JPH0776435B2 - 中空の閉じた連続的部体の製造方法及び中空球体の場合の製造設備 - Google Patents

中空の閉じた連続的部体の製造方法及び中空球体の場合の製造設備

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JPH0776435B2
JPH0776435B2 JP61174709A JP17470986A JPH0776435B2 JP H0776435 B2 JPH0776435 B2 JP H0776435B2 JP 61174709 A JP61174709 A JP 61174709A JP 17470986 A JP17470986 A JP 17470986A JP H0776435 B2 JPH0776435 B2 JP H0776435B2
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ユニヴエルシテ・ポ−ル・サバテイエ（トウ−ル−ズＩｉｉ）
エス・ア・アテカ
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は中空の、閉じた連続的部体の製造方法に関し、
さらに詳しくは空虚な内部容積を取囲む連続的な回転楕
円形部体より成る中空球体の製造方法に応用出来るもの
である。本発明は更に前述の方法によって製造された中
空部体特に中空球体を包含している。同様に本発明は前
述の方法の工程を実施するのに適した製造設備に関す
る。
従来技術 広い技術の分野に於ては、表面上に巨視的な不連続性を
有しない中空部体を製造することが必要であるが、一般
的にはこのような企図される目的は、関係する応用面の
要求に完全に応えることが出来るように部片の重量を軽
減することを必要としているものである。このような中
空球体は容易に要求に適応出来るように特に実質的にそ
の軽量性及び等方性の特性を特徴とする標準単位の複合
材料を製造するのに使用出来る。このような中空球体は
同様に触媒材料として有利な応用面を有する。何故なら
ばこのような中空球体は単位重量当り甚だ大なる比表面
積を得るのを可能になすからである。更に又特に機械的
な分野に於て回転球体、適当な機械的性質を有する極め
て軽量な機械的中空部片等のような更に伝統的な中空部
体の他の応用面があるのである。
実際上中空部体特に中空球体を製造可能の多数の型式の
方法が知られている。総てのこれらの方法に於ては、中
空部体は系列をなして製造されて個々の部片の正確な位
置決めを要する個々の製造工程を有するのであって、従
ってこのような方法は一般的に面倒で自動化を行うこと
は複雑で費用の大なる設備を伴うのである。
公知の最初の型式の方法は成形又は鍛造によって２つの
殻体を製造し、これらの殻体を公知の装置によって組合
せることより成っている。この方法は引続く多数の段階
を含み、夫々の加工ステーションで正確に位置決めして
行う夫々の作動を必要とし、このような方法は高い値段
の単位部片の場合にしか有効でない。
特にチェーンの小さい球体を製造する為に使用される他
の型式の方法は、管から出発してこれらの球体を鍛造す
ることより成っているが、この方法は遥かに面倒で、甚
だ不便であり、しかも連続した球体の表面を得ることが
出来ない。何故ならば球体は必然的に２個所で穿孔され
るからである。更に利用される鍛造技術は薄い厚さの小
さい範囲で、しかも甚だ制限された材料（亀裂を生じな
い押出し加工を受けられる材料）を選択しなければ実施
出来ないのである。
与えられた形状に正確に再製を可能になす利点を有する
他の方法は個々に夫々の中空部体を破壊可能のマンドレ
ルの廻りに溶解し得る電極を当接させて電気成形（elec
troformage）を行うことによって夫々の中空部体を個々
に製造することにより成っている。このような方法も甚
だ面倒であり、更にこの方法は必然的に抽出孔を含む中
空部体しか製造出来ないのである。
更に他の方法は核を固体の被覆で被覆し、次にこの被覆
にこの核を溶解させ得る溶剤を通過させ得る孔を形成す
ることより成っている。（仏国特許第1 311 777号、米
国特許第4 464 231号）。しかし、このような夫々の球
体の個々の機械的穿孔を必要とする方法はばらばらに製
造することが出来ず、従って既述の欠点を免れないので
ある。更に球体に形成された孔は球体の均質性及び全体
の耐久性に悪影響を与えるのである。
参考として、甚だ古いいガラスの送風方法を指摘するの
が適当と考えられるが、この方法は材料が制限され、製
造されるべき中空部体の形状に適合させるのが困難であ
る。
発明の目的 本発明は、閉じられた連続的な中空部体の新規な製造方
法を提案するもので或る。
本発明の１つの目的は、ばらばらに処理を行うことが出
来、従って処理工程の間に位置決めの必要のない閉じら
れて連続的な中空部体の製造方法を提供することであ
る。
