JPH0781920A - 塩化水素の存在下での直接法高沸点成分のクロロシランモノマー類への接触転化 - Google Patents
塩化水素の存在下での直接法高沸点成分のクロロシランモノマー類への接触転化Info
- Publication number
- JPH0781920A JPH0781920A JP6160071A JP16007194A JPH0781920A JP H0781920 A JPH0781920 A JP H0781920A JP 6160071 A JP6160071 A JP 6160071A JP 16007194 A JP16007194 A JP 16007194A JP H0781920 A JPH0781920 A JP H0781920A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- high boiling
- hydrogen chloride
- catalyst
- activated carbon
- silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009835 boiling Methods 0.000 title claims abstract description 65
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 26
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 26
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 65
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 title description 8
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title description 8
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 title description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 27
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 19
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical class [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 claims description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- -1 silalkylenes Chemical compound 0.000 claims description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 4
- 150000004045 organic chlorine compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 22
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 2
- KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-silylsilane Chemical compound C[SiH]([SiH3])Cl KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100111651 Serratia marcescens smeA gene Proteins 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N [C].[Si] Chemical compound [C].[Si] HMDDXIMCDZRSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- JYIBXUUINYLWLR-UHFFFAOYSA-N aluminum;calcium;potassium;silicon;sodium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Na].[Al].[Si].[K].[Ca] JYIBXUUINYLWLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910001603 clinoptilolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 229910052675 erionite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012013 faujasite Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000013467 fragmentation Methods 0.000 description 1
