JPH0755210Y2 - 作業床構造 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、作業スペースが上下方向にある作業床構造に
関する。

〔従来の技術〕

作業スペースが床の上下に配置されている建築物におい
て、例えば半導体製造関係の工場やバイオテクノロジー
関係の研究施設では、この上下の作業スペースを区画す
る床にグレーチングを設けていることがある。

例えば、半導体製造工場においては薬品を取り扱うクリ
ーンルームの床にグレーチングが設けられて上下作業ス
ペース内の換気を向上させている。

ところで、半導体を製造するに際し、薬品を使用しなけ
ればならない工程としてウエハ洗浄、ホトレジスト塗
布、現像・リンス、エツチング、レジスト剥離等があ
る。例えば、ウエハ洗浄工程では硝酸、硫酸、アンモニ
ア水等の薬品を使用する。

これらの薬品を運搬するのに、配管等を利用して自動供
給している例もあるが、一般には作業員がガロンビンと
呼ばれる容量3.8lのガラスビン等の容器に前記薬品を収
容して運搬していることが多い。

〔考案が解決しようとする課題〕

しかしながら、作業員がガロンビンをグレーチングの上
に落とし薬品がこぼれると、こぼれた薬品はグレーチン
グを通過して下方作業スペースへ落下する。下方作業ス
ペース内には、作業に必要な装置や配管、ダクト類が配
設されているため、落下した薬品がこれらに付着する
と、腐蝕や溶解等により損傷を与えることがある。ま
た、下方作業スペース内で作業する作業員に薬品類が降
りかかり、火傷などの人身事故になる場合もある。

このため、クリーンルームの下方に位置するスペースは
用途が制限される。この結果、工場や施設等の作業性向
上のための内部のレイアウトも制限されることになり問
題がある。

このような問題は、前記バイオテクノロジー関係の研究
所はもちろんのこと、化学薬品を取り扱う工場、施設の
全てに言える。

本考案は上記事実を考慮し、上方作業スペースからグレ
ーチングを通して落下する落下物が下方作業スペースへ
至らないようにした作業床構造を得ることが目的であ
る。

〔課題を解決するための手段〕

本考案に係る作業床構造は、上方作業スペースと下方作
業スペースとを区画する床に設けられ前記上方及び下方
作業スペースを連通するグレーチングと、前記下方作業
スペースの上部であって前記グレーチングの下方に離れ
て配置され前記上方作業スペースからの落下物を受け止
める受け皿と、を有している。

〔作用〕

本考案によれば、上方作業スペースからグレーチングを
通して落下物（例えば、化学薬品）が落下した場合、こ
の落下物は受け皿により受け止められる。これにより、
例えば化学薬品を取り扱う作業スペースが上方にある場
合においても、その下方に位置する作業スペース内の装
置等に損傷を与えることはない。

〔実施例〕

第１図には、本考案に係る作業床構造を半導体製造工場
に適用した場合が示されている。この半導体製造工場で
は、製造工程がウエハ洗浄→酸化→ホトレジスト
塗布→プリベーク・露光→現像・リンス→ポスト
ベーク→エツチング→レジスト剥離となっている。

第１図に示されるように床面10には、上記作業工程の
内、酸化、プリベーク・露光、ポストベークを行
うための装置12が配設され、下方作業スペース（以下、
リターンチヤンバーという。）とされている。このリタ
ーンチヤンバーの上方は、グレーチング14が設けられた
床16によって区画されている。この床16の上方は、上記
作業工程の内、薬品を使用するウエハ洗浄、ホトレ
ジスト塗布、現像・リンス、エツチング、レジス
ト剥離を行うための薬品槽18が配設された上方作業スペ
ース（以下、クリーンルームという。）となっている。
なお、リターンチヤンバーの上方には配管20及びダクト
22等が配設されている。

グレーチング14は、平鋼を格子状に組んだ矩形状のパネ
ルで形成されており、これを帯状に配列してクリーンル
ーム及びリターンチヤンバー内の空気の流通を可能とし
ている。このグレーチング14の下方の対応する位置に
は、第２図、第３図に示される如く受け皿24が連続的に
配設されている。この受け皿24は、平板24Aの四方が略
直角に折り曲げられた折り曲げ部24Bとされている。な
お、本実施例では受け皿24の折り曲げ部24Bの高さは、5
cmとされている。