本発明の他の目的は、中空部体特に巨視的な穿孔部が全
くない皮（peau）によって夫々形成された中空球体を得
ることを可能になすことである。
他の目的は甚だ多くの種類の材料の中空部体を、陽極さ
れる特性の関数として容易に調節可能な厚さにて製造し
得るようになすことである。
更に他の目的は複合の、即ち皮が種々特性を有し、考え
られている応用面の要求を満足させるように組合された
多数のベッドより構成されるような中空部体の製造を可
能になすことである。
本発明の更に他の目的は、0.6mmより大きい外径及び少
なくとも50ミクロンに等しい皮の厚みを有する小さい中
空球体を完全に低減されたコストで甚だ大量に製造し得
る方法を提供することである。
本発明の他の目的は、中空部体又は中空球体の表面の状
態を、企図される応用面に適合させ得ることである。
発明の概要 その為に本発明による閉じた連続的な中空部体の製造方
法は、 （ａ）製造される中空部体の内部の空虚な容積に相当す
る形状の、溶剤に溶解可能な材料より成る核を使用し、 （ｂ）多孔性被覆を自己支持性になすと共に前記溶剤の
通過を許す開放せる多孔性の孔を有する前記多孔性被覆
を夫々の前記溶解可能な核上に沈着させ、 （ｃ）このようにして前記被覆を施された核を前記溶剤
内に投入して前記被覆の多孔性の孔を通過する前記溶剤
の拡散を生じさせて前記核を溶解させる、 ことを特徴とするものである。
このようにして、本発明による方法は夫々の中空部体を
連続的な多孔性の被覆の沈着によって製造して、その後
で多孔性の孔を通過する溶剤による内部の核の溶解によ
って核を除去し得るようになされるものである。中空球
体の場合には、一般的には0.5mmよりも大なる製造され
るべき球体の直径に適応された直径を有する回転楕円面
の形状の核を使用する。本発明の方法はばらばらの生成
物に対して行い得る工程しか含まず、このようにして製
造の為の費用を著しく増大させる要因である位置決めの
ような付随的な作動を排除出来るのである。更に、本発
明の方法は中空部体の表面が巨視的に不連続性を与える
穿孔部を全く有しない連続的な中空部体を形成可能にな
す。
本発明の望ましい特徴により、（ａ）外面に開放する多
数の小さい空所を有する核を使用し、 （ｂ）前記空所の位置に多孔性の孔を有する被覆を得る
ようにして前記空所を除いて実質的に前記核の表面上に
材料の沈着を行うようになすのである。例えば、外面に
開放する小さい区画を有する膨張された合成材料の核を
使用出来る。
このようにして沈着の後で、使用される合成材料の膨張
率によって調整される多孔性の被覆を得ることが出来
る。このような膨張率は核の溶解を許すように溶剤の正
しい侵入を可能になす多孔性を被覆に与えるように選ば
れるのである。
特に膨張されるポリスチレンの膨張可能の核を使用出
来、その際に溶解が、アセトン、ベンゼン、パークロー
ルエチレン、トリクロールエチレン、エーテルのような
グループの溶剤内で浸漬によって行われることが出来
る。
本発明の方法にに使用される核は公知の総ての方法によ
って適用される形態、特に膨張される材料の球体の場合
には液体内で膨張可能の材料の滴状体の霧化によって行
い得るのである。この型式の方法は現在実際に公知であ
って、実施される態様に関係して調節可能の直径の球状
の核を得られるのである。
その他、本発明の方法の有利な実施態様によれば、夫々
の核上の多孔性の被覆の沈着は、 （b1）前記空所を除いて核の表面に金属対金属の機械的
接合を可能になすのに敵した粗面を生じさせるように核
の表面の粗面化を行い、 （b2）次に核を少なくとも１つの金属被覆用化学浴内に
浸漬して、少なくとも１つの薄い導電性ベッドを前記核
上に沈着させ、 （b3）このように処理された核を少なくとも１つの電解
浴内に浸漬して、前記薄い導電性ベッド上に少なくとも
１つの金属ベッドの電着を行う、ことより成っている。
このような金属被覆方法はそれ自体公知であり、既に金
属被覆を施された合成材料の生成物を得る為に使用され
ている（金属被覆は緊密な連続的な面上に施され、緊密
な金属ベッドを形成している）。本発明の場合には、核
の小さい空所は多孔性の被覆を形成し、この被覆が溶解
相のその後の使用を可能になすのである。
勿論、被覆作業を長時間行えば外周面全体が被覆され
て、多孔性は失われるが、作業条件を適切に選定するこ
とによって空所部分に沈着が行われず孔が形成されるよ
うにすることができる。
化学的な粗面化工程（b1）は特に核をばらばらに希釈溶
剤又は希釈酸内に浸漬して浴内で核を攪拌し、次に核の
表面を犯す対応浸漬時間の間洗浄することより成ってい
る。この粗面化は空所の間の核の表面の状態を修正して
表面に凹凸を生じさせ、この凹凸が次の工程（b2）で沈
着される薄い導電性ベッドの良好な接着を保証するので
ある。
例えば膨張されたポリスチレンの核の場合には、化学的
粗面化（b1）は水に50乃至90容積％の濃度に希釈したア
