置換基を導入したインドリジン系色
素を記録層に含有させた光記録媒体とする。 【効果】 耐光性に優れる。しかも、色素の溶解性が良
好であるため均一で十分な膜厚の色素膜を形成すること
ができ、CD規格に十分に対応したものとなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、色素を主成分とする色
素膜からなる記録層を有する光記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、大容量情報担持媒体として、追記
型や書き換え可能型などの各種光記録ディスクが注目さ
れている。このような光記録ディスクのなかに、色素を
主成分とする色素膜を記録層として用いるものがある。
また、構造的には従来、汎用されている色素膜からなる
記録層上に空気層を設けたいわゆるエアーサンドイッチ
構造のものや、コンパクトディスク(CD)規格に対応
した再生が可能なものとして色素膜からなる記録層に反
射層を密着して設けた構造のものが提案されている(日
経エレクトロニクス1989年1月23日号,No.4
65,P107、社団法人近畿化学協会機能性色素部
会,1989年3月3日,大阪科学技術センター、PROC
EEDINGS SPIE-THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL
ENGINEERINGVOL.1078 PP80-87,"OPTICAL DATA STORAGE
TOPICAL MEETING"17-19,JANUARY 1989 LOS ANGELES
等)。
【0003】このような記録層に用いる色素としては、
耐熱性、耐水性等の点から、インドレニン系シアニン色
素が好ましく用いられている(特開昭59−24692
号等)。
【0004】しかし、このようなインドレニン系シアニ
ン色素は、例えば溶解性の良好な過塩素酸塩では、再生
光の繰り返し照射による再生劣化や明室保存下での光劣
化が生じやすい欠点を有する。この光劣化は、色素が吸
収した光エネルギーを酸素分子に渡すことによって生成
する一重項酸素に起因して生じると考えられている。そ
こで、一重項酸素クエンチャーとして金属錯体クエンチ
ャーを用いて光劣化を防止することが提案されており、
実際、色素と金属錯体クエンチャーを混合して用いるこ
とが実用化されている(特開昭59−59795号
等)。このような金属錯体のうち、特にビス(フェニレ
ンジチオール)系のNi錯体等は、シアニン色素の再生
劣化や光劣化防止の点できわめて優れた効果を発揮す
る。
【0005】しかし、溶解性の点で不十分であり、メタ
ノール等のアルコール系には1%以下の溶解度しかな
く、これらの溶媒を用いて記録層を塗設することができ
ない。また、吸収波長が700〜1000nmであり、色
素の吸収に影響を与え、結果として反射率が低下し、再
生出力が低い。
【0006】従って、それ自体で耐光性に優れ、かつ塗
布溶媒に対する溶解性が良好な色素の適用が望まれてい
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色素
塗膜形成の際の塗布溶媒に対する溶解度が高い色素を用
いて均一で十分な膜厚の色素膜を形成することができ、
再生劣化や光劣化がなく耐光性に優れ、CD規格への対
応が可能な光記録媒体を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(5)の本発明により達成される。 (1)基板上に、色素を含有する記録層を有する光記録
媒体において、前記色素が下記化4で示されるインドリ
ジン系色素である光記録媒体。
【0009】
【化4】
【0010】[化4において、AおよびA′はそれぞれ
炭素原子(C)および窒素原子(N)とともに化5で示
されるインドリジン環を完成するのに必要な原子群を表
わす。
【0011】
【化5】
【0012】フェニル基の結合位置はインドリジン環の
3位または1位であり、R1 、R1 ′、R5 およびR
5 ′はそれぞれ水素原子またはアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、ヒ
ドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アシル基、アシロキ
シ基、アルキルチオ基およびアリールチオ基から選ばれ
る置換基を表わし、R1 、R1 ′、R5 およびR5 ′の
うち少なくとも一つは前記置換基である。R2 、R
2 ′、R3 、R3 ′、R4 およびR4 ′はそれぞれ水素
原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒド
ロキシ基またはニトロ基を表わし、R2 とR3 、R2
とR3 ′、R3 とR4 およびR3 ′とR4 ′は、それぞ
れ互いに結合して環を形成してもよい。Lはアゾメチン
基およびメチン基のうちの少なくとも一方あるいは両方
の基で構成されるCおよび/またはNの個数の総計が奇
数個の連結基であり、インドリジン環の1位または3位
で連結する。Xは陰イオンを表わし、mは電荷の均衡を
保つための数である。] (2)前記インドリジン系色素が下記化6で示される上
記(1)の光記録媒体。
【0013】
【化6】
【0014】[化6において、R1 、R1 ′、R5 およ
びR5 ′はそれぞれ水素原子またはアルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、
ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アシル基、アシロ
キシ基、アルキルチオ基およびアリールチオ基から選ば
れる置換基を表わし、R1 、R1 ′、R5 およびR5
のうち少なくとも一つは前記置換基である。R2 、R
2 ′、R3 、R3 ′、R4およびR4 ′はそれぞれ水素
原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒド
ロキシ基またはニトロ基を表わし、R2 とR3 、R2
とR3 ′、R3 とR 4 およびR3 ′とR4 ′は、それぞ
れ互いに結合して環を形成してもよい。R6、R6 ′、
7 、R7 ′、R8 およびR8 ′は、それぞれ水素原
子、アルキル基またはハロゲン原子を表わし、R6 とR
7 、R6 ′とR7 ′、R7 とR8 およびR7 ′とR8
は、互いに結合して環を形成してもよい。Xは陰イオン
を表わし、mは電荷の均衡を保つための数である。] (3)前記色素の吸収極大が600〜900nmである上
記(1)または(2)の光記録媒体。 (4)前記基板はグルーブを有し、前記色素膜からなる
記録層上に密着して反射層を積層して構成され、記録光
を前記グルーブ部の前記記録層に照射して記録部を形成
し、再生光により再生を行う上記(1)ないし(3)の
いずれかの光記録媒体。 (5)前記記録光および再生光はレーザー光である上記
(4)の光記録媒体。