第４図に示されるように、受け皿24は四隅に取り付けら
れた鋼棒やワイヤ26（以下ワイヤ26という）によって吊
り下げられている。すなわち、グレーチング14の幅方向
（第３図矢印Ａ方向）に対応する２本のワイヤ26は、そ
の上方先端部が互いに離反する方向に略直角に屈曲され
ており、これらの屈曲部26A、26Bを相互に接近させる方
向に撓ませて梁28の上面に前記屈曲部26A、26Bが掛けら
れている。これにより、受け皿24はグレーチング14の下
方に離れて保持されている。また、グレーチング14の長
手方向に隣り合うワイヤ26は、補強材30によって互に連
結されている。

以下、本実施例の作用を説明する。

クリーンルーム内で、例えばウエハ洗浄が行われている
場合、作業員は必要に応じ薬品槽18へ硝酸や硫酸等の薬
品をガロンビン等で運搬して移し入れる。この際、ガロ
ンビンをグレーチング14上に落としたり、ガロンビン内
の薬品をグレーチング14上にこぼすことがある。

ここで、本実施例ではグレーチング14の下方の対応する
位置に受け皿24を配設したので、クリーンルーム内から
落下した薬品をこの受け皿24によって受け止めることが
できる。これにより、落下した薬品が下方で作業する作
業員に降りかかることがなく、またリターンチヤンバー
内の装置12や配管20、ダクト22等に付着するのを防止で
き、これらの機器は溶解・腐蝕等による損傷から保護さ
れる。

ところで、前記受け皿24の取り付け又は取り外しは、ワ
イヤ26の屈曲部26A、26Bをグレーチング14の幅方向（第
３図矢印Ａ方向）かつ相互に接近する方向に撓ませるこ
とにより容易に行うことができる。これにより、受け皿
24に溜った薬品の廃棄処理も容易に行うことができる。
必要であれば受け皿24内に軟質多孔材を収容して落下薬
品の飛散を防止してもよい。また溜った薬品の取出用ド
レン栓を設けてもよい。

なお、本実施例では、帯状のグレーチング14に受け皿24
を配設したが、第５図に示されるように平面形状が８角
形のグレーチング32が床16に四方連続上に設けられた構
造の床に受け皿34を配設しても同様の効果が得られる。
この場合、グレーチング32の下方の対応する位置には第
６図に示されるような、グレーチング32の平面形状と同
一又はこれよりも大面積の８角形の受け皿34が配設され
ている。

また、第７図に示されるように、全面開口グレーチング
36を配設した後、はめ込み式のプレート38を設置する構
造でも、全面開口グレーチング36の開口部分36A（平面
形状８角形（第７図参照））に対応して受け皿34を設け
ることにより同様の効果が得られる。この場合受け皿34
を全面開口グレーチング36に係止するには、ワイヤ26の
上方先端部を第８図に示されるようにコの字状に屈曲さ
せて、この屈曲部40を全面開口グレーチング36に掛けれ
ばよい。

このように、本実施例ではクリーンルームからの落下物
を受け皿24、34によって受け止め、リターンチヤンバー
への落下を防止しているので、リターンチヤンバーでの
作業内容が制限されることがなく、工場内を作業効率を
向上するように自由にレイアウトすることができる。

なお、本実施例では半導体製造を例にとって作業を説明
したが、これに限らず薬品を使用する工程がある作業で
あれば適用可能である。

〔考案の効果〕

以上説明した如く本考案に係る作業床構造は、上方作業
スペースからグレーチングを通して落下する落下物が下
方作業スペースへ至らないようにすることができるとい
う優れた効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本実施例に係るクリーンルーム及びリターンチ
ヤンバーの概略縦断面図、第２図は本実施例に係るクリ
ーンルームの斜視図、第３図は第２図の床及び受け皿の
拡大斜視図、第４図は本実施例に係る受け皿の斜視図、
第５図は本実施例に係るグレーチング及び受け皿を８角
形とした変形例を示す斜視図、第６図は第５図の受け皿
を示す斜視図、第７図は本実施例に係る床をはめ込み式
のプレートが配設された全面開口グレーチングとした場
合を示す斜視図、第８図は第６図の受け皿を全面開口グ
レーチング用にワイヤを変形させこの受け皿が全面開口
グレーチングに係止された状態を示す正面図である。 14……グレーチング、16……床、24……受け皿、32……
グレーチング、34……受け皿、36……全面開口グレーチ
ング。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】上方作業スペースと下方作業スペースとを
   区画する床に設けられ前記上方及び下方作業スペースを
   連通するグレーチングと、前記下方作業スペースの上部
   であって前記グレーチングの下方に離れて配置され前記
   上方作業スペースからの落下物を受け止める受け皿と、
   を有する作業床構造。