JPH0770153A - 酸化スズフィルム形成用の粉末有機金属化合物、その使用方法及びそれにより被覆された基材 - Google Patents
酸化スズフィルム形成用の粉末有機金属化合物、その使用方法及びそれにより被覆された基材Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 透明基材上に赤外線についての特性及び／又
は電気的特性を有する、ハロゲンをドープされた酸化ス
ズのフィルムを形成するため、透明基材、特にガラスの
基材の表面で熱の作用により熱分解させるための、スズ
とハロゲン特にフッ素を含有する粉末有機金属化合物を
提供する。 【構成】 本発明の粉末有機金属化合物は、粒子径ｄ90
が40〜200 μｍ、特に50〜150 μｍ、好ましくは60〜10
0 μｍとなるように選ばれた粒度測定値を有する。
は電気的特性を有する、ハロゲンをドープされた酸化ス
ズのフィルムを形成するため、透明基材、特にガラスの
基材の表面で熱の作用により熱分解させるための、スズ
とハロゲン特にフッ素を含有する粉末有機金属化合物を
提供する。 【構成】 本発明の粉末有機金属化合物は、粒子径ｄ90
が40〜200 μｍ、特に50〜150 μｍ、好ましくは60〜10
0 μｍとなるように選ばれた粒度測定値を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、熱分解技術により透明
な基材上に、特にガラスの基材上に、酸化スズのフィル
ムを形成するための粉末有機金属化合物に関する。本発
明はまた、熱分解により付着（あるいは堆積）（deposi
tion）させる方法とそのようにして被覆された基材にも
関する。
な基材上に、特にガラスの基材上に、酸化スズのフィル
ムを形成するための粉末有機金属化合物に関する。本発
明はまた、熱分解により付着（あるいは堆積）（deposi
tion）させる方法とそのようにして被覆された基材にも
関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】赤外線
に作用を及ぼす性質及び／又は導電特性を含めた一定の
性質をガラスの基材に与えるため、ドープされた金属酸
化物の薄いフィルム、とりわけフッ素タイプのハロゲン
をドープされた酸化スズのフィルムでガラス基材を被覆
することは知られている。このようにして、低放射率又
は加熱ペイン（pane）として知られるタイプのペインを
得ることが可能である。
に作用を及ぼす性質及び／又は導電特性を含めた一定の
性質をガラスの基材に与えるため、ドープされた金属酸
化物の薄いフィルム、とりわけフッ素タイプのハロゲン
をドープされた酸化スズのフィルムでガラス基材を被覆
することは知られている。このようにして、低放射率又
は加熱ペイン（pane）として知られるタイプのペインを
得ることが可能である。
【０００３】粉末熱分解として知られている技術を含め
て、基材上にそのようなフィルムを付着させるためのい
ろいろな技術が存在している。この技術は、キャリヤガ
スに浮遊した粒子の形をした適当な有機金属化合物、こ
の場合にはハロゲン化されたスズ化合物を、高温、例え
ば４００〜６５０℃程度の温度に昇温されたガラス基材
の表面に直接噴射することからなる。これらの粉末は、
高温のガラスと接触するとそこで分解して、酸化物フィ
ルムを残す。これは、「フロート」設備の生産ラインで
ガラスのリボン上に連続して付着するのを可能にすると
いう利点を有し且つ良質の被覆を得るのを可能にする、
実証された技術である。この技術を実施するための適当
な装置は、例えば、ヨーロッパ特許第０１２５１５３号
明細書及びヨーロッパ特許出願公開第０３７４０２３号
明細書に記載されている。
て、基材上にそのようなフィルムを付着させるためのい
ろいろな技術が存在している。この技術は、キャリヤガ
スに浮遊した粒子の形をした適当な有機金属化合物、こ
の場合にはハロゲン化されたスズ化合物を、高温、例え
ば４００〜６５０℃程度の温度に昇温されたガラス基材
の表面に直接噴射することからなる。これらの粉末は、
高温のガラスと接触するとそこで分解して、酸化物フィ
ルムを残す。これは、「フロート」設備の生産ラインで
ガラスのリボン上に連続して付着するのを可能にすると
いう利点を有し且つ良質の被覆を得るのを可能にする、
実証された技術である。この技術を実施するための適当
な装置は、例えば、ヨーロッパ特許第０１２５１５３号
明細書及びヨーロッパ特許出願公開第０３７４０２３号
明細書に記載されている。
【０００４】いろいろな種類の粉末有機金属化合物が、
フッ素をドープされた酸化スズSnO2:Fのフィルムを得る
のに適しているようである。例えば、スズとフッ素を同
