JPH0755584B2 - スクリーンマスクの製法 - Google Patents
スクリーンマスクの製法Info
- Publication number
- JPH0755584B2 JPH0755584B2 JP30489789A JP30489789A JPH0755584B2 JP H0755584 B2 JPH0755584 B2 JP H0755584B2 JP 30489789 A JP30489789 A JP 30489789A JP 30489789 A JP30489789 A JP 30489789A JP H0755584 B2 JPH0755584 B2 JP H0755584B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- emulsion layer
- screen mask
- pattern
- wavelength
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Screen Printers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特にハイブリッドIC等を製造する際用いられ
る基板に厚膜印刷法により印刷するとき用いられるスク
リーンマスクの製法に関する。
る基板に厚膜印刷法により印刷するとき用いられるスク
リーンマスクの製法に関する。
例えばハブリッドICのように、基板上に異なる種類の多
くの電子素子を搭載した部品は、その用いる基板には配
線や抵抗体が厚膜で形成され、この厚膜がスクリーン印
刷により形成されることが行われている。
くの電子素子を搭載した部品は、その用いる基板には配
線や抵抗体が厚膜で形成され、この厚膜がスクリーン印
刷により形成されることが行われている。
このような基板上にスクリーン印刷により厚膜からなる
回路配線パターンを形成する際に用いられるスクリーン
マスクは、第3図に示すように、金属製あるいは合成繊
維等からなるメッシュ1の裏面側に、配線パターンに対
応する画線部(窓抜き部)2aを有する乳剤層2を設けた
ものが一般的である。
回路配線パターンを形成する際に用いられるスクリーン
マスクは、第3図に示すように、金属製あるいは合成繊
維等からなるメッシュ1の裏面側に、配線パターンに対
応する画線部(窓抜き部)2aを有する乳剤層2を設けた
ものが一般的である。
ところで、このようにして作製されたスクリーンマスク
を用い、基板に印刷を行うときに、第3図に示すよう
に、基板3に第1回目の例えば配線の印刷を行って厚膜
パターン4を形成し、次いで同じ面に第2回目の例えば
低抗体の印刷を行って厚膜パターン4の近傍に抵抗体の
厚膜パターンを形成しようとした場合、基板3に当てが
ったスクリーンマスクの画線部2aの近傍が配線の厚膜パ
ターン4により持ち上げられ、この画線部と基板表面の
間に隙間ができ、その結果画線部にインキ5を供給する
とこの隙間にインキが流れ込み、この画線部周辺を汚
し、繰り返し使用する際に支障をきたす。また、抵抗体
の厚膜パターン印刷物に滲みを生じ、これが甚だしいと
きは配線の厚膜と接触することすらあるという課題があ
った。
を用い、基板に印刷を行うときに、第3図に示すよう
に、基板3に第1回目の例えば配線の印刷を行って厚膜
パターン4を形成し、次いで同じ面に第2回目の例えば
低抗体の印刷を行って厚膜パターン4の近傍に抵抗体の
厚膜パターンを形成しようとした場合、基板3に当てが
ったスクリーンマスクの画線部2aの近傍が配線の厚膜パ
ターン4により持ち上げられ、この画線部と基板表面の
間に隙間ができ、その結果画線部にインキ5を供給する
とこの隙間にインキが流れ込み、この画線部周辺を汚
し、繰り返し使用する際に支障をきたす。また、抵抗体
の厚膜パターン印刷物に滲みを生じ、これが甚だしいと
きは配線の厚膜と接触することすらあるという課題があ
った。
本発明の第1の目的は、印刷物の滲みや、汚れが発生す
ることのないスクリーンマスクの製法を提供することに
ある。
ることのないスクリーンマスクの製法を提供することに
ある。
本発明の第2の目的は、そのスクリーンマスクの高性能
かつ簡単な製法を提供することにある。
かつ簡単な製法を提供することにある。
本発明は、上記課題を解決するために、複数のスクリー
ンマスクを順次用いて被印刷体上に印刷パターンを形成
するときの後続のスクリーンマスクの製法において、ス
クリーンメッシュ上に第1の波長の光に感光する第1の
乳剤層を形成する工程と、前記第1の乳剤層上に該乳剤
