JPH0773844A - イオン注入装置 - Google Patents
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- JPH0773844A JPH0773844A JP5239074A JP23907493A JPH0773844A JP H0773844 A JPH0773844 A JP H0773844A JP 5239074 A JP5239074 A JP 5239074A JP 23907493 A JP23907493 A JP 23907493A JP H0773844 A JPH0773844 A JP H0773844A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 イオンビームを試料に照射してイオンを試料
に注入する際に、ビーム電流測定系の誤差電流をも考慮
してビーム電流を精確に測定する。 【構成】 プラテン１１上のウエハ１０にイオンを注入
してビーム電流測定部１３とファラデー電極１５とによ
ってビーム電流を測定する際、走査電極７及び８により
走査されるイオンビーム１２が入射角制限用のマスク１
７に当たっている時に、ビーム走査制御部２１の指示に
よりファラデー電極１５に流れる誤差電流をビーム電流
測定部１３によって測定する。そして、電流制御部２２
の指示により誤差電流を打ち消す量の補正電流を外部電
流源２３を用いて流す。ファラデー電極１５の帯電やフ
ァラデー電極１５とサプレッサー電極１６との間の放電
等によって、ビーム電流測定部１３にビーム電流以外の
誤差電流が流れ込んだ場合でも、その誤差電流に応じて
ビーム電流が補正される。
に注入する際に、ビーム電流測定系の誤差電流をも考慮
してビーム電流を精確に測定する。 【構成】 プラテン１１上のウエハ１０にイオンを注入
してビーム電流測定部１３とファラデー電極１５とによ
ってビーム電流を測定する際、走査電極７及び８により
走査されるイオンビーム１２が入射角制限用のマスク１
７に当たっている時に、ビーム走査制御部２１の指示に
よりファラデー電極１５に流れる誤差電流をビーム電流
測定部１３によって測定する。そして、電流制御部２２
の指示により誤差電流を打ち消す量の補正電流を外部電
流源２３を用いて流す。ファラデー電極１５の帯電やフ
ァラデー電極１５とサプレッサー電極１６との間の放電
等によって、ビーム電流測定部１３にビーム電流以外の
誤差電流が流れ込んだ場合でも、その誤差電流に応じて
ビーム電流が補正される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体装置の製
造工程においてシリコンウエハ等の試料に各種のイオン
を注入するためのイオン注入装置に係り、特にビーム電
流の測定機構に関する。
造工程においてシリコンウエハ等の試料に各種のイオン
を注入するためのイオン注入装置に係り、特にビーム電
流の測定機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程においてシリコン
ウエハ等にＡｓ+ 、Ｐ+ 、Ｂ+ 等のイオンを注入するた
めにイオン注入装置が使用されている。この種のイオン
注入装置の従来例を図３及び図４を参照して説明する。
ウエハ等にＡｓ+ 、Ｐ+ 、Ｂ+ 等のイオンを注入するた
めにイオン注入装置が使用されている。この種のイオン
注入装置の従来例を図３及び図４を参照して説明する。
【０００３】装置全体の概略構成を示す図３において、
イオン源１で生成されたイオンが一定のエネルギーで引
出し電極２により引き出され、分析電磁石３により質量
に応じて分離されて所要のイオンが取り出される。スリ
ット４により完全に分離された所望のイオンが加速管５
により所定の最終エネルギーまで加速される。イオンビ
ームは四極レンズ６により試料室チャンバー９内のウエ
ハ１０の表面で所定の径となるように収束され、走査電
極７及び８によりＸＹ方向に走査される。これによりイ
オンがウエハ１０の全面に一様に注入される。
イオン源１で生成されたイオンが一定のエネルギーで引
出し電極２により引き出され、分析電磁石３により質量
に応じて分離されて所要のイオンが取り出される。スリ
ット４により完全に分離された所望のイオンが加速管５
により所定の最終エネルギーまで加速される。イオンビ
ームは四極レンズ６により試料室チャンバー９内のウエ
ハ１０の表面で所定の径となるように収束され、走査電
極７及び８によりＸＹ方向に走査される。これによりイ
オンがウエハ１０の全面に一様に注入される。
【０００４】上記装置の試料室チャンバー９内を示す図
４において、プラテン１１上に保持されたウエハ１０に
イオンビーム１２が照射される。このように正電荷を帯
