JPH0778102B2 - 弗素化アクリル又はメタクリル重合体 - Google Patents
弗素化アクリル又はメタクリル重合体Info
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- JPH0778102B2 JPH0778102B2 JP3815386A JP3815386A JPH0778102B2 JP H0778102 B2 JPH0778102 B2 JP H0778102B2 JP 3815386 A JP3815386 A JP 3815386A JP 3815386 A JP3815386 A JP 3815386A JP H0778102 B2 JPH0778102 B2 JP H0778102B2
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- G11B7/2542—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
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- C08F220/22—Esters containing halogen
- C08F220/24—Esters containing halogen containing perhaloalkyl radicals
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の背景 ただ１個のアクリル基を含み、その構造中にパーフルオ
ロポリオキシアルキレン基を含むことを特徴とするアク
リルエステルまたはアクリルアミド系モノマーから出発
して弗素化アクリル重合体を作る方法は知られている。
この系の製品は米国特許第3,814,741号明細書中の例と
して記載されている。米国特許第3,810,874号明細書か
らは、２個のアクリル基を含むパーフルオロポリオキシ
アルキレン基から成るモノマーから得られた重合体が知
られている。
ロポリオキシアルキレン基を含むことを特徴とするアク
リルエステルまたはアクリルアミド系モノマーから出発
して弗素化アクリル重合体を作る方法は知られている。
この系の製品は米国特許第3,814,741号明細書中の例と
して記載されている。米国特許第3,810,874号明細書か
らは、２個のアクリル基を含むパーフルオロポリオキシ
アルキレン基から成るモノマーから得られた重合体が知
られている。
第一の形式の重合体は非架橋構造を持つ可溶性製品であ
り、一方第二の形式の重合体は過剰な架橋度により高度
の使用回数で破断時の弾性モジュラスが高すぎ、伸びが
低すぎる。
り、一方第二の形式の重合体は過剰な架橋度により高度
の使用回数で破断時の弾性モジュラスが高すぎ、伸びが
低すぎる。
発明の詳細な記述 かくして、制御された架橋度を有し下記を含んで成るモ
ノマー混合物から得られるポリアクリレートおよびポリ
アクリルアミド系の新しい弗素化重合体を作るのが本願
発明の目的である。
ノマー混合物から得られるポリアクリレートおよびポリ
アクリルアミド系の新しい弗素化重合体を作るのが本願
発明の目的である。
ａ） パーフルオロポリオキシアルキレン鎖から成り次
の一般式の一つを有する１乃至99モル％のモノアクリレ
ートまたはモノアクリルアミド系モノマー ここで、 m,nおよびｑは０乃至50の整数、 ｍ＋ｎ＋ｑは２より低くなく、オキシフルオロアルキレ
ン単位は上記鎖に沿って統計的に分布しており、 ＡはCF3−、CF3−Ｏ−CF（CF3）−およびC3F7−系のパ
ーフルオロアルキル基端基で、 Ｚは−CX（Ｙ）Ｏ−(CH2-CH2O)p−または−CH2NR′−
で、 Ｘは水素原子または弗素原子で、 ＹはCF3またはもしＸがＨであるならばＨでもあり得
る、 ＲとＲ′は互いに等しいか異なりＨまたはCH3であり得
て、 ｐ＝０〜３である。
の一般式の一つを有する１乃至99モル％のモノアクリレ
ートまたはモノアクリルアミド系モノマー ここで、 m,nおよびｑは０乃至50の整数、 ｍ＋ｎ＋ｑは２より低くなく、オキシフルオロアルキレ
ン単位は上記鎖に沿って統計的に分布しており、 ＡはCF3−、CF3−Ｏ−CF（CF3）−およびC3F7−系のパ
ーフルオロアルキル基端基で、 Ｚは−CX（Ｙ）Ｏ−(CH2-CH2O)p−または−CH2NR′−
で、 Ｘは水素原子または弗素原子で、 ＹはCF3またはもしＸがＨであるならばＨでもあり得
る、 ＲとＲ′は互いに等しいか異なりＨまたはCH3であり得
て、 ｐ＝０〜３である。
a.2） C3F7O(C3F6O)rCF2-Z-CO-CR＝CH2 ここで、ＺとＲは上に定義した意味を持ちｒは最小２の
整数である。
整数である。
a.3） F(CH2CF2CF2O)s-CH2-CF2-Z-CO-CR＝CH2 ここで、ｓは１乃至50を含む整数で、ＺとＲは上述の意
味を持つ。
味を持つ。
ｂ） パーフルオロポリオキシアルキレン鎖から成り次
の一般式の一つを有する99乃至１モル％のジアクリレー
トまたはジアクリルアミド系モノマー。
の一般式の一つを有する99乃至１モル％のジアクリレー
トまたはジアクリルアミド系モノマー。
b.1） CH2＝CR-CO-Ｚ′-CF2O(C2F4O)m-(CF2O)n −CF2-Z-CO-CR＝CH2 ここで、単位−C2F4O−と−CF2O−は上記鎖に沿って統
計的に分布しており、ＺとＲは上記に定義されたと同じ
もので、ｍとｎは１乃至50の整数であるＺ′は−(OCH2-
CH2)p−OCX（Ｙ）−又は−NR′CH2−であり、ここでX,
Y,R′及びｐはいずれも上記と同じである、 b.2） CH2＝CR-CO−Ｚ′− −CF2O(C3F6O)r(C2F4O)s(CFXO)tCF2-Z-CO-CR＝CH2 ここで、r,sおよびｔは１乃至50の整数でZ,Z′,Xおよび
Ｒは上記に定義した意味を持ち、 b,3） CH2＝CR-CO−Ｚ′−CF2CH2(OCF2CF2CH2)s− −OR′f−Ｏ−(CH2CF2CF2O)vCH2CF2−Ｚ−CO-CR＝CH2 ここで、ｓとｖは１乃至50の整数で、Z,Z′とＲは上記
に定義した意味を持ち、Ｒ′fは炭素原子１〜６個のパ
ーフルオロアルキレンラジカルである。
計的に分布しており、ＺとＲは上記に定義されたと同じ
もので、ｍとｎは１乃至50の整数であるＺ′は−(OCH2-
CH2)p−OCX（Ｙ）−又は−NR′CH2−であり、ここでX,
Y,R′及びｐはいずれも上記と同じである、 b.2） CH2＝CR-CO−Ｚ′− −CF2O(C3F6O)r(C2F4O)s(CFXO)tCF2-Z-CO-CR＝CH2 ここで、r,sおよびｔは１乃至50の整数でZ,Z′,Xおよび
