JPH0770759A - 高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材 - Google Patents
高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材Info
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- JPH0770759A JPH0770759A JP5216579A JP21657993A JPH0770759A JP H0770759 A JPH0770759 A JP H0770759A JP 5216579 A JP5216579 A JP 5216579A JP 21657993 A JP21657993 A JP 21657993A JP H0770759 A JPH0770759 A JP H0770759A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/60—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using alkaline aqueous solutions with pH greater than 8
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
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-
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- C23C22/83—Chemical after-treatment
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ＭｇまたはＭｇ合金基材の表面に、Ｍｇとの
錫酸塩を主成分とする無機物層が形成され、必要により
前記無機層の上にＳｉ酸化物層または有機コーティング
層が形成されたものである。更に、無機物層の上にＳｉ
酸化物層を形成し、更にその上に有機コーティング層を
形成しても良い。 【効果】 優れた耐食性と塗膜密着性を有するＭｇまた
はＭｇ合金材を提供できるようになった。
錫酸塩を主成分とする無機物層が形成され、必要により
前記無機層の上にＳｉ酸化物層または有機コーティング
層が形成されたものである。更に、無機物層の上にＳｉ
酸化物層を形成し、更にその上に有機コーティング層を
形成しても良い。 【効果】 優れた耐食性と塗膜密着性を有するＭｇまた
はＭｇ合金材を提供できるようになった。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、各種航空宇宙機器、自
動車部品等に使用されるＭｇ合金材に関し、特に耐食性
に優れるＭｇ合金材に関するものである。
動車部品等に使用されるＭｇ合金材に関し、特に耐食性
に優れるＭｇ合金材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般にＭｇまたはＭｇ合金（以下、「Ｍ
ｇ合金」で代表することがある）は、実用化されている
各種金属または合金材の中でも極めて軽い合金であり、
更に比強度がＡｌや鋼等よりも大きいという特性を有し
ているので、軽量化、省エネルギー等を達成するため
に、航空宇宙機器の構造部材等に使用されている。更に
近年では電気部品、コンピュータ部品、自動車部品等に
使用されるようになり、その用途は益々拡大しつつあ
る。
ｇ合金」で代表することがある）は、実用化されている
各種金属または合金材の中でも極めて軽い合金であり、
更に比強度がＡｌや鋼等よりも大きいという特性を有し
ているので、軽量化、省エネルギー等を達成するため
に、航空宇宙機器の構造部材等に使用されている。更に
近年では電気部品、コンピュータ部品、自動車部品等に
使用されるようになり、その用途は益々拡大しつつあ
る。
【０００３】しかし、このような特性及び用途を有する
Ｍｇ合金は、極めて化学的に活性な合金であり、そのた
め著しく耐食性に劣っているので、クロメート処理、燐
酸塩処理等の化成処理、陽極酸化処理、塗装等を行うこ
とにより耐食性を補うことが従来行われている。