層の感光波長と異なる第2の波長に感光する第2の乳剤
層を形成する工程と、前記工程で得られた乳剤層に対し
被印刷体に形成しようとする印刷パターンに対応するパ
ターンを有する第1のポジフィルムを用いかつ上記第1
の波長の光を用いて露光する工程と、前記工程で得られ
た乳剤層に対し上記印刷パターンに対応するパターンと
先行のスクリーンマスクにより上記被印刷体に形成され
た印刷パターンに対応するパターンを有する第2のポシ
フィルムを用いかつ上記第2の波長の光を用いて露光す
る工程と、上記第1及び第2の乳剤層を現像する工程を
有することを特徴とするスクリーンマスクの製法を提供
するものである。
ンマスクを順次用いて被印刷体上に印刷パターンを形成
するときの後続のスクリーンマスクの製法において、ス
クリーンメッシュ上に第1の波長の光に感光する第1の
乳剤層を形成する工程と、前記第1の乳剤層上に該乳剤
層の感光波長と異なる第2の波長に感光する第2の乳剤
層を形成する工程と、前記工程で得られた乳剤層に対し
被印刷体に形成しようとする印刷パターンに対応するパ
ターンを有する第1のポジフィルムを用いかつ上記第1
の波長の光を用いて露光する工程と、前記工程で得られ
た乳剤層に対し上記印刷パターンに対応するパターンと
先行のスクリーンマスクにより上記被印刷体に形成され
た印刷パターンに対応するパターンを有する第2のポシ
フィルムを用いかつ上記第2の波長の光を用いて露光す
る工程と、上記第1及び第2の乳剤層を現像する工程を
有することを特徴とするスクリーンマスクの製法を提供
するものである。
スクリーンマスクの乳剤層としての光の感度特性の異な
る乳剤層を多層に設けると、被印刷体に印刷しようとす
る印刷パターンの画線部と先行のスクリーンマスクによ
り形成された被印刷体上の印刷パターンに対応しこれを
収容する非画線部の凹部との両方を異なる特性の光を用
いた露光と現像により各独立に作製することができる。
る乳剤層を多層に設けると、被印刷体に印刷しようとす
る印刷パターンの画線部と先行のスクリーンマスクによ
り形成された被印刷体上の印刷パターンに対応しこれを
収容する非画線部の凹部との両方を異なる特性の光を用
いた露光と現像により各独立に作製することができる。
次に本発明の実施例を第1図及び第2図に基づいて説明
する。
する。
本実施例のスクリーンマスクは第1図(ニ)に示されて
いる。図中、11は金属あるいは合成繊維等からなるスク
リーンメッシュ、12は基板に形成しようとする印刷パタ
ーンに対応する画線部(窓抜き部)12aを有する第1乳
剤層、13は上記基板の印刷パターンの近傍に先行のスク
リーンマスクにより既に印刷された印刷パターンに対応
して非画線部に形成された非貫通の凹部13aを有する第
2乳剤層である。
いる。図中、11は金属あるいは合成繊維等からなるスク
リーンメッシュ、12は基板に形成しようとする印刷パタ
ーンに対応する画線部(窓抜き部)12aを有する第1乳
剤層、13は上記基板の印刷パターンの近傍に先行のスク
リーンマスクにより既に印刷された印刷パターンに対応
して非画線部に形成された非貫通の凹部13aを有する第
2乳剤層である。
次に第1図(イ)〜(ニ)に基づいて、上記スクリーン
マスクの製造法を説明する。
マスクの製造法を説明する。
スクリーンメッシュ11に例えば短波長に感度を持つ光硬
化性樹脂等からなる乳剤により第1の感光性乳剤層14を
形成し、次いで上記とは異なる例えば長波長に感度を持
つ光硬化性樹脂等からなる乳剤により第2の感光性乳剤
層15を形成する。(第1図(イ))。
化性樹脂等からなる乳剤により第1の感光性乳剤層14を
形成し、次いで上記とは異なる例えば長波長に感度を持
つ光硬化性樹脂等からなる乳剤により第2の感光性乳剤
層15を形成する。(第1図(イ))。
次に、第1回目の露光を行う。すなわち、上記画線部12
aに対応する部分以外の第1の感光性乳剤層14に上記短
波長を照射できるように作製したポジフィルムを上記第
2の感光性乳剤層15に当てがって、この短波長の光を照
射して上記第2の感光性乳剤層15を透過した光により上
記画線部12aに対応する部分以外の第1の感光性乳剤層1
4を硬化させ、第1乳剤層12とする。(第1図
(ロ))。
aに対応する部分以外の第1の感光性乳剤層14に上記短
波長を照射できるように作製したポジフィルムを上記第
2の感光性乳剤層15に当てがって、この短波長の光を照
射して上記第2の感光性乳剤層15を透過した光により上
記画線部12aに対応する部分以外の第1の感光性乳剤層1
4を硬化させ、第1乳剤層12とする。(第1図
