JPH0772944A - 精密電圧基準回路及びそれを使用したコンピュータ装置 - Google Patents
精密電圧基準回路及びそれを使用したコンピュータ装置Info
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- JPH0772944A JPH0772944A JP34465593A JP34465593A JPH0772944A JP H0772944 A JPH0772944 A JP H0772944A JP 34465593 A JP34465593 A JP 34465593A JP 34465593 A JP34465593 A JP 34465593A JP H0772944 A JPH0772944 A JP H0772944A
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Abstract
る。 【構成】 浮動ゲートに異なる電荷をおのおの有する一
対の同様なフラッシュEEPROMメモリ・セルと、平
衡状態において等しい電流値を発生する一対の並列回路
に各前記セルを接続する回路と、各前記並列回路対中の
電圧を検出して、電流が平衡している時に基準値として
使用できる出力電圧を供給する装置と、出力電圧が平衡
時に供給された電圧から変化した時に、出力電圧の変化
を検出してフラッシュEEPROMメモリ・セルを流れ
る電流を変化させて電流を平衡させる装置とを備える精
密電圧基準回路。
Description
であり、更に詳しく言えば、一対のフラッシュEEPR
OMメモリ・セルを利用して精密電圧基準を供給する方
法および装置に関するものである。
ある。そのような基準を供給するために多くの回路構成
が存在している。しかし、回路がますます特殊化される
ようになるにつれて、関連する回路を製造するために利
用するプロセスを用いて電圧基準を生成する回路を作成
することが必要になる。たとえば、電圧基準を大規模集
積回路で使用するには、基準電圧を発生するための回路
を、大規模集積回路を製造するために用いられるプロセ
スで製造する必要がある。したがって、精密抵抗と精密
コンデンサを含む個々の部品を利用できる場合には、精
密電圧基準を容易に提供することが可能である。しか
し、集積回路装置を使用せねばならず、かつそれらの装
置により使用される電流と電圧が制約される場合には、
そのような基準を提供できる性能がはるかに困難にな
る。したがって、そのような電圧基準を提供するために
利用できる部品は、集積回路の種類がますます特殊化さ
れるにつれて、および回路の個々の素子がより小型にな
り、かつ面積が一層制約されるにつれて、電圧基準を供
給するために利用できる部品はますます制限される。
はメモリアレイである。通常は、読出し動作中にメモリ
アレイを質問するため、またはそのようなアレイへ書込
むために、精密電圧は外部から利用できる。しかし、提
携可能なコンピュータにおいて長期間記憶のために用い
られる新しいフラッシュEEPROMメモリアレイは、
より低い電源電圧を使用していて、そのようなフラッシ
ュアレイをプログラミングおよび消去するために求めら
れる、より高い精密電圧を供給するための精密電源を持
たないマイクロプロセッサで動作するように設計されて
いる。したがって、アレイまたは制御回路を含んでいる
集積回路内部で精密電圧基準を発生することが必要であ
る。これは、精密電圧基準を供給するために必要な素子
を、フラッシュメモリの製造に用いられるプロセスで製
造することを必要とすることを意味する。
目的は集積回路用の精密電圧基準を得ることである。本
発明の別の目的は、電圧基準レベルを設定し、かつそれ
を維持するために一対のフラッシュEEPROMメモリ
・セルを利用する集積回路用精密電圧基準を得ることで
ある。本発明の更に別の目的は、メモリアレイを製造す
るために用いられるプロセスを用いて製造される、フラ
ッシュメモリ・アレイ用精密電圧基準を得ることであ
る。
よびその他の目的は、ソースとドレインと浮動ゲートお
よび制御ゲートをおのおの有し、浮動ゲートに異なる電
荷を持たせるようにプログラムされた一対の同様なフラ
ッシュEEPROMメモリ・セルと、平衡状態において
等しい電流値を発生する一対の並列回路に各前記セルを
接続する手段と、各前記並列回路対中の電流を検出し
て、それの電流が異なる時を決定し、電流が平衡してい
る時に基準値として使用できる出力電圧を供給する手段
と、出力電圧が平衡時に供給された電圧から変化した時
に、出力電圧の変化を検出してフラッシュEEPROM
メモリ・セルを流れる電流を変化させて電流を平衡させ
る手段とを備える精密電圧基準回路において達成され
る。
示されている図1を参照する。このコンピュータ装置
は、通常動作するために供給された各種の命令を実行す
る中央処理装置を含む。中央処理装置は、情報をコンピ
ュータ装置の種々の部分へ伝えるようにされているバス
へ供給される。このバスへ主メモリが結合される。この
主メモリは、通常コンピュータ装置へ電力が供給されて
いる期間中に情報を記憶するために用いられるダイナミ
ック・ランダム・アクセス・メモリで構成される。バス
へは読出し専用メモリも結合される。この読出し専用メ
モリは、記憶装置へ電力が供給されていない時に記憶状
態を保持するようにされた、当業者に周知の各種の記憶
装置(電気的にプログラム可能な読出し専用記憶装置
(EPROM装置)、またはフラッシュEEPROM記