セトン内に600乃至５秒浸漬することによって行われる
のである。浸漬時間は濃度の逆関数をなす範囲で制御さ
れ、核の表面の破壊又は過大な形状の変化を生じないよ
うにして核の表面の充分な局部的浸食を得るようになさ
れるのである。
工程（b2）にて沈着される金属被覆ベッドは極めて薄い
厚さしか有しない。何故ならば１回の浸漬では実際上５
ミクロンを超える厚さのベッドを形成出来ないからであ
る。このような金属被覆ベッドは単に核の表面を導電性
になし、次に電着（b3）を行い、これによって所望の調
節可能の厚さのベッドを沈着出来るようになすことを企
図するものである。
それ自体は公知の方法で、この金属被覆工程（b2）は核
をばらばらに３つの金属被覆用の化学的浴内に引続いて
浸漬させ、その際に第１の浴が錫の薄い受感性は薄膜を
沈着させる為の錫塩基剤を有し、第２の浴が銀又はパラ
ジウムの薄い触媒薄膜を沈着させる為の銀又はパラジウ
ム塩基剤を有し、第３の浴が銅又はニッケルの薄い導電
性ベッドを沈着させる為の銅又はニッケル塩基剤を有す
るようになされている。錫の薄い薄膜は第２の浴に浸漬
する際に酸化還元反応を容易になすが、適当な導電性の
表面を形成するのには不充分である。錫の浴内には核の
表面の湿潤化を容易にする界面活性生成物を含むのが望
ましい。銀又はパラジウムの薄い薄膜は第３の浴内に浸
漬する際に触媒作用を有するが、同様に表面に電着の際
の適当な導電性を与えるのには不充分である。
第３の浴内に浸漬する際に得られる薄い導電性のベッド
は10ミクロンの程度の厚さを有することが出来、電着作
用を行うのに完全に適当な導電性を与えるのである。
この電着（b3）は、 核をばらばらに上部に陰極を有する穿孔された回転バレ
ル内に投入し、 バレルに対向する細長い陽極を内部に含み、且つ金属塩
基剤を有する電解浴内にこのバレルを浸漬させ、 所望の金属ベッドの厚さの関数である時間の間前記陽極
及び陰極の間に電位差を与える、 ことより成るのが望ましい。
電解浴は特にニッケルの結晶又はニッケル合金のベッド
を得られるようにニッケル塩基剤を有することが出来
る。同様にして不定形ニッケル合金ベッドを得られるよ
うに類金属錯化合物（それ自体は公知の）を添加してニ
ッケル塩基剤を有することが出来る。
このようにして自己支持性の被覆が得られるが、その際
に50ミクロンより厚いのが望ましい被覆の厚さが電着工
程の時間の簡単な調整によって調節出来るのである。注
目すべきことは、導電性の薄いベッド（b2）が核の空所
を除いて外面に実質的に作用を与えて、その結果、電解
沈着がこの面上に独特に行われて、これが何等かの厚さ
の被覆の多孔性の特徴を保証するのである。
引続いて多数の電着を行って多層ベッドの被覆を得るこ
とが可能であって、その際に多層ベッドは種々の特性を
得られるように種々の性質のものになし得る。このよう
な電着はニッケル、鉄、クロム、モリブデン、タングス
テン、コバルト及びこれらの金属の合金、結晶又は不定
形のような現在の方法の金属の沈着を可能になすのであ
る。
このような電着は場合により薄いベッドを表面に形成さ
せる為に金属被覆用化学的浴内に浸漬させることによっ
て金属ベッド（b4）の化学的沈着を伴うことが出来、こ
の新しい沈着は電着された金属上に行われてこの沈着物
に対して触媒の役目をなし、これが被覆の多孔性の特徴
を保有するのを可能になす。得られた新しいベッドは中
空部体又は中空球体に耐腐食性（例えばニッケル／燐、
ニッケル／硼素・・・）を与える為に、又は中空部体の
導電性特性（新しい銅のベッド）を向上させる為に或る
応用面で有利なものである。
その他、核の溶解工程（ｃ）は寒冷状態又は低温状態で
ばらばらに溶剤内に浸漬することによって行われ、既に
形成された皮を変質させないで、又皮の汚染又はこの皮
の中に機械的な拘束を発生させないで核の完全な除去を
可能になすのである。特に、このような溶解は結晶合金
内の粒子の粗大化を回避するのを可能になし、その結
果、被覆の耐久性の特性を保有させるのである。不定形
被覆の場合には、このような溶解は特性を変化させる恐
れのあるような材料の再結晶の危険を総て排除するので
ある。
場合によっては、電着を行うのに役立つ内部の薄い薄膜
又はベッド（受感性化薄膜、触媒薄膜応用導電性の薄い
薄膜）はそれ自体が電着された上層のベッドを保有させ
て選択的な溶剤内に溶解されることが出来るのである。
その他、核を溶解した後で（又場合により内部の薄膜又
はベッドを溶解した後で）、（ｄ）多孔性の被覆上に対
象物の多孔性の特性を排除し又は応用面に適合した異な
る材料を被覆する為に緊密なベッドを沈着させることが
出来る。このベッドは公知の甚だ多くの種々の方法で
（浸漬（trempa−ge）、陰極霧化沈着（pulveriqation
cathodique）、真空蒸着、蒸気相に於ける化学的沈着、
被覆成形（surmoulage）・・・）によって形成されるこ
とが出来、このようにして甚だ多くの種々の材料（結晶
