JPH05156444A - クリーンルームにおける装置の設置構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は垂直層流型クリーンルーム内に、断
面積の大きい配管をその底部に接続する装置を設置する
構造を提供することを目的とする。 【構成】 クリーンルームの上部床４に対して所定の高
さに位置するアッセンブルフロア５に開口部５ｂを設け
る。開口部５ｂ内に支持部材１２を上部床４上に立設し
て配設する。支持部材１２の上にＣＶＤ装置１を設置す
る。真空排気配管２，配管１４を上記開口部５ｂを通し
てＣＶＤ装置１の底部に接続して構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はクリーンルームにおける
装置の設置構造に係り、特に垂直層流型クリーンルーム
に設置される装置に用いて好適なクリーンルームにおけ
る装置の設置構造に関する。

【０００２】近年、半導体の高集積化に伴い、その製造
装置が設置されるクリーンルームの空気清浄度は増々高
いレベルが必要になっている。

【０００３】一般的に、清浄度の高い、クリーンルーム
としては垂直層流型クリーンルームが使用される。この
垂直層流型クリーンルームは、天井全面にＨＥＰＡ（Hi
gh Efficiency Particulate Air）フィルタを設置して
吹出口とし、床全面を吹込口として空気を垂直下方に流
すもので、床の構造は、空気の通る開口部を有した床と
通常の床とを有した２重床となっている。

【０００４】ところが、この垂直層流型クリーンルーム
内に半導体等の製造をするための断面積の大きい真空排
気配管や排気ダクト等を接続しなければならない装置を
設置するには、その配管やダクトを接続する際に、上側
の床面と下側の床面の間の狭い空間で作業を行なわなけ
ればならず、能率の悪い作業を強いられていた。

【０００５】そこで配管作業や配管の修理が簡単にでき
る装置の設置構造が望まれている。

【０００６】

【従来の技術】図５は従来の装置の設置構造を示す図で
ある。

【０００７】同図において半導体製造用基板の前処理装
置であるＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ）装置１
は垂直層流型クリーンルーム内に設置されている。

【０００８】まず、説明の便宜上、クリーンルームの一
般的構造について説明する。

【０００９】この垂直層流型クリーンルームの床は、コ
ンクリート等で固められた建築床３の上に基礎支柱６が
立設され、その支柱６によってスラブ４ａを支持して敷
設し上部床４が形成されている。更に、上部床４の上に
上部支柱７が立設され、その上にすのこ状に開口部を有
したグレーティング床５ａが敷設されてアッセンブルフ
ロア５が形成された構造である。

【００１０】クリーンルームの上部には全面にわたって
ＨＥＰＡフィルタ８が取付けられ、天井９とＨＥＰＡフ
ィルタ８との間は空気が通るダクトが形成されている。

【００１１】以上のような構造のクリーンルーム内に、
前記ＣＶＤ装置１は支持用の足１ａを介してアッセンブ
ルフロア５上に設置され、その後面下部には真空排気配
管２が接続されている。

【００１２】この真空排気配管２は上部床４の下側を通
って配管されるため、ＣＶＤ装置１に接続するには、上
部床４とアッセンブルフロア５を垂直に貫通してからア
ッセンブルフロア５の上側で水平に曲げられ、ＣＶＤ装
置に接続されることとなる。また、この真空排気配管２
は比較的断面積が大きいため、水平方向から垂直下方に
曲げるためにある程度の曲率半径が必要となり、その分
ＣＶＤ装置１は足１ａによってアッセンブルフロア５よ
り高い位置に設置されている。

【００１３】そして、ＣＶＤ装置１の下方のグレーティ
ング床５ａと上部床４との間には、ＣＶＤ装置１の重量
によりグレーティング床５ａが変形しないように補強用
上部支柱１１が複数配設されている。

【００１４】以上のように構成されＣＶＤ装置１が設置
されたクリーンルーム内において、図５中矢印で示すよ
うに、空気は天井９とＨＥＰＡフィルタ８との間のダク
トからＨＥＰＡフィルタ８を通って垂直下方に流れ、ア
ッセンブルフロア５に吸込まれる。

【００１５】アッセンブルフロア５に吸込まれた空気
は、アッセンブルフロア５と上部床４の間を通って送風
機（図示せず）により天井９側に戻され再び天井９とＨ
ＥＰＡフィルタ８との間に送りこまれる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】ここで、クリーンルー
ムに装置を設置する場合、まずアッセンブルフロア上に
装置を載せ、そのあとから配置作業を行うようになって
いる。

【００１７】この際、装置が重量物の場合は、あらかじ
め装置を載せる位置のアッセンブルフロアと上部床との
間に補強用上部支柱を配してアッセンブルフロアが変形
しないようにしている。

【００１８】真空排気配管あるいは、排気ダクトのよう
な断面積の大きい配管は、装置の上部に接続すれば配管
の作業性は良くなるが、その配管によって空気流が乱れ
て効率的な除塵効果が得られないため、配管は装置の底
部に接続するのが理想的である。