- 238000006062 fragmentation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/128—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions covered by more than one of the groups C07F7/122 - C07F7/127 and of which the starting material is unknown or insufficiently determined
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
成分を高い転化率でモノシラン類に転化する。 【構成】 上記高沸点成分を、塩化水素と、250〜1
000℃で、活性炭、アルミナに担持された白金、ゼオ
ライト、AlCl3 、AlCl3 であってカーボン、ア
ルミナ、及びシリカから選ばれる担体に担持されたもの
から選ばれる触媒の存在下に接触させる。
Description
反応させて得られる高沸点成分を、より商業的に望まし
いモノシラン類に転化する方法に関する。この方法は、
前記高沸点成分を塩化水素と250℃〜1000℃で、
活性炭、アルミナに担持された白金、ゼオライト、Al
Cl3 、並びにAlCl3 であってカーボン、アルミ
ナ、及びシリカから選ばれる担体に担持されたものから
選ばれるものの存在下に接触させることを含む。
方法に有用な高沸点成分は、有機ハライドを適当な触媒
の存在下にケイ素と反応させてモノシラン類を形成す
る、所謂「直接法」から得られるものである。この直接
法はUS−A2,380,995及びUS−A2,48
8,487に記載されている。それは、オルガノハロシ
ラン類(即ち、モノシラン類)、例えばジメチルジクロ
ロシラン及びトリメチルクロロシランを形成する主な商
業的方法である。これらのオルガノハロシラン類は反応
性化合物で、種々の反応を経由して種々の有用なケイ素
含有化合物及びポリマーを形成する。オルガノハロシラ
ン類の主な商業的用途は、熱伝達流体、滑剤等であり、
更に加工されて、例えばシリコーンエラストマー、樹
脂、シーラント、及び接着剤を形成しうるポリシロキサ
ンポリマーの製造にある。
造のみならず、この方法で生成される特定のジオルガノ
ジハロシランよりも沸点の高い全ての物質をいうものと
一般に考えられている高沸点成分も製造する。この高沸
点成分はSiSi、SiOSi、SiCSi、SiCC
Si、及びSiCCCSi結合を分子内に持っている化
合物を含む複雑な混合物である。典型的な化合物は、U
S−A2598435及びUS−A2681355に記
載されている。この高沸点成分はケイ素を含有する個
体、又は銅、アルミニウム、もしくは亜鉛の溶解性もし
くは不溶性の化合物を含みうる。
高沸点成分は、得られる製品の10%に達しうる。従っ
て、価値の低い副生物を減らし、原料の利用率を改善す
るために、前記高沸点成分をより商業的に望ましい製品
に転化することが望ましい。
ン類に転化する先行技術は、US−A2598435、
US−A2681355、US−A2709176、及
びUS−A2842580に示されている。
の上述の課題は、直接法によって生成される高沸点成分
を高い転化率で転化する接触法により解決される。更
に、そのような触媒されたプロセスが容易に入手可能で
安価な触媒を用いうるものであり、この触媒は反応器中
に容易に保持でき、前記プロセスにおいて寿命が長いこ
とは、予想されなかったことである。
させるどんな標準的な反応器中でも行うことができる。
この方法はバッチ法、半連続法、又は連続法で行うこと
ができる。この方法は、例えば、固定床反応器、攪拌床
反応器、又は流動床反応器中で行うことができる。この
方法は流動床反応器中で連続法で行うのが好ましい。
から得られる高沸点成分を転化してモノシラン類を形成
するのに有用である。用語「高沸点成分」は、有機塩化
物とケイ素の反応により形成されるジオルガノジクロロ
シランの沸点よりも高い沸点を持つ物質のことをいう。
例えば、塩化メチルをケイ素と反応させるときは、前記
ジオルガノジクロロシランはジメチルジクロロシランで
あり、前記高沸点成分はジメチルジクロロシランの沸点
より高い、即ち70℃より高い沸点を持つものを含むで
あろう。
方法において、この反応は270℃〜350℃で、適当
な触媒の存在下に行われる。ガス状生成物及び未反応原
料は、反応過程から連続的に除かれる。除かれたガス状
生成物及び未反応生成物は、続いて蒸留されてモノシラ
ン類を除き、高沸点成分を後に残す。
i、SiCSi、SiCCSi、及びSiCCCSi結
合を各分子内に単独で又は組み合わせで含む化合物を含
む複雑な混合物である。この高沸点化合物は、ケイ素含
有個体、又は溶解性のもしくは不溶性の銅、アルミニウ
ムもしくは亜鉛の化合物を含みうる。この高沸点成分
は、例えば有機置換されたもしくは非有機置換のシラン
類、ジシラン類、トリシラン類、ジシロキサン類、シラ
ンオリゴマー類、シロキサンオリゴマー類、シルアルキ
レン類、又はケイ素含有個体類を含みえ、これらは全て
本発明方法によりモノシラン類に転化可能である。
類をモノシラン類に転化するのに特に有用である。ここ
にポリシラン類は式Ra Hb Sin Cl2n+2-a-bで示さ
れ、ここに各Rは独立に炭素原子数1〜6のアルキルか
ら選ばれ、n=2〜20、a=0〜2n+2、b=0〜
2n+2そしてa+b=0〜2n+2である。
n個のケイ素原子からなりえ、ここにnは2〜20の整
数である。nが2のときが好ましい。このポリシラン類
はa=0〜2n+2の数のRで置換でき、ここに各Rは
独立に炭素原子数1〜6のアルキルから選ばれる。この
基Rは、メチル、エチル、プロピル、又はt−ブチルで
あり得る。この基Rはメチルであることが好ましい。
素原子上に置換されたbの数の水素原子を含みえ、ここ
にb=0〜2n+2である。
〜2n+2個の塩素原子も含みうる。
え、ここに各シルアルキレンは式Si(C)Z Siで示