時に含む化合物、例としてヨーロッパ特許第０１０６７
４４号明細書に記載されている、ジプロピルスズジトリ
フルオロアセテート（Ｃ3 Ｈ7 ）2 Ｓｎ（ＣＦ3 ＣＯ
Ｏ）2 又はジブチルスズジトリフルオロアセテート（Ｃ
4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＣＦ3 ＣＯＯ）2 、あるいはＤＢＴＦ
と称され、その合成がヨーロッパ特許第０１７８９５６
号明細書に記載されているジブチルスズジフルオリド
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＳｎＦ2 といったようなものが知られて
いる。
フッ素をドープされた酸化スズSnO2:Fのフィルムを得る
のに適しているようである。例えば、スズとフッ素を同
時に含む化合物、例としてヨーロッパ特許第０１０６７
４４号明細書に記載されている、ジプロピルスズジトリ
フルオロアセテート（Ｃ3 Ｈ7 ）2 Ｓｎ（ＣＦ3 ＣＯ
Ｏ）2 又はジブチルスズジトリフルオロアセテート（Ｃ
4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＣＦ3 ＣＯＯ）2 、あるいはＤＢＴＦ
と称され、その合成がヨーロッパ特許第０１７８９５６
号明細書に記載されているジブチルスズジフルオリド
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＳｎＦ2 といったようなものが知られて
いる。
【０００５】ヨーロッパ特許第００３９２５６号明細書
から、ハロゲンを含まないスズ化合物、例えば、ＤＢＴ
Ｏと称され、ハロゲンを有する例えばＤＢＴＦのような
もう一つの化合物と一緒にされるジブチルスズオキシド
（ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＳｎＯの如きものも知られている。
全てのこれらの化合物について、それらをキャリヤガス
に浮遊させそしてそれらを分配装置から被覆すべき基材
の表面へ均質に流すために、かなり小さな粒度測定値
（granulometries）が選ばれ、平均の粒径は最高で１５
〜２０μｍ程度であり、好ましくは粒径は全て２０μｍ
未満である。
から、ハロゲンを含まないスズ化合物、例えば、ＤＢＴ
Ｏと称され、ハロゲンを有する例えばＤＢＴＦのような
もう一つの化合物と一緒にされるジブチルスズオキシド
（ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＳｎＯの如きものも知られている。
全てのこれらの化合物について、それらをキャリヤガス
に浮遊させそしてそれらを分配装置から被覆すべき基材
の表面へ均質に流すために、かなり小さな粒度測定値
（granulometries）が選ばれ、平均の粒径は最高で１５
〜２０μｍ程度であり、好ましくは粒径は全て２０μｍ
未満である。
【０００６】先に言及したように、これらの粉末化合物
から得られた被覆は申し分のない光学的な外観と性能を
有する。例えば、先に言及したヨーロッパ特許第０１２
５１５３号明細書及びヨーロッパ特許出願公開第０３７
４０２３号明細書の教示に従って、２０μｍ未満の粒度
測定値を有するＤＢＴＦ粉末から、厚さが均一であり且
つ最高で０．２５までにすることができる放射率を有す
るSnO2:Fのフィルムを得ることが可能である。
から得られた被覆は申し分のない光学的な外観と性能を
有する。例えば、先に言及したヨーロッパ特許第０１２
５１５３号明細書及びヨーロッパ特許出願公開第０３７
４０２３号明細書の教示に従って、２０μｍ未満の粒度
測定値を有するＤＢＴＦ粉末から、厚さが均一であり且
つ最高で０．２５までにすることができる放射率を有す
るSnO2:Fのフィルムを得ることが可能である。
【０００７】そのような熱分解フィルムの放射率を、特
に例えば基材の温度のような堆積条件を変えることで、
あるいはこれらのフィルムの厚さを増すことにより、な
お更に低下させることが試みられている。とは言うもの
の、ただそれらが消費されるエネルギー及び／又は原料
の点から見て経費を追加するからだけであるとしても、
これらの最適化には限界がある。更に、フィルムの厚さ
を増すことはその光学的な外観を望ましくないように変
えることがあり、そしてこの増加とともに放射率の「増
加」は次第に小さくなる。
に例えば基材の温度のような堆積条件を変えることで、
あるいはこれらのフィルムの厚さを増すことにより、な
お更に低下させることが試みられている。とは言うもの
の、ただそれらが消費されるエネルギー及び／又は原料
の点から見て経費を追加するからだけであるとしても、