びたイオンを電気的に加速してウエハ１０に注入するイ
オン注入装置においては、ウエハ１０に注入されたイオ
ンの量に応じてウエハ１０に電流が流れる。このビーム
電流をプラテン１１を介して積算電流計からなるビーム
電流測定部１３によりその電荷値を積算することによっ
て、注入されたイオンの総量を計測する。
４において、プラテン１１上に保持されたウエハ１０に
イオンビーム１２が照射される。このように正電荷を帯
びたイオンを電気的に加速してウエハ１０に注入するイ
オン注入装置においては、ウエハ１０に注入されたイオ
ンの量に応じてウエハ１０に電流が流れる。このビーム
電流をプラテン１１を介して積算電流計からなるビーム
電流測定部１３によりその電荷値を積算することによっ
て、注入されたイオンの総量を計測する。
【０００５】正電荷を持つイオンビーム１２は、ウエハ
１０に衝突することによりウエハ１０即ちプラテン１１
に電荷を与え、ビーム電流測定部１３によりビーム電流
として測定される。ところが、イオンビーム１２がウエ
ハ１０に衝突して二次電子が発生し、ウエハ１０から負
の電荷を奪うと、測定されるビーム電流量は実際のイオ
ン量よりも多くなり、所定の量のイオンを注入すること
ができない。
１０に衝突することによりウエハ１０即ちプラテン１１
に電荷を与え、ビーム電流測定部１３によりビーム電流
として測定される。ところが、イオンビーム１２がウエ
ハ１０に衝突して二次電子が発生し、ウエハ１０から負
の電荷を奪うと、測定されるビーム電流量は実際のイオ
ン量よりも多くなり、所定の量のイオンを注入すること
ができない。
【０００６】このため、図４に示すように、プラテン１
１を囲むように箱型形状をした、いわゆるファラデー電
極１５が設けられている。このファラデー電極１５は、
二次電子の反射等による電荷の捕捉漏れを防ぎ、正確な
ビーム電流の測定を行うことを可能とする。また、ファ
ラデー電極１５の開口部からの二次電子の捕捉漏れを防
ぐために、その開口部の前方にファラデー電極１５に対
して負の電圧を持つ電極、いわゆるサプレッサー電極１
６が配置され、ビーム電流の測定精度を上げている。さ
らに、ファラデー電極１５の前方にマスク１７が設けら
れ、イオンビーム１２がファラデー電極１５内のウエハ
１０のみに照射されるように、入射角を一定値に制限し
て測定精度を上げている。
１を囲むように箱型形状をした、いわゆるファラデー電
極１５が設けられている。このファラデー電極１５は、
二次電子の反射等による電荷の捕捉漏れを防ぎ、正確な
ビーム電流の測定を行うことを可能とする。また、ファ
ラデー電極１５の開口部からの二次電子の捕捉漏れを防
ぐために、その開口部の前方にファラデー電極１５に対
して負の電圧を持つ電極、いわゆるサプレッサー電極１
６が配置され、ビーム電流の測定精度を上げている。さ
らに、ファラデー電極１５の前方にマスク１７が設けら
れ、イオンビーム１２がファラデー電極１５内のウエハ
１０のみに照射されるように、入射角を一定値に制限し
て測定精度を上げている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
イオン注入装置においては、処理量が増大するに伴っ
て、試料室チャンバー９内のファラデー電極１５に例え
ば真空ポンプの残留オイル等の絶縁性の汚れが付着して
いく。これによりファラデー電極１５が導電性の劣化を
起こし、イオン注入の際に反射するイオンや飛来する二
次電子等により帯電してしまう。そして、このとき帯電
した電荷は大きな時定数を持つので、時間的に遅れてビ
ーム電流測定部１３に流れ込む。
イオン注入装置においては、処理量が増大するに伴っ
て、試料室チャンバー９内のファラデー電極１５に例え
ば真空ポンプの残留オイル等の絶縁性の汚れが付着して
いく。これによりファラデー電極１５が導電性の劣化を
起こし、イオン注入の際に反射するイオンや飛来する二
次電子等により帯電してしまう。そして、このとき帯電
した電荷は大きな時定数を持つので、時間的に遅れてビ
ーム電流測定部１３に流れ込む。
【０００８】ところが、ビーム電流測定部１３を構成す
る積算電流計は正電荷のみを積算し、負電荷を減算する
ことができないため、ウエハ１０に正電荷が注入されて
いる時に、ファラデー電極１５に帯電した負電荷がビー
ム電流と電気的に打ち消し合えば問題ないが、イオンビ
ーム１２がウエハ１０の照射領域から外れてウエハ１０
に正電荷が注入されない時に、ファラデー電極１５に帯
電した負電荷が時間的に遅れてビーム電流測定部１３に
流れ込んだ場合、この電荷は計測されず、イオン注入量
に誤差を生じるという問題があった。
る積算電流計は正電荷のみを積算し、負電荷を減算する
ことができないため、ウエハ１０に正電荷が注入されて