Ｍｇ合金は、極めて化学的に活性な合金であり、そのた
め著しく耐食性に劣っているので、クロメート処理、燐
酸塩処理等の化成処理、陽極酸化処理、塗装等を行うこ
とにより耐食性を補うことが従来行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし前述のような従
来の処理ではＭｇ合金に充分な耐食性を与えることは困
難であった。即ち、クロメート処理や燐酸塩処理等の化
成処理の場合、形成される化成皮膜の膜厚が薄く、しか
も皮膜自体が軟質で剥離しやすいので充分な耐食性が得
られなかった。特にクロメート処理の場合、６価クロム
廃液の処理が問題となっている。また陽極酸化処理の場
合、皮膜自体は高い耐食性を示すが、電気的な酸化によ
って皮膜に多数の孔が生じるためにその孔から腐食が発
生しやすく、従ってこの場合も充分な耐食性を得ること
が困難であった。更に、Ｍｇ合金に対して塗装を行った
場合、高湿度及び高温環境下においては充分な耐食性が
得られず、且つコストが高くなるという問題がある。
来の処理ではＭｇ合金に充分な耐食性を与えることは困
難であった。即ち、クロメート処理や燐酸塩処理等の化
成処理の場合、形成される化成皮膜の膜厚が薄く、しか
も皮膜自体が軟質で剥離しやすいので充分な耐食性が得
られなかった。特にクロメート処理の場合、６価クロム
廃液の処理が問題となっている。また陽極酸化処理の場
合、皮膜自体は高い耐食性を示すが、電気的な酸化によ
って皮膜に多数の孔が生じるためにその孔から腐食が発
生しやすく、従ってこの場合も充分な耐食性を得ること
が困難であった。更に、Ｍｇ合金に対して塗装を行った
場合、高湿度及び高温環境下においては充分な耐食性が
得られず、且つコストが高くなるという問題がある。
【０００５】本発明は上記したような従来技術における
種々の問題点に着目してなされたものであって、その目
的は、耐食性に優れたＭｇまたはＭｇ合金材を提供しよ
うとするものである。
種々の問題点に着目してなされたものであって、その目
的は、耐食性に優れたＭｇまたはＭｇ合金材を提供しよ
うとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すること
のできた本発明の高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材は、Ｍ
ｇまたはＭｇ合金基材の表面に、Ｍｇとの錫酸塩を主成
分とする無機物層が形成されたものである点に要旨を有
する。また前記無機物層の上に、Ｓｉ酸化物層または有
機コーティング層のいずれかが形成されたもの、或はＳ
ｉ酸化物層と有機コーティング層が該記載順序で積層し
て形成されたものは、耐食性を更に向上させるという観
点から効果的である。更に、前記無機物層は、溶液中か
らの析出によって形成されたものが好ましい。
のできた本発明の高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材は、Ｍ
ｇまたはＭｇ合金基材の表面に、Ｍｇとの錫酸塩を主成
分とする無機物層が形成されたものである点に要旨を有
する。また前記無機物層の上に、Ｓｉ酸化物層または有
機コーティング層のいずれかが形成されたもの、或はＳ
ｉ酸化物層と有機コーティング層が該記載順序で積層し
て形成されたものは、耐食性を更に向上させるという観
点から効果的である。更に、前記無機物層は、溶液中か
らの析出によって形成されたものが好ましい。
【０００７】
【作用】本発明者らは、Ｍｇ合金材（またはＭｇ材）の
耐食性改善を目指して様々な観点から検討した。その結
果、Ｍｇ合金基材の表面に、Ｍｇとの錫酸塩を主成分と
する無機物層を形成することによってＭｇ合金材の耐食
性が著しく改善されることを見出した。また前記無機物
層の上にＳｉ酸化物層または有機コーティング層を形成
することによってＭｇ合金材の耐食性が更に改善され、
特に有機コーティング層を形成したものでは意匠性も高
まることを見出した。また無機物層の上にＳｉ酸化物層
を形成し、更にその上に有機コーティング層を形成する
様な構成を採用してもＭｇ合金材の耐食性がより改善さ
れることを見出した。尚上記各構成のうち、無機物層お
よびＳｉ酸化物層は、緻密で硬質であるので、これらが
最表面となるＭｇ合金材では、耐食性ばかりでなく耐摩