憶装置のような)を含むことができる。読出し専用メモ
リは、プロセッサ11により用いられる、基本入力/出
力プロセスおよび起動プロセスのような各種の基本的な
機能を典型的に記憶する。
により例示されている長期記憶装置のような各種の周辺
回路部品も接続される。バスへは、表示のためにモニタ
のような出力表示装置へ転送すべきデータを書込むこと
ができる、フレーム・バッファのような回路も接続され
る。ここでの説明のために、フレーム・バッファは、情
報を記憶するために必要な各種のメモリ・プレーンに加
えて、デジタル−アナログ変換回路および出力表示装置
への情報の走査を制御する回路のような、当業者に周知
の各種の回路を含むものとみなすことができる。
用いる回路も図1に示されている。これは、ここで説明
している実施例においては、コンピュータ装置へ電力を
供給するために種々の状態を制御する電力制御回路と、
電力制御回路の制御の下にコンピュータ装置へ電力を供
給するために携帯コンピュータにおいて利用できる電池
とを含む。どのような特定の構成においても、電力制御
回路は実際には図1の回路の特定の部分の一部とするこ
とができる。たとえば、読出し専用メモリがフラッシュ
EEPROM記憶装置で構成されているとすると、電力
制御回路は本発明に従って電圧基準回路を含む。それは
読出し専用メモリ・ブロックの物理的な一部分とするこ
ともできる。
10が示されている図2を参照する。この基本回路10
は、本発明の装置がどのように動作するかを説明するた
めにとくに有用である。回路10はほぼ同一の一対の電
気的に消去可能、かつプログラム可能な読出し専用メモ
リ(EEPROM)装置12、13を含む。
ドレイン領域と、ソース領域と、浮動ゲートと、制御ゲ
ートとを有する浮動ゲートMOS電界効果トランジスタ
である。このトランジスタへ信号を加えるためにドレイ
ン、ソースおよび制御ゲートのおのおのへ導体が接続さ
れる。フラッシュEEPROMメモリ・セルは正常なE
EPROMセルのようにして機能でき、回路から電力が
除去された時に1状態まはた0状態を保持する。典型的
なEPROMとは異なり、フラッシュEEPROMメモ
リ・セルはその場で電気的に消去可能であり、メモリセ
ルを消去するために取り外したり、紫外線を照射する必
要はない。
として使用される場合には約+12ボルトにできる)へ
結合し、ドレイン領域をより低い電位(セルがメモリセ
ルとして使用される場合には約+7ボルト)へ結合し、
ソース領域を接地することにより浮動ゲートを負に充電
させることによって、N形フラッシュEEPROMメモ
リ・トランジスタがプログラムされる。それらの条件で
電荷は浮動ゲートに充電される。制御ゲートとソース領
域の間へ正電位を加え、その間にドレイン領域へ低い正
電位を加えることによりセルは読出される。ゲートとソ
ースの間へ加えられる読出し電圧は、プログラムされて
いなかった装置のしきい値電圧Vtより高いが、プログ
ラムされた装置のしきい値電圧Vtより低い。浮動ゲー
トが負に充電されているかいないかを判定するために、
装置を流れる電流が検出される。浮動ゲートが充電され
ているならば、セルが読出された時にドレイン電流は流
れない。それとは対照的に、トランジスタがプログラム
されておらず、浮動ゲートが充電されていなければ、セ
ルが読出された時にドレイン電流は流れる。
・セルのアレイが、コンピュータおよび類似の回路にお
いて、読出し専用メモリとして、および読出しと書込み
ができる長期記憶装置として最近使用されている。装置
のプログラミングと読出しを行うために、それらのセル
は正確な値の電圧を供給することを要する。フラッシュ
EEPROMメモリ装置のアレイは、電気機械的なハー
ドディスク・ドライブより軽く、かつ迅速プログラミン
グ性能の面で有利であって、携帯型コンピュータにおい
て長期記憶のために典型的に使用される。しかし、その
ような携帯型コンピュータを一層軽くし、1回の充電に
より使用できる時間を長くするために、そのようなコン
ピュータの電力消費量を減少させる傾向がある。そのた
めに、フラッシュ・メモリ・アレイをプログラムするた
めに利用できる電位を低くする必要がある。フラッシュ
・アレイをプログラミングするために携帯型コンピュー
タ内部の回路において精密電圧基準が利用できている場
合には、これはもはや真実ではない。したがって、フラ
ッシュEEPROMメモリ・アレイを制御するための回
路中にそのような精密電圧基準を設けることがいまや必
要である。そのために、ハードディスク・ドライブの代
わりに使用されるフラッシュEEPROMメモリ・アレ
イの制御回路を製造するために用いられる方法で、精密
電圧基準回路を製造できることを必要とする。
シュEEPROMメモリ・アレイを製造するために当業
者が利用する技術を用いて、通常のCMOSプロセスに
より製造される。
3はメモリ・アレイ・セルとみなしてはならない。それ
らが、同じ方法を用いて同様に製造されているとして
も、そのような装置に対して典型的に用いられる電荷値
ではなくて、2種類の選択された電荷値を記憶するため
にこのフラッシュEEPROMが用いられる。フラッシ
ュ装置12のソース端子とドレイン端子は、N形電界効
果トランジスタ装置15のソース端子とドレイン端子
へ、およびP形電界効果トランジスタ装置16のソース
端子とドレイン端子へ直列に接続される。P形装置16
のゲート端子をそのドレイン端子へ接続して、それが抵
抗のように機能するようにする。N形装置15は、フラ