又は不定形の合金、強力鋼（acier refrac−taire）、
セラミック、合成材料、金属酸化物及びその合金、弾性
体・・・）によって作られることが出来る。
本発明は、新規な製品である限り前述の方法によって製
造された中空部体特に回転楕円体に拡張されるもので、
夫々の中空部体は閉じられた連続的な内部の空虚な部分
の廻りに配置される皮を有することを特徴とするもので
ある その他、本発明は、良好な条件で核を溶解した後で多孔
性の被覆の廻りに緊密なベッドを形成する目的で中空球
体の浸漬工程（ｄ）を行い得る浸漬設備を提供すること
を企図するもので、本発明による設備は、硬化可能の材
料の液体浴を含む坩堝と、周囲が前記浴の表面の近辺を
通過するように坩堝の上方に配置された回転輪体と、前
記輪体の回転駆動装置と、前記輪体の周囲に隣接して前
記浴を通過するように前記坩堝内に配置される穿孔部を
有する球体案内シュートと、球体を前記シュートに供給
する装置と、前記シュートの出口から排出される球体を
受取る装置とを含む。
発明の実施例 本発明の他の特徴及び利点は以下の添付図面を参照して
行われる説明によって明らかになるが、これらの図面は
一方では使用される設備の概略を示し、他方では中空球
体を製造する場合の例１及び２を実施する方法の段階を
示す。
第１図に概略的に示された設備はばらばらの球体に対し
て次の作動を行うのを可能になしている。即ち（b1）回
転楕円体の形状の核の粗面化、（b2）錫の受感性薄膜の
沈着、銀又はパラジウムの触媒薄膜の沈着及び銅又はニ
ッケルの導電性ベッドの沈着及び（ｃ）核の溶解であ
る。
この設備は処理を行うのに適した浴を満たしたドラム１
を含んでいる。この浴はポンプ２によって循環され、こ
のポンプは上部にて溢流容器３内に浴の液体を取出して
下方に推進され、ドラム１内に戻すようになっている。
ポンプ２はフィルター装置４と組合されている。
ドラム１は穿孔されたバレル５を含み、このバレルは柱
状体６によって支持された２つの枢止軸上に回転するよ
うに取付けられていて、全体的に網目状に穿孔されたポ
リプロピレンによって作られたこのバレルは周囲に電気
モーターによって作動される歯形を設けられたリングギ
アを支持している。この例に於て与えられるバレルの回
転速度は50回転／分である。
バレルは内部に偏向板７を含み、これらの偏向板は浴内
の球体の攪拌を確実になしている。
サーモスタットと組合された加熱ロッド装置が場合によ
り浴を100℃程度の温度まで加熱出来るようになしてい
る。
第２図に概略的に示された設備はばらばらの球体に対し
て電着工程（b3）を行い得るようになっている。
この設備は前述のものと同様であるが、更に次のものを
含んでいる。即ち バレルの夫々の側でバレルに対面して配置された沈着金
属の板によって形成された符号８により示されるような
一連の陽極と、 バレルの長手方向に沿って配置され、上部がバレルの回
転方向に位置をずらされた不銹鋼の充実した球体によっ
て形成された符号９のような一連の陰極と、 を含んでいる。
２つの陽極８は互いに並列に安定した電流の直流供給源
の正のターミナルに接続され、陰極は互いにこの直流電
源の負のターミナルに接続されている。
この例で行われるバレルの回転速度は0.6回転／分であ
る。
その他、第３図及び第４図に示された設備は核を溶解し
た後でばらばらの球体に対して１つ又は多数の緊密なベ
ッドを沈着させる補助工程（ｄ）を行い得る。
この設備は閉じた囲い10を含んでいて、この囲いは入口
11を含み、この入口を通って球体供給装置12が配置さ
れ、又出口13を含み、この出口を通って球体が排出され
るようになっている。球体の受入れ装置（図示せず）が
囲いの外側でこの出口13と組合されているが、この受入
れ装置は冷却された囲いによって構成されることが出来
る。
囲い10は坩堝14を含み、この坩堝内に沈着される固化可
能の液体浴が投入されている。坩堝14は高さを調節可能
の装置によって支持されている。微調整ねじ15が坩堝支
持体17を支持する台形状の楔体16を移動させて坩堝14の
高さを調節出来るようになっている。
坩堝14は電気抵抗18のような加熱装置（又はインダクシ
ョン加熱装置）を設けられ、サーモスタット装置（図示
せず）が浴の温度を所望の正確な値に調整出来るように
なしている。
更に、坩堝14は液体浴のレベルを調整する装置を設けら
れていて、例えばこの装置は19にて象徴的に示されたマ
イクロ接点によって構成され、これが材料（一般的に粉
末状の形態又は場合により液体の形態の）を流入導管20
内に導入させる指令を発するのである。このレベル調整
装置は同様に公知の他の装置によって構成されることが
出来、特に光学的装置によって構成されることが出来
る。
囲い10は、電気モーター（図示せず）によってこの例で
は300回転／分の速度で回転される軸22上に支持された
回転輪体１を含んでいる。この回転輪体21は坩堝14の上