される1又はそれ以上のシルアルキレン結合を含みえ、
ここにzは1〜6の整数である。zが1〜3の整数であ
るとき、より好ましい。このシルアルキレン分子は、シ
ルアルキレン結合並びにSiSi結合及びSiOSi結
合を含みうる。このシルアルキレン分子は更にR基(こ
こにRは上に述べた意味である)、塩素、又は水素で置
換されうる。シルアルキレン類のケイ素原子がメチルで
置換されているときが好ましい。
素の反応生成物であり、この場合の高沸点成分は70℃
より高い沸点を持ったものである。この高沸点成分はM
e2ClSiSiMe2 Cl、Me2 ClSiSiMe
Cl2 、MeCl2 SiSiMeCl2 、Me2 ClS
iSi(Me)(Cl)SiMeCl2 、Me2 ClS
iCH2 SiMe2 Cl、Me2 ClSiCH2 SiM
eCl2 、MeCl2SiCH2 SiMeCl2 、Me
2 ClSi(CH2 )2 SiMeCl2 、Me 2 ClS
i(CH2 )3 SiMeCl2 、Me2 ClSiCH2
Si(Me)(Cl)SiMeCl2 、Me2 ClSi
CH2 Si(Me)(Cl)CH2 SiMeCl2 、及
びMe2 ClSiOSiMeCl2 を含みえ、ここにM
eはメチルであり、これら全てのものが本発明方法によ
りモノシラン類に転化できる。
が、この場合、反応器に加えられる高沸点成分の重量対
塩化水素の重量の比は5:1〜0.05:1である。前
記高沸点成分の重量対前記塩化水素の重量の比は3:1
〜1:1が好ましい。
われる。好ましい温度は450℃〜550℃である。
このプロセスはゲージ圧で0〜6.9MPa(0〜10
00psi)であることが好ましい。より好ましくは、
このプロセスがゲージ圧で0〜689.5kPa(0p
si〜100psi)で行われるときである。
された白金、ゼオライト、AlCl 3 、並びにAlCl
3 であってカーボン、アルミナ、及びシリカから選ばれ
る担体に担持されたものから選ばれる触媒の存在下に行
われる。
とは、微結晶で、非グラファイト状カーボンで、内部空
隙を有し、このカーボンは活性炭を製造するこの技術分
野で公知のいずれかの標準的なプロセス、例えばKir
k−Othmer, Concise Encyclo
pedia of Chemical Technol
ogy, John Wiley & Sons pu
blishers,1985, p.204−205に
記載された化学的活性化又はガス活性化、で活性化され
たものである。この活性炭は、例えばフレーク、チッ
プ、粒子、粉末、又はペレットの形をしていることがで
きる。
〜20mmであることが好ましい。より好ましいのは、こ
の活性炭が直径0.01mm〜5mmであり、表面積が10
00m2/gより大きいときである。
水素の重量に対する、活性炭の重量は、活性炭の種類及
びサイズ、高沸点成分の化学組成、プロセス温度、及び
用いられる反応器の種類のようなファクターに依存する
であろう。このプロセスをバッチプロセス又は半連続プ
ロセスで行うとき、活性炭の有用な重量は、このプロセ
スに加えられた高沸点成分及び塩化水素及の合計重量の
0.1〜30wt%であると考えられる。
でありうる。白金の量は白金0.1〜10wt%であり
うる。白金の量が0.5〜2.0wt%であるときが好
ましい。このプロセスで用いられるアルミナ担体上に保
持される白金濃度は活性炭の使用について述べたのと同
様なファクターに依存するであろう。概して、このプロ
セスをバッチ式又は半連続式プロセスで行うときは、ア
ルミナ担体上の白金の有用な濃度は、触媒濃度がこのプ
ロセスに加えられる高沸点成分及び塩化水素の合計重量
の0.1〜30wt%の範囲となるようなものである
と、考えられる。
オライト触媒は、天然産のもの、例えば、菱弗石、モル
デン弗石、エリオナイト、ホージャサイト、及びクリノ
プチロライト(clinoptilolite)であり
うる。このゼオライト触媒は、ゼオライトA、X、Lも
しくはYタイプ又は高シリカ合成ゼオライトタイプ、例
えばZSM−5又はZMS−11でありうる。このゼオ
ライト触媒はLZ−Y−64、LZ−Y−74、及びL
Z−M−8からなる合成ゼオライト触媒から選ばれるの
が好ましい。
度は、活性炭の使用について述べたのと同様なファクタ
ーに依存するであろう。概して、このプロセスをバッチ
プロセス又は半連続プロセスで行うとき、ゼオライトの
有用な濃度は、このプロセスに加えられた高沸点成分及
び塩化水素の合計重量の0.1〜30wt%であると考
えられる。
ロセスに用いられるAlCl3 の濃度は、活性炭の使用
について述べたようなファクターに依存するであろう。
このプロセスをバッチプロセス又は半連続プロセスで行
うとき、AlCl3 触媒の有用な濃度は、このプロセス
に加えられた高沸点成分、塩化水素及び水素の合計重量
の0.1〜30wt%である。
リカから選ばれる担体上に担持されたAlCl3 であり
うる。担体上に保持されるAlCl3 の量は0.1〜3
0wt%でありうる。AlCl3 の量が0.5〜5.0
wt%であるときが好ましい。担持されたAlCl3 の
濃度は、活性炭の使用について述べたのと同様なファク
ターに依存するであろう。概して、このプロセスをバッ
チプロセス又は半連続プロセスで行うとき、担持された
AlCl3 触媒の有用な濃度は、このプロセスに加えら
れた高沸点成分及び塩化水素の合計重量の0.1〜30
wt%であると考えられる。
接触時間は、触媒の種類、高沸点成分の化学組成、及び
転化の度合い並びに生成物の望みの選択率のようなファ
クターに依存するであろう。概して、1秒〜5時間の範
囲の接触時間が有用である。より長い接触時間も用いう
るが、何らの利点ももたらさないようであるし、モノシ
