JPH0773229A - 集積回路のマスクパターン設計におけるエラー修正方法 - Google Patents

集積回路のマスクパターン設計におけるエラー修正方法

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JPH0773229A
JPH0773229A JP5219378A JP21937893A JPH0773229A JP H0773229 A JPH0773229 A JP H0773229A JP 5219378 A JP5219378 A JP 5219378A JP 21937893 A JP21937893 A JP 21937893A JP H0773229 A JPH0773229 A JP H0773229A
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JP
Japan
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mask pattern
error
data
repeated
correction
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5219378A
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English (en)
Inventor
Kyoko Ueda
恭子 上田
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NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Publication date
Application filed by NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd filed Critical NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Publication of JPH0773229A publication Critical patent/JPH0773229A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】集積回路のマスクパターン設計時のマスクパタ
ーン検証時で、マスクパターンデータの修正を行う際、
マスクデータパターンデータを繰り返し部分の修正を確
認するという作業をなくし、エラー修正にかかる工数を
削減する。 【構成】マスクパターン設計後のマスクパターンデータ
から、マスクパターンの繰り返し箇所を検索し(A)、
マスクパターン検証で行われる幾何学的ルールチェック
後に出力される結果ファイルと、エラー図形データか
ら、マスクパターンデータが繰り返されている箇所での
エラーの情報を削除する(B)により、マスクパターン
データの繰り返し部分のエラー修正を行う必要がなくな
り、エラー修正工数を削減することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、集積回路のマスクパタ
ーン設計におけるエラー修正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の集積回路のマスクパターン設計工
程のフローを示す図1を参照すると、マスクパターン設
計1001では、マスクパターンエディタを用いて、マ
スクパターンデータ1030を作成する。
【0003】この設計が終了すると、このデータ103
0の整合性を確認するために、マスクパターンデータ1
030の幾何学的間隔や重なり具合が基準値どおり設計
されているかどうかをチェックする幾何学的ルールチェ
ック1002と、集積回路の論理回路記述とマスクパタ
ーンデータの照合のチェック1003を行う。この2つ
のチェックをマスクパターン検証という。チェックの結
果は、結果ファイル1010,1011に出力され、あ
わせてエラー部分を表すエラー図形データ1020,1
021のファイルも出力される。
【0004】設計者は、これらの出力ファイルをもと
に、エラーの修正1040を行い、エラーがなくなるま
で、上述のマスクパターン検証を繰り返す。
【0005】次に、幾何学的ルールチェック1050に
ついて図面を用いてさらに詳細に説明していくことにす
る。
【0006】例えば、エラーを含んだマスクパターンの
例を示す図5を参照すると、パターン201とパターン
202との間隔が基準値2.5以上離さなければならな
いところをパターン203では、1.25という間隔で
設計していたため、パターン203がエラーとなったも
のである。
【0007】チェックされた結果は、図7に示すチェッ
ク項目(基準値)401、マスクパターンデータ上のエ
ラー部分の座標403、このエラーの個数が記述された
結果ファイル402と、図6に示すエラー部分301を