【0015】なお、特開昭62−227693号公報等
にはインドリジン系ペンタメチン色素が、特開平3−7
5190号公報等にはインドリジン系トリメチン色素が
開示されている。そして、上記公報にはインドリジン環
の3位にフェニル基を有する本発明と類似の構造の色素
が例示されている。
【0016】しかし、このようなフェニル基において本
発明のR1 ないしR1 ′、R5 ないしR5 ′に相当する
ものは、いずれも水素原子であり、本発明と異なり、メ
チル基、メトキシ基等で置換されているものは示されて
いない。
【0017】従って、本発明の色素のような溶解性向上
効果は得られず、上記公報の色素では、例えばフッ素化
アルコール等の特殊な比較的高価な溶媒を用いなければ
十分な溶解性は確保できず、このような溶媒を用いても
一定以上の膜厚の色素膜を形成することは困難であり、
さらには安価な、例えば脂肪族アルコールのような溶媒
にはほとんど溶解しない欠点を有している。
【0018】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
【0019】本発明の光記録媒体は、基板上に色素を含
有する記録層を有する。このときの色素は、化4で示さ
れるインドリジン系色素である。
【0020】化4で示されるインドリジン系色素は、耐
光性に優れるため、媒体の再生光による劣化や明室保存
による光劣化を防止することができる。しかも、媒体の
記録層設層用の色素含有塗布液を調製する際の塗布溶媒
に対する溶解性が良好であることから、均一で十分な膜
厚の色素塗膜を形成することができる。このように溶解
性が向上するのは、化4において2個のインドリジン環
のそれぞれの3位または1位に結合するそれぞれのフェ
ニル基の2位および6位のうち少なくとも一方に置換基
が導入されているため、すなわち、R1 、R1 ′、R5
およびR5 ′のうち少なくとも一つを置換基としている
ため、このような置換基がインドリジン環とアゾメチン
基を含む色素骨格平面に対して立体障害となり、その結
果このような置換基を有する少なくとも一方のフェニル
基が分子全体の平面性を崩す形で色素平面と交差する構
造となるためと考えられる。高い平面性を有する構造を
とるとき会合体を形成しやすく難溶性になりやすいが、
化4の構造ではR1 、R1′、R5 およびR5 ′のうち
の少なくとも一つが平面性を崩すため溶解性が著しく向
上すると考えられる。
【0021】従って、化4で示されるインドリジン系色
素は、耐光性、溶解性がともに優れるため、CD規格に
対応した光記録媒体の記録層用の色素とするのに適す
る。
【0022】化4について説明すると、AおよびA′
は、それぞれ炭素原子(C)および窒素原子(N)とと
もに、化5で示されるインドリジン環を完成するのに必
要な原子群を表わし、フェニル基の結合位置はインドリ
ジン環の3位または1位である。インドリジン環はハロ
ゲン原子、アルキル基等の置換基を有するものであって
よい。
【0023】化4において、R1 、R1 ′、R5 および
5 ′はそれぞれ水素原子またはアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、ヒ
ドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アシル基、アシロキ
シ基、アルキルチオ基およびアリールチオ基から選ばれ
る置換基を表わし、R1 、R1 ′、R5 およびR5 ′の
うち少なくとも一つは前記置換基である。
【0024】R1 、R1 ′、R5 、R5 ′で表わされる
アルキル基としては炭素数1〜7のものが好ましく、直
鎖でも分枝を有するものであってもよい。また、置換基
を有するものであってもよく、この場合の置換基として
はハロゲン原子等が特に好ましい。特に好ましいのは炭
素数1〜4の無置換のアルキル基、ハロゲン化アルキル
基等であり、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル
基、クロロプロピル基、ブチル基、クロロブチル基等が
ある。
【0025】R1 、R1 ′、R5 、R5 ′で表わされる
アリール基は無置換のものであっても置換基を有するも
のであってもよく、特にフェニル基等が好ましい。
【0026】R1 、R1 ′、R5 、R5 ′で表わされる
アルコキシ基は無置換のものであっても置換基を有する
ものであってもよく、炭素数1〜7、特に1〜4のもの
が好ましい。また置換基を有する場合の置換基としては
ハロゲン原子等が好ましい。アルコキシ基の具体例とし
ては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、3−ク
ロロプロポキシ基、4−クロロブトキシ基等が好ましい
ものとして挙げられる。
【0027】R1 、R1 ′、R5 、R5 ′で表わされる
アリーロキシ基は無置換のものであっても置換基を有す
るものであってもよく、特にフェノキシ基等が好まし
い。
【0028】R1 、R1 ′、R5 、R5 ′で表わされる
ハロゲン原子としては、具体的にフルオロ、クロロ、ブ
ロモ、ヨード等が挙げられ、フルオロ、クロロ等である
ことが好ましい。
【0029】R1 、R1 ′、R5 、R5 ′で表わされる
アシル基としては、炭素数1〜10、特に2〜7のもの
が好ましく、具体的にはアセチル基、プロピオニル基、
ベンゾイル基等が挙げられる。
【0030】R1 、R1 ′、R5 、R5 ′で表わされる
アシロキシ基としては、炭素数2〜10、特に2〜7の
ものが好ましく、具体的にはアセトキシ基、ベンゾイル
オキシ基等が挙げられる。
【0031】R1 、R1 ′、R5 、R5 ′で表わされる
アルキルチオ基としては、炭素数1〜5、特に1〜3の
ものが好ましく、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ
基、プロピルチオ基等が挙げられる。
【0032】R1 、R1 ′、R5 、R5 ′で表わされる
アリールチオ基としては、フェニルチオ基等が好ましい
ものとして挙げられる。
【0033】R2 、R2 ′、R3 、R3 ′、R4 および
4 ′はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基またはニトロ基を表わ
す。
【0034】R2 、R2 ′、R3 、R3 ′、R4 、R
4 ′で表わされるアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
原子はR1 、R1 ′、R5 、R5 ′のところと同様のも
のを挙げることができる。また、R2 とR3 、R2 ′と
3 ′、R3 とR4 、R3 ′とR4 ′は、それぞれ、互
いに結合して環を形成してもよく、このような環として
は特に炭素環が好ましく、ベンゼン環等が好ましい。
【0035】化4において、Lは、アゾメチン基(=N
−)およびメチン基(=CY1 −:Y1 は水素原子、ア