耗性にも優れた特性を発揮する。そして上記いずれの構
成を採用しても、塗膜密着性にも優れたものとなる。本
発明で用いるＭｇまたはＭｇ合金基材としては、その製
造方法は特に限定されず、砂型、金型、ダイカスト等い
ずれにも適用できるものである。またその種類も限定さ
れず、純Ｍｇの他、ＡＺ、ＥＺ、ＱＥ、ＺＥ等の規格合
金から、高温強度改善のための微量の元素を含有させる
規格外の合金等いずれであってもよい。更にその形状も
限定されず、板状、波板状、棒状、線状、管状等いずれ
にも適用される。
耐食性改善を目指して様々な観点から検討した。その結
果、Ｍｇ合金基材の表面に、Ｍｇとの錫酸塩を主成分と
する無機物層を形成することによってＭｇ合金材の耐食
性が著しく改善されることを見出した。また前記無機物
層の上にＳｉ酸化物層または有機コーティング層を形成
することによってＭｇ合金材の耐食性が更に改善され、
特に有機コーティング層を形成したものでは意匠性も高
まることを見出した。また無機物層の上にＳｉ酸化物層
を形成し、更にその上に有機コーティング層を形成する
様な構成を採用してもＭｇ合金材の耐食性がより改善さ
れることを見出した。尚上記各構成のうち、無機物層お
よびＳｉ酸化物層は、緻密で硬質であるので、これらが
最表面となるＭｇ合金材では、耐食性ばかりでなく耐摩
耗性にも優れた特性を発揮する。そして上記いずれの構
成を採用しても、塗膜密着性にも優れたものとなる。本
発明で用いるＭｇまたはＭｇ合金基材としては、その製
造方法は特に限定されず、砂型、金型、ダイカスト等い
ずれにも適用できるものである。またその種類も限定さ
れず、純Ｍｇの他、ＡＺ、ＥＺ、ＱＥ、ＺＥ等の規格合
金から、高温強度改善のための微量の元素を含有させる
規格外の合金等いずれであってもよい。更にその形状も
限定されず、板状、波板状、棒状、線状、管状等いずれ
にも適用される。
【０００８】本発明において、Ｍｇとの錫酸塩を主成分
とする無機物層（以下、単に無機物層ということがあ
る）は、それ自体が耐酸化性、耐薬品性に優れ、且つ水
溶液中における溶解度も著しく小さいため様々な環境に
おいて高耐食性を有するものである。
とする無機物層（以下、単に無機物層ということがあ
る）は、それ自体が耐酸化性、耐薬品性に優れ、且つ水
溶液中における溶解度も著しく小さいため様々な環境に
おいて高耐食性を有するものである。
【０００９】前記無機物層は、Ｍｇとの錫酸塩を主成分
とするものであるが、この錫酸塩は一般式ｘＭｇＯ・ｙ
ＳｎＯ2 ・ｚＨ2 Ｏ（但し、ｚは０も含む）で表される
ものであればどのようなものでも良く、オルト錫酸塩
（例えばＭｇ2 ＳｎＯ4 ），メタ錫酸塩（例えばＭｇＳ
ｎＯ3 ），ヘキサヒドロオクソ錫酸塩（例えばＭｇＳｎ
（ＯＨ）6 ）等のいずれも含む趣旨である。また上記主
成分以外の他の無機物成分は特に限定されず、ＭｇＯ，
Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｍｇ3 Ａｌ2 ，ＳｉＯ2 ，ＭｇＡｌ 2 Ｏ
4 ，Ｃｒ2 Ｏ3 ，ＮａＭｇＦ3 等を含有するものでもか
まわない。更に、Ｚｎ，Ｃｏ，Ｃａ，Ｐｂ，Ｓｒ等の２
価金属との塩を含有するものでもかまわない。
とするものであるが、この錫酸塩は一般式ｘＭｇＯ・ｙ
ＳｎＯ2 ・ｚＨ2 Ｏ（但し、ｚは０も含む）で表される
ものであればどのようなものでも良く、オルト錫酸塩
（例えばＭｇ2 ＳｎＯ4 ），メタ錫酸塩（例えばＭｇＳ
ｎＯ3 ），ヘキサヒドロオクソ錫酸塩（例えばＭｇＳｎ
（ＯＨ）6 ）等のいずれも含む趣旨である。また上記主
成分以外の他の無機物成分は特に限定されず、ＭｇＯ，
Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｍｇ3 Ａｌ2 ，ＳｉＯ2 ，ＭｇＡｌ 2 Ｏ
4 ，Ｃｒ2 Ｏ3 ，ＮａＭｇＦ3 等を含有するものでもか
まわない。更に、Ｚｎ，Ｃｏ，Ｃａ，Ｐｂ，Ｓｒ等の２
価金属との塩を含有するものでもかまわない。
【００１０】無機物層の層厚としては１〜１０μｍの範
囲が好ましい。厚さが１μｍ未満の場合は充分な耐食性
を得ることができず、一方１０μｍを超えた場合は耐食
性の向上は飽和傾向にあるのでそれ以上の膜厚を形成す
ることは非経済的である。
囲が好ましい。厚さが１μｍ未満の場合は充分な耐食性
