JPH076423A - オーバーライト可能な光磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
オーバーライト可能な光磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH076423A JPH076423A JP5143700A JP14370093A JPH076423A JP H076423 A JPH076423 A JP H076423A JP 5143700 A JP5143700 A JP 5143700A JP 14370093 A JP14370093 A JP 14370093A JP H076423 A JPH076423 A JP H076423A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sputtering
- target
- substrate
- recording medium
- magneto
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 繰り返し書き込みによる記録信号の劣化が少
なくかつ製造スループットの良い光磁気記録媒体の製造
方法を提供する。 【構成】 重希土類の領域と遷移金属の領域が交互に連
なったターゲットに対し、それら領域を横切る方向にマ
グネトロン用磁石を移動させてスパッタリングを行な
う。
なくかつ製造スループットの良い光磁気記録媒体の製造
方法を提供する。 【構成】 重希土類の領域と遷移金属の領域が交互に連
なったターゲットに対し、それら領域を横切る方向にマ
グネトロン用磁石を移動させてスパッタリングを行な
う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は記録磁界の向きを変調さ
せずに、光ビームの強度変調だけでオーバーライトが可
能な光磁気記録媒体の製造方法に関する。
せずに、光ビームの強度変調だけでオーバーライトが可
能な光磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録媒体の作成に、スパッタ法を
用いた場合、ターゲットには、通常重希土類−遷移金属
系合金が用いられる。しかしながら、合金のターゲット
からのスパッタリングによりライティング層を成膜した
場合、繰り返し書き込みの耐久性が低いことが知られて
いる。また、この問題を解決するために、同時スパッタ
リングによりライティング層を作成する方法が提案され
ているが、この方法ではスループットが悪く製造には向
かないことが知られている。
用いた場合、ターゲットには、通常重希土類−遷移金属
系合金が用いられる。しかしながら、合金のターゲット
からのスパッタリングによりライティング層を成膜した
場合、繰り返し書き込みの耐久性が低いことが知られて
いる。また、この問題を解決するために、同時スパッタ
リングによりライティング層を作成する方法が提案され
ているが、この方法ではスループットが悪く製造には向
かないことが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の製造方法による
光磁気記録媒体では繰り返し書き込みによる記録信号の
劣化と製造スループットの悪さが問題となっており、こ
れを一度に解決する方法は未だ提案されていない。本発
明の課題はこの問題点を解決することにある。
光磁気記録媒体では繰り返し書き込みによる記録信号の
劣化と製造スループットの悪さが問題となっており、こ
れを一度に解決する方法は未だ提案されていない。本発
明の課題はこの問題点を解決することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本課題を解決するため
に、本発明はスパッタリングの際に重希土類と遷移金属
の領域が交互に連なったターゲットに対しそれら領域を
横切る方向にマグネトロン用磁石を移動させると共に前
記ターゲットの近傍に基板を配置して、スパッタリング
を行うことにより、ライティング層を成膜する。
に、本発明はスパッタリングの際に重希土類と遷移金属
の領域が交互に連なったターゲットに対しそれら領域を
横切る方向にマグネトロン用磁石を移動させると共に前
記ターゲットの近傍に基板を配置して、スパッタリング
を行うことにより、ライティング層を成膜する。
【０００５】
【作用】上記手段に示したようにライティング層を作成
することにより、作成された膜は多層構造となる。一般
に希土類−遷移金属系の薄膜を多層構造にすると層の垂
直磁気ヒステリシスエネルギーが増大し、熱による原子
構造の変化が少なくなり、結果として記録媒体としての
熱耐久性が向上する。繰り返し書き込みとは熱耐久性と
言ってよく、本発明によるスパッタリングにより、この
ような熱耐久性の高い光磁気記録膜が作成された。また
製造過程において、基板を回転しないため、基板は連続
的にターゲットの近傍を通すだけで媒体を製造でき、１
回毎に基板を回転させるため１度流れの止まる同時スパ
ッタリングと比べてスループットは格段に向上する。