ラン類中に存在するケイ素−炭素結合及びケイ素−水素
結合の過剰な分断をもたらすおそれがある。連続的反応
器系中での好ましい接触時間は、1秒〜5分である。
含有生成物を標準的な手段、例えば蒸留によって分離
し、前記モノシラン類を高沸点成分から分離し、次いで
この高沸点成分を、このプロセスに再循環しうる。
の有効性を証明するものである。
媒の不存在下に塩化水素と接触させた。反応器は、50
0℃に保った直径2.5cm、長さ50cmの石英管であっ
た。この高沸点成分は、重量基準で、55%のメチルク
ロロジシラン、5%のジシルメチレン類、35%の他の
ポリシラン類及びシルアルキレン類並びに5%のケイ素
含有個体からなっていた。この高沸点成分を117g/
hrの速度で反応器に供給し、塩化水素を反応器に50
g/hrの速度で供給した。このプロセスを1時間行
い、反応器を出るガス状生成物を冷却コンデンサーに集
めた。熱伝導性検出器を用いるガスクロマトグラフィー
(GC−TC)を用いて凝縮した生成物を分析した。ク
ロロシランモノマー類を59wt%含んでいることが見
いだされた。検出されたクロロシランモノマー類はHS
iCl3 、SiCl4、MeHSiCl2 、Me3 Si
Cl、MeSiCl3 、及びMe2 SiCl2を含んで
いた。この凝縮された生成物中に検出された他の種類の
ものは、メチルクロロジシラン類、ジシルメチレン類、
ポリシラン類及びシルアルキレン類を含んでいた。
られた高沸点成分を、活性炭触媒の充填床のの存在下に
塩化水素と接触させた。このプロセスは例1と同様に行
い、高沸点成分の組成、反応器のデザイン及び反応温度
は例1と同じとした。この反応器にCalgon(商
標)BPL 1mm×3.3mm活性炭ペレット(Calg
on,Pittsburg, PA)12gを詰めた。
高沸点成分を反応器に92g/hrの速度で供給し、塩
化水素を反応器に57g/hrの速度で供給した。反応
器から出てくるガス状生成物を集め、例1に記載したよ
うにして分析した。この集めた生成物は、93wt%の
クロロシランモノマー類を含み、例1の生成物について
記載したクロロシランモノマー類を含んでいた。
られた高沸点成分を、流動床中の活性炭触媒の存在下に
塩化水素と接触させた。高沸点成分の組成、反応器のデ
ザイン及び反応温度は例1と同様とした。この反応器
に、0.1mm〜0.3mmの微粉砕された活性炭(Nor
th American, Columbus, O
H)25gを充填した。高沸点成分を反応器に75g/
hrの速度で供給し、塩化水素を反応器に57g/hr
の速度で供給した。このプロセスを24時間行い、反応
器から出てくるガス状生成物を集め、例1に記載したよ
うにして分析した。
で同定したのと同様な種類のものから成っていた。集め
た生成物の内、88wt%はクロロシランモノマー類で
あった。
られた高沸点成分を、ゼオライト触媒の存在下に塩化水
素と接触させた。このプロセスは例1と同様に行い、高
沸点成分の組成、反応器のデザイン及び反応温度は例1
と同じとした。この反応器にゼオライトLZ−Y−74
を押し出して作った1.6mmのペレット(UOP, I
nc.,Tarrytown, NY)15gを詰め
た。高沸点成分を反応器に75g/hrの速度で供給
し、塩化水素を反応器に57g/hrの速度で供給し
た。このプロセスを1時間行い、反応器から出てくるガ
ス状生成物を集め、例1に記載したようにして分析し
た。
で同定したのと同様な種類のものから成っていた。集め
た生成物の内、81wt%はクロロシランモノマー類で
あった。
られた高沸点成分を、アルミナ上の白金の存在下に塩化
水素と接触させた。このプロセスは例1と同様に行い、
高沸点成分の組成、反応器のデザイン及び反応温度は例
1と同じとした。この反応器に1.6mmのアルミナ球上
に白金1wt%担持させたもの(UOP, Inc.,
Tarrytown, NY)16gを詰めた。高沸点
成分を反応器に88g/hrの速度で供給し、塩化水素
を反応器に57g/hrの速度で供給した。このプロセ
スを1時間行い、反応器から出てくるガス状生成物を集
め、例1に記載したようにして分析した。
で同定したのと同様な種類のものから成っていた。集め
た生成物の内、82wt%はクロロシランモノマー類で
あった。
Claims (8)
- 【請求項1】 有機塩化物とケイ素との反応により得ら
れる高沸点成分をモノシラン類に転化する方法であって
次のことを含むもの:前記高沸点成分を塩化水素と25
0℃〜1000℃で、活性炭、アルミナに担持された白
金、ゼオライト、AlCl3 、並びにAlCl3 であっ
てカーボン、アルミナ、及びシリカから選ばれた担体に
担持されたものから選ばれた触媒の存在下に接触させる
こと。 - 【請求項2】 前記方法をゲージ圧0〜6.9MPa
(0〜1000psi)で行う請求項1の方法。 - 【請求項3】 高沸点成分の重量対反応プロセスへ投入
される塩化水素の重量の比が5:1〜0.05:1であ
る請求項1又は2の方法。 - 【請求項4】 前記触媒が活性炭であり、前記高沸点成
分が塩化メチルとケイ素の反応生成物であって、ポリシ
ラン類、シルアルキレン類、ケイ素含有固体、又は溶解
性のもしくは不溶性の銅、アルミニウムもしくは亜鉛の
化合物を含む請求項1、2、又は3の方法。 - 【請求項5】 前記高沸点成分が、式Ra Hb Sin C
l2n+2-a-bで示されるポリシラン類を含み、ここに各R
は独立に炭素原子数1〜6のアルキルから選ばれ、n=
2〜20、a=0〜2n+2、b=0〜2n+2、そし
てa+b=0〜2n+2である、請求項1〜4のいずれ
かの方法。 - 【請求項6】 前記高沸点成分が、シルアルキレンを含
み、このシルアルキレンが1又はそれ以上のシルアルキ
レン結合を含み、式Si(C)Z Siで示され、z=