Ｒは上記に定義した意味を持ち、 b,3） CH2＝CR-CO−Ｚ′−CF2CH2(OCF2CF2CH2)s− −OR′f−Ｏ−(CH2CF2CF2O)vCH2CF2−Ｚ−CO-CR＝CH2 ここで、ｓとｖは１乃至50の整数で、Z,Z′とＲは上記
に定義した意味を持ち、Ｒ′fは炭素原子１〜６個のパ
ーフルオロアルキレンラジカルである。
上記された本発明の重合体化合物は次のような繰り返し
単位からなるアクリル又はメタクリル重合体である。
単位からなるアクリル又はメタクリル重合体である。
（ａ）次の式を有する繰り返し単位１〜99モル％、 ここで Ｒは−Ｈ又は−CH3； Ｚは−(OCH2-CH2)p-OCX（Ｙ）−又は−NR′CH2−、 ここでＸは−Ｈ又は−F,Yは−CF3又はもしＸがＨである
とき−Ｈであり得、 ｐは０〜３であり、Ｒ′はＲと互いに等しいか又は異な
り−Ｈまたは−CH3であり、 B1は以下から選ばれるパーフルオロポリオキシアルキレ
ン鎖であり、 （a,1）−(OCF(CF3))q(OCF2)n(OC3F6)mＯ−Ａ ここに、m,nとｑは０〜50の整数、ｍ＋ｎ＋ｑは２より
低くなく、Ａは−CF3，−CF（CF3）−Ｏ−CF３′−C3F7
から選ばれるパーフルオロアルキル末端基； （a,2）−(OC3F6)rOC3F7 ここにｒは２に等しいか又は２より大きな整数、 （a,3）−CH2(OCF2CF2CH2)sＦ ここにｓは１〜50の整数、 オキシフルオロアルキレン単位は鎖に沿って統計的に分
布している。
とき−Ｈであり得、 ｐは０〜３であり、Ｒ′はＲと互いに等しいか又は異な
り−Ｈまたは−CH3であり、 B1は以下から選ばれるパーフルオロポリオキシアルキレ
ン鎖であり、 （a,1）−(OCF(CF3))q(OCF2)n(OC3F6)mＯ−Ａ ここに、m,nとｑは０〜50の整数、ｍ＋ｎ＋ｑは２より
低くなく、Ａは−CF3，−CF（CF3）−Ｏ−CF３′−C3F7
から選ばれるパーフルオロアルキル末端基； （a,2）−(OC3F6)rOC3F7 ここにｒは２に等しいか又は２より大きな整数、 （a,3）−CH2(OCF2CF2CH2)sＦ ここにｓは１〜50の整数、 オキシフルオロアルキレン単位は鎖に沿って統計的に分
布している。
（ｂ）次の式を有する繰り返し単位99〜１モル％ ここに Ｒは上記と同じ意味を有し、 Z1は上記Ｚと同じ意味を有し、 Z2は−CX（Ｙ）Ｏ−(CH2-CH2O)p−又は−CH2NR′−であ
り、ここでX,Y,R′及びｐは上記と同じ意味を有し、 B2は下記から選ばれるパーフルオロポリオキシアルキレ
ン鎖であり、 （b,1）−Ｏ(C2F4O)m(CF2O)n− ここにｍとｎは１〜50の整数であり （b,2）−Ｏ(C3F6O)r(C2F4O)s(CFXO)t− ここにr,sとｔは１〜50の整数であり、、Ｘは上記と同
じ意味を有し、 （b,3）−CH2(OCF2CF2CH2)s−OR′f−Ｏ−(CH2CF2CF2O)
vCH2− ここにｓとｖは１〜50の整数、Ｒ′fは１〜６炭素原子
を有するパーフルオロアルキレン鎖、 上記オキシフルオロアルキレン単位は鎖に沿って統計的
に分布している。
り、ここでX,Y,R′及びｐは上記と同じ意味を有し、 B2は下記から選ばれるパーフルオロポリオキシアルキレ
ン鎖であり、 （b,1）−Ｏ(C2F4O)m(CF2O)n− ここにｍとｎは１〜50の整数であり （b,2）−Ｏ(C3F6O)r(C2F4O)s(CFXO)t− ここにr,sとｔは１〜50の整数であり、、Ｘは上記と同
じ意味を有し、 （b,3）−CH2(OCF2CF2CH2)s−OR′f−Ｏ−(CH2CF2CF2O)
vCH2− ここにｓとｖは１〜50の整数、Ｒ′fは１〜６炭素原子
を有するパーフルオロアルキレン鎖、 上記オキシフルオロアルキレン単位は鎖に沿って統計的
に分布している。
上記ａ）とｂ）クラスのパーフルオロポリオキシアルキ
ル誘導体は米国特許第3,810,174号、同3,814,741号、同
3,242,218号、同3,847,978号、および同3,665,041号の
各明細書および欧州特許第148,482号明細書に記載され
ているようにして作製し得る。
ル誘導体は米国特許第3,810,174号、同3,814,741号、同
3,242,218号、同3,847,978号、および同3,665,041号の
各明細書および欧州特許第148,482号明細書に記載され
ているようにして作製し得る。
クラスｂ）の欧州特許第151,877号明細書に記載されて
いる他の適当な化合物はＸ＝０または１でRfはフルオロ
アルキレン基である−CF2-(Rf)x-CF2Oを介して互いに結
合した反覆基（C3F6）を含むものである。
いる他の適当な化合物はＸ＝０または１でRfはフルオロ
アルキレン基である−CF2-(Rf)x-CF2Oを介して互いに結
合した反覆基（C3F6）を含むものである。
出来た重合体の架橋度は出発混合物の二つのコモノマー
ａ）とｂ）との間の比の函数として当然異なるものであ
る。
ａ）とｂ）との間の比の函数として当然異なるものであ
る。
さらにまた、最終重合体について得られる特性によりタ
イプａ）とｂ）の出発コモノマーの分子量を相互に独立
して変更することが可能である。
イプａ）とｂ）の出発コモノマーの分子量を相互に独立
して変更することが可能である。
得られた重合体は弾性体で興味ある物性を持つ凝集体で
ある。それらは低温、−80℃以下でさえ非常に柔軟で、
鉱油および植物油の作用に対して非常に高い抵抗性は勿
論、優れた熱劣化に対する抵抗性、特に空気の存在下で
250℃までの温度で優れた撥油撥水性を有し、それらは
総べての通常の有機溶剤中に実用的に不溶であり酸化剤
に対して高度の抵抗を示し、臨界表面張力とそこから作
製される膜のぬれ性の極端に低い値に結果する優れた表
面物性を発揮する。本発明の重合体は汚れに対して高度
の抵抗性を賦与し繊維に対し吸水性を賦与するのに特に
適当である。普通、繊維はそれ自体既知の含浸法、即
ち、得られる層の最終厚さにより適当な溶剤中のモノマ
ー溶液の中に浸漬され製品の乾燥によるか、または上記
モノマーの糊引きによって処理される。次に、既知の方
法による重合段階が続く。このように処理された繊維は
吸水に対する高度の初期抵抗を発揮するのみならず反覆
洗浄後においてもこの抵抗を保持する。
ある。それらは低温、−80℃以下でさえ非常に柔軟で、
鉱油および植物油の作用に対して非常に高い抵抗性は勿
論、優れた熱劣化に対する抵抗性、特に空気の存在下で
