JPH0758812B2 - 磁気抵抗素子の成膜方法 - Google Patents

磁気抵抗素子の成膜方法

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JPH0758812B2
JPH0758812B2 JP62134947A JP13494787A JPH0758812B2 JP H0758812 B2 JPH0758812 B2 JP H0758812B2 JP 62134947 A JP62134947 A JP 62134947A JP 13494787 A JP13494787 A JP 13494787A JP H0758812 B2 JPH0758812 B2 JP H0758812B2
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JP
Japan
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magnetoresistive
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magnetoresistive element
thin film
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忠明 高下
秀人 今野
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、異方性磁気抵抗効果を有する強磁性薄膜によ
り形成される磁気抵抗素子の成膜方法に関するものであ
る。
〔従来の技術〕 従来、この種の磁気抵抗素子は、磁気信号に対して磁気
検出感度が極めて高いことから、高精度の回転検出ある
いは位置検出センサとして広く応用されている。そのた
め、より一層の高感度化が要求されている。この高感度
化の要求に対応するため、強磁性体薄膜によつて形成さ
れるストライプ状パターンに対して隣接位置された短冊
状隣接パターンを有する磁気抵抗素子が特開昭56−3413
4号公報,あるいは特開昭57−75476号公報で開示されて
いる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
前述した従来の磁気抵抗素子は、抵抗体と隣接パターン
との長さ方向の関係が明示されておらず、そのため隣接
パターンが抵抗体より長さが短い場合、抵抗体の磁化時
に発生する反磁界を軽減する効果が局部的に得られない
領域が形成される。そして、この領域では、反磁界の発
生が大きいため、磁化が弱くなり、この結果、抵抗体全
体に磁気抵抗効果を得ることができないという問題があ
つた。
したがつて本発明は前述した従来の問題に鑑みてなされ
たものであり、その目的は磁気抵抗体部に発生する反磁
界成分を軽減させて磁気抵抗効果を向上させ、高感度が
得られる磁気抵抗素子の成膜方法を提供することにあ
る。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明による磁気抵抗素子の成膜方法は、非磁性体基板
上に強磁性体薄膜により棒状の磁気抵抗体パターンおよ
びこの磁気抵抗体パターンの両側にこの磁気抵抗パター
ンよりも長さが短くかつパターン幅の大きい隣接パター
ンを一定の間隔を持たせて平行に形成した後、これらの
磁気抵抗体パターンおよび隣接パターンの長さ方向に同
一寸法長を有する磁性体薄膜を露出させ、それらの両端
部上に端部上に導電性金属薄膜を被着形成するものであ
る。
〔作 用〕
本発明においては、導電性金属薄膜により磁気抵抗体パ
ターンの長さが隣接パターンに対して見かけ上、短くな
る。
〔実施例〕
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明による磁気抵抗素子の成膜方法の一実施
例を説明する平面図である。同図において、非磁性体基
板1上に強磁性体薄膜により棒状の抵抗体パターン2お
よびその両側に抵抗体パターン2よりも長さが短かくか
つパターン幅の大きい隣接パターン3,4を一定の間隔を
もたせて平行に被着形成させた後、これらの並置された
棒状パターン2,3,4を、上下方向の所定の長さLを確保
した残りのパターン、つまり同図に点線で示したライン
L1,L2を境界として斜線部分で示す上下部側パターン
2′,3′,4′の上面に、例えばAuなどの導体薄膜5を被
着形成する。このようにして棒状パターン2,3,4は、上
下方向に同一寸法長Lを有する磁性体薄膜パターンが露
出して形成される。
このような方法により形成された磁気抵抗素子におい
て、抵抗体パターン2は、上下方向の長さが実質的に短
かくなるが、隣接パターン3,4は抵抗体として利用され
るものではなく、磁気的性質のみを活用するものである
ため、上層に導体薄膜5が形成されたとしても、効果に
対しての影響はない。したがつて、結果的に第2図に示
すように隣接パターン3,4が抵抗体パターン2以上の長
さを有する構成とすることができる。これによつて抵抗
体パターン2部に発生する反磁界は、隣接パターン3,4
により全領域にわたつて軽減され、磁気抵抗効果がより
大きく得ることができる。その実測結果は、前述した成
膜方法により第3図に点線で示すように実線で示した従
来よりもより高感度な磁気抵抗素子を得ることができ
る。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、強磁性薄膜により磁気抵
抗体パターンおよびこの両側に一定の間隔をもたせて平
行に磁気抵抗パターンよりも長さが短くかつパターン幅
の大きい隣接パターンを形成した後、磁気抵抗体パター
ンおよび隣接パターンの長さ方向に同一寸法を有する磁
性体薄膜を露出させ、それらの両端部上に導電性金属膜
を形成することにより、抵抗値を調整すると同時に磁気
抵抗体パターンに隣接並置される隣接パターン長が見か
け上、抵抗体部分より長くなるように形成されるので、
抵抗体部分を形成する強磁性体薄膜中に発生する反磁界
成分を最小限にとどめることができ、より高度な磁気抵
抗素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による磁気抵抗素子の成膜方法の一実施
例を説明する平面図、第2図は本発明により得られる磁
気抵抗素子の抵抗体の見かけ上の構成を示す平面図、第
3図は本発明および従来の磁気抵抗素子の抵抗変化率を
示す特性図である。 1……非磁性体基板、2……抵抗体パターン、3,4……
隣接パターン、5……導体薄膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】非磁性体基板上に強磁性体薄膜からなる磁
    気抵抗パターンおよびこの磁気抵抗体パターンの両側に
    この磁気抵抗体パターンよりも長さが短くかつパターン
    幅の大きい隣接パターンを一定の間隔を持たせて平行に
    形成した後、前記磁気抵抗体パターンおよび隣接パター
    ンの長さ方向に同一寸法長を有する磁性体薄膜を露出さ
    せ、それらの両端部上に導電性金属膜を形成することを
    特徴とした磁気抵抗素子の成膜方法。
JP62134947A 1987-06-01 1987-06-01 磁気抵抗素子の成膜方法 Expired - Lifetime JPH0758812B2 (ja)

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JPS63301579A JPS63301579A (ja) 1988-12-08
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5637822A (en) * 1979-09-03 1981-04-11 Nec Corp Magnetic-field detector
JPH026491Y2 (ja) * 1984-09-07 1990-02-16

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