ッシュ装置12のドレイン端子をN形装置15のゲート
電圧より低いN形装置15のしきい値電圧Vtである電
圧に維持するために用いられるカスコード装置である。
ン端子は、N形電界効果トランジスタ装置18のソース
端子とドレイン端子へ、およびP形電界効果トランジス
タ装置のソース端子とドレイン端子へ直列に接続され
る。P形装置19はP形装置16と同じサイズにされ、
抵抗のように機能するようにそれのゲート端子がそれの
ドレイン端子へ接続される。N形装置18はカスコード
装置15と同一のカスコード装置であって、フラッシュ
装置13のドレイン端子における電圧を、カスコード装
置18のゲート電圧より低い電圧Vtである電圧に維持
するためにも用いられる。
21の負入力端子へ接続され、P形装置19のドレイン
端子は差動増幅器21の正入力端子へ接続される。差動
増幅器21は出力電位を端子へ供給する。その電位は一
対の抵抗23と24を横切るアース電位より高いと測定
できる。出力端子における電圧は回路10により制御さ
れる基準電圧である。本発明の一実施例においては、抵
抗23の値は抵抗24の値の半分である。
がフラッシュ装置13のゲートが受ける電圧の3分の2
の電圧を受けるように、出力端子とアースの間の電圧差
が分割される。製造中に、各フラッシュ装置は異なる電
荷をそれの浮動ゲートに保持するようにプログラムされ
る。その電荷は以下のように選択される。すなわち、回
路10が平衡状態にあって、基準電圧として使用される
所望の出力値を提供する時に、2つのフラッシュ装置を
流れる電流が等しく、コンデンサの端子間の、各フラッ
シュ装置の浮動ゲートとフィールドにより形成された電
圧が等しく、かつドレイン電圧が等しいように選択され
る。この状態においては、抵抗23と24の抵抗分圧器
回路網により供給されるゲート電圧は、2つのフラッシ
ュ装置12と13を流れる等しい電流を維持するために
ちょうど適切である。このことは、フラッシュ装置13
のしきい値電圧Vtがフラッシュ装置12のしきい値電
圧Vtより高いことを意味し、これは実際には、フラッ
シュ装置12のゲートにおける電圧がフラッシュ装置1
3のゲートにおける電圧の3分の2である時に、等しい
電流が発生されるように、フラッシュ装置12と13が
プログラムされている。
ラッシュ装置の一方を流れる電流が変化したことであ
る。たとえば、フラッシュ装置12を流れる電流が増加
すると、P形トランジスタ16を流れる電流およびその
トランジスタの電圧も増大する。そうするとトランジス
タ16のドレインと差動増幅器21の負入力端子におけ
る電圧のレベルが低くなる。そうすると差動増幅器の差
入力端子間により大きい電圧が加えられて、その差動増
幅器21の出力電圧を正へ変化させる、すなわち、上昇
させる。そうすると、フラッシュ装置12、13のゲー
ト端子における電圧のレベルが上昇する。フラッシュ装
置13のゲート端子における電圧は、フラッシュ装置1
2のゲート端子における電圧よりも、比例してより大き
い量だけ変化させられる。このようにゲート電圧が上昇
すると、フラッシュ装置13とP形トランジスタ19を
流れる電流が増加し、それによりトランジスタ19のド
レイン端子と、増幅器の正入力端子とにおける電圧が低
くなり、フラッシュ装置12を流れる電流の元の増加を
打ち消す。フラッシュ装置12または13を流れる電流
が上記の向きとは逆の向きに変化すると、上記に類似の
動作が行われて、電流を平衡させ、出力電圧を定常基準
出力レベルに維持する。
である。回路30は一対の同一の大きさのフラッシュE
EPROM装置32と33を含む。それらの装置および
図3に示されているその他の装置は、フラッシュEEP
ROMメモリ・アレイを製造するために当業者に周知の
典型的なCMOS技術を利用して製造され、図に記され
ているチャネル長さとチャネル幅を有する。フラッシュ
装置32、33のソース端子とドレイン端子へ、一対の
カスコード装置35、36のソース端子とドレイン端
子、および一対の同一寸法のP形装置38、39のソー
ス端子とドレイン端子が直列に接続される。図2に示す
回路と同様に、P形装置38のゲート端子はそのドレイ
ン端子へ接続されて、このP形装置は抵抗としてほぼ機
能する。各P形装置38、39のソースは電位Vpum
p(電流ポンプ回路80により供給される値)の源へ接
続される。しかし、P形装置39のゲートはP形装置3
8のドレイン端子とゲート端子へ接続されて、P形装置
39が、P形装置38にしたがって装置32を流れる電
流の電流ミラーとして動作するようにする。
ジスタ41のゲート端子へ接続される。N形装置41は
FETであって、電力消費量を減少させるために用いら
れる通常のN形FETよりも低い値のしきい値電圧Vt
を有する。N形FET41はN形FET42を介して接
地される。FET42は定電流源として動作するために
バイアスされる。FET41のソース端子における電圧
が、それのゲート電圧よりFETのしきい値電圧Vtだ
け低い電圧をほぼ追従する。したがって、フラッシュ装
置33を流れる電流が変化し、FET41のゲート電圧
が変化すると、これは、精密基準電圧を取り出す出力点
であるFET41のソース端子において反射される。
45へ供給される。各FET43、44、45は同一の
大きさであって、直列に接続され、各FETが抵抗とし
て機能するように各FETのゲートはそれ自身のドレイ
ンへ接続される。各FET43、44、45の基板はそ
のソース端子へ接続されて、ソース端子と基板の間に電