250℃までの温度で優れた撥油撥水性を有し、それらは
総べての通常の有機溶剤中に実用的に不溶であり酸化剤
に対して高度の抵抗を示し、臨界表面張力とそこから作
製される膜のぬれ性の極端に低い値に結果する優れた表
面物性を発揮する。本発明の重合体は汚れに対して高度
の抵抗性を賦与し繊維に対し吸水性を賦与するのに特に
適当である。普通、繊維はそれ自体既知の含浸法、即
ち、得られる層の最終厚さにより適当な溶剤中のモノマ
ー溶液の中に浸漬され製品の乾燥によるか、または上記
モノマーの糊引きによって処理される。次に、既知の方
法による重合段階が続く。このように処理された繊維は
吸水に対する高度の初期抵抗を発揮するのみならず反覆
洗浄後においてもこの抵抗を保持する。
アクリルまたはメタクリルエステルは対応するアルコー
ルからアクリルまたはメタクリル酸あるいはその誘導体
で作製できる。ａ）タイプのモノマーを作製するに有用
なアルコールの例は、 1,1−ジヒドロ−3,6−ジオキシ−４−パーフルオロメチ
ル−オクタフルオロヘプタノール−１、 1,1−ジヒドロ−3,6,9−トリオキシ−4,7−ジパーフル
オロメチル−ウンデカフルオロ−デカノール−１、 1,1−ジヒドロ−3,6,9,12−テトラオキシ−4,7,10−ト
リパーフルオロメチル−テトラデカフルオロ−トリデカ
ノール−１、 ２−ヒドロ−4,7−ジオキシ−５−パーフルオロメチル
−ウンデカフルオロ−オクタノール−２、 ２−ヒドロ−4,7,9−トリオキシ−5,8−ジパーフルオロ
メチル−ドデカフルオロ−デカノール−２、 ２−ヒドロ−4,7,10−トリオキシ−5,8−ジパーフルロ
メチル−テトラデカフルオロ−ウンデカノール２、 ２−ヒドロ−4,7,10,13−テトラオキシ−5,8,11−トリ
パーフルオロメチル−ヘプタデカフルオロ−テトラデカ
ノール−２、 ２−ヒドロ−4,7,10,12−テトラオキシ−5,8−ジパーフ
ルオロメチル−ヘキサフルオロ−トリデカノール−２、 CF3OCF2OCF2CH2OH 1,1−ジヒドロ−3,5−ジオキシ−ヘプタフルオロ−ヘキ
サノール−１、 CF3O(CF2O)2-CF2CH2OH 1,1−ジヒドロ−3,5,7−トリオキシ−ノナフルオロ−オ
クタノール−１、 CF3O(CF2O)3-CF2CH2OH 1,1−ジヒドロ−3,5,7,9−テトラオキシ−ウンデカフル
オロ−デカノール−１、 CF3O(CF2O)4-CF2CH2OH 1,1−ジヒドロ−3,5,7,9,11−ペンタオキシ−トリデカ
フルオロ−ドデカノール１、 およびそれらの混合物である。
ルからアクリルまたはメタクリル酸あるいはその誘導体
で作製できる。ａ）タイプのモノマーを作製するに有用
なアルコールの例は、 1,1−ジヒドロ−3,6−ジオキシ−４−パーフルオロメチ
ル−オクタフルオロヘプタノール−１、 1,1−ジヒドロ−3,6,9−トリオキシ−4,7−ジパーフル
オロメチル−ウンデカフルオロ−デカノール−１、 1,1−ジヒドロ−3,6,9,12−テトラオキシ−4,7,10−ト
リパーフルオロメチル−テトラデカフルオロ−トリデカ
ノール−１、 ２−ヒドロ−4,7−ジオキシ−５−パーフルオロメチル
−ウンデカフルオロ−オクタノール−２、 ２−ヒドロ−4,7,9−トリオキシ−5,8−ジパーフルオロ
メチル−ドデカフルオロ−デカノール−２、 ２−ヒドロ−4,7,10−トリオキシ−5,8−ジパーフルロ
メチル−テトラデカフルオロ−ウンデカノール２、 ２−ヒドロ−4,7,10,13−テトラオキシ−5,8,11−トリ
パーフルオロメチル−ヘプタデカフルオロ−テトラデカ
ノール−２、 ２−ヒドロ−4,7,10,12−テトラオキシ−5,8−ジパーフ
ルオロメチル−ヘキサフルオロ−トリデカノール−２、 CF3OCF2OCF2CH2OH 1,1−ジヒドロ−3,5−ジオキシ−ヘプタフルオロ−ヘキ
サノール−１、 CF3O(CF2O)2-CF2CH2OH 1,1−ジヒドロ−3,5,7−トリオキシ−ノナフルオロ−オ
クタノール−１、 CF3O(CF2O)3-CF2CH2OH 1,1−ジヒドロ−3,5,7,9−テトラオキシ−ウンデカフル
オロ−デカノール−１、 CF3O(CF2O)4-CF2CH2OH 1,1−ジヒドロ−3,5,7,9,11−ペンタオキシ−トリデカ
フルオロ−ドデカノール１、 およびそれらの混合物である。
上述の一次、二次アルコールのアクリルおよびメタクリ
ルエステルは如何なる通常の方法によっても作製でき
る。例えば、アール、ビー、ワグナーとエッチ、デー、
ヅック（R.B.Wagner and H.D.Zook）のシンセテイック
オーガニックケミストリーのジェー、ウイリー編ニュー
ヨーク（Synthetic Organic Chemistry,ed.J.Wiley N.
Y.）の479頁（1956）に出ている。
ルエステルは如何なる通常の方法によっても作製でき
る。例えば、アール、ビー、ワグナーとエッチ、デー、
ヅック（R.B.Wagner and H.D.Zook）のシンセテイック
オーガニックケミストリーのジェー、ウイリー編ニュー
ヨーク（Synthetic Organic Chemistry,ed.J.Wiley N.
Y.）の479頁（1956）に出ている。
特に、0.01乃至５重量％に等しい量のH2SO4やHClのよう
な強酸類の触媒としての存在下でアルコールをアクリル
またはメタクリル酸で直接エステル化することが可能で
ある。例えばベンゼンまたはトルエンの存在下で共沸蒸
溜による反応で生ずる水を順次取除くことによって進行
させることも可能である。
な強酸類の触媒としての存在下でアルコールをアクリル
またはメタクリル酸で直接エステル化することが可能で
ある。例えばベンゼンまたはトルエンの存在下で共沸蒸
溜による反応で生ずる水を順次取除くことによって進行
させることも可能である。
生ずるHClを中和させるために塩基の任意的な存在下で
アルコールを酸の塩化物で反応させてエステル化を行う
ことも可能である。
アルコールを酸の塩化物で反応させてエステル化を行う
ことも可能である。
エステル交換反応触媒の存在下で任意的に行うことによ
ってメチルアクリレートまたはメチルメタクリレートを
原料弗素化アルコールでエステル交換反応させてエステ
ルを作製することが可能である。
ってメチルアクリレートまたはメチルメタクリレートを
原料弗素化アルコールでエステル交換反応させてエステ
ルを作製することが可能である。
弗素化アルコールは米国特許第3,814,741号明細書に示
された方法に従って作製できる。
された方法に従って作製できる。
グループｂ）のアクリルまたはメタクリルジエステルは