いる時に、ファラデー電極１５に帯電した負電荷がビー
ム電流と電気的に打ち消し合えば問題ないが、イオンビ
ーム１２がウエハ１０の照射領域から外れてウエハ１０
に正電荷が注入されない時に、ファラデー電極１５に帯
電した負電荷が時間的に遅れてビーム電流測定部１３に
流れ込んだ場合、この電荷は計測されず、イオン注入量
に誤差を生じるという問題があった。
【０００９】また、ファラデー電極１５の絶縁性の汚れ
に加えて、ウエハ１０からの放出ガスや試料室チャンバ
ー９内へのウエハ１０の搬送による真空度の劣化等が引
き起こす、ファラデー電極１５とサプレッサー電極１６
との間の放電によって、ファラデー電極１５に電子が流
れ込むことがある。この電流はビーム電流を打ち消すた
め、ビーム電流は実際よりも少なく測定され、やはり高
精度なイオン注入を行うことができないという問題があ
った。
に加えて、ウエハ１０からの放出ガスや試料室チャンバ
ー９内へのウエハ１０の搬送による真空度の劣化等が引
き起こす、ファラデー電極１５とサプレッサー電極１６
との間の放電によって、ファラデー電極１５に電子が流
れ込むことがある。この電流はビーム電流を打ち消すた
め、ビーム電流は実際よりも少なく測定され、やはり高
精度なイオン注入を行うことができないという問題があ
った。
【００１０】そこで本発明は、イオンビームを試料に照
射してイオンを試料に注入する際に、ビーム電流測定系
の誤差電流をも考慮してビーム電流を精確に測定するこ
とができるイオン注入装置を提供することを目的とす
る。
射してイオンを試料に注入する際に、ビーム電流測定系
の誤差電流をも考慮してビーム電流を精確に測定するこ
とができるイオン注入装置を提供することを目的とす
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、イオン源からのイオンビームを試料に照
射してイオンを試料に注入し、イオン注入時のビーム電
流をビーム電流測定手段により測定するイオン注入装置
において、前記ビーム電流測定手段に流れる前記ビーム
電流以外の誤差電流に応じてそのビーム電流を補正する
ための補正手段を備えたものである。
に、本発明は、イオン源からのイオンビームを試料に照
射してイオンを試料に注入し、イオン注入時のビーム電
流をビーム電流測定手段により測定するイオン注入装置
において、前記ビーム電流測定手段に流れる前記ビーム
電流以外の誤差電流に応じてそのビーム電流を補正する
ための補正手段を備えたものである。
【００１２】また、本発明は、イオン源からのイオンビ
ームを試料に照射してイオンを試料に注入し、前記試料
に流れるビーム電流を測定するビーム電流測定部と前記
試料から放射される二次電子を捕捉するファラデー電極
とを有するビーム電流測定手段によって、イオン注入時
のビーム電流を測定するイオン注入装置において、前記
試料へのイオンビームの入射角を制限するマスクにイオ
ンビームを照射したときに、前記ファラデー電極から前
記ビーム電流測定部に流れる誤差電流を計測し、この誤
差電流に対応する補正電流を前記ビーム電流測定部に流
して、前記ビーム電流を補正するための補正手段を備え
たものである。
ームを試料に照射してイオンを試料に注入し、前記試料
に流れるビーム電流を測定するビーム電流測定部と前記
試料から放射される二次電子を捕捉するファラデー電極
とを有するビーム電流測定手段によって、イオン注入時
のビーム電流を測定するイオン注入装置において、前記
試料へのイオンビームの入射角を制限するマスクにイオ
ンビームを照射したときに、前記ファラデー電極から前
記ビーム電流測定部に流れる誤差電流を計測し、この誤
差電流に対応する補正電流を前記ビーム電流測定部に流
して、前記ビーム電流を補正するための補正手段を備え
たものである。
【００１３】
【作用】上記のように構成された本発明によれば、イオ
ン注入時にビーム電流測定手段によってビーム電流を測
定する際、ビーム電流測定手段にビーム電流以外の誤差
電流が流れ込んだ場合、補正手段によって誤差電流に応
じてビーム電流が補正される。これにより、ビーム電流
を極めて精確に測定することが可能となる。
ン注入時にビーム電流測定手段によってビーム電流を測
定する際、ビーム電流測定手段にビーム電流以外の誤差
電流が流れ込んだ場合、補正手段によって誤差電流に応
じてビーム電流が補正される。これにより、ビーム電流
を極めて精確に測定することが可能となる。
【００１４】また、本発明によれば、イオン注入時にビ
ーム電流測定部とファラデー電極とを有するビーム電流
測定手段によってビーム電流を測定する際、イオンビー
ムがマスクに照射されているときに、ファラデー電極か
らビーム電流測定部に流れる電流が計測される。即ち、