ルキル基、フェニル基等を表わす。)のうちの少なくと
も一方あるいは両方の基で構成されるCおよび/または
Nの個数の総計が奇数個の連結基であり、インドリジン
環の1位または3位で連結する連結基である。
【0036】Lの具体例としては、 =N−(CY1 =CY1p − (pは0または1以上
の整数である。) =CY1 −(N=N)q − (qは0または1以上
の整数である。) =CH−(CY1 =CY1r −(rは1以上の整数で
ある。) =N−(N=N)s − (sは1以上の整数で
ある。) などが挙げられる。
【0037】上記において、pおよびqはそれぞれ0、
1または2が好ましく、rおよびsはそれぞれ1または
2が好ましい。また上記L中のY1 がアルキル基等の置
換基であるとき、Y1 同志が結合して環を形成してもよ
い。このような環としては、例えばベンゼン環のような
芳香族の5もしくは6員環、シクロヘキセン環のような
脂環式の5もしくは6員環が挙げられ、これらの環は縮
合環を有するものであってもよい。またY1 によって形
成される環がインドリジン環に縮合してもよい。
【0038】Xは陰イオンを表わし、具体的にはハロゲ
ン化物イオン(Cl- 、Br- 、I- 等)、ClO4 -
BF4 -、PF6 -、VO3 -、VO4 3- 、WO4 2- 、CH3
SO3 -、CF3 COO- 、CH3 COO- 、HSO4 -
CF3 SO3 -、PO4 ・12WO3 3- 、パラトルエンス
ルホン酸イオン(PTS- )、p−三フッ化メチルフェ
ニルスルホン酸イオン(PFS- )等が挙げられる。
【0039】mは電荷の均衡を保つための数である。
【0040】化4で示されるインドリジン系色素のなか
でも、化7、化8で示されるインドリジン系色素が好ま
しい。
【0041】
【化7】
【0042】
【化8】
【0043】化7、化8において、R1 〜R5 、R1
〜R5 ′、L、Xおよびmは、それぞれ化4におけるも
のと同義である。R6 、R6 ′、R7 、R7 ′、R8
よびR8 ′は、それぞれ水素原子、アルキル基またはハ
ロゲン原子を表わす。
【0044】化7、化8において、R6 、R6 ′、R
7 、R7 ′、R8 、R8 ′で表わされるアルキル基、ハ
ロゲン原子は化4のR1 、R1 ′、R5 、R5 ′のとこ
ろと同様のものを挙げることができる。また、R6 とR
7 、R6 ′とR7 ′、R7 とR 8 、R7 ′とR8 ′は、
それぞれ、互いに結合して環を形成してもよく、このよ
うな環としては特に炭素環が好ましく、ベンゼン環、ナ
フタレン環等が好ましい。
【0045】本発明では、化4で示されるインドリジン
系色素のなかでも、特に、化7においてLがアゾメチン
基(=N−)の化6のインドリジン系アゾメチン色素が
好ましい。
【0046】化6において、R1 〜R5 、R1 ′〜R
5 ′、Xおよびmは、それぞれ化4におけるものと同義
であり、R6 〜R8 およびR6 ′〜R8 ′は化7におけ
るものと同義である。
【0047】なお、化4、化6、化7、化8においてR
1 とR1 ′、R2 とR2 ′、R3 とR3 ′、R4 とR
4 ′、R5 とR5 ′、さらに、化6、化7、化8におい
て、R6 とR6 ′、R7 とR7 ′、R8 とR8 ′は、各
々合成上、通常同一(対称形)であることが好ましい
が、異なるもの(非対称形)であってもよい。
【0048】化4で示されるインドリジン系色素の具体
例を表1〜表4に示す。表1、表2には化6で示される
インドリジン系アゾメチン色素の具体例を、表3には化
7で示されるインドリジン系色素の具体例を、表4には
化8で示されるインドリジン系色素の具体例を、R1
8 、R1 ′〜R8 ′、Xおよびmの組み合わせでそれ
ぞれ示している。
【0049】
【表1】
【0050】
【表2】
【0051】
【表3】
【0052】
【表4】
【0053】表1〜表4では対称形のみを例示している
が、非対称形のものとしては、表1、2では、D1およ
びD2において各々R1 ′=Hとしたものや、D6にお
いてR5 ′=Hとしたものなどが挙げられる。また、表
3では、DL1、DL2およびDL3のそれぞれにおい
てR1 ′=Hとしたものや、R5 ′=Hとしたものな
ど、表4では、DLI1、DLI2およびDLI3のそ
れぞれにおいて、R1 ′=Hとしたものや、R5 ′=H
としたものなどが挙げられる。
【0054】また、上記においては、2個のインドリジ
ン環の1位同志あるいは3位同志が連結基を介して連結
したもののみを例示しているが、場合によっては連結基
を介してインドリジン環の1位と3位とが連結したもの
であってもよい。
【0055】本発明において好ましく用いられる化6で
示されるインドリジン系アゾメチン色素は、ベンズアル
デヒド化合物およびアセチルピリジン化合物を出発原料
として、アルカリ性の条件下でいわゆるアルドール縮合
によりシンナモイルピリジン中間体を合成し、このシン
ナモイルピリジン中間体を酢酸アンモニウムなどを用い
て反応させることによって得られる。シンナモイルピリ
ジン中間体の合成については、Indian Journal of Chem
istry, 1, 484-486(1963); The Journal of Organic Ch
emistry, 20, 1785-1792(1955)等の記載を参照すること
ができる。また、シンナモイルピリジン中間体から化6
で示されるインドリジン系アゾメチン色素を合成する方
法については、Friedrich Wilhelm Krock und Fritz Kr
ohnke, Chemische Berichte 104, 1645-1654(1971); Ei
ne neue Indolizin-Synthese mit2-Acyl-pyridinen, II
Blaue Azacyanine [Krock, Friedrich W.; Kroehnke,
Fritz Chem. Ber., 104 (5), 1645-1654(1971); Novel
cyanines. 9. New indolizine synthesis with 2-acylp
yridines. II. Blue azacyanines]等の記載を参照する
ことができる。
【0056】このようにして得られる化6で示されるイ
ンドリジン系アゾメチン色素は、元素分析、二次イオン
質量分析計(SIMS)等による質量分析、赤外吸収ス
ペクトル(IR)、可視紫外吸収スペクトル(UV)等
によって同定することができる。SIMS測定において
はインドリジン骨格に対応する親ピーク(M+ のピー
ク)と場合によってはM+1ピークが観測され、IRに
おいてはインドリジン環骨格に基づく吸収が1000〜
1110cm-1に観測される。UVスペクトルにおいては
640nm付近に吸収極大(λmax )を有し、モル吸光係
数(ε)は105程度である。また、場合によっては薄
層クロマトグラム(TCG)を用いて化合物の確認を行