表すエラー図形データという形で参照できる。
【0008】図6のエラー図形データは、マスクパター
ンデータと対応しており、パターン203のエラー部分
が矩形の部分301にて表されることになる。
【0009】さらに、図5のマスクパターンは、図8
(パターン501は図5に対応する)のように右方へ繰
り返し配置されているため、エラー座標403の部分に
繰り返された個数分、出力される。
【0010】また、エラー図形も、図9のように、繰り
返された数だけ(ここでは32個のパターン601)、
生成される。
【0011】従来のこの種のエラー修正方法において
は、マスクパターンの設計者は、マスクパターンエディ
タ上に、マスクパターンデータ図5と、チェック結果の
エラー図形データ図6とを表示させて(図11)、エラ
ー情報が記述されているファイル(図7)を目視しなが
ら、エラー座標(403)を調べその都度、マスクパタ
ーンエディタ上から探し出して、全てのエラーの修正を
おこなっていた。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】図8で示されるマスク
パターンデータは、図5のマスクパターンデータを繰り
返し使用して配置したものにすぎないので、エラーの修
正は、繰り返されたもとのマスクデータに対してだけ行
われれば良いことになる。
【0013】それで、繰り返し配置されたマスクデータ
に関するエラー情報を含む結果ファイルはその分冗長に
なってしまう。
【0014】また、同じように、エラー図形について
も、繰り返し配置されている分について、エラー図形が
出力されているので、エラー修正の際、マスクパターン
エディタ上に、同じエラーに関するエラー図形が繰り返
し分だけ多く表示されるという欠点があった。
【0015】また、それらのファイル,エラー図形デー
タをもとにエラーの修正を行う際に、前述したように繰
り返されたもとのマスクデータに対してだけ修正がおこ
なわれればよいにもかかわらず、実行結果ファィイルの
全てのエラーについても一つ一つ修正の確認をしなけれ
ばならないため、エラー修正に無駄な工数がかかってし
まうという欠点があった。
【0016】本発明の目的は、上述した欠点を解決し、
集積回路のマスクパターン設計時のマスクパターン検証
で、マスクパターンデータの幾何学的ルールチェックの
エラー修正を行う際に、マスクパターンデータの繰り返
し部分エラーの修正を確認するという作業をなくすこと
により、エラー修正にかかる構成を削減することにあ
る。
【0017】
【課題を解決するための手段】上述した問題点を解決す
るため、本発明による繰り返しを含むマスクパターンデ
ータのエラー修正方法は、マスクパターンデータファイ
ルからマスクパターンの繰り返しが行われている箇所を
検索し、結果ファイルと、エラー図形データのファイル
中の、繰り返しに関するエラー情報を削除する処理を備
えていることを特徴とする。
【0018】本発明によれば、エラー修正時の結果ファ
イルから繰り返し分の情報がなくなり、ファイルから不
必要なエラー情報がなくなる。また、マスクパターンエ
ディタ上にマスクパターンの繰り返し部分のエラー図形
が表示されなくなる。よって、設計者は、マスクデータ
の繰り返し部分の修正の確認を行う必要がなくなる。
【0019】
【実施例】本発明の一実施例のフローを示す図1を参照
すると、この実施例は、マスクパターン設計101の次
の幾何学的ルールチェック102と、マスクパターンエ
ディタでの修正103との間に、マスクパターン設計後
のマスクパターンデータから、マスクパターンの繰り返
し箇所を検索する処理Aと、マスクパターン検証で行わ
れる幾何学的ルールチェック後に出力される結果ファイ
ルとエラー図形データから、マスクパターンデータが繰
り返されている箇所でのエラーの情報を削減する処理B
とを備える。
【0020】まず、チェック101でマスクパターン設
計が終了したマスクパターンデータ(例えば図5)に対
し、幾何学的ルールチェック102を実行する。
【0021】図5のマスクパターンデータについてチェ
ックを行うとパターン203がパターン201と202
との間で、基準値を満たしていないため、エラーとな
る。
【0022】チェックが終了すると、図5のチェック結
果ファイル(例えば図7)とエラー部分を表すエラー図
形データ(例えば図6)が生成される。
【0023】エラー図形は、基準値を満たしていない部
分を矩形で表したもので、図5のパターン203が、図
6のパターン301に対応している。
【0024】結果ファイル(図7)には、例えばチェッ
ク項目401,エラー数402,エラー図形の座標40
3の項目が記述されている。
【0025】ここで、幾何学的ルールチェック102の
入力ファイルとなったマスクパターンデータから、マス
クパターンが連続して配置されている箇所を検索する
(処理A)。
【0026】そのあと、処理Bで、結果ファイルとエラ
ー図形データから、マスクパターンが連続して配置され