位が存在する時に、しきい値電圧のどのような変化も無
くす。これにより、FETが分圧回路網中の実際の抵抗
のように確実に動作することを支援する。直線動作領域
へバイアスされているN形FET47が、FET45の
ドレインへアース電位を供給する。このようにして、第
1の電圧レベルがフラッシュ装置33のゲートへ加えら
れ、その電圧レベルの3分の2がフラッシュ装置32の
ゲートへ加えられる。それらの値はフラッシュ装置3
2、33のゲート電圧を維持して、出力端子における電
圧基準値Vrefが希望の値に正確に維持されるように
する。
流が、フラッシュ装置33を流れる電流以下に減少した
とすると、この電流減少によりFET38の電圧が低下
させられ、FET38のドレイン電圧が上昇させられ
る。この電圧レベルはFET39のゲートへ加えられ
て、FET39のゲート・ソース間電圧を低下させる。
そうするとFET39はFET38を流れる電流の減少
を反映する。それと同時に、フラッシュ装置33はその
以前のレベルの電流を発生し、この値の電流をFET3
9に流させる。フラッシュ装置33からのより高い電流
を維持することを試みながら、FET39のゲート・ソ
ース間電圧を低下させると、FET39はそのドレイン
・ソース間電圧が上昇する領域において動作させられ
る。したがってそれら2つの衝突する電流のために、F
ET41のゲートへ加えられているので電圧が低下させ
られる。それにより3つのFETの電位が低下させられ
る。そうすると、フラッシュ装置33のゲート電圧がフ
ラッシュ装置32のゲート電圧よりいくらか大きく低下
し、2つの電流を平衡状態へ戻す。フラッシュ装置32
と33のいずれかを流れる電流が上記とは逆の向きへ変
化しても、上記と同様に作用して電流を平衡させ、出力
電圧Vrefを定常基準レベルに維持する。
路30はバイアス値を設定する回路を含む。N形FET
49は接地され、そのゲートがそのドレインへ接続され
る。一対の拡散抵抗50,51がFET49のドレイン
をP形スイッチ52へ接続する。このスイッチはソース
電圧Vccへ接続される。別のP形スイッチ53がソー
ス電圧Vccと、拡散抵抗50と51の間とへ接続され
る。スイッチ52のゲートにおける5ボルトの入力信号
により、FET49を通る電流路が形成されるととも
に、FET49は選択された大きさの電圧降下を生じさ
せられる。スイッチ53のゲートにおける3.3ボルト
の入力信号により、FET49を通る電流路が形成され
るとともに、FET49は同じ大きさの電圧降下を生じ
させられる。この電圧レベルは、5ボルトと3.3ボル
トの入力信号を外部から利用できる場合に、回路30の
FETへ同一のバイアスを与えるために用いられる。
FET54のゲートへ加えられる。それらのFETのソ
ースは接地され、ゲートはFET49のゲート端子にお
ける電圧へ接続される。したがって、FET42、54
を流れる電流が、電流ミラーにより設定される飽和値を
決して超えないように、FET42,54はFET49
を流れる電流の比例按分された電流ミラーとして機能す
る。
ンがP形FET56のゲートへ接続される。FET56
のソースが電圧源Vpumpへ接続され、ドレインがF
ET41のゲートへ接続される。P形FET55が電圧
源VpumpとFET56のゲート端子へ接続される。
FET56(FET54、55、57とともに)は、タ
ーンオン時に回路30の起動を迅速に行わせ、2つのフ
ラッシュ装置32と33を流れる電流が零である平衡状
態においてそれが動作しないようにするために用いられ
る。
レベルVpumpより低い値Vt(FET55の)ちょ
うどの電圧をFET56のゲートへ加えるための分圧器
としてFET54、55が機能する。これによりFET
56は動作させられ、FET41のゲート電圧が上昇し
てそれが動作し、フラッシュ装置32、33のゲート電
圧が上昇して、フラッシュ装置を流れる電流を増加させ
るようにする。FET38(したがってフラッシュ装置
32)を流れる電流を反映するためにP形FET57が
接続される。フラッシュ装置32を流れる電流が十分に
増加させられると、FET57は抵抗として動作し、そ
の電流を反映してFET56のゲート電圧を上昇させて
そのFETを徐々にターンオフにする。したがって回路
10は迅速に起動し、起動トランジスタ56が動作可能
状態になる間に適切な平衡状態になる。回路30の一実
施例に関連するフラッシュ・メモリアレイがプログラム
され、読み出され、または消去されるたびに、回路30
の一実施例がターンオンさせられるという事実から、こ
の迅速な起動特性は望ましい。
ミング電圧をフラッシュEEPROM装置32,33へ
加えて、浮動ゲートに蓄積されている電荷の値を、正し
い平衡点に達するために望ましい値に正確に置くために
利用できるいくつかの入力端子を含む。外部端子からの
電圧をフラッシュ装置32のドレインへ加えるためにN
形FET60を選択できる。外部端子からの電圧をフラ
ッシュ装置33のドレインへ加えるために同様のN形F
ET61を選択できる。別のN形FET62がN形FE
T63と協働して、別の外部端子からの同じ電圧を、プ
ログラミング中にフラッシュ装置32、33の各ゲート
へ加える。外部パッドへ加えられる値を処理することに
より、フラッシュ装置32、33の浮動ゲートに置かれ
ている電荷値を、出力端子における希望の精密基準電圧
を生ずるために望まれる正確な電荷値へ調整できる。
0を用いて、正しいゲート電圧(FET35、36のV
tの2倍)を各カスコード装置35、36へ加え、各フ