を得ることができず、一方１０μｍを超えた場合は耐食
性の向上は飽和傾向にあるのでそれ以上の膜厚を形成す
ることは非経済的である。
【００１１】また無機物層を形成する方法も特に限定さ
れず、錫酸のアルカリ金属塩溶液中での反応による水溶
液からの析出、スパッタリングや蒸着等の気相めっき等
が例示される。中でも経済性等を考慮すると、錫酸溶液
からの析出による方法が特に好ましい。即ち、溶液中で
の反応によれば、比較的安価に処理を行うことができ、
膜厚調整も容易であり、経済的にも優れている。このと
き用いる錫酸のアルカリ金属塩としては、水での溶解度
が比較的高い錫酸ナトリウムや錫酸カリウム等が挙げら
れ、これらの１種以上を含有する水溶液を用いればよ
い。この錫酸のアルカリ金属塩水溶液の濃度は０．１〜
１．５ｍｏｌ／リットル程度が好ましい。また処理時の
水溶液の温度や処理時間については、特に限定されるも
のではないが、水溶液の温度は室温以上８０℃以下、処
理時間は１８０秒以上が良い。Ｍｇの溶解反応を促進
し、処理皮膜の形成を促進するという観点からして、皮
膜形成を陽極電解によって行うようにしてもよい。更
に、処理液をアルカリ性として、錫酸塩の形成を促進す
ることも有効である。尚前述した趣旨から明らかな様
に、Ｍｇ以外の錫酸塩の形成や無機物層の組成調整とい
う観点から、他の塩類を添加する様にしても良い。
れず、錫酸のアルカリ金属塩溶液中での反応による水溶
液からの析出、スパッタリングや蒸着等の気相めっき等
が例示される。中でも経済性等を考慮すると、錫酸溶液
からの析出による方法が特に好ましい。即ち、溶液中で
の反応によれば、比較的安価に処理を行うことができ、
膜厚調整も容易であり、経済的にも優れている。このと
き用いる錫酸のアルカリ金属塩としては、水での溶解度
が比較的高い錫酸ナトリウムや錫酸カリウム等が挙げら
れ、これらの１種以上を含有する水溶液を用いればよ
い。この錫酸のアルカリ金属塩水溶液の濃度は０．１〜
１．５ｍｏｌ／リットル程度が好ましい。また処理時の
水溶液の温度や処理時間については、特に限定されるも
のではないが、水溶液の温度は室温以上８０℃以下、処
理時間は１８０秒以上が良い。Ｍｇの溶解反応を促進
し、処理皮膜の形成を促進するという観点からして、皮
膜形成を陽極電解によって行うようにしてもよい。更
に、処理液をアルカリ性として、錫酸塩の形成を促進す
ることも有効である。尚前述した趣旨から明らかな様
に、Ｍｇ以外の錫酸塩の形成や無機物層の組成調整とい
う観点から、他の塩類を添加する様にしても良い。
【００１２】本発明においては、無機物層の上にＳｉ酸
化物層を形成することが好ましいが、必ずしも完全なＳ
ｉＯ2 層である必要はなく、Ｎａ2 ＳｉＯ3 やＡｌ2 Ｏ
3 等の成分を含有するものでもよい。
化物層を形成することが好ましいが、必ずしも完全なＳ
ｉＯ2 層である必要はなく、Ｎａ2 ＳｉＯ3 やＡｌ2 Ｏ
3 等の成分を含有するものでもよい。
【００１３】このＳｉ酸化物層を無機物層の上に形成す
る方法は、特に限定はされず、例えば珪酸塩溶液中から
の析出法、ゾル−ゲル法による塗布、スパッタリング等
の気相めっきによる方法等が挙げられる。上記の方法の
うち、経済性や処理工程の簡便さの点から珪酸塩溶液へ
の浸漬法が推奨される。即ち、ゾル−ゲル法は薬品を塗
布した後に焼付け工程を行う必要があるので加熱炉等の
熱処理設備を必要とし、またスパッタリング等の気層め
っき法は専用の設備を必要とし、真空引き等処理工程に
長時間を要するという問題があるからである。
る方法は、特に限定はされず、例えば珪酸塩溶液中から
の析出法、ゾル−ゲル法による塗布、スパッタリング等
の気相めっきによる方法等が挙げられる。上記の方法の
うち、経済性や処理工程の簡便さの点から珪酸塩溶液へ
の浸漬法が推奨される。即ち、ゾル−ゲル法は薬品を塗
布した後に焼付け工程を行う必要があるので加熱炉等の
熱処理設備を必要とし、またスパッタリング等の気層め
っき法は専用の設備を必要とし、真空引き等処理工程に
長時間を要するという問題があるからである。
【００１４】上記で用いる珪酸塩溶液としては、種類は
特に限定されず、Ｎａ2 ＳｉＯ3 、Ｎａ2 Ｓｉ4 Ｏ9 等
の常用される溶液の中から適宜選択すればよい。珪酸塩
溶液の濃度は、０．１ｍｏｌ／リットル以上とするのが