これらの最適化には限界がある。更に、フィルムの厚さ
を増すことはその光学的な外観を望ましくないように変
えることがあり、そしてこの増加とともに放射率の「増
加」は次第に小さくなる。
【０００８】従って、本発明が解決しようとする技術的
課題は、いろいろな手段により、ドープされた酸化スズ
の熱分解したフィルムの放射率及び／又は電気伝導の特
性を改良すること、そしてこれを、その熱分解フィルム
を製造するのに難題及び／又は追加の費用を生じさせず
に達成することにある。
課題は、いろいろな手段により、ドープされた酸化スズ
の熱分解したフィルムの放射率及び／又は電気伝導の特
性を改良すること、そしてこれを、その熱分解フィルム
を製造するのに難題及び／又は追加の費用を生じさせず
に達成することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段及び作用効果】本発明は、
ハロゲンをドープされた酸化物のフィルムを透明基材、
特にガラスの基材の表面に形成して赤外線についての特
性及び／又は電気的特性を持たせるために、その上で熱
の作用により熱分解させるための、スズとハロゲン特に
フッ素を含有する粉末有機金属化合物を対象とする。こ
の化合物は、本発明によれば、粒子径ｄ90が40〜200 μ
ｍ、特に50〜150 μｍ、好ましくは60〜100 μｍである
ような粒度測定値を有する。
ハロゲンをドープされた酸化物のフィルムを透明基材、
特にガラスの基材の表面に形成して赤外線についての特
性及び／又は電気的特性を持たせるために、その上で熱
の作用により熱分解させるための、スズとハロゲン特に
フッ素を含有する粉末有機金属化合物を対象とする。こ
の化合物は、本発明によれば、粒子径ｄ90が40〜200 μ
ｍ、特に50〜150 μｍ、好ましくは60〜100 μｍである
ような粒度測定値を有する。
【００１０】この粒度測定値は、更に、粒子径ｄ10が８
〜30μｍ、特に10〜20μｍであるように選ばれるのが好
ましい。同様に、その粒度測定値は、更に粒子径ｄ50が
20〜60μｍ、特に25〜50μｍであるように選ぶこともで
きる。
〜30μｍ、特に10〜20μｍであるように選ばれるのが好
ましい。同様に、その粒度測定値は、更に粒子径ｄ50が
20〜60μｍ、特に25〜50μｍであるように選ぶこともで
きる。
【００１１】これらの用語「ｄ90」、「ｄ50」及び「ｄ
10」は、粉末の粒子のそれぞれ90％、50％及び10％が表
示された値より小さい直径を有することを意味する、と
いうことを述べておくべきである。ｄ90の値は粒子の大
きさのわかりやすい見当を与える。それは、ｄ10及び／
又はｄ50の値と組み合わせれば、直径の値の所定の範囲
内の粒度分布を指示する。
10」は、粉末の粒子のそれぞれ90％、50％及び10％が表
示された値より小さい直径を有することを意味する、と
いうことを述べておくべきである。ｄ90の値は粒子の大
きさのわかりやすい見当を与える。それは、ｄ10及び／
又はｄ50の値と組み合わせれば、直径の値の所定の範囲
内の粒度分布を指示する。
【００１２】本発明はまた、透明基材、特にガラスの基
材の上にハロゲン、特にフッ素をドープされた酸化スズ
のフィルムを得るのを目的として、スズと当該ハロゲン
を含有し、そして粒度測定値が上記のように定義される
有機金属化合物のための、熱分解技術を使用する堆積方
法を対象とする。
材の上にハロゲン、特にフッ素をドープされた酸化スズ
のフィルムを得るのを目的として、スズと当該ハロゲン
を含有し、そして粒度測定値が上記のように定義される
有機金属化合物のための、熱分解技術を使用する堆積方
法を対象とする。
【００１３】好ましくは、選ばれる有機金属化合物は、
スズとフッ素の両方を含有する限りにおいて「自己ドー
ピング」であり、そしてそれは化合物の混合物を作る必
要を回避する。それは、有利には、主にDBTFである。
スズとフッ素の両方を含有する限りにおいて「自己ドー
ピング」であり、そしてそれは化合物の混合物を作る必
要を回避する。それは、有利には、主にDBTFである。
【００１４】このように、本発明の発明者らは、驚くべ
きことに、一般に規定された粒度測定値よりはるかに大
きい粒度測定値を選ぶことが、酸化物フィルムの所定の
厚さについてその放射率と電気伝導率が有意に改良され
たフィルムを得るのを可能にする、ということを発見し
た。例えば、それらの放射率は0.2 未満であり、0.16〜
0.18の値に達することができ、その一方、それらの抵抗
率は8.0 ×10-4Ω・cm未満のままであり、特に7.0 ×10
-4Ω・cmと5.5 ×10-4Ω・cmの間にあって、酸化物フィ
ルムの厚さは好ましく300 〜420 nmの範囲にある。
