JPH03166792A - スクリーンマスクの製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野〕 本発明は、特にハイブリッドＩＣ等を製造する際用いら
れる基板に摩繞印刷法により印刷するとき用いられるス
クリーンマスク及びその製法に関する． 〔従来の技術〕 例えばハイブリッドＩＣのように、基板上に異なる種類
の多くの電子素子を搭載した部品は、その用いる基板に
は配線や抵抗体が厚膜で形成され、この厚膜がスクリー
ン印刷により形成されることが行われている． このような基板上にスクリーン印刷により厚膜からなる
回路配線パターンを形成する際に用いられるスクリーン
マスクは、第３図に示すように、金属製あるいは合戒繊
維等からなるメッシュ１の裏面側に、配線パターンに対
応する画線部｛窓抜き部｝　２ａを有する乳剤層２を設
けたものか一般的である． （発明が解決しようとする課題〕 ところで、このようにして作製されたスクリーンマスク
を用い、基板に印刷を行うときに、第３図に示すように
、基板３に第■回目υ｝例えは配線の印刷を行って厚膜
パターン４を形成し、次いで同じ面に第２回目の例えば
抵抗体の印刷を行って厚膜パターン４の近傍に抵抗体の
厚膜パターンを形成しようとした場合、基板３に当てか
ったスクリーンマスクの画線部２ａの近傍が配線の厚膜
パターン４により持ち上げられ、この画線部と基板表面
の間に隙間ができ、その結果画線部にインキ５を供給１
゛るとこの隙間にインキか流れ込み、この画線部周辺を
汚し、繰り返し使用する際に支障をきた１−．また、抵
抗体の厚狭パターン臼刷物に滲みを生じ、これが甚だし
いときは配線の厚狭と接触Ｔることすらあるという課題
があった．本発明の第１の目的は、上記の如く印刷パタ
ーン印刷物の滲みや、スクリーンマスクｏｖｆ５れが発
生することのないスクリーンマスクを提供することにあ
る． また、本発明の第２の目的は、上記！＠ｌの目的を達戒
できるスクリーンマスクの簡単な製造法を提供すること
にある． 〔作川〕 先行のスクリーンマスクにより既に被印刷面に印刷パタ
ーンが形成されていてその近傍に他の印刷パターンを印
刷する際、スクリーンマスクの乳剤層に画線部を形成す
るとともに非！！！１線部に少なくとも上記近傍に位置
する先行の印刷パターンを収容する凹部を形成したので
、スクリーンマスクの画線部周辺を被印刷面に密着でき
る．また、スクリーンマスクの乳＃ｕｉｉに光の感度特
性の異なる乳剤層を多層に用いたので、画線部と非内線
部における凹邪の両方を各独立に作製できる． （実施例〕 次に本発明の実施例を第１図及び第２図に基づいて説明
する。

本実施例のスクリーンマスクは第１図（二）に示されて
いる，図中、ｔｉは金属あるいは合成繊維等からなるス
クリーンメッシュ、ｌ２は基板に形成しようとする印刷
パターンに対厄３るｌ！ａ線部（窓抜き部〉１２ａを有
する第１乳剤層、１３は上記基板の印刷パターンの近傍
に先行のスクリーンマスクにより既に印刷された印刷パ
ターンに対応して非画線部に形成された非貫通の凹部１
３ａを有する第２乳剤層である。

次に第１図（イ）〜（二）に基づいて、上記スクリーン
マスクの製造法を説咽ずる． スクリーンメッシュ１１に例えば短波長に感度を持つ光
硬化性樹脂等からなる乳剤により第１の感光性乳剤層ｌ
４を形成し、次いで上記とは異なる例えば長波長に感度
を持つ光硬化性樹脂等からなる乳剤により第２の感光性
乳剤ｊｆｔｌ５を形成する．（第１図（イ））． 次に、第１回目の露光を行う．すなわち、上記画線部１
２ａに対応する部分以外の第１の感光性乳剤層ｌ４に上
記短波長を照射できるように作製したポジフィルムを上
記第２の感光性乳／ＰＩ層ｌ５に当てがって、この短波
長の光を照射して上記第２の感光性乳剤層１５を透過し
た光によりヒ記ｅＡ線部１２ａに対応する部分以外の第
１の感光性乳剤層１４を硬化させ、第１乳剤層ｌ２とす
る．（弔１図（ロ））。

さらに、第２回目の露光を行う．すなわち、上記ポジフ
ィルムを取り外し、上記！！！１１　線ｕ　１　２ａ及
び凹部１３ａに対応する部分以外の第２の感光性乳剤ｒ
ｆＡｌ５に上記長波長を照射できるように作製したポジ
フィルムを当てがって、この長波長の光を照射して上記
画線部１２ａ及び凹部１３ａに対ル６する部分以外の第
２！Ｂ光性乳剤層１５を硬化させ、第２乳剤層ｌ３とす
る．（第１図（ハ））。