うことができる。
【0057】化7で示されるインドリジン系色素は、化
6で示されるインドリジン系アゾメチン色素の合成に準
じた方法、あるいは特開昭62−227693号公報、
特開平3−75190号公報等の記載あるいはLiebigs
Annalen der Chemie, 752, 182-195(1971)等の記載を参
照して合成することができる。
【0058】また、化8で示されるインドリジン系色素
は、Liebigs Annalen der Chemie,752, 182-195(1971)
等の記載を参照して合成することができる。
【0059】以下に、合成例を示す。なお、併せて元素
分析、SIMSによる質量分析の結果を示す。
【0060】合成例11−[3−(2,4,6−トリメチルフェニル)インド
リジニル−(1)−イミノ]−3−(2,4,6−トリ
メチルフェニル)−1H−インドリジニウムパークロレ
ート(例示化合物D1)の合成 2−(2,4,6−トリメチルシンナモイル)ピリジン
の合成 22mlの10wt% NaOH水とメタノール20mlの混合
物を9℃に冷却し、2,4,6−トリメチルベンズアル
デヒド(東京化成)5.93g (40mmol)を加えた。
攪拌しながら2−アセチルピリジン4.90g (40mm
ol)を徐々に1時間かけて滴下した。その後14時間反
応させた。反応液を静置すると下層に暗褐色の生成物が
分離したので上層の水を捨て、少量のジクロロメタンを
加えた後、分液ロートで3回水洗した。有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥させて、ロータリーエバポレーターに
てジクロロメタンを留去した。7.84g (78%)の
油状の粗生成物が得られた。
【0061】目的物の合成 2−(2,4,6−トリメチルシンナモイル)ピリジン
7.84g (31mmol)を、酢酸アンモニウム7.25
g (94mmol)と過塩素酸アンモニウム2.32g (2
0mmol)とともに、氷酢酸中(20ml)で、110℃、
1時間加熱攪拌した。3分程で緑色に呈色し、10分後
には濃い青色に変色した。反応液に水を注いで生成物を
沈殿させ、再びメタノールに溶解した後に水に投入して
粉体として取り出した。不純物をトルエンとエーテルの
混合溶媒で洗い流し吸引ろ過により集め、真空乾燥し
た。収量0.7g (8%)、薄層クロマトグラム上、単
一スポットを示した( Merck Kieselgel, アセトン:ヘ
キサン=2:1、Rf=0.2)。
【0062】元素分析:(理論値%)C:66.08;
H:5.22;N:6.80 :(実測値%)C:65.89;H:5.30;N:
7.03 SIMS:483(M+
【0063】合成例21−[3−(2,4,6−トリメトキシフェニル)イン
ドリジニル−(1)−イミノ]−3−(2,4,6−ト
リメトキシフェニル)−1H−インドリジニウムパーク
ロレート(例示化合物D8)の合成 2−(2,4,6−トリメトキシシンナモイル)ピリジ
ンの合成 2−アセチルピリジン(和光純薬1級)4.85g (4
0mmol)および2,4,6−メトキシベンズアルデヒド
(アルドリッチ社)7.85g (40mmol)をメタノー
ル20mlに溶かし、攪拌しながら15wt% の水酸化ナト
リウム水溶液を5ml加えた。数時間後に析出してきた固
体を水に投入し生成物を沈殿させた。結晶を吸引ろ過に
より集め、水で数回洗浄してアルカリを除き、エタノー
ルから再結晶させ精製した。収量10.41g (87
%)。
【0064】目的物の合成 2−(2,4,6−トリメトキシシンナモイル)ピリジ
ン8.98g (30mmol)を、酢酸アンモニウム7.1
6g (93mmol)と過塩素酸アンモニウム4.93g
(42mmol)とともに、氷酢酸中(20ml)で、110
℃、2時間加熱攪拌した。10分程で緑色に呈色し、2
5分後には濃い青色に変化した。反応液に水を注いで生
成物を沈殿させ、一度、アセトンに溶解した後に水に投
入して粉体として取り出した。トルエンおよびヘキサン
の混合溶媒から再結晶させて精製した。収量4.78g
(47%)。
【0065】元素分析:(理論値%)C:60.22;
H:4.76;N:6.20 :(実測値%)C:59.99;H:4.56;N:
6.41 SIMS:579(M+
【0066】合成例31−[3−(2,4−ジクロロフェニル)インドリジニ
ル−(1)−イミノ]−3−(2,4−ジクロロフェニ
ル)−1H−インドリジニウムパークロレート(例示化
合物D17)の合成 2−(2,4−ジクロロシンナモイル)ピリジンの合成 2−アセチルピリジン(和光純薬1級)4.85g (4
0mmol)および2,4−ジクロロベンズアルデヒド(東
京化成95%)7.00g (40mmol)をメタノール2
0mlに溶かし、攪拌しながら10wt% の水酸化ナトリウ
ム水溶液を3ml加えた。速やかに結晶が析出した。吸引
ろ過により集め、5%酢酸水溶液中に分散させて攪拌し
ながら中和させ、再び吸引ろ過して結晶を水洗した。6
0℃で16時間、熱真空乾燥させて9.35g (84
%)の中間体目的物を得た。融点122〜124℃。
【0067】目的物の合成 2−(2,4−ジクロロシンナモイル)ピリジン9.4
6g (34mmol)を、酢酸アンモニウム9.09g (1
18mmol)と過塩素酸アンモニウム2.82g(24mmo
l)とともに、氷酢酸中(20ml)で、110℃、1時
間加熱攪拌した。3分程で緑色に呈色し、10分後には
濃い青色に変化した。反応液に水を注いで生成物を沈殿
させ、一度、アセトンに溶解した後に水に投入して粉体
として取り出した。トルエンおよびヘキサンの混合溶媒
から再結晶させて精製した。収量4.76g (44
%)。
【0068】元素分析:(理論値%)C:52.90;
H:2.54;N:6.61 :(実測値%)C:53.11;H:2.43;N:
6.62 SIMS:536(M+
【0069】合成例41−[((3−(2,4,6−トリメチルフェニル)−
1−インドリジニル)アゾ)メチレン]−3−(2,
4,6−トリメチルフェニル)−1H−インドリジニウ
ムパークロレート(例示化合物DL3)の合成 3−(2,4,6−トリメチルフェニル)インドリジニ
ウム過塩素酸塩6.72g (20mmol)をクロロホルム
40mlに溶解させ、20mlのクロロホルムに溶かしたビ
ス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン(12mmol)お
よびトリエチルアミン1.99g (20mmol)を加えて
1時間室温で攪拌した。反応液は速やかに緑色に呈色し
た。ロータリーエバポレータで溶媒をできる限り溜去
し、ヘキサンを加えて生成物を粉体として取り出した。
この粗結晶をアセトン−エーテルから再結晶させて目的
物2.45g (40%)を得た。
【0070】元素分析:(理論値%)C:69.01;
H:5.46;N:9.20 (実測値%)C:69.11;H:5.32;N:9.
