JPH0770455B2 - X線露光装置 - Google Patents

X線露光装置

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JPH0770455B2
JPH0770455B2 JP61011159A JP1115986A JPH0770455B2 JP H0770455 B2 JPH0770455 B2 JP H0770455B2 JP 61011159 A JP61011159 A JP 61011159A JP 1115986 A JP1115986 A JP 1115986A JP H0770455 B2 JPH0770455 B2 JP H0770455B2
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JP
Japan
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ray exposure
vacuum
exposure apparatus
electron beam
ray
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JP61011159A
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JPS62171122A (ja
Inventor
隆行 松川
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、超LSI等の半導体装置の製造に使用する微細
加工装置、特にシンクロトロン放射光を利用したX線露
光装置に関する。
〔従来の技術〕
第2図は従来のX線露光装置の一例を示す平面図、第3
図は第2図に示したX線露光装置の要部を拡大した縦断
面図である。図において、(1)は電子の加速をおこな
う線型加速器、(2)は線型加速器(1)内に設けられ
電子線を発生するフイラメント、(3)は電子を加速す
る加速電極、(4)は加速電極(3)により加速された
電子線である。(5)は蓄積リング(100)と呼ばれる
多角形軌道に打ち込まれた電子線、(6)は電子線
(5)を走行させる空間を超高真空に保つための真空チ
ヤンバー、(7)は電子の軌道を曲げるための磁石であ
る。(8)は電子軌道から放射されたX線、(9)は露
光チヤンバーである。また(10)は真空用ゲートバル
ブ、(11)はX線露光用マスク、(12)はシリコンウエ
ーハ、(13)はX線(8)が透過しやすい材料で作られ
た窓である。
上記のように構成された従来のX線露光装置によれば、
第2図に示すように線型加速器(1)のフイラメント
(2)より発した電子線(4)を、加速電極(3)に加
えられた電界によつて0.5GeV〜1.5GeVという高エネルギ
ーに加速して蓄積リング(100)の多角形軌道に打ち込
む。打ち込まれた電子線(5)は、真空チヤンバー
(6)で仕切られた超高真空中を進むが、軌道面に垂直
な磁界(第3図で示す矢印B方向)が加えられた部分で
はその進行方向が曲げられる。GeV近くにまで加速され
た電子が磁場中で曲げられると、その曲率軌道の接線方
向に、シンクロトロン放射光と呼ばれる強力な光とX線
(8)が放射される。このX線(8)を露光用マスクア
ライナーに導いて、非常に高精度のX線露光を短時間で
行なう。
このような放射光は、磁場を加えて内部を走る電子線
(5)の向きを曲げるたびに発生するので、第2図に示
した例では、8本のX線ビームの取り出し(ビームライ
ンと呼ぶ)が可能ということになる。このように複数個
の磁界によつて、電子線(5)が全体として閉ループと
なるようにし、かつ失つたエネルギーを補充するための
加速管を適宜配置することにより、蓄積リンク(100)
内を電子線(5)は原理的には永続的に回りつづけるこ
とになる。
第3図は、磁石(7)で作られた磁界Bによつて電子線
(5)が曲げられ、そこから出たX線(8)が真空を保
持するような材料でできた窓(13)を通して、X線露光
用マスク(11)とX線レジストを塗布したシリコンウエ
ハ(12)に照射される様子を示している。真空用ゲート
バルブ(10)は、蓄積リング(100)の真空とビームラ
イン部の真空を必要に応じて遮断するために設けられ、
使用時は開となつている。蓄積リング(100)とビーム
ライン部はそれぞれP1,P2のポンプで真空排気されてい
る。特に蓄積リング(100)の真空度は、残留ガスとの
衝突で電子線(5)が減衰することを防ぐ上で重要で、
10-7Pa以上の超高真空に保たれる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のように構成した従来のX線露光装置によれば、単
一の蓄積リング(100)に複数個のX線アライナーを付
属させるようにしたので、万一蓄積リング(100)に真
空系トラブルが発生した場合には、全ての露光装置が使
えなくなつてしまうという欠点があつた。一般に、超高
真空の容器の一端を大気圧にしてしまつた場合、再度真
空排気とベーキングによつても超高真空状態に復帰させ
るには、従来装置のような大きな真空容器を持つ系では
少くとも数日間を要し、この間この装置を露光装置とし
て使用している半導体素子製造ラインは全く露光ができ
ない状態になつてしまう。さらにまた仮にX線露光装置
が正常に作動している場合でも、蓄積リング(100)内
の電子線(5)は種々の理由による衝突で徐々に減少し
ていくため、数時間に一度づつは改めて線型加速装置よ
り新たな電子の注入が必要で、その間も全ての露光装置
が使えないという問題もあつた。
本発明は上記のような問題点を解決するためになされた
もので、ダウンタイムがほとんど無く安定に稼動するX
線露光装置を得ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は上記の目的を達成するためになされたもので、
1本のビームラインとそれに付属するマスクアライメン
ト設備一式に対して少くとも2本以上の真空排気的に独