ラッシュ装置32、33のドレイン電圧が、平衡状態に
おける動作のために正しい電圧値(カスコード装置のV
t)に維持されるようにする。これは、フラッシュ装置
32、33のドレイン電圧を、カスコード装置の電圧V
tに等しい電圧レベルに維持するように制御する。
を必要とするから、ソース電圧Vccとして5ボルトま
たは3ボルトを利用できる時は、FET38、39のソ
ースにおける電圧Vpumpを供給するために電流ポン
プ装置が利用される。図4はこの目的のために利用でき
る電流ポンプ回路80を示す。この電流ポンプ回路80
はP形FET81を有する。このFETはソース電圧V
ccから電流を供給するために接続される。FET81
は、第1の経路中のダイオード接続されている(ゲート
端子がドレイン端子へ接続されている)第1のN形FE
T82と、ダイオード接続されている第2のN形FET
83を介して、電圧Vpumpが現われる出力端子へ結
合される。FET81は別の2つのダイオード接続され
ているN形FET88,89へも結合される。それらの
FETは、電圧Vpumpが現われる出力端子への第2
の経路を構成する。各FET82、83、88、89
は、とくに低いしきい値電圧を持つN形装置である。
ク入力信号CKがナンドゲート85へ加えられ、それに
より反転されてからナンドゲート86へ加えられる。ナ
ンドゲート85または86は動作可能状態にされて、ポ
ンプ可能化入力信号PUMPENによりクロック信号を
転送する。各ナンドゲート85、86の出力端子から他
のナンドゲートの入力端子へ帰還することにより、ナン
ドゲート85、86は、互いに重なり合わず、かつ逆位
相のクロック信号の2つの流れを確実に転送する。
80が動作可能状態にされると、信号PUMPEN#が
低レベルで、FET81にVccをN形FET82のド
レインへ供給させる。Vccの値が5ボルトであると、
信号IS5Vが供給されて伝送ゲートスイッチ87を閉
じさせ、ナンドゲート85からのクロック信号が遮断さ
れるようにする。その場合には、ナンドゲート86から
のクロック信号がFET82と83の間へ加えられる。
クロック信号の値が負の時は、FET82は動作させら
れて、FET81を介して接続されているソースVcc
がコンデンサ84を充電するようにする。クロック信号
が正の時は、FET82はターンオフされ、FET83
はターンオンさせられる。そうするとFET83はコン
デンサ84を出力端子へ接続して、負の半サイクル中に
蓄積された初期値Vccと、正のクロック信号により供
給される付加値Vccが電圧Vpumpとして出力端子
へ送られる。そうすると、出力端子において利用できる
出力電圧が希望の値へ実際に2倍にされる。
イッチ87が開かれて、クロック信号を更に2つのFE
T88と89の間へ送る。それらのFETはFET8
2、83と同様に機能して、ナンドゲート85を通るク
ロック信号の負の半サイクル中に蓄積された付加電荷
と、付加電圧がポンプ回路80の出力端子へ加えられる
ように、コンデンサ91を充電する。このように、FE
T82と88の間に加えられる第1の負クロックはFE
T82をターンオンして、コンデンサ84を充電する。
このクロックが正(およびナンドゲート85を通るクロ
ックが負)になると、FET88はターンオンしてコン
デンサ91を充電する。それから、FET88と89の
間の回路点が正になると、コンデンサ91に充電されて
いる値と、正のクロックの値が、ターンオンされたFE
T89により出力端子へ供給される。このようにして、
5ボルトまたは3ボルトであるVccの値に対して、電
圧Vpumpは希望の値へ上昇させられる。電圧Vpu
mpは、FET88、89を通る経路が可能状態にされ
た時に、出力電圧VpumpがFET83をターンオフ
するように、コンデンサ90を充電する。
図である。
る。
ク図である。
路図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 ソースとドレインと浮動ゲートおよび制
御ゲートをおのおの有し、浮動ゲートに異なる電荷を持
たせられた一対の同様なフラッシュEEPROMメモリ
・セルと、その各セルを平衡状態において等しい電流値
を発生する一対の並列回路のそれぞれに接続する手段
と、並列回路対中の電流に応答して、電流が平衡してい
る時に基準値として使用できる出力電圧を供給する手段
と、出力電圧が平衡時に供給された電圧から変化した時
に、出力電圧の変化を検出してフラッシュEEPROM
メモリ・セルを流れる電流を変化させて電流を平衡させ
る手段とを備える精密電圧基準回路。 - 【請求項2】 中央処理装置と、 バス手段と、 主記憶装置と、 プログラム可能な不揮発性長期記憶手段と、を備え、こ
の長期記憶手段は、 精密電圧基準を供給する手段、 を含み、この供給手段は、 一対の同様なフラッシュEEPROMメモリ・セルと、
その各セルを平衡状態において等しい電流値を発生する
一対の並列回路のそれぞれに接続する手段と、並列回路
対中の電流に応答して、電流が平衡している時に基準値
として使用できる出力電圧を供給する手段と、出力電圧
が平衡時に供給された電圧から変化した時に、出力電圧
の変化を検出してフラッシュEEPROMメモリ・セル
を流れる電流を変化させて電流を平衡させる手段と、 を備えるコンピュータ装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US993408 | 1992-12-21 | ||