モノエステルのために上述した方法に類似した方法によ
って対応するジオールから作製できる。
モノエステルのために上述した方法に類似した方法によ
って対応するジオールから作製できる。
タイプｂ）のモノマーの合成に適した弗素化ジオールの
例は次の一般式のいくつかである。
例は次の一般式のいくつかである。
HO-(CH2CH2O)p-CH2CF2O-(C2F4O)m-CF2O)n- -CF2-CH2(OCH2CH2)pOH ここで、ｐは０〜3,mとｎは１乃至50の整数、単位−C2F
4O−および−CF2O−は鎖に沿って統計的に分布される。
4O−および−CF2O−は鎖に沿って統計的に分布される。
本発明のアクリルアミドおよびメタクリルアミドは米国
特許第3,814,741号明細書に記述された処によりパーフ
ルオロポリオキシアルキル酸の対応するエステルまたは
塩化物から出発する一連の反応を通じて作製できる。
特許第3,814,741号明細書に記述された処によりパーフ
ルオロポリオキシアルキル酸の対応するエステルまたは
塩化物から出発する一連の反応を通じて作製できる。
本発明のジアクリルアミドおよびジメタクリルアミドは
ジアシッドの対応するエステルまたは塩化物から出発す
る類似な一連の反応を通じて作製できる。
ジアシッドの対応するエステルまたは塩化物から出発す
る類似な一連の反応を通じて作製できる。
本発明の目的を形成するポリアクリレートとポリアクリ
ルアミドはモノマー混合物から出発してラジカル塊状重
合または溶剤の存在下で作製できる。適当なラジカル開
始剤は例えばアゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイル
パーオキサイド、ジタ−ブチルパーオキサイド、ボロト
リアルキルと酸素である。
ルアミドはモノマー混合物から出発してラジカル塊状重
合または溶剤の存在下で作製できる。適当なラジカル開
始剤は例えばアゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイル
パーオキサイド、ジタ−ブチルパーオキサイド、ボロト
リアルキルと酸素である。
更に、重合は光化学方法、例えばU.V.放射、または高エ
ネルギー電子線の照射によって有利に行うことができ
る。
ネルギー電子線の照射によって有利に行うことができ
る。
上述の方法は特に種々の基材上の保持層として本発明の
重合体を使用するのに有利である。
重合体を使用するのに有利である。
事実、そのまま、あるいは溶剤で希釈した反応性モノマ
ー混合物を基材に塗布し、さらにそれを膜が形成される
まで放射線に当てることが可能である。
ー混合物を基材に塗布し、さらにそれを膜が形成される
まで放射線に当てることが可能である。
U.V.照射の場合、重合性膜の形成に必要な時間を低下さ
せるためにフォトスターターを添加することが必要であ
る。フォトスターターとしては、例えばベンゾフエノ
ン、ベンゾインアルキルエーテルおよびアセトフエノン
とα−フエニル−アセトフエノンのα，α−ジアルコキ
シエーテルのようなケトン誘導体が引用され得る。
せるためにフォトスターターを添加することが必要であ
る。フォトスターターとしては、例えばベンゾフエノ
ン、ベンゾインアルキルエーテルおよびアセトフエノン
とα−フエニル−アセトフエノンのα，α−ジアルコキ
シエーテルのようなケトン誘導体が引用され得る。
もしEB（電子線）技術に従って行われるならば、開始剤
は電子線の高エネルギーの結果必要なく、十分に高いMR
adレベルで行われることによって膜が数秒間で得られ
る。
は電子線の高エネルギーの結果必要なく、十分に高いMR
adレベルで行われることによって膜が数秒間で得られ
る。
本発明による重合体の性質はパーフルオロポリオキシア
ルキレン側鎖の鎖の存在でほぼ決定される。
ルキレン側鎖の鎖の存在でほぼ決定される。
特にそれは、低温での良好な柔軟性によって特徴付けら
れる。
れる。
弗素化鎖の存在は、その材料に優れた耐熱酸化性の他に
撥油撥水特性を賦与する。この特性は保護コーテイング
において高度に評価されるものである。
撥油撥水特性を賦与する。この特性は保護コーテイング
において高度に評価されるものである。
本発明の重合体は特に非常に低い屈折率、表面エネルギ
ーおよびぬれ性の値を示し、更に、２成分ａ）および
ｂ）の比とは別に十分透明な物質を得ることができる。
ーおよびぬれ性の値を示し、更に、２成分ａ）および
ｂ）の比とは別に十分透明な物質を得ることができる。
これらの特性化は非弗素化モノまたはジアクリル化合物
のコモノマーの使用によって架橋度が制御される同様な
製品中では起らない。
のコモノマーの使用によって架橋度が制御される同様な
製品中では起らない。
本発明のポリアクリレートおよびポリアミドは磁気記録
手段（デイスク、テープ）上に流動性を賦与された保護
コーテイングとして利用でき、このコーテイングはそれ
故有機または無機光学繊維上では勿論高度の耐摩耗性と
著しく長い寿命を発揮する。
手段（デイスク、テープ）上に流動性を賦与された保護
コーテイングとして利用でき、このコーテイングはそれ
故有機または無機光学繊維上では勿論高度の耐摩耗性と
著しく長い寿命を発揮する。
更にまたそれらは電気回路や光記憶記録デイスクのため
の大気雰囲気中の薬剤に対しての保護コーテイングとし
て用いることができる。
の大気雰囲気中の薬剤に対しての保護コーテイングとし
て用いることができる。
以下の実施例は本発明を説明するために与えられるがそ
の可能なる具体例を制限するためとは見做されない。
の可能なる具体例を制限するためとは見做されない。
例１ 1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフロロエタン中の1,1
−ジヒドロ−3,6,9−トリオキシ−4,7−ジパーフルオロ
メチル−ウンデカフルオロデカノール−１（対応する酸
のLiAlH4での反応により作製）の49.8g（0.1モル）溶液
に留出アクリロイル塩化物の10.9g（0.12モル）を滴下
した。
−ジヒドロ−3,6,9−トリオキシ−4,7−ジパーフルオロ
メチル−ウンデカフルオロデカノール−１（対応する酸
のLiAlH4での反応により作製）の49.8g（0.1モル）溶液
に留出アクリロイル塩化物の10.9g（0.12モル）を滴下
した。
次いでトリエチルアミン12.1g（0.12モル）が加えら
れ、その後白色の沈澱が得られた。反応は35℃で３時間
行われアミンヒドロクロライドが次に過され溶液が氷
水で洗浄された。Na2SO4で乾燥し溶剤の除却後粗製品が