1、2、又は3である、請求項1〜4のいずれかの方
法。 - 【請求項7】 前記触媒が、活性炭、ゼオライトLZ−
Y−74及びアルミナ上に担持された白金である請求項
1の方法。 - 【請求項8】 前記触媒が、直径が約0.01mm〜5mm
で、表面積が1000m2/gより大きい活性炭である請
求項7の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US094593 | 1993-07-19 | ||
US08/094,593 US5292912A (en) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | Catalytic conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of hydrogen chloride |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0781920A true JPH0781920A (ja) | 1995-03-28 |
Family
ID=22246053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6160071A Pending JPH0781920A (ja) | 1993-07-19 | 1994-07-12 | 塩化水素の存在下での直接法高沸点成分のクロロシランモノマー類への接触転化 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5292912A (ja) |
EP (1) | EP0635510B1 (ja) |
JP (1) | JPH0781920A (ja) |
DE (1) | DE69416623T2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011068520A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Jx Nippon Oil & Energy Corp | 太陽電池用シリコンの製造方法 |
JP2011144097A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-07-28 | Mitsubishi Materials Corp | トリクロロシラン製造装置及び製造方法 |
JP2012111686A (ja) * | 2010-11-23 | 2012-06-14 | Wacker Chemie Ag | オルガノクロロシランの直接合成の液状残留物の後処理方法 |
JP2013521241A (ja) * | 2010-03-04 | 2013-06-10 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | ジシランの転化方法 |
JP2013542168A (ja) * | 2010-11-09 | 2013-11-21 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 高次シランの選択的分解法 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4431995A1 (de) * | 1994-09-08 | 1996-03-14 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von wasserstoffhaltigen Methylchlorsilanen |
US5430168A (en) * | 1994-10-27 | 1995-07-04 | Dow Corning Corporation | Alumimum trichloride catalyzed hydrogenation of high-boiling residue from direct process |
US5493042A (en) * | 1995-06-15 | 1996-02-20 | Dow Corning Corporation | Process for removing silanes from by-product stream |
US5567837A (en) * | 1996-01-31 | 1996-10-22 | Dow Corning Corporation | Disubstituted palladium catalysts for reacting organic halides with disilanes |
US5616760A (en) * | 1996-01-31 | 1997-04-01 | Dow Corning Corporation | Process for reacting organodisilanes with organic halides |
US5627298A (en) * | 1996-06-13 | 1997-05-06 | Dow Corning Corporation | One step process for converting high-boiling residue from direct process to monosilanes |
US5629438A (en) * | 1996-09-11 | 1997-05-13 | Dow Corning Corporation | Hydrochlorination process for converting high-boiling residue from direct process to monosilanes |