イオンビームがマスクに当たっているときは、ビーム電
流測定部に流れるビーム電流は０（ゼロ）になるはずで
あるが、ビーム電流以外の電流がビーム電流測定部に流
れ込むと、このときにビーム電流測定部により測定され
るビーム電流は０にはならない。従って、イオンビーム
がマスクに照射されているときの電流を計測することに
よって、ファラデー電極からビーム電流測定部に流れ込
む誤差電流を計測することができる。そして、ビーム電
流以外の誤差電流が流れ込んだ場合、補正手段によって
誤差電流を打ち消す量の補正電流がビーム電流測定部に
流される。これにより、ビーム電流を極めて精確に測定
することが可能となる。
ーム電流測定部とファラデー電極とを有するビーム電流
測定手段によってビーム電流を測定する際、イオンビー
ムがマスクに照射されているときに、ファラデー電極か
らビーム電流測定部に流れる電流が計測される。即ち、
イオンビームがマスクに当たっているときは、ビーム電
流測定部に流れるビーム電流は０（ゼロ）になるはずで
あるが、ビーム電流以外の電流がビーム電流測定部に流
れ込むと、このときにビーム電流測定部により測定され
るビーム電流は０にはならない。従って、イオンビーム
がマスクに照射されているときの電流を計測することに
よって、ファラデー電極からビーム電流測定部に流れ込
む誤差電流を計測することができる。そして、ビーム電
流以外の誤差電流が流れ込んだ場合、補正手段によって
誤差電流を打ち消す量の補正電流がビーム電流測定部に
流される。これにより、ビーム電流を極めて精確に測定
することが可能となる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明によるイオン注入装置の一実施
例について図１及び図２を参照して説明する。なお、装
置全体の概略構成は図３で説明した従来例と実質的に同
等でよく、また、試料室チャンバー内において図４で説
明した従来例と実質的に同一の構成部分には同一の符号
を付してその説明を省略する。
例について図１及び図２を参照して説明する。なお、装
置全体の概略構成は図３で説明した従来例と実質的に同
等でよく、また、試料室チャンバー内において図４で説
明した従来例と実質的に同一の構成部分には同一の符号
を付してその説明を省略する。
【００１６】図１は試料室チャンバー内におけるビーム
電流測定系の概略構成図、図２は誤差電流の測定を説明
するためのビーム走査状態の概略図である。
電流測定系の概略構成図、図２は誤差電流の測定を説明
するためのビーム走査状態の概略図である。
【００１７】図１において、イオンビーム１２は走査電
極７及び８により静電的に走査され、プラテン１１上に
保持されたウエハ１０の全面にイオンが一様に注入され
る。ウエハ１０の前方はファラデー電極１５に囲まれて
おり、このファラデー電極１５の開口部の前方にはファ
ラデー電極１５に対し−６００Ｖの電位を持つサプレッ
サー電極１６が配置され、ファラデー電極１５の開口部
から二次電子が漏れるのを防いでいる。さらに、ファラ
デー電極１５の前方にグラファイト製のマスク１７が配
置され、イオンビーム１２がファラデー電極１５内のウ
エハ１０のみに照射されるようにしている。
極７及び８により静電的に走査され、プラテン１１上に
保持されたウエハ１０の全面にイオンが一様に注入され
る。ウエハ１０の前方はファラデー電極１５に囲まれて
おり、このファラデー電極１５の開口部の前方にはファ
ラデー電極１５に対し−６００Ｖの電位を持つサプレッ
サー電極１６が配置され、ファラデー電極１５の開口部
から二次電子が漏れるのを防いでいる。さらに、ファラ
デー電極１５の前方にグラファイト製のマスク１７が配
置され、イオンビーム１２がファラデー電極１５内のウ
エハ１０のみに照射されるようにしている。
【００１８】イオン注入時には、ウエハ１０を保持して
いるプラテン１１に流れる電流と、二次電子の影響を防
止するためのファラデー電極１５に流れる電流とが、合
わせてビーム電流としてビーム電流測定部１３によって
測定される。
いるプラテン１１に流れる電流と、二次電子の影響を防
止するためのファラデー電極１５に流れる電流とが、合
わせてビーム電流としてビーム電流測定部１３によって
測定される。
【００１９】ところで、ビーム電流測定部１３は、走査
電極７及び８のビーム走査制御部２１の指示に基づい
て、イオンビーム１２がマスク１７に照射されている時
にも、特に、ファラデー電極１５からビーム電流測定部
１３に流れ込む電流を計測するように構成されている。
そして、この計測された電流を打ち消す量の電流が、電
流制御部２２の指示に基づいて外部電流源２３からプラ
テン１１へ流されるように構成されている。
電極７及び８のビーム走査制御部２１の指示に基づい