方で垂直平面内に配置されていて、その周囲が浴の表面
に接触しないで浴の表面の近辺を通過するようになされ
ている。
球体の案内シュート23が供給導管装置12及び坩堝14の間
に配置されていて、このシュート23は穿孔された部分23
aを含み、この穿孔部が坩堝14内に位置して回転輪体12
の周囲に近接して浴を横切っている。
この穿孔部部分23aは回転輪体21と同心的な円弧状の形
状を有してこの回転輪体の周囲の下方部分にかぶさるよ
うになされて、回転輪体が浴の表面の近辺までシュート
内に侵入するようになされている。
丸窓24が囲い10の内部を観察出来るようになしている。
被覆される球体は導管12を通ってシュート23内に導入さ
れ、この導入は振動する碗状体によって一体的に行うこ
とが出来る。球体は重力によって浴の表面まで移送さ
れ、こゝで回転輪体21によって動かされるのである。回
転輪体21は球体を回転輪体上で回転させ、浴内に浸漬さ
せて出口に向って誘導するのである。
第５図において球体は入口11から供給導管装置12及び案
内シュート23を通って坩堝14に到り、案内シュート23の
穿孔された部分23aから入りこむ浴に浸され、案内シュ
ート23を通る間において回転輪体21によって推進力を受
けることが示される。案内シュート23の第５図において
左端が浴の区域に終っているように示されるが、図示し
ない出口案内シュートが設けられていて、回転輪体21に
より推進力を与えられている球体は出口案内シュートを
経て出口13から出る。
試験の結果はこのような設備が夫々の球体上に均一な被
覆を形成し得ることを示したが、その理由は次の通りで
ある。
浴内の滞在時間が総ての球体に対して著しく一定である
こと、 与えられる運動の作用によって総ての球体の表面が浴に
対して均一に接触され得ること、 球体間の接着の危険が総てを排除されること、 によるのである。
浴の出口に於て、球体は囲い10の出口13に向って排出さ
れ、高温度の沈着の場合には冷却を与えられるのであ
る。
以下に述べる２つの例は本発明の段階を示し、前述の設
備によって実施し得るものである。
例１ この例に於て製造される球中空球体は本願と共に出願さ
れた既述の特許願に記載された修正された複合材料によ
り製造されるものである。
工程ａ 球体は、第5a図に符号25によって概略的に示されたよう
な膨張されたポリスチレンの回転楕円体の核から出発し
て製造されている。この核の直径は6mmであるように選
択されている。核の密度は80kg/cm3である。
夫々の核は外面に開口する符号26のような小さい多数の
空所を含んでいる。
核の製造はそれ自体公知であって、例として会社「トゥ
ールパック（トゥールーズ）」から得られる。
工程b1 最初の処理工程は核を次の容積組成の溶剤、即ち アセトン 90％ 消イオン化された水（eau desionisee） 10％ の組成の溶剤内に浸漬することより成っている。
この浸漬は第１図に示された設備内で20℃の環境温度で
５分間行われた。
同じ設備内で消イオン化された水によって夫々２分間程
度の時間の間引続いて２回の洗浄が行われた。
このような粗面化に続いて夫々の核の外面は第5b図に概
略的に示されたような粗面を有していて、これが次の工
程で沈着される第１の薄膜の接着を可能になしていた。
工程b2 この工程は第１図の設備にて次の状態で引続く３つの段
階で行われた。
工程b2の第１の段階（受感性の薄膜） 塩化錫 40g/l クロルヒドリン酸 40ml/l 表面活性剤 0.1ml/l 沈着は環境温度で10分間行われた。その後で２回の消イ
オン水の洗浄を受けた。次の段階で行われる還元反応
（reaction de reduction）を有利になすような錫の甚
だ薄い薄膜を得た。
工程b2の第２の段（触媒薄膜） 水浴が次の組成と共に消イオン水から出発して用意され
た。即ち 硝酸銀 10g/l 水酸化アンモニウム 大匙１杯の溶液を得るまで添加 によって用意された。
処理温度は20℃で継続時間は10秒であった。
沈着物は次に消イオン水による２回の洗浄を受け、次の
段階の沈着の触媒をなす薄い銀薄膜を得た。
工程b2の第３の段階（導電性の薄いベッド） 水浴は次の組成と共に消イオン水から出発して用意され
た。
硫酸銅 24g/l 37％蟻酸 60ml/l ロッシェル塩 110ml/l ソーダ 25g/l 処理温度は20℃で継続時間は20分であった。
この処理は次に消イオン水によって２回洗浄を受け、銅
の薄い導電性ベッドを形成した。
この工程b2の後で、夫々の核の表面は第5c図に示される
ような特徴を示し、核の空所を除く表面が甚だ薄い錫の
第１の薄膜27、これよりも厚い厚さの銀の第２の薄膜2
8、最後に更に厚い厚さ（10ミクロンの程度）の銅の薄
いベッド29によって被覆された。
工程b3 この電着の位相は第２図に示された設備内で次の組成を
有する消イオン水から出発して用意された水浴によって