することにより、作成された膜は多層構造となる。一般
に希土類−遷移金属系の薄膜を多層構造にすると層の垂
直磁気ヒステリシスエネルギーが増大し、熱による原子
構造の変化が少なくなり、結果として記録媒体としての
熱耐久性が向上する。繰り返し書き込みとは熱耐久性と
言ってよく、本発明によるスパッタリングにより、この
ような熱耐久性の高い光磁気記録膜が作成された。また
製造過程において、基板を回転しないため、基板は連続
的にターゲットの近傍を通すだけで媒体を製造でき、１
回毎に基板を回転させるため１度流れの止まる同時スパ
ッタリングと比べてスループットは格段に向上する。
【０００６】
【実施例】４つのスパッタ室をもちそのうち２つのスパ
ッタ室のカソードが本発明による図１のようなスパッタ
装置で、図２に示すような媒体を作成した。ターゲット
は重希土類金属の領域Ａと遷移金属の領域Ｂとを交互に
有しており、本実施例ではディスク状で領域ＡとＢとは
セクタ状に形成されている。領域ＡとＢとの大きさは所
望とする媒体に応じて決められる。マグネトロン発生用
磁石２をターゲット１に対して移動させて、ターゲット
１の近傍に配置された基板３にスパッタリングを行な
う。本実施例ではマグネトロン発生用磁石２はターゲッ
ト１の形状にあわせて円周方向に動かす。基板はこのス
パッタ装置の各々のスパッタ室間をロードロック方式で
真空状態を保ったまま自由に移動できる。スパッタリン
グ完了毎に基板を移動させることにより多数の記録媒体
を次々と製造する。
ッタ室のカソードが本発明による図１のようなスパッタ
装置で、図２に示すような媒体を作成した。ターゲット
は重希土類金属の領域Ａと遷移金属の領域Ｂとを交互に
有しており、本実施例ではディスク状で領域ＡとＢとは
セクタ状に形成されている。領域ＡとＢとの大きさは所
望とする媒体に応じて決められる。マグネトロン発生用
磁石２をターゲット１に対して移動させて、ターゲット
１の近傍に配置された基板３にスパッタリングを行な
う。本実施例ではマグネトロン発生用磁石２はターゲッ
ト１の形状にあわせて円周方向に動かす。基板はこのス
パッタ装置の各々のスパッタ室間をロードロック方式で
真空状態を保ったまま自由に移動できる。スパッタリン
グ完了毎に基板を移動させることにより多数の記録媒体
を次々と製造する。
【０００７】基板にはガラス２Ｐを用い、この上にメモ
リー層200Åと中間層100Åとライティング層 500Åを積
層した。このうちメモリー層はＴｂとＦｅＣｏ合金が交
互に連なった図３に示す形状のターゲットを用いて成膜
し、ライティング層はＤｙとＦｅＣｏ合金が交互に連な
った図３に示す形状のターゲットを用いて成膜した。中
間層はオーバーライト機能の特性を向上させるための層
であり、ＧｄＦｅＣｏ合金ターゲットから通常のスパッ
タリングを行い成膜した。なお、媒体の成膜前後に保護
層としてアンダーコート層およびオーバーコート層Ｓｉ
Ｎ 700Åずつを成膜した。
リー層200Åと中間層100Åとライティング層 500Åを積
層した。このうちメモリー層はＴｂとＦｅＣｏ合金が交
互に連なった図３に示す形状のターゲットを用いて成膜
し、ライティング層はＤｙとＦｅＣｏ合金が交互に連な
った図３に示す形状のターゲットを用いて成膜した。中
間層はオーバーライト機能の特性を向上させるための層
であり、ＧｄＦｅＣｏ合金ターゲットから通常のスパッ
タリングを行い成膜した。なお、媒体の成膜前後に保護
層としてアンダーコート層およびオーバーコート層Ｓｉ
Ｎ 700Åずつを成膜した。
【０００８】本実施例により作成した媒体と、従来の方
法である合金ターゲットからのスパッタリングによりラ
イティング層を成膜した媒体との繰り返し書き込み耐久
性を比較測定した。耐久性試験は以下のように行った。
まず、７ＭＨｚ５０％のマークを書きＣ／Ｎのライトパ
ワー変動を測定し、次に２．６ＭＨｚ５０％で１５００
０００回連続書き込みを行い、再び７ＭＨｚ５０％のＣ
／Ｎのライトパワー変動を測定した。その結果をコンタ
ーマップにしたものを図４、図５に示す。従来の製造方
法によりライティング層を成膜した媒体の耐久性試験前
後でのウインドウマージン変化は著しいが、本発明によ
る媒体ではほとんど変化が見られない。以上、本発明に
よって繰り返し書き込み耐久性に強い媒体を作成できる
ことがわかった。
法である合金ターゲットからのスパッタリングによりラ
イティング層を成膜した媒体との繰り返し書き込み耐久
性を比較測定した。耐久性試験は以下のように行った。
まず、７ＭＨｚ５０％のマークを書きＣ／Ｎのライトパ
ワー変動を測定し、次に２．６ＭＨｚ５０％で１５００
０００回連続書き込みを行い、再び７ＭＨｚ５０％のＣ
／Ｎのライトパワー変動を測定した。その結果をコンタ
ーマップにしたものを図４、図５に示す。従来の製造方
法によりライティング層を成膜した媒体の耐久性試験前
後でのウインドウマージン変化は著しいが、本発明によ
る媒体ではほとんど変化が見られない。以上、本発明に
よって繰り返し書き込み耐久性に強い媒体を作成できる
ことがわかった。
【０００９】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、膜の熱耐