(ロ))。
さらに、第2回目の露光を行う。すなわち、上記ポジフ
ィルムを取り外し、上記画線部12a及び凹部13aに対応す
る部分以外の第2の感光性乳剤層15に上記長波長を照射
できるように作製したポジフィルムを当てがって、この
長波長の光を照射して上記画線部12a及び凹部13aに対応
する部分以外の第2感光性乳剤層15を硬化させ、第2乳
剤層13とする。(第1図(ハ))。
ィルムを取り外し、上記画線部12a及び凹部13aに対応す
る部分以外の第2の感光性乳剤層15に上記長波長を照射
できるように作製したポジフィルムを当てがって、この
長波長の光を照射して上記画線部12a及び凹部13aに対応
する部分以外の第2感光性乳剤層15を硬化させ、第2乳
剤層13とする。(第1図(ハ))。
最後に、上記で得られた半製品を例えばアルカリ性溶液
等に浸漬し、擦ることにより上記画線部12aに対応する
第1の感光性乳剤層14及び上記画線部12a及び凹部13aに
対応する第2の感光性乳剤層15を除去する。このように
して第1図(ニ)のスクリーンマスクの製品ができあが
る。
等に浸漬し、擦ることにより上記画線部12aに対応する
第1の感光性乳剤層14及び上記画線部12a及び凹部13aに
対応する第2の感光性乳剤層15を除去する。このように
して第1図(ニ)のスクリーンマスクの製品ができあが
る。
このようにして得られたスクリーンマスクを用いると、
第2図に示すように、基板16に既に先行のスクリーンマ
スクにより例えば配線の厚膜パターン17が印刷されてお
り、その近傍に例えば抵抗体の厚膜パターンを印刷しよ
うとした場合、スクリーンマスクを基板16に当てがうと
きに配線の厚膜パターン17がこれに対応する凹部13aに
収容されるので、印刷しようとする印刷パターンに対応
する画線部12aの周辺は基板表面に密着し、両者に間隙
が生じない。この状態でインキ5をスクリーンマスク上
にスキージーにより塗布すると、所定の個所に滲むこと
なく印刷が行われ、スクリーンマスクの画線部13a周辺
の汚れも回避することができる。
第2図に示すように、基板16に既に先行のスクリーンマ
スクにより例えば配線の厚膜パターン17が印刷されてお
り、その近傍に例えば抵抗体の厚膜パターンを印刷しよ
うとした場合、スクリーンマスクを基板16に当てがうと
きに配線の厚膜パターン17がこれに対応する凹部13aに
収容されるので、印刷しようとする印刷パターンに対応
する画線部12aの周辺は基板表面に密着し、両者に間隙
が生じない。この状態でインキ5をスクリーンマスク上
にスキージーにより塗布すると、所定の個所に滲むこと
なく印刷が行われ、スクリーンマスクの画線部13a周辺
の汚れも回避することができる。
なお、後続のスクリーンマスクは、第3、第4等のスク
リーンマスクであっても良く、この場合先行のスクリー
ンマスクはそれ以前のもの全てを指す。また、乳剤層は
3層以上設けたものでも良く、上記第2層の場合と同様
に凹部を形成できる。
リーンマスクであっても良く、この場合先行のスクリー
ンマスクはそれ以前のもの全てを指す。また、乳剤層は
3層以上設けたものでも良く、上記第2層の場合と同様
に凹部を形成できる。
本発明によれば、複数のスクリーンマスクを順次用いて
印刷パターンを形成する後続のスクリーンマスクの製法
において、感光特性の異なる乳剤層を多層に設け、被印
刷体に印刷しようとする印刷パターンの画線部と先行の
スクリーンマスクにより形成された被印刷体上の印刷パ
ターンに対応しこれを収容する非画線部の凹部との両方
を異なる特性の光を用いた露光と現像により各独立に作
製することができるので、画線部と非画線部の凹部の作
製を互いに影響されることなく作製でき、両者を明確に
区別して製作でき、例えば後者からインクが滲む等のこ
とを回避してその性能を高め、しかも露光と現像という
簡単な操作によりこれら画線部と凹部を形成できるので
その作業も容易であり、生産性を高めることができる。
印刷パターンを形成する後続のスクリーンマスクの製法
において、感光特性の異なる乳剤層を多層に設け、被印
刷体に印刷しようとする印刷パターンの画線部と先行の
スクリーンマスクにより形成された被印刷体上の印刷パ
ターンに対応しこれを収容する非画線部の凹部との両方
を異なる特性の光を用いた露光と現像により各独立に作
製することができるので、画線部と非画線部の凹部の作
製を互いに影響されることなく作製でき、両者を明確に
区別して製作でき、例えば後者からインクが滲む等のこ
とを回避してその性能を高め、しかも露光と現像という
簡単な操作によりこれら画線部と凹部を形成できるので