行われた。即ち ニッケルスルファマト（sulfamate de nickel） 350g/l 硼酸 40 g/l 塩化ニッケル 5 g/l アンティピキュル剤（agentanti−piqure）（表面活性
剤） 0.1m l/5l の組成を有するものであった。
処理条件は次のようなものであった。
浴の温度 55℃ pH 3.5乃至4.5 陰極電流 10A/dm2 継続時間 120 分 この処理に続いて前述と同様の２回の洗浄が行われた。
得られた球体は第5d図に概略的に示されたような特徴を
有していた。導電性ベッド29は120ミクロンの程度の厚
さの結晶ニッケルベッド30によって被覆されていた。
これらのベッドの構成体はポリスチレンの核の空所26の
高さ位置に開放する多孔性の孔を有していた。
工程b4 この例では、１つの補助ベッドが化学的な方法でニッケ
ルベッド30上に沈着されて球体の耐腐食性を向上させる
ようになっている。第5e図に符号31で示されているこの
補助ベッドは被覆の多孔性の特徴を保有し、従って核の
溶解の前に沈着されることが出来る。
球体は第１図の設備によって商業的に入手可能の下記の
生成物（「フラパ・イマザ」（Frappaz Imaza）による
製品）即ち アンプラート418A（Enplate 418A） アンプラート418B（Enplate 418B） を含む消イオン水から出発して用意された水浴内に浸漬
される。
浴の温度は98℃で処理の後で消イオン水による２回の洗
浄及び恒温器による乾燥を受けた。
このようにして多孔性の被覆上にニッケル／燐の微結晶
合金の耐腐食性の化学的沈着物を施すことが出来た。
工程ｃ この工程は第１図の設備にて30分間パークロールエチレ
ンの純粋な溶剤内に球体を浸漬することより成っている
（第5f図）。
処理の終りに核は完全に溶解し、球体は恒温器にて乾燥
された。
こゝで処理なる用語によって顕微鏡的な不連続性のない
連続的な皮を夫々有する6mm程度の直径を有する符号32
によって概略的に示されるような球体を得られることを
意味するものとする。
これらの球体に対して圧縮試験が施されたが、大なる耐
圧性及び広い可塑性範囲を確認出来た。何故ならば最大
12バールの負荷にても破壊が生じないで球体は約３バー
ルから次第に潰れて来たのである。
このような卓越した可塑性は球体に衝撃に対する良好な
吸収能力を与える。その他上側のベッドは球体に卓越し
た腐食に対する抵抗を与えるのである。
注目されることは、球体が物理化学的に甚だ均一な特性
を与え、結果のばらつきが極めて小さかったことであ
る。
例２ この例に於ては工程（ａ）（b1）、（b2）（b3）は前述
の例１と同様であった。その後で核の溶解の工程（ｃ）
が例１の場合と同様に行われた。
工程d1 次に第３図及び第４図の設備にて金属の緊密なベッド
（第6a図にて符号33で概略的に示したような）の沈着を
行った。
浸漬によるこの沈着は坩堝14内に組成が75/25の鉄／ク
ロムの溶融浴を入れて1520℃の温度で行った。
囲い10には窒素によって形成された還元雰囲気が充満さ
れていた。浴内の球体の滞在時間は2/10乃至3/10秒にな
すことが出来た。
100ミクロンの程度の厚さの鉄／クロムの結晶合金の沈
着物が得られ、これが球体の多孔性を排除して、高温度
の良好な機械的特性を与えた。
位相d2 このようにして得られた球体は次に伝統的な型式の蒸気
相の化学的沈着（C.V.D.）を受けて、珪素酸化物の沈着
物を被覆させた（第6b図に符号34によって示されてい
る）。厚さが10ミクロン程度のこのような表面沈着物は
球体に対して電気的表面上の絶縁特性及び腐食に対する
良好な抵抗能力を与えるのである。
このようにして本発明の方法は、企図された応用面に於
ける機械的特性、電気的特性、熱的特性、磁気的特性、
弾性的特性等の要求に答えることの出来る中空球体（及
び更に一般的には中空部体）を与えることが出来るので
ある。
第７表は本発明の方法を可能になす大なる選択の可能性
を示している。
発明の効果 上述のように本発明によれば、簡単で安価な態様で大規
模な複雑で精密な位置決め装置を要しないで、厚さを調
節可能の、広い応用面に夫々適応出来る中空部体をばら
ばらな状態で極めて容易に製造出来る優れた効果が得ら
れるのである。
【図面の簡単な説明】 第１図及び第２図は夫々中空部体を製造する諸工程を行
い得る設備の概略的断面図。 第３図及び第４図は夫々本発明の望ましい方法の諸工程
を実施し得る設備の夫々垂直平面Ａ−Ａ′及びこれに垂
直な垂直平面Ｂ−Ｂ′による断面図。 第5a図、第5b図、第5c図、第5d図、第5e図、第5f図及び
第5g図は夫々本発明の方法の第１の例の諸工程を概略的
に示す説明図。 第6a図及び第6b図は本発明の例２に関係する工程を概略