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6559710B2 (en) | 2001-03-01 | 2003-05-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Raised voltage generation circuit |
JP2010205071A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Mitsumi Electric Co Ltd | 基準電圧回路及びこの基準電圧回路を有する発振回路 |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2851767B2 (ja) * | 1992-10-15 | 1999-01-27 | 三菱電機株式会社 | 電圧供給回路および内部降圧回路 |
JP2953226B2 (ja) * | 1992-12-11 | 1999-09-27 | 株式会社デンソー | 基準電圧発生回路 |
FR2709005B1 (fr) * | 1993-08-13 | 1995-11-10 | Motorola Semiconducteurs | Circuit destiné à une utilisation avec un agencement de retour. |
DE4342821C1 (de) * | 1993-12-15 | 1994-12-15 | Sgs Thomson Microelectronics | Elektronische Speicherschaltung |
US5469111A (en) * | 1994-08-24 | 1995-11-21 | National Semiconductor Corporation | Circuit for generating a process variation insensitive reference bias current |
US5592120A (en) * | 1994-09-07 | 1997-01-07 | Analog Devices, Inc. | Charge pump system |
EP0792505B1 (en) * | 1994-10-19 | 2001-07-04 | Intel Corporation | Voltage supplies for flash memory |
US5483486A (en) * | 1994-10-19 | 1996-01-09 | Intel Corporation | Charge pump circuit for providing multiple output voltages for flash memory |
US5671179A (en) * | 1994-10-19 | 1997-09-23 | Intel Corporation | Low power pulse generator for smart voltage flash eeprom |
US5495453A (en) * | 1994-10-19 | 1996-02-27 | Intel Corporation | Low power voltage detector circuit including a flash memory cell |
US5594360A (en) * | 1994-10-19 | 1997-01-14 | Intel Corporation | Low current reduced area programming voltage detector for flash memory |
GB9423034D0 (en) * | 1994-11-15 | 1995-01-04 | Sgs Thomson Microelectronics | A reference circuit |
US5475336A (en) * | 1994-12-19 | 1995-12-12 | Institute Of Microelectronics, National University Of Singapore | Programmable current source correction circuit |
US6108237A (en) * | 1997-07-17 | 2000-08-22 | Micron Technology, Inc. | Fast-sensing amplifier for flash memory |
JPH08335122A (ja) * | 1995-04-05 | 1996-12-17 | Seiko Instr Inc | 基準電圧用半導体装置 |
US5721702A (en) * | 1995-08-01 | 1998-02-24 | Micron Quantum Devices, Inc. | Reference voltage generator using flash memory cells |
US5748534A (en) * | 1996-03-26 | 1998-05-05 | Invox Technology | Feedback loop for reading threshold voltage |