きことに、一般に規定された粒度測定値よりはるかに大
きい粒度測定値を選ぶことが、酸化物フィルムの所定の
厚さについてその放射率と電気伝導率が有意に改良され
たフィルムを得るのを可能にする、ということを発見し
た。例えば、それらの放射率は0.2 未満であり、0.16〜
0.18の値に達することができ、その一方、それらの抵抗
率は8.0 ×10-4Ω・cm未満のままであり、特に7.0 ×10
-4Ω・cmと5.5 ×10-4Ω・cmの間にあって、酸化物フィ
ルムの厚さは好ましく300 〜420 nmの範囲にある。
【００１５】特に有利なことは、ドープされた酸化スズ
フィルムの性能におけるこの改良は、これらのフィルム
の堆積の容易さを犠牲にして達成されるのでも、それら
の光学的性質を犠牲にして達成されるのでもないことで
ある。
フィルムの性能におけるこの改良は、これらのフィルム
の堆積の容易さを犠牲にして達成されるのでも、それら
の光学的性質を犠牲にして達成されるのでもないことで
ある。
【００１６】実際には、非常に大きな粒度測定値を慎重
に選ぶことによって、反対に粉末キャリヤガスサスペン
ションの不均質性の問題とそのサスペンションの分配装
置を通しての流動の問題が生じることが予測されたかも
しれないが、これは本発明に従って選ばれる粒度測定値
の範囲内ではそうではなかった。更に、得られたフィル
ムは厚さが均一であり、その外観は均質で申し分がな
い。
に選ぶことによって、反対に粉末キャリヤガスサスペン
ションの不均質性の問題とそのサスペンションの分配装
置を通しての流動の問題が生じることが予測されたかも
しれないが、これは本発明に従って選ばれる粒度測定値
の範囲内ではそうではなかった。更に、得られたフィル
ムは厚さが均一であり、その外観は均質で申し分がな
い。
【００１７】なお更に、この外観を改良し、そして特
に、ドープされた酸化スズフィルムを堆積させた側での
基材からの反射の着色の中立性を保証するために、もち
ろん基材とドープされた酸化スズフィルムとの間に中間
コーティングを挿入することが可能である。このコーテ
ィングは、とりわけ、フランス国特許第２６７０１９９
号明細書から知られているように、例えばアルミニウ
ム、チタン、亜鉛、スズもしくはインジウムの酸化物の
なかから選ばれた少なくとも１種の金属酸化物から構成
された誘電性材料を基礎材料としてもよく、あるいはフ
ランス国特許出願公開第２６７７６３９号明細書から知
られているように、酸窒化ケイ素及び／又は酸炭化ケイ
素材料を基礎材料としてもよい。
に、ドープされた酸化スズフィルムを堆積させた側での
基材からの反射の着色の中立性を保証するために、もち
ろん基材とドープされた酸化スズフィルムとの間に中間
コーティングを挿入することが可能である。このコーテ
ィングは、とりわけ、フランス国特許第２６７０１９９
号明細書から知られているように、例えばアルミニウ
ム、チタン、亜鉛、スズもしくはインジウムの酸化物の
なかから選ばれた少なくとも１種の金属酸化物から構成
された誘電性材料を基礎材料としてもよく、あるいはフ
ランス国特許出願公開第２６７７６３９号明細書から知
られているように、酸窒化ケイ素及び／又は酸炭化ケイ
素材料を基礎材料としてもよい。
【００１８】ドープされた酸化スズのフィルムを覆う
「外部」コーティングを追加することも可能であり、そ
してそれは特に酸化ケイ素を基礎材料とすることができ
る。一方においてこれらの中間コーティング、そして他
方において外部コーティングの、厚さと屈折率に関して
の特性は、ヨーロッパ特許出願公開第０５４４５７７号
明細書又はヨーロッパ特許出願公開第０５７３３２５号
明細書に従って都合よく選ぶことができる。
「外部」コーティングを追加することも可能であり、そ
してそれは特に酸化ケイ素を基礎材料とすることができ
る。一方においてこれらの中間コーティング、そして他
方において外部コーティングの、厚さと屈折率に関して
の特性は、ヨーロッパ特許出願公開第０５４４５７７号
明細書又はヨーロッパ特許出願公開第０５７３３２５号
明細書に従って都合よく選ぶことができる。
【００１９】本発明の発明者らは、酸化スズのフィルム
の性能の向上とそれを構成する結晶の大きさの増大との
相互関係を示すことに成功した。実際のところ、発明者
らは、有機金属化合物の粒子の粒度測定値が得られる酸
化物フィルムの結晶化の起こり方に、とりわけ結晶の大
きさとそれらの選択配向とに、直接影響を及ぼすことを
実験的に立証した。たとえ粉末粒子の大きさと結晶の大
きさとが全く同じオーダーでないとは言え、有機金属化
合物の粒子の直径が大きくなればなるほど、フィルムの
結晶の寸法は大きくなり、且つそれらはますますはっき