的に示す説明図。 １……ドラム ２……ポンプ ３……溢流容器 ４……フィルター装置 ５……穿孔バレル ７……偏向板 ８……陽極 ９……陰極 10……囲い 12……球体 14……坩堝 19……マイクロ接点 21……回転輪体 23……案内シュート 23a……穿孔部 25……回転楕円体の核 26……小さい空所 30……被覆 33、34……ベッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２５Ｄ 1/08 17/16 Ａ (72)発明者 ジャン・ピエール・ボニノ フランス共和国31500 トウールーズ・リ ュ・セン・ベルトラン12 (72)発明者 アベル・ルーセ フランス共和国31520 ラモンヴィル・リ ュ・ジャン・ムーラン16 (72)発明者 クロード・ロシニョル フランス共和国82000 モントーバン・リ ュ・オノレ・ド・バルザック２ (72)発明者 イザベル・ネ・エラルド・ゴサール フランス共和国92290 シャトネ・マラブ リ・リュ・ド・ゼネラル・ド・ゴール16 (56)参考文献 特開 昭59−35695（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−35696（ＪＰ，Ａ)

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（ａ）製造される中空部体の内部の空虚な
    容積に相当する形状の、溶剤に溶解可能な材料より成る
    核（25）を使用する如き、 型式の中空の閉じた連続的部体の製造方法に於て、前記
    方法が、 （ｂ）多孔性被覆（30）を自己支持性になすと共に前記
    溶剤の通過を許す開放せる多孔性の孔を有する前記多孔
    性被覆（30）を夫々の前記溶解可能な核上に沈着させ、 （ｃ）このようにして前記被覆を施された核を前記溶剤
    内に投入して前記被覆の多孔性の孔を通過する前記溶剤
    の拡散を生じさせて前記核を溶解させる、 ことを特徴とする製造方法。
  2. 【請求項２】中空球体を製造する為の特許請求の範囲第
    １項記載の方法に於て、（ａ）回転楕円体の形状の核を
    使用することを特徴とする方法。
  3. 【請求項３】（ａ）0.5mmよりも大なる直径の回転楕円
    体の形状の核を使用することを特徴とする特許請求の範
    囲第２項記載の方法。
  4. 【請求項４】（ａ）外面に開放する多数の小さい空所
    （26）を有する核を使用し、且つ（ｂ）前記空所の高さ
    位置に多孔性の孔を与える被覆（30）を形成するように
    前記空所を除いて実質的に核の表面上に材料を沈着させ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第１項、第２項又は
    第３項の何れか１項に記載の方法。
  5. 【請求項５】（ａ）外面に開放する小区画を有する膨張
    された合成材料の核を使用することを特徴とする特許請
    求の範囲第４項記載の方法。
  6. 【請求項６】（ａ）膨張されたポリスチレンの核を使用
    し、且つ（ｃ）前記溶解がアセトン、ベンゼン、パーク
    ロルエチレン、トリクロルエチレン、エーテルの群より
    選ばれた溶剤内に浸漬することによって行われることを
    特徴とする特許請求の範囲第５項記載の方法。
  7. 【請求項７】前記核に対する多孔性被覆の沈着が、 （b1）前記空所を除いて核の表面に金属対金属の機械的
    接合を可能になすのに適した粗面を生じさせるように核
    の表面の粗面化を行い、 （b2）次に核を少なくとも１つの金属被覆用化学浴内に
    浸漬して、少なくとも１つの薄い導電性ベッド（27、2
    8、29）を前記被覆上に沈着させ、 （b3）このように処理された核を少なくとも１つの電解
    浴内に浸漬して、前記薄い導電性ベッド上に少なくとも
    １つの金属ベッド（30）の電着を行う、 ことより成っている特許請求の範囲第４項、第５項又は
    第６項の何れか１項に記載の方法。
  8. 【請求項８】（b1）化学的粗面化を希釈溶剤又は希釈酸
    内に前記核をばらばらに浸漬して攪拌することによって
    行い、次に核の表面を犯す対応浸漬時間の間洗浄を行う
    ようになされている特許請求の範囲第７項記載の方法。
  9. 【請求項９】（ａ）膨張されたポリスチレンの核を使用
    し、且つ（ｂ）前記溶液がアセトン、ベンゼン、パーク
    ロルエチレン、トリクロルエチレン、エーテルの群より
    選ばれた溶剤内に浸漬することによって行うようになさ
    れている特許請求の範囲第８項記載の方法に於て、前記
    化学的粗面化（b1）が50％乃至90％の容積濃度のアセト
    ンの希釈水溶液内に前記濃度の逆関数をなす600及び５
    秒の継続時間の間浸漬することによって行うようになさ
    れている方法。
  10. 【請求項１０】（b2）前記核をばらばらに３つの金属被