て、イオンビーム１２がマスク１７に照射されている時
にも、特に、ファラデー電極１５からビーム電流測定部
１３に流れ込む電流を計測するように構成されている。
そして、この計測された電流を打ち消す量の電流が、電
流制御部２２の指示に基づいて外部電流源２３からプラ
テン１１へ流されるように構成されている。
【００２０】上記のように構成されたイオン注入装置に
おいて、図２に示すように、イオンビーム１２がマスク
１７に当たっている時は、通常、ビーム電流測定部１３
に流れるビーム電流は０Ａである。しかし、ファラデー
電極１５が導電性の劣化により帯電すると、帯電した電
荷はその伝搬に大きな時定数を持つので時間的に遅れて
ビーム電流測定部１３に流れ込む。このため、イオンビ
ーム１２がマスク１７に当たっていても、この時にビー
ム電流測定部１３により測定されるビーム電流は０Ａに
はならない。また、イオンビーム１２がマスク１７に当
たっていても、ファラデー電極１５とサプレッサー電極
１６との間に放電が生じ、ファラデー電極１５に放電電
流が流れていると、この時もビーム電流測定部１３によ
り測定されるビーム電流は０Ａにはならない。
おいて、図２に示すように、イオンビーム１２がマスク
１７に当たっている時は、通常、ビーム電流測定部１３
に流れるビーム電流は０Ａである。しかし、ファラデー
電極１５が導電性の劣化により帯電すると、帯電した電
荷はその伝搬に大きな時定数を持つので時間的に遅れて
ビーム電流測定部１３に流れ込む。このため、イオンビ
ーム１２がマスク１７に当たっていても、この時にビー
ム電流測定部１３により測定されるビーム電流は０Ａに
はならない。また、イオンビーム１２がマスク１７に当
たっていても、ファラデー電極１５とサプレッサー電極
１６との間に放電が生じ、ファラデー電極１５に放電電
流が流れていると、この時もビーム電流測定部１３によ
り測定されるビーム電流は０Ａにはならない。
【００２１】従って、イオンビーム１２がマスク１７に
当たっている時の電流を計測すれば、ファラデー電極１
５の帯電やファラデー電極１５とサプレッサー電極１６
との間の放電等に起因するビーム電流測定系の誤差電流
を把握することができる。即ち、イオンビーム１２がマ
スク１７に当たっている時に、ビーム走査制御部２１の
指示により、ファラデー電極１５に流れる誤差電流がビ
ーム電流測定部１３によって測定される。そして、電流
制御部２２の指示により誤差電流を打ち消す量の補正電
流が外部電流源２３を用いて流される。
当たっている時の電流を計測すれば、ファラデー電極１
５の帯電やファラデー電極１５とサプレッサー電極１６
との間の放電等に起因するビーム電流測定系の誤差電流
を把握することができる。即ち、イオンビーム１２がマ
スク１７に当たっている時に、ビーム走査制御部２１の
指示により、ファラデー電極１５に流れる誤差電流がビ
ーム電流測定部１３によって測定される。そして、電流
制御部２２の指示により誤差電流を打ち消す量の補正電
流が外部電流源２３を用いて流される。
【００２２】これによって、ビーム電流測定部１３にビ
ーム電流以外の誤差電流が流れ込んだ場合でも、その誤
差電流に応じてビーム電流が補正されるので、装置の使
用状況によらずビーム電流の測定誤差をなくすことが可
能になり、ビーム電流測定部１３によってビーム電流を
極めて精確に測定することができ、高精度なイオン注入
を行うことができる。
ーム電流以外の誤差電流が流れ込んだ場合でも、その誤
差電流に応じてビーム電流が補正されるので、装置の使
用状況によらずビーム電流の測定誤差をなくすことが可
能になり、ビーム電流測定部１３によってビーム電流を
極めて精確に測定することができ、高精度なイオン注入
を行うことができる。
【００２３】以上、本発明の一実施例に付き説明した
が、本発明は上記実施例に限定されることなく、本発明
の技術的思想に基づいて各種の有効な変更並びに応用が
可能である。例えば、実施例においては電流制御部と外
部電流源とを用いたが、ビーム電流測定部自体が補正機
能を有していてもよい。
が、本発明は上記実施例に限定されることなく、本発明
の技術的思想に基づいて各種の有効な変更並びに応用が
可能である。例えば、実施例においては電流制御部と外
部電流源とを用いたが、ビーム電流測定部自体が補正機
能を有していてもよい。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ビーム電流以外の誤差電流に応じてビーム電流を補正す
ることによって、極めて精確なビーム電流の測定が可能
となり、高精度の注入処理を行うことが可能な信頼性の
高いイオン注入装置を得ることができる。
ビーム電流以外の誤差電流に応じてビーム電流を補正す