最後に、上記で得られた半製品を例えばアルカリ性溶液
等に浸漬し、擦ることにより上記画線部１２ａに対応す
る第１の感光性乳剤層ｌ４及び上記画線部１２ａ及び凹
部１３ａに対応する第２の感光性乳剤層１５を除去する
．このようにして第１図（二）のスクリンーンマスクの
製品かぐきあがる．このようにして得られたスクリーン
マスクを用いると、第２図に示すように、基板ｌ６に既
に先行のスクリーンマスクにより例えば配線の厚膜パタ
ーン１７が印刷されており、その近情に例えば抵抗体の
厚膜パターンを印刷しようとした場合、スクリーンマス
クを基板ｌ６に当てかうときに配線の厚膜パターン１７
がこれに対応する凹部１３ａに収容されるので、印刷し
ようとする印刷パターンに対応する画線部１２ａの周辺
は基板表面に密着し、両者に間隙が生じない．この状態
でインキ５をスクリーンマスク上にスキージーにより塗
布すると、所定の個所に滲むことなく印刷が行われ、ス
クリーンマスクの画線部１３ａ周辺の汚れも回避するこ
とができる． なお、後続のスクリーンマスクは、第３、第４等のスク
リーンマスクであっても良ク、この場合先行のスクリー
ンマスクはそれ以前のもの全てを指す．また、乳剤層は
３層以上没けたものでも良く、上記第２層の場合と同様
に凹部を形成できる．〔発明の効果〕 本発明によれば、複数のスクリーンマスクを順次用いて
印刷パターンを形成するｔ＆跣のスクリーンマスクにお
いて、その印刷パターンの少なくとも近傍に位置する先
行のスクリーンマスクにより形成された印刷パターンを
収容する凹部を非画線部に形成したので、この後続のス
クＩＩ−ンマスクを用いて被印刷面に印刷を行っても、
両者が良くＶｆｉ着し、印刷物にインキの滲みが生じる
ことがないのみならず、スクリーンマスクの画線部の周
辺の汚れも回避することができる． また、本発明は、後続のスクリンマスクにおいて感光特
性の実なる乳剤層を多層に設け、画線部とともに非画線
部に非貫通の凹部を形成するようにしたので、これら画
線部と凹部を各独立に作製することができ、また、その
作製も容易に行うことができる．

【図面の簡単な説明】

第１図（イ）〜（二）は本発明の一実施例のスクリーン
マスクの製造工程を示す断面説明図、第２図はこのスク
リーンマスクを用いて印刷する状態を示す断面説明図、
＄３図は従来のスクリーンマスクを用いて印刷する状態
を示す断面説明図である． 図中、ｌ１はスクリーンメッシュ、ｌ２、１３は乳剤層
、１４、１５は感光性乳剤層、ｌ６は基板、ｌ７は先行
のスクリーンマスクによる厚膜パターンである。 平威ｌ年１１月２７日 第 １ 図 （イ） （ロ） （ハ） １１ １１ １１

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）複数のスクリーンマスクを順次用い被印刷体上に
   厚膜印刷パターンを形成するときの後続のスクリーンマ
   スクにおいて、先行のスクリーンマスクにより被印刷体
   上に形成された厚膜印刷パターンのうち少なくとも上記
   後続のスクリーンマスクによる印刷部分の近傍に位置す
   る印刷部分に対応して該後続のスクリーンマスクの乳剤
   層の非画線部にこれを用いて印刷したときにこの印刷部
   分を収容しかつ貫通しない凹部を形成したことを特徴と
   するスクリーンマスク。
2. （２）スクリーンメッシュ上に第１の波長の光に感光す
   る第１の感光性乳剤層を形成する工程と、前記第１の感
   光性乳剤層上に該乳剤層の感光波長と異なる第２の波長
   に感光する第２の感光性乳剤層を形成する工程と、前記
   工程で得られた乳剤層に対し被印刷体に形成しようとす
   る印刷パターンのポジフィルムを用いかつ上記第１の波
   長の光を用いて露光する工程と、前記工程で得られた乳
   剤層に対し上記印刷パターンに対応するパターンと上記
   印刷パターン以外のパターンに対応するパターンを有す
   る第２のポジフィルムを用いかつ上記第２の波長の光を
   用いて露光する工程と、上記第１及び第２の乳剤層を現
   像する工程を有することを特徴とするスクリーンマスク
   の製法。