りした配向を有するようである。このことから、フィル
ムにおける「結晶間」粒子接合部の数が減少して、この
フィルムにおける自由電子の移動度を増大させ、従って
最終の結果として、その導電率を上昇させ且つその放射
率を低下させることになり、放射率と導電率とが結びつ
けられる。
の性能の向上とそれを構成する結晶の大きさの増大との
相互関係を示すことに成功した。実際のところ、発明者
らは、有機金属化合物の粒子の粒度測定値が得られる酸
化物フィルムの結晶化の起こり方に、とりわけ結晶の大
きさとそれらの選択配向とに、直接影響を及ぼすことを
実験的に立証した。たとえ粉末粒子の大きさと結晶の大
きさとが全く同じオーダーでないとは言え、有機金属化
合物の粒子の直径が大きくなればなるほど、フィルムの
結晶の寸法は大きくなり、且つそれらはますますはっき
りした配向を有するようである。このことから、フィル
ムにおける「結晶間」粒子接合部の数が減少して、この
フィルムにおける自由電子の移動度を増大させ、従って
最終の結果として、その導電率を上昇させ且つその放射
率を低下させることになり、放射率と導電率とが結びつ
けられる。
【００２０】フィルムにおける結晶の大きさを実験的に
測定することで、とりわけ２０nmのオーダーの値が効果
的に得られ、これは通常の粒度測定値の粉末、例えばｄ
90が２５μｍの粉末の熱分解により製造されたフィルム
について得られる値よりはるかに大きい。
測定することで、とりわけ２０nmのオーダーの値が効果
的に得られ、これは通常の粒度測定値の粉末、例えばｄ
90が２５μｍの粉末の熱分解により製造されたフィルム
について得られる値よりはるかに大きい。
【００２１】「大きな」粒度測定値の有機金属化合物の
粒子を使用することは、熱分解収率又は熱分解効率が無
視できないほど増加するという別の有利な結果をもたら
す。この効率は、所定の厚さの酸化物フィルムを得るの
に必要な有機金属化合物の重量を測定することにより計
算される。例えば、この効率は、全く予想もしないこと
に、２０〜２５μｍの「標準」粒度測定値ｄ90よりも、
本発明に従って６０μｍの粉末粒度測定値ｄ90を選べ
ば、約２０％だけ上昇することが観測されている。なお
更に本発明は所望される性能レベルと使用される有機金
属化合物の量とに応じてフィルムの厚さを調節するのを
可能にするので、この効率の上昇から、原料の費用が有
意に低下することになる。例えば、等しいフィルム厚さ
について言えば、本発明に従って大きな粒度測定値を採
用すれば、放射率と抵抗率は低下する。しかしながら、
フィルムの厚さを減少させることにより同様の放射率と
抵抗率を維持することを選ぶことも可能である。
粒子を使用することは、熱分解収率又は熱分解効率が無
視できないほど増加するという別の有利な結果をもたら
す。この効率は、所定の厚さの酸化物フィルムを得るの
に必要な有機金属化合物の重量を測定することにより計
算される。例えば、この効率は、全く予想もしないこと
に、２０〜２５μｍの「標準」粒度測定値ｄ90よりも、
本発明に従って６０μｍの粉末粒度測定値ｄ90を選べ
ば、約２０％だけ上昇することが観測されている。なお
更に本発明は所望される性能レベルと使用される有機金
属化合物の量とに応じてフィルムの厚さを調節するのを
可能にするので、この効率の上昇から、原料の費用が有
意に低下することになる。例えば、等しいフィルム厚さ
について言えば、本発明に従って大きな粒度測定値を採
用すれば、放射率と抵抗率は低下する。しかしながら、
フィルムの厚さを減少させることにより同様の放射率と
抵抗率を維持することを選ぶことも可能である。
【００２２】
【実施例】次に、以下に掲げる限定しない態様の例を参
照して、本発明を一層詳しく説明する。
照して、本発明を一層詳しく説明する。
【００２３】これらの例は全て、１００％DBTFを含む粉
末の堆積雰囲気中での熱分解により、そしてより一層詳
しい情報について参照することができるヨーロッパ特許
第０１２５１５３号明細書及びヨーロッパ特許出願公開
第０３７４０２３号明細書の一方あるいは他方から知ら
れている装置を使って、厚さ４mmのシリコ−ソーダ−石
灰フロートガラスの基材上へおよそ３４０nmのSnO2:Fの
フィルムを堆積させることに関係している。基材は、堆
積中はおよそ５５０℃の温度にある。例１は、DBTF粉末
について標準の小さい粒度測定値を使用する対照例であ
る。
末の堆積雰囲気中での熱分解により、そしてより一層詳
しい情報について参照することができるヨーロッパ特許
第０１２５１５３号明細書及びヨーロッパ特許出願公開
第０３７４０２３号明細書の一方あるいは他方から知ら
れている装置を使って、厚さ４mmのシリコ−ソーダ−石
灰フロートガラスの基材上へおよそ３４０nmのSnO2:Fの