US5694366A (en) * | 1996-05-01 | 1997-12-02 | Micron Quantum Devices, Inc. | OP amp circuit with variable resistance and memory system including same |
US5768287A (en) | 1996-10-24 | 1998-06-16 | Micron Quantum Devices, Inc. | Apparatus and method for programming multistate memory device |
US5771346A (en) | 1996-10-24 | 1998-06-23 | Micron Quantum Devices, Inc. | Apparatus and method for detecting over-programming condition in multistate memory device |
US5764568A (en) | 1996-10-24 | 1998-06-09 | Micron Quantum Devices, Inc. | Method for performing analog over-program and under-program detection for a multistate memory cell |
US5726563A (en) * | 1996-11-12 | 1998-03-10 | Motorola, Inc. | Supply tracking temperature independent reference voltage generator |
US5808501A (en) * | 1997-03-13 | 1998-09-15 | Burr-Brown Corporation | Voltage level shifter and method |
DE69721252D1 (de) * | 1997-09-29 | 2003-05-28 | St Microelectronics Srl | Verfahren und Vorrichtung zum analogen Programmieren einer Flash-EEPROM-Speicherzelle mit Selbstprüfung |
SE512555C2 (sv) * | 1997-09-29 | 2000-04-03 | Ericsson Telefon Ab L M | Diodanordning med liten eller försumbar tröskelspänning och användning av sådan diodanordning i en frekvensblandare eller i en signaldetektor |
US5808459A (en) * | 1997-10-30 | 1998-09-15 | Xerox Corporation | Design technique for converting a floating band-gap reference voltage to a fixed and buffered reference voltage |
US5946258A (en) * | 1998-03-16 | 1999-08-31 | Intel Corporation | Pump supply self regulation for flash memory cell pair reference circuit |
US6567302B2 (en) | 1998-12-29 | 2003-05-20 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for programming multi-state cells in a memory device |
US6411158B1 (en) * | 1999-09-03 | 2002-06-25 | Conexant Systems, Inc. | Bandgap reference voltage with low noise sensitivity |
US6515906B2 (en) * | 2000-12-28 | 2003-02-04 | Intel Corporation | Method and apparatus for matched-reference sensing architecture for non-volatile memories |
DE10218344A1 (de) * | 2002-04-25 | 2003-07-17 | Infineon Technologies Ag | Einrichtung zum Erzeugen einer zur Spannungsstabilisierung benötigten Referenzspannung |
US6642774B1 (en) * | 2002-06-28 | 2003-11-04 | Intel Corporation | High precision charge pump regulation |
US7057928B2 (en) * | 2003-07-08 | 2006-06-06 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | System and method for erasing high-density non-volatile fast memory |