36 SIMS:510(M+
【0071】合成例53−[((1−(2,4,6−トリメチルフェニル)−
3−インドリジニル)アゾ)メチレン]−1−(2,
4,6−トリメチルフェニル)−3H−インドリジニウ
ムパークロレート(例示化合物DLI3)の合成 1−(2,4,6−トリメチルフェニル)インドリジニ
ウム過塩素酸塩6.70g (20mmol)をクロロホルム
40mlに溶解させ、20mlのクロロホルムに溶かしたビ
ス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン4.18g(1
3mmol)およびトリエチルアミン2.13g (18mmo
l)を加えて1時間室温で攪拌した。ロータリーエバポ
レーターで溶媒をできる限り溜去し、ヘキサンを加えて
生成物を粉体として取り出した。この粗結晶をメタノー
ル−エーテルから再結晶させて目的物2.63g (43
%)を得た。
【0072】元素分析:(理論値%)C:69.01;
H:5.46;N:9.20 (実測値%)C:69.27;H:5.25;N:9.
31 SIMS:510(M+
【0073】化4の色素は、吸収極大が600〜900
nm程度である。従って、半導体レーザーの波長で高反射
にすることができ、CD規格に対応した光記録ディスク
等に用いるのに適したものとなる。
【0074】化4の色素は1種のみを用いても、2種以
上を併用してよい。また、本発明では、色素として化4
の色素のみを用いることが好ましいが、場合によっては
他の色素を併用することができる。
【0075】記録層における化4の色素の含有量は、記
録層全体の10〜100wt% とすればよく、色素および
有機溶剤を含有する塗布液を用いて記録層を塗設すれば
よい。特に、光記録ディスクの記録層を塗設するとき、
塗布液を回転する基板上に展開塗布するスピンコート法
によることが好ましい。
【0076】記録層形成のための塗布液に用いる有機溶
剤としては、ケトアルコール系、ケトン系、エステル
系、エーテル系、セロソルブ系、芳香族系、ハロゲン化
アルキル系等から適宜選択すればよい。特に、ケトアル
コール系(ジアセトンアルコールなど)、セロソルブ系
(メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど)を用いる
ことが好ましい。特に、本発明のインドリジン系色素は
溶解性が良好であるため、脂肪族アルコール(n−ブタ
ノールなど)を用いることができる。
【0077】また、色素の溶解性を考慮して、ハロゲン
化アルコール系、特にフッ素化アルコール(2,2,2
−トリフルオロエタノール、2,2,3,3,3−ペン
タフルオロ−1−プロパノール、2,2,3,3,4,
4,4−ヘプタフルオロ−1−ブタノール、2,2,
3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール等)を用い
ることもできる。
【0078】スピンコート後、必要に応じて塗膜を乾燥
させる。このようにして形成される記録層の厚さは、目
的とする反射率などに応じて適宜設定されるものである
が、通常、1000〜3000A 程度である。
【0079】なお、塗布液における色素含有量は、1.
5〜15wt% 、好ましくは1.8〜10wt% とするのが
よい。なお、塗布液には適宜バインダー、分散剤、安定
剤等を含有させてもよい。
【0080】本発明においては、化4の色素とともに化
9のクエンチャーを用いることができる。化9のクエン
チャーは、従来汎用されているビスジチオール系の金属
錯体に比べ、記録層設層用塗布液の有機溶剤に対する溶
解度が大きく、また化4の色素の吸収特性に対する影響
が少ない点で優れる。
【0081】
【化9】
【0082】化9で表わされる錯体クエンチャーについ
て説明すると、化9において、Cpはシクロペンタジエ
ンである。シクロペンタジエンは、置換基を1〜5個有
していてもよく、置換基としては、置換もしくは無置換
の炭素原子数1〜4のアルキル基(−CH3 、−C2
5 、−CF3 、−C25 等)、置換もしくは無置換の
アリール基(フェニル基等)、シアノ基、置換もしくは
無置換のエーテル基(−OCH3 、−OCF3 等)、置
換もしくは無置換のエステル基(−COOCH3 、−C
OOC25 等)、置換もしくは無置換のアシル基(−
COCH3 等)、置換もしくは無置換のアルキルチオ基
(−SCH3 、−SCF3 等)、置換もしくは無置換の
スルファモイル基(−SO2 NH2 等)、置換もしくは
無置換のアルキルスルホニル基(−SO2 CH3 、−S
2 CF3 等)、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I
等)、ニトロ基などが挙げられる。また、これらの置換
基のうち、可能なものであれば、シクロアルカン(シク
ロペンタン等)等の環を形成し、シクロペンタジエンに
縮合してもよい。
【0083】金属原子Mに配位するYおよびZは、互い
に同一でも異なっていてもよく、それぞれS、Se、N
3 またはOを表わす。これらのうち、Y+Zの組み合
わせとしては、S+S、Se+Se、S+Se、NR3
+NR3 、S+NR3 、S+Oの組み合わせが好まし
い。なお、R3 は、水素原子または好ましくは炭素原子
数1〜4のアルキル基を表わす。
【0084】M、X、YおよびC−R1 とともに5員環
を形成するA1 は、C−R2 またはNを表わす。R1
よびR2 は、水素原子、アルキル基、アリール基、シア
ノ基、エーテル基、エステル基、アシル基、アルキルチ
オ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、複素
環基、ハロゲン原子またはニトロ基を表わす。これらR
1 およびR2 には、フッ素、塩素等のハロゲン原子、ニ
トロ基、好ましくは炭素原子数1〜4のアルキル基、ア
リール基、好ましくは炭素原子数1〜4のアルキル基を
有するアルコキシ基、置換または無置換のアミノ基等で
さらに置換されていてもよい。
【0085】R1 およびR2 の好ましいものとしては、
水素原子;炭素原子数1〜4のアルキル基(−CH3
−C25 、−C37 、−C49 、−CF3 等);
炭素原子数1〜4のアルキル基を有するエーテル基(−
OCH3 、−OCF3 等);炭素原子数1〜4のアルキ
ル基を有するエステル基(−COOCH3 、−COOC
25 等);炭素原子数1〜4のアルキル基を有するア
シル基(−COCH3等);炭素原子数1〜4のアルキ
ル基を有するアルキルチオ基(−SCH3 、−SCF3
等);スルファモイル基(−SO2 NH2 等);炭素原
子数1〜4のアルキル基を有するアルキルスルホニル
基、(−SO2 CH3 、−SO2 CF3 等);NO2