60〜63℃/0.2mmHgの真空下で留出され、構造が元素分析
とNMR分析で同定されている。
れ、その後白色の沈澱が得られた。反応は35℃で３時間
行われアミンヒドロクロライドが次に過され溶液が氷
水で洗浄された。Na2SO4で乾燥し溶剤の除却後粗製品が
60〜63℃/0.2mmHgの真空下で留出され、構造が元素分析
とNMR分析で同定されている。
の49.7g（収率90％）を得た。
例２ 1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン中の40
0に等しい平均分子量を持つ式HOCH2-CF2O-(C2F4O)m-(CF
2O)n-CF2CH2OHのジ−ヒドロキシメチル末端基を持つポ
リオキシパーフルオロアルキレン40g（0.1モル）の溶液
に、溶液を室温に保って24.1g（0.25モル）の精製アク
リロイル塩化物を滴下した。引続いて24.1g（0.25モ
ル）のトリエチルアミンを加え、35℃で５時間後、ヒド
ロクロライドを過し、洗浄を氷水で行い溶液を無水化
し溶剤を減圧下で揮発させた。無色の液体が得られ、こ
の溶液は留出されてジアクリレート（沸点:0.1mmHgで10
0〜110℃）を得た。この構造はNMRとIR分析で同定され
た。収率は80％に等しかった。
0に等しい平均分子量を持つ式HOCH2-CF2O-(C2F4O)m-(CF
2O)n-CF2CH2OHのジ−ヒドロキシメチル末端基を持つポ
リオキシパーフルオロアルキレン40g（0.1モル）の溶液
に、溶液を室温に保って24.1g（0.25モル）の精製アク
リロイル塩化物を滴下した。引続いて24.1g（0.25モ
ル）のトリエチルアミンを加え、35℃で５時間後、ヒド
ロクロライドを過し、洗浄を氷水で行い溶液を無水化
し溶剤を減圧下で揮発させた。無色の液体が得られ、こ
の溶液は留出されてジアクリレート（沸点:0.1mmHgで10
0〜110℃）を得た。この構造はNMRとIR分析で同定され
た。収率は80％に等しかった。
例３ 例１で作製されたアクリルエステル38.6g（0.07モル）
と例２で得られたジアクリレート15.2g（0.03モル）と
の混合物がベンゾイルパーオキサイド（0.2g）の存在下
で80℃で12時間重合された。重合体は1,1,2−トリクロ
ロ−1,2,2−トリフルオロエタンおよび通常の有機溶剤
中で不溶な透明弾性体であり、ガラス転移温度−95℃に
よって特性化された。
と例２で得られたジアクリレート15.2g（0.03モル）と
の混合物がベンゾイルパーオキサイド（0.2g）の存在下
で80℃で12時間重合された。重合体は1,1,2−トリクロ
ロ−1,2,2−トリフルオロエタンおよび通常の有機溶剤
中で不溶な透明弾性体であり、ガラス転移温度−95℃に
よって特性化された。
例４ 前述の例のモノマー混合物の1,1,2−トリクロロ−1,2,2
−トリフルオロエタン中の１重量％溶液がガラス板上に
横たえられ、均一な約30nmの厚さの層がかくして得られ
た。板は引続き窒素ガス雰囲気中でEBプロセッサー（容
量は3MRad、150KV速度は30m/min,酸素200ppm）で高エネ
ルギーの電子線による照射に曝らされた。
−トリフルオロエタン中の１重量％溶液がガラス板上に
横たえられ、均一な約30nmの厚さの層がかくして得られ
た。板は引続き窒素ガス雰囲気中でEBプロセッサー（容
量は3MRad、150KV速度は30m/min,酸素200ppm）で高エネ
ルギーの電子線による照射に曝らされた。
透明で均一な膜が得られ、その表面上で既知の表面張力
を持つｎ−アルカン属の少数の純粋な液体、例えばヘキ
サデカンやヘプタンのようなもので接触角を測定した。
これらの接触角から、限界表面張力として定義される表
面張力の値γsd＝γc＝13（ダイン/cm）がフオークス
（Fowkes）法で計算された〔エフ、エム、フオークス
（F.M.Fowkes）のコンタクトアングル、ウエツタビリテ
イ アンド アドヒージョン（Contact Angle,Wettabil
ity and Adhesion）でこれはアドバンスドケミストリー
のシリーズ43,エー、シー、エス、ワシントン（Adv.Che
m.series 43,A.C.S.Washington）1964の99頁に所載、参
照。ここで、γcは臨界ぬれ表面張力として定義され、
γspはロンドン（London）分散力によって惹起される固
体基材表面張力として定義されていた）。
を持つｎ−アルカン属の少数の純粋な液体、例えばヘキ
サデカンやヘプタンのようなもので接触角を測定した。
これらの接触角から、限界表面張力として定義される表
面張力の値γsd＝γc＝13（ダイン/cm）がフオークス
（Fowkes）法で計算された〔エフ、エム、フオークス
（F.M.Fowkes）のコンタクトアングル、ウエツタビリテ
イ アンド アドヒージョン（Contact Angle,Wettabil
ity and Adhesion）でこれはアドバンスドケミストリー
のシリーズ43,エー、シー、エス、ワシントン（Adv.Che
m.series 43,A.C.S.Washington）1964の99頁に所載、参
照。ここで、γcは臨界ぬれ表面張力として定義され、
γspはロンドン（London）分散力によって惹起される固
体基材表面張力として定義されていた）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/72 7/24 ５３７ Ｄ 7215−5Ｄ
Claims (1)
- 【請求項１】下記の繰り返し単位からなるアクリルまた
はメタクリル重合体 （ａ）次の式を有する繰り返し単位１〜99モル％、 ここで Ｒは−Ｈ又は−CH3； Ｚは−(OCH2-CH2)p−OCX（Ｙ）−又は−NR′CH2−、 ここでＸは−Ｈ又は−F,Yは−CF3又はもしＸが−Ｈであ
るとき−Ｈであり得、ｐは０〜３であり、Ｒ′はＲと互
いに等しいか又は異なり−Ｈまたは−CH3であり、 B1は以下から選ばれるパーフルオロポリオキシアルキレ
ン鎖であり、 （a,1）−(OCF(CF3))q(OCF2)n(OC3F6)mＯ−Ａ ここに、m,nとｑは０〜50の整数、ｍ＋ｎ＋ｑは２より
低くなく、Ａは−CF3，−CF（CF3）−Ｏ−CF３′−C3F7
から選ばれるパーフルオロアルキル末端基； （a,2）−(OC3F6)rOC3F7 ここにｒは２に等しいか又は２より大きな整数、 （a,3）−CH2(OCF2CF2CH2)sＦ ここにｓは１〜50の整数、 オキシフルオロアルキレン単位は鎖に沿って統計的に分