立した蓄積リングを設けたX線露光装置を提供するもの
である。
〔作 用〕
複数の電子線を同時に蓄積リング中に回転させるように
し、一方の蓄積リングが使用不能になつた場合でももう
一方の蓄積リングからの放射光をビームラインに導き、
X線露光作業を続行する。
〔実施例〕
第1図は本発明の実施例を示す縦断面図である。なお第
3図と同じ機能の部分には同じ記号を付し説明を省略す
る。図において、(6a),(14)は蓄積リング(100a)
を構成する2本の平行な真空チヤンバーであり、(5
a),(15)はそれぞれ真空チヤンバー(6a),(14)
内を高速に回転する電子線である。また(10a),(1
6)は、それぞれ真空チヤンバー(6a),(14)を真空
状態に開閉する真空用ゲートバルブである。
上記のように構成した本発明の作用を説明すれば次の通
りである。すなわち本発明に係るX線露光装置では、完
全に真空系として独立した2つの多角形リング状の真空
チヤンバー(6a),(14)内を2つの電子線(5a),
(15)が蓄積されて回つていることになる。これらの電
子線(5a),(15)は磁石(7)によつて曲げられ、共
にシンクロトロン放射光(X線)(8a),(17)を発す
るが、、そのうちの一方は真空用ゲートバルブ(10
a),(16)によつて遮断されている。第1図は、放射
光(17)が真空用ゲートバルブ(16)によつて遮断され
た状態を示している。このように複数(本実施例では2
本)の電子線(5a),(15)を同時に回転させられるよ
うにしたので、一方の蓄積リング〔たとえば(6a)〕が
真空系のトラブル等によつて使用不能になつた場合に
も、直ちにもう一方の蓄積リング〔たとえば(14)〕か
らの放射光を真空用ゲートバルブ(16)を開けてビーム
ラインに導き、X線露光作業をつづけることができる。
その間に並行してトラブルを生じた側の蓄積リング(6
a)を保修して再び定常的に電子ビームを高速回転させ
るまで復帰させておく、 なお上記実施例では、2本の蓄積リングを同時に1個の
磁石で制御する場合について示したが、別々の磁石で制
御しても良いことは言うまでもない。また、蓄積リング
も2本に限られるものでなく、3本以上であつても良
い。さらに電子の注入に用いる線型加速器も、1個で2
本のリングに対して共用しても良く、別々に独立の線型
加速器を用いてもよい。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、蓄積
リングを複数個同時に作動できるようにしたので、安定
稼動のX線露光が実現されるという著しい効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す縦断面図、第2図は従来
のX線露光装置の一例を示す平面図、第3図は第2図の
要部を拡大した縦断面図である。 (1)……線型加速器、(7)……磁石、(5a),(1
5)……電子線、(6a),(14)……真空チヤンバー、
(100a)……蓄積リング。 なお図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】シンクロトロン放射光を用いてX線露光を
    行なうX線露光装置において、1本のビームラインとそ
    れに付属するマスクアライメント設備一式に対して少な
    くとも2本以上の真空排気的に独立した蓄積リングを設
    けたことを特徴とするX線露光装置。
  2. 【請求項2】2本以上の並置した蓄積リング用真空チヤ
    ンバー中を走行する電子線を、同一の磁石によつて同時
    に偏向させるようにしたことを特徴とする特許請求の範
    囲第(1)項に記載のX線露光装置。
  3. 【請求項3】単一の線型加速器で複数の蓄積リングに電
    子を注入できるようにしたことを特徴とする特許請求の
    範囲第(1)項または第(2)項記載のX線露光装置。
JP61011159A 1986-01-23 1986-01-23 X線露光装置 Expired - Lifetime JPH0770455B2 (ja)

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JP61011159A JPH0770455B2 (ja) 1986-01-23 1986-01-23 X線露光装置

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JP61011159A JPH0770455B2 (ja) 1986-01-23 1986-01-23 X線露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62171122A JPS62171122A (ja) 1987-07-28
JPH0770455B2 true JPH0770455B2 (ja) 1995-07-31

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ID=11770252

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2507384B2 (ja) * 1987-02-12 1996-06-12 株式会社日立製作所 シンクロトロン放射光発生装置
JPH01181420A (ja) * 1988-01-08 1989-07-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd プロキシミテイ露光装置
JPH03200317A (ja) * 1989-12-27 1991-09-02 Rohm Co Ltd マスクアライメント装置

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JPS62171122A (ja) 1987-07-28

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