フィルムを堆積させることに関係している。基材は、堆
積中はおよそ５５０℃の温度にある。例１は、DBTF粉末
について標準の小さい粒度測定値を使用する対照例であ
る。
【００２４】下記の表１は、例１〜７のそれぞれについ
て、選ばれたDBTF粉末についてのマイクロメートルで表
した粒度測定値ｄ90、ｄ50及びｄ10を示している。これ
らの粒度測定値の全体は、使用した粉末のおのおのの粒
径の分布を完全に評価するのを可能にする。
て、選ばれたDBTF粉末についてのマイクロメートルで表
した粒度測定値ｄ90、ｄ50及びｄ10を示している。これ
らの粒度測定値の全体は、使用した粉末のおのおのの粒
径の分布を完全に評価するのを可能にする。
【００２５】 表 １ ｄ10 ｄ50 ｄ90 例１ 5 12〜15 25 例２ - - 40 例３ - - 50 例４ 10〜15 25〜35 60 例５ 20 50 100 例６ - - 150 例７ - - 200
【００２６】下記の表２は、これらの７種類のDBTF粉末
から得られたフィルムの特性を要約して示しており、放
射率εは単位なしで示され、そして抵抗率ＲはΩ・cmで
示されている。
から得られたフィルムの特性を要約して示しており、放
射率εは単位なしで示され、そして抵抗率ＲはΩ・cmで
示されている。
【００２７】 表 ２ ε Ｒ 例１ 0.25 10×10-4 例２ 0.22 8.8×10-4 例３ 0.20 8.0×10-4 例４ 0.18 7.0×10-4 例５ 0.16 5.5×10-4 例６ 0.17 6×10-4 例７ 0.18 7×10-4
【００２８】これらの例のうちの二つ、すなわち一方で
参照例１と他方で例４について、SnO2:Fフィルムにおけ
る結晶の大きさをＸ線で評価した。これらの評価は、得
られたＲ−Ｘスペクトルに示された、他の線よりはるか
に大きい強度を有する線（２，０，０）に対応するピー
クの半分の高さでの幅を測定して行った。
参照例１と他方で例４について、SnO2:Fフィルムにおけ
る結晶の大きさをＸ線で評価した。これらの評価は、得
られたＲ−Ｘスペクトルに示された、他の線よりはるか
に大きい強度を有する線（２，０，０）に対応するピー
クの半分の高さでの幅を測定して行った。
【００２９】一方では参照例１によるフィルムの分析か
ら得られたＲ−Ｘスペクトルから、そして他方では本発
明による例４によるフィルムの分析から得られたものか
ら、標準の粒度測定値の粉末（例１）を用いて得られた
フィルムの結晶の平均直径はおよそ１３nmであるのに対
して、より大きな粒度測定値の粉末（例４）で得られた
フィルムのそれは２０nmの領域にあることが立証され
る。従って、本発明による粉末の粒度測定値は５０％を
上回るまで大きい結晶寸法を得るのを可能にする。
ら得られたＲ−Ｘスペクトルから、そして他方では本発
明による例４によるフィルムの分析から得られたものか
ら、標準の粒度測定値の粉末（例１）を用いて得られた
フィルムの結晶の平均直径はおよそ１３nmであるのに対
して、より大きな粒度測定値の粉末（例４）で得られた
フィルムのそれは２０nmの領域にあることが立証され
る。従って、本発明による粉末の粒度測定値は５０％を
上回るまで大きい結晶寸法を得るのを可能にする。
【００３０】更に、上記の二つのスペクトルを、特にピ
ークの数とそれらの大きさを比較することによって、二
つのフィルムの結晶化に関する指標を得ることが可能で
ある。例４によるフィルムは、例１によるフィルムの場
合よりもはるかに、非常に著しく配向した結晶を有する
ことが分かる。
ークの数とそれらの大きさを比較することによって、二
つのフィルムの結晶化に関する指標を得ることが可能で
ある。例４によるフィルムは、例１によるフィルムの場
合よりもはるかに、非常に著しく配向した結晶を有する
ことが分かる。
【００３１】従って、表２により立証された電気的特性
の改良をもたらすのは、結晶のより大きな寸法と結晶の
選択配向がより強まることとが一緒になっていることで
あるように思われる。
の改良をもたらすのは、結晶のより大きな寸法と結晶の
選択配向がより強まることとが一緒になっていることで
あるように思われる。
【００３２】これらの例と結果から引き出すことができ
る結論は、粒度測定値ｄ90が１５０μｍのオーダー、あ
るいは実際上２００μｍのオーダーに至まで、そのよう
な粒度測定値を選ぶことから装置で問題が生じることは
ない、ということである。従って、堆積方法はどのよう
な改造あるいは変更も必要としない。これらのフィルム
で被覆された全ての基材は、光源Ｄ65により少なくとも
７０〜７５％という高い光透過率ＴL を有し、且つ顕著
な光学的欠陥がない。その上、粒度測定値が増大すると