布している。 （ｂ）次の式を有する繰り返し単位99〜１モル％ ここに Ｒは上記と同じ意味を有し、 Z1は上記Ｚと同じ意味を有し、 Z2は−CX（Ｙ）Ｏ−(CH2-CH2O)p−又は−CH2NR′−であ
り、ここでX,Y,R′及びｐは上記と同じ意味を有し、 B2は下記から選ばれるパーフルオロポリオキシアルキレ
ン鎖であり、 （b,1）−Ｏ(C2F4O)m(CF2O)n− ここにｍとｎは１〜50の整数であり （b,2）−Ｏ(C3F6O)r(C2F4O)s(CFXO)t− ここにr,sとｔは１〜50の整数であり、、Ｘは上記と同
じ意味を有し、 （b,3）−CH2(OCF2CF2CH2)s−OR′f−Ｏ−(CH2CF2CF2O)
vCH2− ここにｓとｖは１〜50の整数、Ｒ′fは１〜６炭素原子
を有するパーフルオロアルキレン鎖、 上記オキシフルオロアルキレン単位は鎖に沿って統計的
に分布している。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT19629A/85 | 1985-02-22 | ||
| IT1962985A IT1185520B (it) | 1985-02-22 | 1985-02-22 | Poliacrilati e poliacrilammidi fluorurati a grado di reticolazione controllato e loro procedimento di preparazione |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61235411A JPS61235411A (ja) | 1986-10-20 |
| JPH0778102B2 true JPH0778102B2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=11159866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3815386A Expired - Lifetime JPH0778102B2 (ja) | 1985-02-22 | 1986-02-22 | 弗素化アクリル又はメタクリル重合体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4681925A (ja) |
| EP (1) | EP0193370B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0778102B2 (ja) |
| CA (1) | CA1269796A (ja) |
| DE (1) | DE3670849D1 (ja) |
| IT (1) | IT1185520B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4830910A (en) * | 1987-11-18 | 1989-05-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Low adhesion compositions of perfluoropolyethers |
| US4873140A (en) * | 1988-04-27 | 1989-10-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Articles having low adhesion articles having coatings thereon |
| DE3844619A1 (de) * | 1988-12-10 | 1990-07-12 | Goldschmidt Ag Th | Verwendung von perfluoroalkylgruppen aufweisenden (meth-)acrylsaeureestern in der dentaltechnik |
| JPH02232814A (ja) * | 1989-03-07 | 1990-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JP2931599B2 (ja) * | 1989-05-01 | 1999-08-09 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング カンパニー | 剥離性被覆を有する支持体包含物品 |
| ATE130213T1 (de) * | 1989-07-24 | 1995-12-15 | Gelman Sciences Inc | Verfahren zur behandlung eines porösen substrats zwecks erhaltung von verbesserten wasser- und ölabweisenden eigenschaften. |
| US5156780A (en) * | 1989-07-24 | 1992-10-20 | Gelman Sciences Inc. | process for treating a porous substrate to achieve improved water and oil repellency |
| US4972037A (en) * | 1989-08-07 | 1990-11-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polysiloxane-grafted copolymer topical binder composition with novel fluorochemical comonomer and method of coating therewith |
| US5209924A (en) * | 1989-08-07 | 1993-05-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polysiloxane-grafted copolymer topical binder composition with novel fluorochemical comonomer and method of coating therewith |
| AT392478B (de) * | 1989-09-01 | 1991-04-10 | Vianova Kunstharz Ag | Verwendung von acrylatcopolymerisaten als additive fuer waessrige kationische lacksysteme |