ている箇所で、エラーが出ている箇所のエラーデータを
もとの繰り返されたマスクパターンに関するものだけを
残して、マスクパターンの繰り返し分だけ削除する(図
2,図3)。ここで、図2,図3は従来の図8,図9に
対応する。
【0027】そのあと、図4のように、マスクパターン
エディタ上に、マスクパターンデータと、エラー図形デ
ータを表示させて、図2の結果ファイルを目視しなが
ら、削除されなかったもとのマスクデータに関するエラ
ーの修正103を行う。
【0028】このとき、図3のように、エラー図形情報
中には、マスクパターンの連続部分のエラー図形情報は
削除されているため、エディタ上には、繰り返された分
のエラー図形は表示されない(図4)。
【0029】また、図2のように結果ファイルにも、繰
り返された分のエラーに関する情報は削除されるため、
マスクパターン検証過程で、マスクパターンの幾何学的
ルールチェックのエラー修正を行う際に、マスクパター
ンの繰り返し部分のエラー修正を確認するという作業を
設計者が行う必要がなくなり、エラー修正にかかる工数
を削減することができる。
【0030】次に、本発明の他の実施例について説明す
る。
【0031】この実施例では、回路図エディタ上で作成
された論理回路図の、階層間チェック後のエラー修正へ
適用した例について述べる。
【0032】論理回路図の階層間チェックでは、論理回
路中に使用されているマクロデータを展開して、論理回
路が正確に作成されているかどうかをチェックする。
【0033】論理回路にいくつかの同じマクロデータが
使用されているとき、そのマクロデータ内にエラーがあ
った場合には、論理回路図中にマクロデータに関するエ
ラーが、複数存在することになる。
【0034】論理回路図中にも同じマクロデータに関す
るエラーがいくつも表示されてしまう。実際には、使用
されているマクロデータを一つ修正すれば、エラーは修
正されたことになるので、エディタ上にいくつも同じマ
クロデータに関するエラーが表示される必要はない。
【0035】よって、この実施例では、エラー箇所で、
同じマクロデータ内に属するものを検索し、次に同じマ
クロデータのエラーに関する情報を削除することで、修
正しなければならないエラーをもつマクロデータを明確
にすることによって、エラー修正を円滑に行うことがで
き、エラーの修正にかける工数を削減することができ
る。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ある設計データが繰り返し使用されている箇所を検索
し、繰り返されている箇所のエラー情報を削除すること
で、集積回路のマスクパターン設計におけるエラー修正
で、同じエラーに関するエラー修正の確認を行う必要が
無くなり、エラー修正にかかる工数を削減することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のフロー図である。
【図2】図1のチェックの結果ファイルを示す図であ
る。
【図3】図1におけるエラー図形を示す平面図である。
【図4】図1におけるマスクパターンの平面図である。
【図5】エラーを含んだマスクパターンの平面図であ
る。
【図6】図5のエラー図形を示す平面図である。
【図7】図5においてチェックされた結果ファイルを示
す図である。
【図8】図5のパターンを含むマスクパターを示す平面
図である。
【図9】図8中のエラー図形を示す平面図である。
【図10】従来の集積回路のマスクパターン設計工程の
フロー図である。
【図11】図10におけるチェック結果のエラー図形デ
ータを示す平面図である。
【符号の説明】
101,1001 マスクパターン設計 102,1002 幾何学的ルールチェック 103 マスクパターンエディタでの修正 A マクスデータの検索 B 繰り返し部分エラー情報の削除 201〜203,301,501,601 パターン 401 チェック項目 402 エラー数 403 エラー図形の座標 1003 照合チェック 1010,1011 結果ファイル 1020,1021 エラー図形データ 1030 マスクパターンデータ 1040 マスクパターンの修正 1050 幾何学的ルールチェック及び照合チェック

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定のマスクデータ又はマクロデータを
    規則的に繰り返し配置して作成されているマスクデータ
    又はマクロデータに関するエラー修正を行う場合、繰り
    返し分のエラー情報をエラーリストから削除する処理工
    程を設けたことを特徴とする集積回路のマスクパターン
    設計におけるエラー修正方法。
JP5219378A 1993-09-03 1993-09-03 集積回路のマスクパターン設計におけるエラー修正方法 Withdrawn JPH0773229A (ja)

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