US6013824A (en) * | 1998-12-01 | 2000-01-11 | Dow Corning Corporation | Redistributing silalkylenes in an alkyl-rich silalkylene-containing residue |
FR2787076B1 (fr) | 1998-12-15 | 2001-02-16 | Valeo Systemes Dessuyage | Essuie-glace de vehicule automobile comportant un temoin de vieillissement |
DE10039172C1 (de) | 2000-08-10 | 2001-09-13 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum Aufarbeiten von Rückständen der Direktsynthese von Organochlorsilanen |
DE10336545B3 (de) * | 2003-08-05 | 2005-04-14 | Ge Bayer Silicones Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen |
DE10354262A1 (de) * | 2003-11-20 | 2005-06-23 | Wacker-Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkylchlorsilanen aus den Rückständen der Direktsynthese von Alkylchlorsilanen |
DE102006053157A1 (de) | 2006-11-10 | 2008-05-15 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zum Verdampfen von Bestandteilen einer Flüssigkeit |
DE102007030948A1 (de) * | 2007-07-04 | 2009-01-08 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Umwandlung von Si-H-Verbindungen in Si-Halogen-Verbindungen |
KR101573933B1 (ko) * | 2008-02-29 | 2015-12-02 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 트리클로로실란의 제조 방법 및 제조 장치 |
CN101786629A (zh) | 2009-01-22 | 2010-07-28 | 陶氏康宁公司 | 回收高沸点废料的方法 |
DE102010043649A1 (de) * | 2010-11-09 | 2012-05-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Spaltung höherer Silane |
US8637695B2 (en) | 2011-12-30 | 2014-01-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Synthesis of organohalosilane monomers from conventionally uncleavable Direct Process Residue |
US8697901B2 (en) | 2011-12-30 | 2014-04-15 | Momentive Performance Materials Inc. | Synthesis of organohalosilane monomers via enhanced cleavage of direct process residue |
CN104130279B (zh) * | 2014-06-13 | 2016-08-24 | 王金明 | 一种固体碱催化裂解有机硅高沸物的方法 |
EP3172261B2 (de) | 2014-07-22 | 2022-05-04 | Momentive Performance Materials GmbH | Verfahren zur spaltung von silicium-silicium-bindungen und/oder von silicium-chlor-bindungen in mono-, poly- und/oder oligosilanen |
CN109384233B (zh) * | 2018-12-13 | 2023-10-20 | 江苏中能硅业科技发展有限公司 | 一种用于处理硅聚合物的方法 |
EP4017861B8 (en) | 2019-08-22 | 2023-08-16 | Dow Silicones Corporation | Process for purifying silicon compounds |
CN115490862B (zh) * | 2020-09-16 | 2023-07-11 | 湖北兴瑞硅材料有限公司 | 有机硅副产高沸物综合利用的方法 |
CN115010745A (zh) * | 2022-06-13 | 2022-09-06 | 聊城市鲁西化工工程设计有限责任公司 | 一种有效去除二甲基二氯硅烷中高沸点杂质的方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2380995A (en) * | 1941-09-26 | 1945-08-07 | Gen Electric | Preparation of organosilicon halides |