その作業も容易であり、生産性を高めることができる。
第1図(イ)〜(ニ)は本発明の一実施例のスクリーン
マスクの製造工程を示す断面説明図、第2図はこのスク
リーンマスクを用いて印刷する状態を示す断面説明図、
第3図は従来のスクリーンマスクを用いて印刷する状態
を示す断面説明図である。 図中、11はスクリーンメッシュ、12、13は乳剤層、14、
15は感光性乳剤層、16は基板、17は先行のスクリーンマ
スクによる厚膜パターンである。
マスクの製造工程を示す断面説明図、第2図はこのスク
リーンマスクを用いて印刷する状態を示す断面説明図、
第3図は従来のスクリーンマスクを用いて印刷する状態
を示す断面説明図である。 図中、11はスクリーンメッシュ、12、13は乳剤層、14、
15は感光性乳剤層、16は基板、17は先行のスクリーンマ
スクによる厚膜パターンである。
Claims (1)
- 【請求項1】複数のスクリーンマスクを順次用いて被印
刷体上に印刷パターンを形成するときの後続のスクリー
ンマスクの製法において、スクリーンメッシュ上に第1
の波長の光に感光する第1の乳剤層を形成する工程と、
前記第1の乳剤層上に該乳剤層の感光波長と異なる第2
の波長に感光する第2の乳剤層を形成する工程と、前記
工程で得られた乳剤層に対し被印刷体に形成しようとす
る印刷パターンに対応するパターンを有する第1のポジ
フィルムを用いかつ上記第1の波長の光を用いて露光す
る工程と、前記工程で得られた乳剤層に対し上記印刷パ
ターンに対応するパターンと先行のスクリーンマスクに
より上記被印刷体に形成された印刷パターンに対応する
パターンを有する第2のポジフィルムを用いかつ上記第
2の波長の光を用いて露光する工程と、上記第1及び第
2の乳剤層を現像する工程を有することを特徴とするス
クリーンマスクの製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30489789A JPH0755584B2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | スクリーンマスクの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30489789A JPH0755584B2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | スクリーンマスクの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03166792A JPH03166792A (ja) | 1991-07-18 |
JPH0755584B2 true JPH0755584B2 (ja) | 1995-06-14 |
Family
ID=17938602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30489789A Expired - Lifetime JPH0755584B2 (ja) | 1989-11-27 | 1989-11-27 | スクリーンマスクの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0755584B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03108437U (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-07 | ||
JP7335614B2 (ja) * | 2020-04-28 | 2023-08-30 | ミタニマイクロニクス株式会社 | スクリーンマスク、スクリーンマスクの製造方法及び印刷物の製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51118059U (ja) * | 1975-03-19 | 1976-09-25 | ||
JPS62128856U (ja) * | 1986-02-06 | 1987-08-14 |
-
1989
- 1989-11-27 JP JP30489789A patent/JPH0755584B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03166792A (ja) | 1991-07-18 |
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