| US4971424A (en) * | 1989-10-26 | 1990-11-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Radiation curable cladding compositions |
| US5179188A (en) * | 1990-04-17 | 1993-01-12 | Raychem Corporation | Crosslinkable fluorinated aromatic ether composition |
| JP3225040B2 (ja) * | 1990-04-17 | 2001-11-05 | アライド・シグナル・インコーポレイテツド | 架橋性フッ素化芳香族エーテル組成物 |
| DE9113936U1 (de) * | 1991-11-08 | 1992-03-12 | W.L. Gore & Associates Gmbh, 85640 Putzbrunn | Kappe zum Verschließen von Öffnungen an Ohrpaßstücken |
| US6391459B1 (en) | 1992-04-20 | 2002-05-21 | Dsm N.V. | Radiation curable oligomers containing alkoxylated fluorinated polyols |
| US6589641B1 (en) | 1998-06-04 | 2003-07-08 | Seagate Technology Llc | Thin films of crosslinked fluoropolymer on a carbon substrate |
| US6455447B1 (en) | 1998-12-18 | 2002-09-24 | Kimberly-Clark Corporation | Paper machine substrates resistant to contamination by adhesive materials |
| US6617011B2 (en) * | 1999-05-07 | 2003-09-09 | Seagate Technology Llc | Elastomeric lubricants for magnetic recording media |
| US6638579B2 (en) | 1999-12-15 | 2003-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Process of making paper machine substrates resistant to contamination by adhesive materials |
| US6680079B1 (en) * | 2000-06-02 | 2004-01-20 | Seagate Technology Llc | Planarization and corrosion protection of patterned magnetic media |
| US6849304B1 (en) | 2001-03-16 | 2005-02-01 | Seagate Technology Llc | Method of forming lubricant films |
| JP4208507B2 (ja) * | 2002-02-04 | 2009-01-14 | 株式会社ルネサステクノロジ | 薄膜磁性体記憶装置 |
| US7018681B2 (en) * | 2002-03-29 | 2006-03-28 | Seagate Technology Llc | Reducing UV process time on storage media |
| CN100540586C (zh) * | 2002-05-24 | 2009-09-16 | 3M创新有限公司 | 含有氟化聚合物的含氟化合物组合物和利用其处理纤维底物 |
| KR20050014832A (ko) * | 2002-05-24 | 2005-02-07 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 섬유성 기재의 처리를 위한 플루오르화합물 조성물 |
| MXPA04011628A (es) * | 2002-05-24 | 2005-03-31 | 3M Innovative Properties Co | Composiciones fluoroquimicas que comprenden perfluoropolieter y un alargador para tratamiento de substratos fibrosos. |
| US7425279B2 (en) * | 2002-05-24 | 2008-09-16 | 3M Innovative Properties Company | Fluorochemical composition for treatment of a fibrous substrate |
| WO2003102500A1 (fr) * | 2002-06-04 | 2003-12-11 | Olympus Corporation | Procede d'obtention de coordonnees 3 d |
| AU2003244154A1 (en) * | 2002-06-27 | 2004-01-19 | Tdk Corporation | Object with composite hard coating layer and method of forming composite hard coating layer |
| US8268446B2 (en) * | 2003-09-23 | 2012-09-18 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Photocurable perfluoropolyethers for use as novel materials in microfluidic devices |
| CA2549341C (en) | 2003-12-19 | 2014-06-10 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Methods for fabricating isolated micro- and nano- structures using soft or imprint lithography |