CN;炭素原子数6〜12のアリール基(フェニル基、
p−ニトロフェニル基、p−アミノフェニル基等);複
素環基(2−ピリジン基、3−ピリジル基、4−ピリジ
ル基;ハロゲン原子(F、Cl、Br等)などが挙げら
れる。
【0086】R1 およびR2 は通常同一であるが、互い
に異なるものであってもよい。またR1 およびR2 は互
いに結合して環、例えばベンゼン環、ナフタレン環等の
芳香族環を形成してもよい。なお、この環には、さら
に、アルキル基、アリール基、ハロゲン、置換または無
置換のアミノ基、アルコキシ基等の置換基が結合してい
てもよい。
【0087】さらに、Mは、金属原子、例えばCo、N
i、Pt、Zn、Cu、Rh等を表わす。なお、化9の
錯体は、化10で示されるような2量体であってもよ
い。
【0088】
【化10】
【0089】化10において、Cp、M、Y、Z、R1
は化9におけるものと同義である。
【0090】化9の錯体クエンチャーのなかでも化11
で表わされる錯体クエンチャーが好ましい。化11のも
のではさらに変調度が高くなる。
【0091】
【化11】
【0092】化11において、Cpは化9と同様にシク
ロペンタジエンを表わし、化9のものと同義である。シ
クロペンタジエンが置換基を有する場合の置換基として
は、置換もしくは無置換の炭素原子数1〜4のアルキル
基(−CH3 、−C25 、−CF3 等)、置換もしく
は無置換の炭素原子数1〜4のアルキル基を有するエス
テル基(−COOCH3 等)、置換もしくは無置換の炭
素原子数1〜4のアルキル基を有するアシル基(−CO
CH3 等)、ニトロ基、ハロゲン原子などが好ましい。
【0093】M1 はCo、NiまたはRhを表わし、特
にCoであることが好ましい。
【0094】Y1 およびZ1 は、それぞれSまたはSe
を表わし、同一でも異なっていてもよい。
【0095】R11およびR12は、それぞれ水素原子また
はハメットシグマ(σ)値が0以上の一価の置換基を表
わす。具体的には、化9のR1 、R2 で表わされるもの
のうち、ハメットシグマ(σ)値が0以上のものを表わ
し、−CF3 、−CN、−OCF3 、−COOCH3
−COOC25 、−SCF3 、−NO2 、−SO2
2 、−SO2 CH3 、ハロゲン原子、水素原子などが
好ましい。また、可能であればR11とR12は結合して環
を形成してもよい。
【0096】化9の錯体クエンチャーのなかで、化11
のものも含め、好ましいものは、M、Y、Z、C、A1
(化11ではM1 、Y1 、Z1 、C、C)で形成される
環が芳香性を有するものである。これらによって形成さ
れる環が芳香性を有することは、13CNMRによるシク
ロペンタジエンの13Cのケミカルシフト(δ)値、ポー
ラログラムの還元半波電位(Er 1/2)値などから確認さ
れる。
【0097】例えばY(あるいはY1 )、Z(あるいは
1 )がともにSのジチオール環では、Er 1/2値が−
1.8〜OV であり、13Cのδ値は75〜90ppm であ
る。また、Er 1/2値に対してδ値をプロットした場合直
線関係を示し、その傾き△(δ/Er 1/2)は、2.0〜
15.0(ppm/V)の範囲となる。なお、Er 1/2は、アセ
トニトリル中で支持電解質としてテトラエチルアンモニ
ウムパークロレイト(TEAP)を用いて参照電極(A
g|0.1mol dm-3AgClO4 )に対する電位を25
℃にて測定して求めたものである。
【0098】また、耐光性の点では、Cpが置換されて
いる場合の置換基としてはハメットシグマ(σ)値が0
以上のものが好ましく、さらにR1 (あるいはR11)、
2(あるいはR12)もハメットシグマ(σ)値が0以
上のものが好ましい。
【0099】化9の錯体クエンチャーのなかでも、吸収
極大600nm以下、特に550〜560nmのものを選択
して用いることが好ましい。このような波長域のものを
用いることにより、反射率の低下がなく、再生出力の低
下がなくなる。
【0100】化9の錯体クエンチャーの具体例について
は、本出願人による特願平4−269449号、特願平
5−60890号に記載されている。また、その合成法
については、杉森彰、有合化、48,788(199
0):杉森彰、Organometallics News, 1990, No.1, P
2:H.Boennemann, B.Bogdanovic, W.Brijoux, R.Brinkm
ann, M.Kajitani, R.Mynott, G.S.Natarajan and M.G.S
anson "Transition-Metal-Catalyzed Synthesis of Het
erocyclic Compounds " in "Catalysis in Organic Rea
ctions " ed. by J.R.Kosak, Marcel Dekker, 1984, P3
1-62 :等の記載、および上記出願明細書の記載を参照
することができる。
【0101】本発明では色素1モルに対し、化9で表わ
される錯体クエンチャーは通常0.1〜10モル用いら
れる。なお、必要に応じ化9のクエンチャーに加え、公
知の他のクエンチャーを併用してもよい。
【0102】なお、化9の錯体クエンチャーを用いると
きは、前記の記録層設層用塗布液に化9の錯体クエンチ
ャーを添加すればよく、塗布液におけるクエンチャーの
含有量は0.5〜10wt% 、好ましくは1〜8wt% であ
る。
【0103】このような色素膜を記録層として基板上に
有する光記録ディスクとして、図1には、その一構成例
が示されている。図1は、部分断面図である。図1に示
される光記録ディスク1は、記録層上に反射層を密着し
て有するCD規格に対応した再生が可能な密着型光記録
ディスクである。図示のように、光記録ディスク1は、
基板2表面に前記のような色素を主成分とする記録層3
を有し、記録層3に密着して、反射層4、保護膜5を有
する。
【0104】基板2は、ディスク状のものであり、基板
2の裏面側からの記録および再生を可能とするために、
記録光および再生光(波長600〜900nm程度、特に
波長770〜900nm程度の半導体レーザー光、特に7
80nm)に対し、実質的に透明(好ましくは透過率88
%以上)な樹脂あるいはガラスを用いて形成するのがよ
い。また、大きさは、直径64〜200mm程度、厚さ
1.2mm程度のものとする。
【0105】基板2の記録層3形成面には、図1に示す
ように、トラッキング用のグルーブ23が形成される。
グルーブ23は、スパイラル状の連続型グルーブである
ことが好ましく、深さは0.1〜0.25μm 、幅は
0.35〜0.50μm 、グルーブピッチは1.5〜
1.7μm であることが好ましい。グルーブをこのよう