久性が高くなり、それだけ繰り返し書き込み前後でＣ／
Ｎの劣化がなくなる。更に製造のシースループットは合
金のスパッタ方式と変わらない。
久性が高くなり、それだけ繰り返し書き込み前後でＣ／
Ｎの劣化がなくなる。更に製造のシースループットは合
金のスパッタ方式と変わらない。
【図１】 本発明の実施例に用いたスパッタ装置の模式
図
図
【図２】 本発明の実施例で作成した媒体の断面図
【図３】 本実施例で用いたターゲットの形状を示す図
【図４】 本発明の方法により製造した記録媒体のコン
ターマップの繰り返し書き込み耐久性前後の変化をあら
わしたグラフ
ターマップの繰り返し書き込み耐久性前後の変化をあら
わしたグラフ
【図５】 スパッタリングの際合金ターゲットを用いて
記録膜を作成した従来の媒体のコンターマップの耐久性
試験前後の変化を示したグラフ
記録膜を作成した従来の媒体のコンターマップの耐久性
試験前後の変化を示したグラフ
１ ターゲット ２ マグネトロン発生用磁石 ３ 基板 Ａ 重希土類金属 Ｂ 遷移金属
Claims (3)
- 【請求項１】重希土類金属の領域と遷移金属の領域が交
互に連なったターゲットに対しそれら領域を横切る方向
にマグネトロン用磁石を移動させると共に、該ターゲッ
トの近傍に基板を配置して、スパッタリングを行うこと
により、オーバーライト可能な光磁気記録媒体のライテ
ィング層を基板上に製造する光磁気記録媒体の製造方
法。 - 【請求項２】ディスク状のターゲットの円周方向にマグ
ネトロン用磁石を移動させる請求項１に記載の光磁気記
録媒体の製造方法。 - 【請求項３】スパッタリング完了毎に基板を移動させな
がら複数の記録媒体を連続的に形成する請求項１又は２
に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5143700A JPH076423A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | オーバーライト可能な光磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5143700A JPH076423A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | オーバーライト可能な光磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076423A true JPH076423A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15344939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5143700A Withdrawn JPH076423A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | オーバーライト可能な光磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH076423A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6500470B1 (en) * | 1998-03-24 | 2002-12-31 | Laboratoires Serobiologiques (Societe Anonyme) | Use of at least one protein extract of the moringa genus plant seeds and corresponding cosmetic and/or pharmacological composition |
| JP2009167492A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Ulvac Japan Ltd | 成膜源、スパッタリング装置 |
-
1993
- 1993-06-15 JP JP5143700A patent/JPH076423A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6500470B1 (en) * | 1998-03-24 | 2002-12-31 | Laboratoires Serobiologiques (Societe Anonyme) | Use of at least one protein extract of the moringa genus plant seeds and corresponding cosmetic and/or pharmacological composition |
| JP2009167492A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Ulvac Japan Ltd | 成膜源、スパッタリング装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000905 |