望ましく、また処理温度も６０℃以上とするのが好まし
い。濃度０．１ｍｏｌ／リットル未満、温度６０℃未満
では充分な耐食性を発揮することができないからであ
る。また、処理時間は好ましくは５０秒以上とする。
特に限定されず、Ｎａ2 ＳｉＯ3 、Ｎａ2 Ｓｉ4 Ｏ9 等
の常用される溶液の中から適宜選択すればよい。珪酸塩
溶液の濃度は、０．１ｍｏｌ／リットル以上とするのが
望ましく、また処理温度も６０℃以上とするのが好まし
い。濃度０．１ｍｏｌ／リットル未満、温度６０℃未満
では充分な耐食性を発揮することができないからであ
る。また、処理時間は好ましくは５０秒以上とする。
【００１５】本発明において、無機物層またはＳｉ酸化
物層の上に形成されることのある有機コーティング層と
しては、その種類は特に限定されず、油性、水溶性の如
何も問われない。例えばビニル樹脂、アルキド樹脂、フ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の中
から最終製品の用途等に応じて適宜選択すれば良い。ま
た有機コーティング層中に着色や一層の耐食性の向上を
目的とした顔料等を含有させることも勿論有効である。
有機コーティング層の層厚は、要求される耐食性の程度
や経済性等を考慮して適宜決定すれば良いが、通常５〜
２０μｍ程度の範囲である。有機コーティングのコーテ
ィング方法も特に限定されず、例えばロールコート法、
スプレーコート法、電着塗装法等の中から層厚、耐食性
等の要求特性等に応じて適宜採用することができる。
物層の上に形成されることのある有機コーティング層と
しては、その種類は特に限定されず、油性、水溶性の如
何も問われない。例えばビニル樹脂、アルキド樹脂、フ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の中
から最終製品の用途等に応じて適宜選択すれば良い。ま
た有機コーティング層中に着色や一層の耐食性の向上を
目的とした顔料等を含有させることも勿論有効である。
有機コーティング層の層厚は、要求される耐食性の程度
や経済性等を考慮して適宜決定すれば良いが、通常５〜
２０μｍ程度の範囲である。有機コーティングのコーテ
ィング方法も特に限定されず、例えばロールコート法、
スプレーコート法、電着塗装法等の中から層厚、耐食性
等の要求特性等に応じて適宜採用することができる。
【００１６】以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に
説明するが、下記実施例は本発明を制限するものではな
く、前・後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施するこ
とは全て本発明の技術的範囲に含有される。
説明するが、下記実施例は本発明を制限するものではな
く、前・後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施するこ
とは全て本発明の技術的範囲に含有される。
【００１７】
実施例１ Ｍｇ合金基材 ：ＡＺ９１Ｄダイカスト材、ＺＥ４１砂
型材（１５０×７０×５ｍｍ） 尚、ＡＺ９１ＤはＡｌ：９．０２％（重量％、以下同
じ）、Ｚｎ：０．７５％、Ｍｎ：０．２２％、Ｓｉ：
０．０１％、Ｃｕ：０．００３％、Ｎｉ：０．００１％
以下、Ｆｅ：０．００４％、残部Ｍｇからなる合金であ
る。またＺＥ４１は、Ｚｎ：３．７％、Ｍｎ：０．８
％、ＲＥ：１．３２％、Ｚｒ：０．００３％、Ｎｉ：
０．００２％、Ｆｅ：０．００６％、残部Ｍｇからなる
合金である。
型材（１５０×７０×５ｍｍ） 尚、ＡＺ９１ＤはＡｌ：９．０２％（重量％、以下同
じ）、Ｚｎ：０．７５％、Ｍｎ：０．２２％、Ｓｉ：
０．０１％、Ｃｕ：０．００３％、Ｎｉ：０．００１％
以下、Ｆｅ：０．００４％、残部Ｍｇからなる合金であ
る。またＺＥ４１は、Ｚｎ：３．７％、Ｍｎ：０．８
％、ＲＥ：１．３２％、Ｚｒ：０．００３％、Ｎｉ：
０．００２％、Ｆｅ：０．００６％、残部Ｍｇからなる
合金である。
【００１８】前処理 ：基材表面をフライス盤に
て機械加工し鋳造面を除去。 無機物層の形成：表１に示す方法でＭｇＳｎ（ＯＨ）6
を主成分とする無機物層を形成した。 処理溶液 ：０．２Ｍ錫酸カリウム，０．２Ｍ水酸
化ナトリウム，０．０５Ｍ酢酸ナトリウムの混合溶液を