    覆用化学浴内に引続いて浸漬させ、その際第１の浴が薄
    い錫の受感性薄膜（27）を沈着させる為に錫塩基剤を有
    し、第２の浴が銀又はパラジウムの薄い触媒薄膜（28）
    を沈着させる為に銀又はパラジウム塩基剤を有し、第３
    の浴が銅又はニッケルの薄い導電性ベッド（29）を沈着
    させる為に銅又はニッケル塩基剤を有するようになされ
    ている特許請求の範囲第７項、第８項又は第９項の何れ
    か１項に記載の方法。
  11. 【請求項１１】前記電着（b3）が、 前記核を上部に陰極（９）を有する穿孔された回転バレ
    ル内にばらばらに投入し、 前記バレルを金属塩基剤を有する電解浴内に浸漬し、そ
    の際に前記浴が前記バレルに対面してこの浴内に浸漬さ
    れる陽極（８）を含むようになされていて、 所望の金属ベッドの厚みの関数をなす継続時間の間前記
    陽極及び陰極の間に電位差を与える、 ようになされている特許請求の範囲第７項、第８項、第
    ９項又は第10項の何れか１項に記載の方法。
  12. 【請求項１２】前記電解浴がニッケル塩基剤を有し、ニ
    ッケルの結晶又はニッケルの合金のベッドを得るように
    なされている特許請求の範囲第11項記載の方法。
  13. 【請求項１３】前記電解浴がニッケル塩基剤を有し、更
    に類金属錯化合物を含み、非結晶ニッケル合金のベッド
    を得るようになされている特許請求の範囲第11項記載の
    方法。
  14. 【請求項１４】（b3）引続いて多数の電着を行って、多
    層ベッドの被覆を得るようになされている特許請求の範
    囲第７項、第８項、第９項、第10項、第11項、第12項又
    は第13項の何れか１項に記載の方法。
  15. 【請求項１５】（b4）前記電着に続いて金属被覆用化学
    浴内に浸漬して新しい薄い表面ベッド（31）を形成する
    金属ベッドの化学的沈着を行うことを特徴とする特許請
    求の範囲第７項、第８項、第９項、第10項、第11項、第
    12項、第13項又は第14項の何れか１項に記載の方法。
  16. 【請求項１６】前記核の溶解の後で（ｄ）前記多孔性被
    覆上に浸漬又は陰極霧化沈着又は真空蒸着又は蒸気相の
    化学的沈着又は上層成形によって少なくとも１つの緻密
    なベッド（33、34）を沈着させることを特徴とする特許
    請求の範囲第１項乃至第15項の何れか１項に記載の方
    法。
  17. 【請求項１７】（ａ）製造される中空部体の内部の空虚
    な容積に相当する形状の、溶剤に溶解可能な材料より成
    る核（25）を使用し、 （ｂ）多孔性被覆（30）を自己支持性になすと共に前記
    溶剤の通過を許す開放せる多孔性の孔を有する前記多孔
    性被覆（30）を夫々の前記核上に沈着させ、 （ｃ）前記核及び前記被覆を前記溶剤内に投入して前記
    被覆の多孔性の孔を通過する前記溶剤の拡散を生じさせ
    て前記核を溶解させ、 （ｄ）前記核の溶解の後で前記多孔性被覆上に浸漬又は
    陰極霧化沈着又は真空蒸着又は蒸気相の化学的沈着又は
    上層成形によって少なくとも１つの緻密なベッド（33、
    34）を沈着させる型式の中空の閉じた連続的部体の製造
    方法を実施する為の球体の浸漬設備に於て、固化可能の
    材料の液体浴を含む坩堝（14）と、周囲が前記浴の表面
    の近辺を通過するように前記坩堝の上方に配置された回
    転輪体（21）と、前記輪体の回転駆動装置と、前記輪体
    の周囲に隣接して前記浴を通過するように前記坩堝内に
    配置される穿孔部（23a）を有する球体案内シュート（2
    3）と、球体を前記シュートに供給する装置と、前記シ
    ュートの出口から排出される球体を受取る装置とを含ん
    でいることを特徴とする設備。
  18. 【請求項１８】前記シュート（23）が前記坩堝（14）の
    内部に前記輪体（21）と同心的な円の１部の形状をなす
    部分（23a）を有し、前記輪体が前記浴の表面の近辺ま
    で前記シュート内に侵入するように配置されていること
    を特徴とする特許請求の範囲第17項記載の設備。
  19. 【請求項１９】加熱した状態で前記球体上にベッドを沈
    着させる為の特許請求の範囲第17項又は第18項の何れか
    １項に記載の設備に於て、前記坩堝（14）が加熱及び温
    度調節装置（18）を設けられていることを特徴とする設
    備。
  20. 【請求項２０】前記坩堝（14）が液体浴の高さ位置の調
    節装置（19、20）を設けられていることを特徴とする特
    許請求の範囲第17項、第18項又は第19項の何れか１項に
    記載の設備。
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