US2488487A (en) * | 1946-02-07 | 1949-11-15 | Dow Chemical Co | Production of alkyl silicon halides |
US2598435A (en) * | 1949-08-18 | 1952-05-27 | Gen Electric | Process for treating organoplysilanes |
US2787627A (en) * | 1952-09-12 | 1957-04-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Process of preparing trialkylhalogenosilanes |
BE526512A (ja) * | 1953-02-20 | |||
NL90972C (ja) * | 1954-03-12 | |||
US2842580A (en) * | 1955-11-22 | 1958-07-08 | Gen Electric | Cleavage of organohalogenopolysilanes with quaternary ammonium or phosphonium halides |
DE1054995B (de) * | 1958-02-25 | 1959-04-16 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Phenyl- und Phenylmethyl-chlormonosilanen aus Chlordisilanen |
NL127615C (ja) * | 1965-06-14 | |||
US3639105A (en) * | 1970-03-27 | 1972-02-01 | Dow Corning | Preparation of hydrosilanes |
FR2342981A1 (fr) * | 1976-03-05 | 1977-09-30 | Rhone Poulenc Ind | Procede de preparation d'hydrogenosilanes |
US4079071A (en) * | 1977-03-28 | 1978-03-14 | Union Carbide Corporation | Synthesis of hydrosilanes from methylchloropolysilanes |
DE3151677A1 (de) * | 1981-12-28 | 1983-07-14 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur spaltung von organosiloxanen |
JPS59110697A (ja) * | 1982-12-17 | 1984-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | メチルハイドロジエンシラン類の製造方法 |
DE3410644A1 (de) * | 1984-03-23 | 1985-09-26 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von dimethyldichlorsilan |
FR2565231B1 (fr) * | 1984-05-30 | 1987-09-18 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de preparation d'organosilanes et d'organopolysilanes a partir d'organodisilanes |
JPH0635466B2 (ja) * | 1988-09-28 | 1994-05-11 | 信越化学工業株式会社 | ジオルガノハロゲノシランの製造方法 |
DE4134422A1 (de) * | 1991-10-17 | 1993-04-22 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von methylchlorsilanen |
US5175329A (en) * | 1992-04-03 | 1992-12-29 | Dow Corning Corporation | Production of organosilanes from polysilanes |
DE4220151A1 (de) * | 1992-06-19 | 1993-12-23 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Gewinnung von Methylchlorsilanen aus hochsiedenden Rückständen der Methylchlorsilansynthese |
US5292909A (en) * | 1993-07-14 | 1994-03-08 | Dow Corning Corporation | Catalytic conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of hydrogen chloride and hydrogen |
-
1993