用い、８０℃処理した。各層厚は時間を変化させること
により変えた。
て機械加工し鋳造面を除去。 無機物層の形成：表１に示す方法でＭｇＳｎ（ＯＨ）6
を主成分とする無機物層を形成した。 処理溶液 ：０．２Ｍ錫酸カリウム，０．２Ｍ水酸
化ナトリウム，０．０５Ｍ酢酸ナトリウムの混合溶液を
用い、８０℃処理した。各層厚は時間を変化させること
により変えた。
【００１９】得られた供試材を耐食性試験に供した。耐
食性試験は、１００×５０ｍｍに試験面積を被覆し、塩
水噴霧試験１６８時間を実施した後、クロム酸溶液中に
て腐食生成物を除去し、最大孔食深さを求めた。最大孔
食深さは、試験面積を９分割し、各エリア内の最大孔食
深さを求め、極致解析法を用いて推定最大孔食深さを算
出した。ここで、再帰期間は５００とした。その結果を
表１に示す。耐食性の評価は、推定最大孔食深さが未処
理材の１／４以下のものを◎、１／４を超え１／２以下
のものを○、１／２を超えるものを×とした。
食性試験は、１００×５０ｍｍに試験面積を被覆し、塩
水噴霧試験１６８時間を実施した後、クロム酸溶液中に
て腐食生成物を除去し、最大孔食深さを求めた。最大孔
食深さは、試験面積を９分割し、各エリア内の最大孔食
深さを求め、極致解析法を用いて推定最大孔食深さを算
出した。ここで、再帰期間は５００とした。その結果を
表１に示す。耐食性の評価は、推定最大孔食深さが未処
理材の１／４以下のものを◎、１／４を超え１／２以下
のものを○、１／２を超えるものを×とした。
【００２０】
【表１】
【００２１】表１から明らかな様に、本発明の規定要件
を満たす実施例は、比較例と比べて耐孔食深さが数段優
れていることがわかる。尚実施例１で得られた本発明の
Ｍｇ合金材の定性分析（Ｘ線回折）の測定条件を下記
に、その結果を図１に示す。
を満たす実施例は、比較例と比べて耐孔食深さが数段優
れていることがわかる。尚実施例１で得られた本発明の
Ｍｇ合金材の定性分析（Ｘ線回折）の測定条件を下記
に、その結果を図１に示す。
【００２２】（測定条件） 管球：Ｃｕ 管電圧：４０ＫＶ 管電流：３００ｍＡ 走査軸：２θ 走査速度：４．０００°／ｍｉｎ 発散スリット：０．２０ｍｍ 散乱スリット：８．００ｍｍ 受光スリット：５．００ｍｍ 処理条件：波長１．５４０５６Å
【００２３】実施例２ 実施例１と同様にして、Ｍｇ合金基材の表面にＭｇＳｎ
（ＯＨ）6 を主成分とする無機物層を形成し、更にその
上に表２に示す方法によってＳｉ酸化物層を形成して供
試材を作成した。得られた供試材を用い、実施例１のと
きと同様にして耐食性試験に供した。その結果を表２に
示す。
（ＯＨ）6 を主成分とする無機物層を形成し、更にその
上に表２に示す方法によってＳｉ酸化物層を形成して供
試材を作成した。得られた供試材を用い、実施例１のと
きと同様にして耐食性試験に供した。その結果を表２に
示す。
【００２４】
【表２】
【００２５】表２からも明らかなように、無機物層の上
にＳｉ酸化物層を形成させることによって、耐食性が一
段と向上していることが分かる。 実施例３ 実施例１に示したＭｇ合金基材を用い、前記の様な前処
理をほどこした後、表３に示す方法でＭｇＳｎ（ＯＨ）
6 を主成分とする無機物層を下記処理溶液によって形成
し、またはスパッタリングや蒸着によりＭｇＳｎＯ3 を
主成分とする無機物層を形成し、その上に下記に示す条
件で有機コーティング層を形成し、供試材とした。
にＳｉ酸化物層を形成させることによって、耐食性が一
段と向上していることが分かる。 実施例３ 実施例１に示したＭｇ合金基材を用い、前記の様な前処
理をほどこした後、表３に示す方法でＭｇＳｎ（ＯＨ）
6 を主成分とする無機物層を下記処理溶液によって形成
し、またはスパッタリングや蒸着によりＭｇＳｎＯ3 を
主成分とする無機物層を形成し、その上に下記に示す条
件で有機コーティング層を形成し、供試材とした。
【００２６】処理溶液 ：０．２Ｍ錫酸カリウム，
０．２Ｍ水酸化ナトリウム，０．０５Ｍ酢酸ナトリウム
の混合溶液を用い、８０℃処理した。各層厚は時間を変
化させることにより変えた。 （有機コーティング層の形成） コーティング法：ロールコート法 エポキシ樹脂：フェノール樹脂含有「クリアーコート」 メラミン樹脂：関西ペイント製「アミラック」 ポリエステル樹脂：関西ペイント製「上塗りアミラッ