放射率と抵抗率はかなり減少することが分かる。
る結論は、粒度測定値ｄ90が１５０μｍのオーダー、あ
るいは実際上２００μｍのオーダーに至まで、そのよう
な粒度測定値を選ぶことから装置で問題が生じることは
ない、ということである。従って、堆積方法はどのよう
な改造あるいは変更も必要としない。これらのフィルム
で被覆された全ての基材は、光源Ｄ65により少なくとも
７０〜７５％という高い光透過率ＴL を有し、且つ顕著
な光学的欠陥がない。その上、粒度測定値が増大すると
放射率と抵抗率はかなり減少することが分かる。
【００３３】放射率は、２５μｍの粒度測定値ｄ90では
なく６０μｍの粒度測定値ｄ90を選ぶとほぼ３０％だけ
低下し、そしてこれは抵抗率についても当てはまること
である。
なく６０μｍの粒度測定値ｄ90を選ぶとほぼ３０％だけ
低下し、そしてこれは抵抗率についても当てはまること
である。
【００３４】これらの改良は、フィルムの結晶化の起こ
り方の変更に結びつけられ、結晶はかなりより大きなも
のに、特に少なくとも３０％だけ大きなものに、そして
実際には５０％以上大きなものになる傾向があり、且つ
より顕著な配向を有する。
り方の変更に結びつけられ、結晶はかなりより大きなも
のに、特に少なくとも３０％だけ大きなものに、そして
実際には５０％以上大きなものになる傾向があり、且つ
より顕著な配向を有する。
Claims (16)
- 【請求項１】 赤外線に関する特性及び／又は電気的特
性を有する、ハロゲンをドープされた酸化スズのフィル
ムを形成するため、透明な基材、特にガラスの基材の表
面で熱の作用により熱分解させるための、スズとハロゲ
ン、特にフッ素を含有している粉末有機金属化合物であ
って、その粒度測定値（granulometry）が、粒子径ｄ90
が40〜200 μｍ、特に50〜150 μｍ、好ましくは60〜10
0 μｍであるように選ばれていることを特徴とする粉末
有機金属化合物。 - 【請求項２】 粒度測定値が、粒子径ｄ10が８〜30μ
ｍ、好ましくは10〜20μｍであるように選ばれているこ
とを特徴とする、請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】 粒度測定値が、粒子径ｄ50が20〜60μ
ｍ、好ましくは25〜50μｍであるように選ばれているこ
とを特徴とする、請求項１又は２記載の化合物。 - 【請求項４】 ジブチルスズジフルオリドDBTFの粉末か
ら主として構成されていることを特徴とする、請求項１
から３までのいずれか一つに記載の化合物。 - 【請求項５】 透明な基材、特にガラスの基材上に、赤
外線に関する特性を有する、ハロゲン特にフッ素をドー
プされた酸化スズのフィルムを、スズと当該ハロゲンを
含有している粉末有機金属化合物のための熱分解技術に
より堆積させる方法であって、当該粉末有機金属化合物
が、粒子径ｄ90が40〜200 μｍ、特に50〜150 μｍ、好
ましくは60〜100 μｍであるように選ばれた粒度測定値
を有することを特徴とする方法。 - 【請求項６】 前記粒度測定値が、粒子径ｄ10が８〜30
μｍ、好ましくは10〜20μｍであるように選ばれている
ことを特徴とする、請求項５記載の方法。 - 【請求項７】 前記粒度測定値が、粒子径ｄ50が20〜60
μｍ、好ましくは25〜50μｍであるように選ばれている
ことを特徴とする、請求項５又は６記載の方法。 - 【請求項８】 前記粉末有機金属化合物がジブチルスズ
ジフルオリドDBTFから主として構成されていることを特
徴とする、請求項５から７までのいずれか一つに記載の
化合物。 - 【請求項９】 赤外線に関する特性及び／又は電気的特
性を有し、且つ請求項５から８までのいずれか一つに記
載された方法により粉末有機金属化合物の熱分解によっ
て堆積させた、ハロゲン特にフッ素をドープされた酸化
スズのフィルムで被覆されている、特にガラスの、透明
基材。 - 【請求項１０】 前記ドープされた酸化スズのフィルム
が結晶から構成されており、その平均直径がおよそ２０
nmであることを特徴とする、請求項９記載の被覆基材。 - 【請求項１１】 ハロゲン特にフッ素をドープされてい
て赤外線に関する特性を有する酸化スズのフィルムで被
覆された、特にガラスの、透明基材であって、当該酸化
物フィルムが結晶から構成されており、その平均直径が
およそ２０nmであることを特徴とする透明基材。 - 【請求項１２】 前記ドープされた酸化スズフィルムの
厚さが300 〜420 nm、特におよそ340nm であることを特
徴とする、請求項９から11までのいずれか一つに記載の
被覆基材。 - 【請求項１３】 その放射率が0.2 未満、特に0.16〜0.