| AU2005220150A1 (en) * | 2004-02-13 | 2005-09-15 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Functional materials and novel methods for the fabrication of microfluidic devices |
| EP1758959A1 (en) * | 2004-05-07 | 2007-03-07 | 3M Innovative Properties Company | Stain repellent optical hard coating |
| US7101618B2 (en) | 2004-05-07 | 2006-09-05 | 3M Innovative Properties Company | Article comprising fluorochemical surface layer |
| US7342080B2 (en) * | 2004-05-07 | 2008-03-11 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable compositions, methods of making the same, and composite articles therefrom |
| US7288619B2 (en) * | 2004-05-07 | 2007-10-30 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated polyether polyamine and method of making the same |
| US20050249940A1 (en) * | 2004-05-07 | 2005-11-10 | 3M Innovative Properties Company | Fluoropolyether poly(meth)acryl compounds |
| US20050249956A1 (en) * | 2004-05-07 | 2005-11-10 | Naiyong Jing | Stain repellent optical hard coating |
| CA2593694A1 (en) * | 2004-12-30 | 2006-07-13 | 3M Innovative Properties Company | Articles comprising a fluorochemical surface layer and related methods |
| US9334418B2 (en) * | 2004-12-30 | 2016-05-10 | 3M Innovative Properties Company | Stain-resistant fluorochemical compositions |
| EP2537657A3 (en) | 2005-08-09 | 2016-05-04 | The University of North Carolina At Chapel Hill | Methods and materials for fabricating microfluidic devices |
| US20070166481A1 (en) * | 2006-01-13 | 2007-07-19 | Seagate Technology Llc | In-situ UV curing of media lubricants |
| US20100151031A1 (en) * | 2007-03-23 | 2010-06-17 | Desimone Joseph M | Discrete size and shape specific organic nanoparticles designed to elicit an immune response |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3544537A (en) * | 1968-05-31 | 1970-12-01 | Du Pont | Poly(perfluoroalkoxy)polyfluoroalkyl acrylate-type esters and their polymers |
| US3814741A (en) * | 1970-01-24 | 1974-06-04 | Montedison Spa | Acrylic and methacrylic monomers,polymers and copolymers thereof |
| US4440918A (en) * | 1982-01-18 | 1984-04-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Contact lens containing a fluorinated telechelic polyether |
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1985
- 1985-02-22 IT IT1962985A patent/IT1185520B/it active
-
1986
- 1986-02-21 CA CA000502448A patent/CA1269796A/en not_active Expired
- 1986-02-21 US US06/831,617 patent/US4681925A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-02-22 JP JP3815386A patent/JPH0778102B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1986-02-24 DE DE8686301302T patent/DE3670849D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-02-24 EP EP19860301302 patent/EP0193370B1/en not_active Expired - Lifetime
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