- 1993-07-19 US US08/094,593 patent/US5292912A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-07-04 EP EP94304886A patent/EP0635510B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-04 DE DE69416623T patent/DE69416623T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-12 JP JP6160071A patent/JPH0781920A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011068520A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Jx Nippon Oil & Energy Corp | 太陽電池用シリコンの製造方法 |
JP2011144097A (ja) * | 2009-12-15 | 2011-07-28 | Mitsubishi Materials Corp | トリクロロシラン製造装置及び製造方法 |
JP2014080363A (ja) * | 2009-12-15 | 2014-05-08 | Mitsubishi Materials Corp | トリクロロシラン製造方法 |
JP2013521241A (ja) * | 2010-03-04 | 2013-06-10 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | ジシランの転化方法 |
US8680312B2 (en) | 2010-03-04 | 2014-03-25 | Wacker Chemie Ag | Process for conversion of disilanes |
KR101414694B1 (ko) * | 2010-03-04 | 2014-07-03 | 와커 헤미 아게 | 디실란의 변환 방법 |
JP2013542168A (ja) * | 2010-11-09 | 2013-11-21 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 高次シランの選択的分解法 |
JP2012111686A (ja) * | 2010-11-23 | 2012-06-14 | Wacker Chemie Ag | オルガノクロロシランの直接合成の液状残留物の後処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69416623D1 (de) | 1999-04-01 |
US5292912A (en) | 1994-03-08 |
EP0635510B1 (en) | 1999-02-24 |
DE69416623T2 (de) | 1999-07-22 |
EP0635510A1 (en) | 1995-01-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0781920A (ja) | 塩化水素の存在下での直接法高沸点成分のクロロシランモノマー類への接触転化 | |
JP3504729B2 (ja) | 塩化水素及び水素の存在下での直接法高沸点成分のクロロシランモノマーへの触媒転化 | |
JP3507136B2 (ja) | 水素ガスの存在下での直接法高沸点成分のシランモノマーへの転化 | |
EP0709389B1 (en) | Aluminum trichloride catalyzed hydrogenation of high-boiling residue from direct process | |
JP2918999B2 (ja) | 多有機基置換シラン及びモノアルキル化シランの製造方法 | |
JPH069655A (ja) | ポリシランからオルガノシランの製造法 | |
JP3507137B2 (ja) | 塩素の存在下での直接法高沸点成分のクロロシランモノマーへの転化 | |
US5627298A (en) | One step process for converting high-boiling residue from direct process to monosilanes | |
CA2354299C (en) | Process for working up residues from the direct synthesis of organochlorosilanes | |
JP4485631B2 (ja) | 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣におけるシルアルキレンの再分配法 | |
US5606090A (en) | Conversion of high-boiling residue from direct process to monosilanes | |
JP4447087B2 (ja) | 高分子のシリコン含有化合物のモノシランへの転化方法 | |
EP0903352A2 (en) | Removal of chlorocarbons from organochlorosilanes | |
KR100855672B1 (ko) | 고비점 잔류물로부터 모노실란 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040107 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040526 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20040601 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20040730 |