ク」 得られた供試材を耐食性試験に供した。耐食性試験は、
１００×５０ｍｍに試験面積を被覆し、クロスカットを
入れた後、塩水噴霧試験２２０時間を実施し、クロスカ
ットからの最大腐食幅を求めて評価した。その結果を表
３に示す。
０．２Ｍ水酸化ナトリウム，０．０５Ｍ酢酸ナトリウム
の混合溶液を用い、８０℃処理した。各層厚は時間を変
化させることにより変えた。 （有機コーティング層の形成） コーティング法：ロールコート法 エポキシ樹脂：フェノール樹脂含有「クリアーコート」 メラミン樹脂：関西ペイント製「アミラック」 ポリエステル樹脂：関西ペイント製「上塗りアミラッ
ク」 得られた供試材を耐食性試験に供した。耐食性試験は、
１００×５０ｍｍに試験面積を被覆し、クロスカットを
入れた後、塩水噴霧試験２２０時間を実施し、クロスカ
ットからの最大腐食幅を求めて評価した。その結果を表
３に示す。
【００２７】
【表３】
【００２８】実施例４ 実施例３と同様にして、Ｍｇ合金基材の表面にＭｇＳｎ
（ＯＨ）6 を主成分とする無機物層を形成するか、また
はスパッタリングや蒸着によりＭｇＳｎＯ3 を主成分と
する無機物層を形成し、その上に表４に示す方法によっ
てＳｉ酸化物層を形成し、更にその上に有機コーティン
グ層を形成し供試材を作成した。得られた供試材を実施
例３と同様に耐食性試験に供した。結果を表４に示す。
（ＯＨ）6 を主成分とする無機物層を形成するか、また
はスパッタリングや蒸着によりＭｇＳｎＯ3 を主成分と
する無機物層を形成し、その上に表４に示す方法によっ
てＳｉ酸化物層を形成し、更にその上に有機コーティン
グ層を形成し供試材を作成した。得られた供試材を実施
例３と同様に耐食性試験に供した。結果を表４に示す。
【００２９】
【表４】
【００３０】表３及び表４から明らかなように、本発明
の規定要件を満たすＭｇ合金材は優れた耐食性を示して
いる。またＳｉ酸化物層を介在させることによって、そ
の効果は一層向上している。これに対し、Ｍｇ合金基材
に有機コーティング層を形成しただけのものではその耐
食性が劣っている。
の規定要件を満たすＭｇ合金材は優れた耐食性を示して
いる。またＳｉ酸化物層を介在させることによって、そ
の効果は一層向上している。これに対し、Ｍｇ合金基材
に有機コーティング層を形成しただけのものではその耐
食性が劣っている。
【００３１】
【発明の効果】本発明は以上のように構成されており、
優れた耐食性と塗膜密着性を兼備したＭｇまたはＭｇ合
金材を提供できるようになった。また本発明に係るＭｇ
またはＭｇ合金材は、従来腐食の発生の為に使用できな
かった用途においての使用が可能になり、ＭｇまたはＭ
ｇ合金材の用途を拡大を図ることができ、その技術的意
義は大きい。
優れた耐食性と塗膜密着性を兼備したＭｇまたはＭｇ合
金材を提供できるようになった。また本発明に係るＭｇ
またはＭｇ合金材は、従来腐食の発生の為に使用できな
かった用途においての使用が可能になり、ＭｇまたはＭ
ｇ合金材の用途を拡大を図ることができ、その技術的意
義は大きい。
【図１】本発明のＭｇ合金材のＸ線回折の結果を示す図
である。
である。
Claims (5)
- 【請求項１】 ＭｇまたはＭｇ合金基材の表面に、Ｍｇ
との錫酸塩を主成分とする無機物層が形成されたもので
あることを特徴とする高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材。 - 【請求項２】 ＭｇまたはＭｇ合金基材の表面に、Ｍｇ
との錫酸塩を主成分とする無機物層が形成され、その上
にＳｉ酸化物層が形成されたものであることを特徴とす
る高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材。 - 【請求項３】 ＭｇまたはＭｇ合金基材の表面に、Ｍｇ
との錫酸塩を主成分とする無機物層が形成され、その上
に有機コーティング層が形成されたものであることを特
徴とする高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材。 - 【請求項４】 ＭｇまたはＭｇ合金基材の表面に、Ｍｇ
との錫酸塩を主成分とする無機物層が形成され、その上
にＳｉ酸化物層が形成され、更にその上に有機コーティ
ング層が形成されたものであることを特徴とする高耐食