ることによって、極めて精確なビーム電流の測定が可能
となり、高精度の注入処理を行うことが可能な信頼性の
高いイオン注入装置を得ることができる。
【図１】本発明によるイオン注入装置の一実施例におけ
る試料室チャンバー内のビーム電流測定系の概略構成図
である。
る試料室チャンバー内のビーム電流測定系の概略構成図
である。
【図２】上記実施例における誤差電流の測定を説明する
ためのビーム走査状態の概略図である。
ためのビーム走査状態の概略図である。
【図３】従来のイオン注入装置における全体の概略構成
図である。
図である。
【図４】上記従来のイオン注入装置における試料室チャ
ンバーの概略断面図である。
ンバーの概略断面図である。
１ イオン源 ７、８ 走査電極 ９ 試料室チャンバー １０ ウエハ １１ プラテン １２ イオンビーム １３ ビーム電流測定部 １５ ファラデー電極 １６ サプレッサー電極 １７ マスク ２１ ビーム走査制御部 ２２ 電流制御部 ２３ 外部電流源
Claims (4)
- 【請求項１】 イオン源からのイオンビームを試料に照
射してイオンを試料に注入し、イオン注入時のビーム電
流をビーム電流測定手段により測定するイオン注入装置
において、 前記ビーム電流測定手段に流れる前記ビーム電流以外の
誤差電流に応じてそのビーム電流を補正するための補正
手段を備えたことを特徴とするイオン注入装置。 - 【請求項２】 イオン源からのイオンビームを試料に照
射してイオンを試料に注入し、前記試料に流れるビーム
電流を測定するビーム電流測定部と前記試料から放射さ
れる二次電子を捕捉するファラデー電極とを有するビー
ム電流測定手段によって、イオン注入時のビーム電流を
測定するイオン注入装置において、 前記試料へのイオンビームの入射角を制限するマスクに
イオンビームを照射したときに、前記ファラデー電極か
ら前記ビーム電流測定部に流れる誤差電流を計測し、こ
の誤差電流に対応する補正電流を前記ビーム電流測定部
に流して、前記ビーム電流を補正するための補正手段を
備えたことを特徴とするイオン注入装置。 - 【請求項３】 前記誤差電流が、前記ファラデー電極の
帯電により生じて前記ファラデー電極から前記ビーム電
流測定部に時間的に遅れて流れ込む電流であることを特
徴とする請求項２記載のイオン注入装置。 - 【請求項４】 前記ファラデー電極の前方にサプレッサ
ー電極を有し、前記誤差電流が、前記ファラデー電極と
前記サプレッサー電極との間の放電により生じて前記フ
ァラデー電極から前記ビーム電流測定部に流れ込む電流
であることを特徴とする請求項２記載のイオン注入装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5239074A JPH0773844A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5239074A JPH0773844A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | イオン注入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0773844A true JPH0773844A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=17039467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5239074A Withdrawn JPH0773844A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0773844A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006525644A (ja) * | 2003-04-29 | 2006-11-09 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | ビームの均一性及び分布角度測定システム |
-
1993
- 1993-08-31 JP JP5239074A patent/JPH0773844A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006525644A (ja) * | 2003-04-29 | 2006-11-09 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | ビームの均一性及び分布角度測定システム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20001031 |