な構成とすることにより、グルーブ部の反射レベルを下
げることなく、良好なトラッキング信号を得ることがで
きる。特にグルーブ幅を0.35〜0.50μm に規制
することは重要であり、グルーブ幅を0.35μm 未満
とすると、十分な大きさのトラッキング信号が得られに
くく、記録時のトラッキングのわずかなオフセットによ
って、ジッターが大きくなりやすい。また0.50μm
をこえると、再生信号の波形歪みが生じやすく、クロス
トロークの増大の原因となる。
【0106】基板2は、材質的には、樹脂を用いること
が好ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ア
モルファスポリオレフィン、TPX、ポリスチレン系樹
脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そして、このよ
うな樹脂を用いて射出成形等の公知の方法に従って製造
することができる。グルーブ23は、基板2の成形時に
形成することが好ましい。なお、基板2製造後に2P法
等によりグルーブ23を有する樹脂層を形成してもよ
い。また、場合によってはガラス基板を用いてもよい。
【0107】図1に示されるように、基板2に設層され
る記録層3は、前記の色素含有塗布液を用い、前記のよ
うに、好ましくはスピンコート法により形成されたもの
である。スピンコートは通常の条件に従い、内周から外
周にかけて、回転数を500〜5000rpm の間で調整
するなどして行えばよい。
【0108】このようにして形成される記録層3の厚さ
は、乾燥膜厚で、500〜3000A (50〜300n
m)とすることが好ましい。この範囲外では反射率が低
下して、CD規格に対応した再生を行なうことが難しく
なる。この際、グルーブ23内の記録トラック内の記録
層3の膜厚を1000A (100nm)以上、特に150
0〜3000A (150〜300nm)とすると、変調度
がきわめて大きくなる。
【0109】このようにして形成される記録層3は、C
D信号を記録する場合、その記録光および再生光波長に
おける消衰係数(複素屈折率の虚部)kは、0.02〜
0.05であることが好ましい。kが0.02未満とな
ると記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録
を行なうことが困難である。また、kが0.05を超え
ると、反射率が70%を下回ってしまい、CD規格によ
る再生を行なうことが困難である。また、記録層3の屈
折率(複素屈折率の実部)nは、2.0〜2.6とな
る。n<2.0では反射率が低下し、また再生信号が小
さくなり、CD規格による再生が困難となる傾向にあ
る。
【0110】図1に示されるように、記録層3上には、
直接密着して反射層4が設層される。反射層4として
は、Au、Cu等の高反射率金属ないし合金を用いるの
がよい。反射層4の厚さは500A 以上であることが好
ましく、蒸着、スパッタ等により設層すればよい。ま
た、厚さの上限に特に制限はないが、コスト、生産作業
時間等を考慮すると、1200A 程度以下であることが
好ましい。これにより、反射層4単独での反射率は、9
0%以上、媒体の未記録部の基板を通しての反射率は、
60%以上、特に70%以上が得られる。
【0111】図1に示されるように、反射層4上には、
保護膜5が設層される。保護膜5は、例えば紫外線硬化
樹脂等の各種樹脂材質から、通常は、0.5〜100μ
m 程度の厚さに設層すればよい。保護膜5は、層状であ
ってもシート状であってもよい。保護膜5は、スピンコ
ート、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等
の通常の方法により形成すればよい。
【0112】本発明の光記録ディスクは、図示例のよう
な密着型の光記録ディスクに限らず、色素を含有する記
録層を有するものであれば、いずれであってもよい。こ
のようなものとしては、エアーサンドイッチ構造のピッ
ト形成型光記録ディスク等が挙げられ、本発明を適用す
ることによって、同様の効果が得られる。
【0113】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
【0114】実施例1 まず、直径50mm、厚さ1.2mmのガラス基板上に、表
1の例示化合物D1を3wt% 含有するエチルセロソルブ
溶液を用い、スピンコート法により色素膜を形成し、サ
ンプルNo. 1を得た。色素膜の厚さは70nmとした。
【0115】また、サンプルNo. 1について、反射スペ
クトルおよび吸収スペクトルを測定した。これらの結果
を図2に示す。
【0116】図2から、このものは半導体レーザーの波
長(780nm)付近で吸収率が低く、かつ一定以上の反
射率を有することがわかる。
【0117】実施例2 実施例1のサンプルNo. 1とともに、サンプルNo. 1に
おいて、色素を例示化合物DL3(表3)またはDLI
3(表4)にそれぞれかえたサンプルを作製した。これ
らのサンプルを順にサンプルNo. 2、No. 3とする。
【0118】また、色素を化12のインドレニン系シア
ニン色素にかえたサンプルNo. 4を作製した。
【0119】
【化12】
【0120】サンプルNo. 1〜No. 4について、各々の
初期透過率T0 を測定した。さらに8万ルックスのキセ
ノンランプ(島津社製キセノンフェードメーター)を照
射し、照射後の透過率Tを測定し、(100−T)×1
00/(100−T0 )にて色素残存率(%)を算出し
た。
【0121】照射時間と色素残存率との関係を図3に示
す。図3より、化4のインドリジン系色素は従来のイン
ドレニン系シアニン色素に比べて耐光性に優れることが
わかる。
【0122】次に、前記サンプルNo. 1、No. 2、No.
3でそれぞれ用いた色素を記録層に用い、図1に示され
る構成の光記録ディスクサンプルNo. 1、No. 2、No.
3を作製した。まず、直径120mm、厚さ1.2mmのポ
リカーボネート樹脂基板上に、スピンコート法により色
素を含有する記録層を形成した。この記録層上に、反射
層を形成し、さらに、保護膜を形成した。
【0123】記録層3形成に用いた塗布液は、前記のサ
ンプルNo. 1、No. 2、No. 3で用いた色素溶液と同様
のものとし、色素含有量を6wt% として用いた。また、
記録層の厚さは200nmとした。反射層は材質をAuと
し、スパッタ法により厚さ85nmに形成した。そして、
この上に紫外線硬化型のアクリル樹脂の保護膜(膜厚5
μm )を形成した。
【0124】上記ディスクサンプルNo. 1〜No. 3につ
いて、780nmでの反射率を測定した。この結果、ディ
スクサンプルNo. 1では76%、ディスクサンプルNo.