US7429888B2 (en) * | 2004-01-05 | 2008-09-30 | Intersil Americas, Inc. | Temperature compensation for floating gate circuits |
US7176751B2 (en) * | 2004-11-30 | 2007-02-13 | Intel Corporation | Voltage reference apparatus, method, and system |
US7313019B2 (en) * | 2004-12-21 | 2007-12-25 | Intel Corporation | Step voltage generation |
ITMI20042538A1 (it) * | 2004-12-29 | 2005-03-29 | Atmel Corp | Metodo e sistema per la riduzione del soft-writing in una memoria flash a livelli multipli |
US7453307B2 (en) * | 2005-02-23 | 2008-11-18 | Supertex, Inc. | Process independent voltage controlled logarithmic attenuator having a low distortion and method therefor |
US7272041B2 (en) * | 2005-06-30 | 2007-09-18 | Intel Corporation | Memory array with pseudo single bit memory cell and method |
JP2007294846A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Ricoh Co Ltd | 基準電圧発生回路及びそれを用いた電源装置 |
US7532515B2 (en) * | 2007-05-14 | 2009-05-12 | Intel Corporation | Voltage reference generator using big flash cell |
US8427129B2 (en) * | 2007-06-15 | 2013-04-23 | Scott Lawrence Howe | High current drive bandgap based voltage regulator |
CN109510274B (zh) * | 2018-12-11 | 2022-02-11 | 鞍钢集团工程技术有限公司 | 一种锂电池预充电电路 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4317054A (en) * | 1980-02-07 | 1982-02-23 | Mostek Corporation | Bandgap voltage reference employing sub-surface current using a standard CMOS process |
FR2634616B1 (fr) * | 1988-07-20 | 1995-08-25 | Matra | Procede de montage de micro-composants electroniques sur un support et produit realisable par le procede |
US4902959A (en) * | 1989-06-08 | 1990-02-20 | Analog Devices, Incorporated | Band-gap voltage reference with independently trimmable TC and output |
US5081410A (en) * | 1990-05-29 | 1992-01-14 | Harris Corporation | Band-gap reference |
KR0175319B1 (ko) * | 1991-03-27 | 1999-04-01 | 김광호 | 정전압 회로 |
-
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6559710B2 (en) | 2001-03-01 | 2003-05-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Raised voltage generation circuit |
JP2010205071A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Mitsumi Electric Co Ltd | 基準電圧回路及びこの基準電圧回路を有する発振回路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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DE4343722A1 (de) | 1994-07-28 |
US5339272A (en) | 1994-08-16 |
DE4343722C2 (de) | 2000-02-17 |
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