18であり、且つその抵抗率が 8.0×10-4Ω・cm未満、特
に 7.0×10-4〜 5.5×10-4Ω・cmであることを特徴とす
る、請求項９から12までのいずれか一つに記載の被覆基
材。 - 【請求項１４】 当該基材と前記ドープされた酸化スズ
のフィルムとの間に挿入された少なくとも一つの中間コ
ーティングを更に含み、且つそれが特に、酸化アルミニ
ウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウ
ムを包含する金属酸化物のうちの少なくとも１種から構
成された誘電性材料、あるいは酸炭化ケイ素及び／又は
酸窒化ケイ素を基礎材料とする誘電性材料のコーティン
グであることを特徴とする、請求項９から13までのいず
れか一つに記載の被覆基材。 - 【請求項１５】 前記ドープされた酸化スズフィルムを
覆う、特に酸化ケイ素を基礎材料とする、外部コーティ
ングをも含むことを特徴とする、請求項９から14までの
いずれか一つに記載の被覆基材。 - 【請求項１６】 低放射率及び／又は加熱ペイン（pan
e）の製造に用いられる、請求項９から15までのいずれ
か一つに記載の被覆基材。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9307335 | 1993-06-17 | ||
| FR9307335A FR2706462B1 (fr) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | Composés pulvérulents organo-métalliques destinés à former une couche d'oxyde d'étain sur un substrat, procédé de mise en Óoeuvre et substrat ainsi revêtu. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0770153A true JPH0770153A (ja) | 1995-03-14 |
Family
ID=9448252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6134164A Pending JPH0770153A (ja) | 1993-06-17 | 1994-06-16 | 酸化スズフィルム形成用の粉末有機金属化合物、その使用方法及びそれにより被覆された基材 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5571556A (ja) |
| EP (1) | EP0629629B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0770153A (ja) |
| KR (1) | KR100312667B1 (ja) |
| CN (1) | CN1068568C (ja) |
| CZ (1) | CZ289219B6 (ja) |
| DE (1) | DE69412709T2 (ja) |
| ES (1) | ES2122186T3 (ja) |
| FR (1) | FR2706462B1 (ja) |
| PL (1) | PL175120B1 (ja) |
| RU (1) | RU2134242C1 (ja) |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4401695A (en) * | 1982-06-01 | 1983-08-30 | Ppg Industries, Inc. | Method of and apparatus for applying powder coating reactants |
| JPS5945926A (ja) * | 1982-09-08 | 1984-03-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 基体に酸化錫膜を形成する方法 |
| JPS5957914A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-04-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 基体に酸化錫膜を形成する方法 |
| FR2570379B1 (fr) * | 1984-08-22 | 1986-11-21 | Saint Gobain Vitrage | Preparation d'une poudre de difluorure de dibutyl etain destinee a la formation d'un revetement sur un substrat, notamment en verre |
| DE3587294T2 (de) * | 1985-01-22 | 1993-09-30 | Saint Gobain Vitrage | Verfahren zur Herstellung einer dünnen Metalloxidbeschichtung auf einem Substrat, insbesondere Glas und deren Verwendung als Verglasung. |
| DE3680129D1 (de) * | 1985-03-22 | 1991-08-14 | Pilkington Plc | Beschichtungsverfahren. |
| FR2637898B1 (fr) * | 1988-10-14 | 1990-12-28 | Rhone Poulenc Chimie | Organofluorures d'etain et leur procede de preparation |
| FR2672884B1 (fr) * | 1991-02-20 | 1993-09-10 | Saint Gobain Vitrage Int | Couche protectrice sur un substrat conducteur. |
-
1993
- 1993-06-17 FR FR9307335A patent/FR2706462B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-06-13 CZ CZ19941451A patent/CZ289219B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1994-06-15 PL PL94303841A patent/PL175120B1/pl unknown
- 1994-06-16 JP JP6134164A patent/JPH0770153A/ja active Pending
- 1994-06-16 ES ES94401352T patent/ES2122186T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-16 DE DE69412709T patent/DE69412709T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-16 CN CN94107509A patent/CN1068568C/zh not_active Expired - Fee Related
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