性ＭｇまたはＭｇ合金材。 - 【請求項５】 前記無機物層が、溶液中からの析出によ
って形成されたものである請求項１〜４のいずれかに記
載の高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5216579A JPH0770759A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5216579A JPH0770759A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0770759A true JPH0770759A (ja) | 1995-03-14 |
Family
ID=16690632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5216579A Withdrawn JPH0770759A (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 高耐食性ＭｇまたはＭｇ合金材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0770759A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100500036B1 (ko) * | 2000-11-22 | 2005-07-12 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 마그네슘 합금 성형품과 그 제조방법 |
| JP2012097340A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | マグネシウム合金の表面処理方法 |
| US20120171501A1 (en) * | 2010-12-30 | 2012-07-05 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Process for surface treating magnesium alloy and article made with same |
| WO2012091456A2 (ko) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | 주식회사 포스코 | 표면 조직이 치밀한 마그네슘 합금 및 그 표면 처리 방법 |
-
1993
- 1993-08-31 JP JP5216579A patent/JPH0770759A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100500036B1 (ko) * | 2000-11-22 | 2005-07-12 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 마그네슘 합금 성형품과 그 제조방법 |
| JP2012097340A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | マグネシウム合金の表面処理方法 |
| WO2012091456A2 (ko) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | 주식회사 포스코 | 표면 조직이 치밀한 마그네슘 합금 및 그 표면 처리 방법 |
| WO2012091456A3 (ko) * | 2010-12-28 | 2012-10-04 | 주식회사 포스코 | 표면 조직이 치밀한 마그네슘 합금 및 그 표면 처리 방법 |
| US20120171501A1 (en) * | 2010-12-30 | 2012-07-05 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Process for surface treating magnesium alloy and article made with same |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20001031 |