2では78%、ディスクサンプルNo. 3では81%であ
り、CD規格に十分対応することがわかった。
【0125】実施例3 実施例1のサンプルNo. 1において、色素のほか、化1
3のCo錯体クエンチャーを用い、色素と化13のCo
錯体クエンチャーとを合計で3wt% とするほかは同様に
してサンプルNo. 5を作製した。色素とCo錯体クエン
チャーとの比率は、重量比で、色素/Co錯体クエンチ
ャーが85/15となるようにした。
【0126】
【化13】
【0127】これをサンプルNo. 5とする。サンプルN
o. 5について実施例2と同様にして色素残存率を求め
た。この結果を図3に実施例2の結果とともに併せて示
す。
【0128】図3より、クエンチャーを併用することに
より、耐光性が向上することがわかる。
【0129】次に、前記サンプルNo. 5で用いた色素と
Co錯体クエンチャーとを記録層に用い、実施例2と同
様に光記録ディスクサンプルNo. 5を作製した。ただ
し、記録層設層用塗布液の色素とCo錯体クエンチャー
との比率は前記と同じにした。
【0130】上記ディスクサンプルNo. 5について、7
80nmでの反射率を測定したところ、反射率は73%で
あり、CD規格に十分対応できることがわかった。
【0131】実施例4 実施例2のサンプルNo. 1〜No. 3、ディスクサンプル
No. 1〜No. 3において、色素溶液調製の際の溶媒をn
−ブタノールにかえるほかは同様にしてサンプルおよび
ディスクサンプルを作製し、同様に特性を調べた。
【0132】上記サンプルについての色素残存率および
上記ディスクサンプルについての反射率は、用いた色素
に応じ、サンプルNo. 1〜No. 3、No. 5、ディスクサ
ンプルNo. 1〜No. 3と同等の結果を示した。
【0133】なお、実施例2〜4の本発明のサンプルお
よびディスクサンプルの化4の色素を、上記以外の表1
〜表4に示す色素の1種以上にかえて、種々のサンプル
およびディスクサンプルを作製したところ、上記同様良
好な結果が得られた。
【0134】さらに、特開昭62−227693号公報
実施例1第1表に示されるNo. 8(化7において、R1
〜R8 =H:R1 ′〜R8 ′=H、L;=CH−(CH
=CH)2 −;X=ClO4 - :m=1:インドリジン
環の2位にさらにフェニル基が結合)、特開平3−75
190号公報合成例2に示される色素2(化7におい
て、R1 〜R5 =H:R1 ′〜R5 ′=H、R6 =R
6 ′=R8 =R8 ′=H、R7 =R7 ′=CH3 :L;
=CH−CH=CH−:X=ClO4 -:m=1)をそれ
ぞれ用い、これらの色素のエチルセロソルブ溶液または
n−ブタノール溶液の調製を試みた。
【0135】しかし、いずれの色素もエチルセロソル
ブ、n−ブタノールのいずれの溶媒に対しても溶解性が
低く、No. 8では0.5wt% 程度のエチルセロソルブ溶
液、0.2wt% 程度のn−ブタノール溶液、色素2では
0.3wt% 程度のエチルセロソルブ溶液、0.1wt% 程
度のn−ブタノール溶液しか調製することはできず、色
素膜の形成は実際上困難であった。
【0136】
【発明の効果】本発明によれば、再生劣化や光劣化を防
止することができ、耐光性に優れたものとなる。しか
も、溶解性の良好な色素を用いているため、均一で膜厚
が十分な色素膜の形成が可能になり、CD規格に十分対
応したものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光記録媒体の一例を示す部分断面図で
ある。
【図2】本発明に用いる色素の反射スペクトルおよび透
過スペクトルを示すグラフである。
【図3】色素残存率を示すグラフである。
【符号の説明】
1 光記録媒体 2 基板 23 グルーブ 3 記録層 4 反射層 5 保護膜

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に、色素を含有する記録層を有す
    る光記録媒体において、 前記色素が下記化1で示されるインドリジン系色素であ
    る光記録媒体。 【化1】 [化1において、AおよびA′はそれぞれ炭素原子
    (C)および窒素原子(N)とともに化2で示されるイ
    ンドリジン環を完成するのに必要な原子群を表わす。 【化2】 フェニル基の結合位置はインドリジン環の3位または1
    位であり、R1 、R1 ′、R5 およびR5 ′はそれぞれ
    水素原子またはアルキル基、アリール基、アルコキシ
    基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニ
    トロ基、シアノ基、アシル基、アシロキシ基、アルキル
    チオ基およびアリールチオ基から選ばれる置換基を表わ
    し、R1 、R1 ′、R5 およびR5 ′のうち少なくとも
    一つは前記置換基である。R2 、R2 ′、R3 、R
    3 ′、R4 およびR4 ′はそれぞれ水素原子、アルキル
    基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基または
    ニトロ基を表わし、R2 とR3 、R2 ′とR3 ′、R3
    とR4 およびR3 ′とR4 ′は、それぞれ互いに結合し
    て環を形成してもよい。Lはアゾメチン基およびメチン
    基のうちの少なくとも一方あるいは両方の基で構成され
    るCおよび/またはNの個数の総計が奇数個の連結基で
    あり、インドリジン環の1位または3位で連結する。X
    は陰イオンを表わし、mは電荷の均衡を保つための数で
    ある。]
  2. 【請求項2】 前記インドリジン系色素が下記化3で示
    される請求項1の光記録媒体。 【化3】 [化3において、R1 、R1 ′、R5 およびR5 ′はそ
    れぞれ水素原子またはアルキル基、アリール基、アルコ
    キシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ
    基、ニトロ基、シアノ基、アシル基、アシロキシ基、ア
    ルキルチオ基およびアリールチオ基から選ばれる置換基
    を表わし、R1 、R1 ′、R5 およびR5 ′のうち少な
    くとも一つは前記置換基である。R2 、R2 ′、R3
    3 ′、R4およびR4 ′はそれぞれ水素原子、アルキ
    ル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基また
    はニトロ基を表わし、R2 とR3 、R2 ′とR3 ′、R
    3 とR4 およびR3 ′とR4 ′は、それぞれ互いに結合
    して環を形成してもよい。R6、R6 ′、R7 、R
    7 ′、R8 およびR8 ′は、それぞれ水素原子、アルキ
    ル基またはハロゲン原子を表わし、R6 とR7 、R6
    とR7 ′、R7 とR8 およびR7 ′とR8 ′は、互いに
    結合して環を形成してもよい。Xは陰イオンを表わし、
    mは電荷の均衡を保つための数である。]
  3. 【請求項3】 前記色素の吸収極大が600〜900nm
    である請求項1または2の光記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記基板はグルーブを有し、前記色素膜
    からなる記録層上に密着して反射層を積層して構成さ
    れ、記録光を前記グルーブ部の前記記録層に照射して記
    録部を形成し、再生光により再生を行う請求項1ないし
    3のいずれかの光記録媒体。
  5. 【請求項5】 前記記録光および再生光はレーザー光で
    ある請求項4の光記録媒体。
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