【００１９】ところが装置が設置された部分のアッセン
ブルフロアと上部床との間隔は６０cm程度しかなく狭い
うえに、補強用の支柱が配設されており、断面積の大き
い配管用のスペースが確保できない場合があったり、フ
ランジの取付、溶接等の配管作業が非常に難しいという
問題があった。

【００２０】そこで本発明は上記課題に鑑みなされたも
ので、装置の底部に断面積の大きい配管を容易に接続し
得るクリーンルームにおける装置の設置構造を提供する
ことを目的とする。

【００２１】

【課題を解決するための手段】上記課題は建築床に対し
て所定高さ離間して敷設されたスラブよりなる上部床と
上部床より所定高さ離間して支持され敷設されたグレー
ティング床よりなるアッセンブルフロアとを有する垂直
層流型クリーンルーム内に、配管の接続を必要とする装
置を設置する構造において、上記上部床上に高さ寸法が
上部床と上記アッセンブルフロアとの距離より長い複数
の支持部材を立設して配置し、支持部材上に上記装置を
設置した構成とすると共に、上記アッセンブルフロア
は、上記設置された装置の下側の部分に開口部を有し、
上記配管を上記開口部を通して上記装置の底部に接続し
てなる構成とすることにより解決される。

【００２２】また、上記支持部材はＩ型の垂直断面形状
を有することとしてもよい。

【００２３】

【作用】上述のようにアッセンブルフロアの開口部に支
持部材を立設し、その上に装置を設置した構成は、装置
の下側に空間を形成し、配管用及び作業用のスペースを
確保する。

【００２４】また、支持部材をＩ型垂直断面形状とした
構成は、支持部材の強度を増し、支持部材をその分小型
とし、さらに配管用及び作業用のスペースを広くする。

【００２５】

【実施例】図１及び図２は本発明の一実施例を示す。

【００２６】各図中、図５と同じ構成部品には同一符号
を付し、その説明は省略する。

【００２７】アッセンブルフロア５のうち、装置を設置
する部分のグレーティング床５ａが撤去され、開口部５
ｂが形成されている。

【００２８】開口部５ｂには重量物を支えるように強度
を有した支持部材１２（図３，図４参照）が、ＣＶＤ装
置１の底面の４隅に位置するよう設置され、その上にＣ
ＶＤ装置１が設置されている。

【００２９】支持部材１２の高さ寸法は約１ｍで、上部
床４とアッセンブルフロア５との距離（約６０cm）より
十分長くなっている。

【００３０】従って、ＣＶＤ装置１の下側は、アッセン
ブルフロア５が除かれた支持部材の高さの広い空間が確
保され、断面積の大きい真空排気配管２及びその他の各
種配管がＣＶＤ装置１の底部に接続されている。

【００３１】ここで図２と図５の従来例を比較すると本
実施例ではＣＶＤ装置１の下方が広い空間となっている
ことがわかる。

【００３２】そして、この空間を利用して真空排気配管
２だけではなく、他の配管１４もＣＶＤ装置１の底部に
接続され、その配管１４の途中にはバルブ１５が接続さ
れて、容易に操作できるようになっている。

【００３３】開口部５ｂのＣＶＤ装置１の後面側の端部
５ＣはＣＶＤ装置１の後面よりわずかに後退しており、
ＣＶＤ装置１の下側での作業をする場合に手が入りやす
くなっている。

【００３４】そしてこのＣＶＤ装置１の後面下部とアッ
センブルフロア５の開口部５ｂの端部５Ｃとの間には透
明な板よりなるカバー１３が開閉可能に取付けられ、配
管の状態を目視で観察できるようになっている。

【００３５】次に図１及び図２中の支持部材１２につい
て図３及び図４を参照して説明する。

【００３６】同図に示す支持部材１２は垂直断面が図４
に示すようなＩ型の金属製の材料（例えば一般建築用Ｉ
型鋼材）を所定長さに切断し、その側部両側に補強のた
めの側板１２ａを溶接等で取り付けた構造である。

【００３７】図４のようなＩ型形状とすると、断面係数
が大きくとれるので、上に設置される装置の重量による
荷重が偏った場合に、支持部材１２にかかる曲げ応力に
強い構造となる。

【００３８】さらに側板１２ａを有することによって支
持部材１２は圧縮及び曲げに強い構造となり、小型、軽
量とすることができる。

【００３９】従って、上記断面がＩ型の支持部材１２を
用いて装置を支持すれば装置の下の空間を広くすること
ができ、作業性をさらに向上することができる。

【００４０】ここで、アッセンブルフロア５を構成する
グレーティング床は一般的に６０cm角が標準寸法となっ
ている。よって上記支持部材１２の平面寸法を、例えば
３０cm角あるいは縦６０cm，横３０cmのように、グレー
ティング床の標準寸法の整数倍あるいは整数分の１とす
れば、アッセンブルフロア５の開口部５ｂの寸法内に支
持部材１２を適当に配置することができることとなる。

【００４１】

【発明の効果】上述の如く、請求項１の発明によれば、
装置の下側に配管用及び作業用のスペースが十分確保で
き、配管作業及び維持補修の作業性が向上して、クリー
ンルームの建造に要すコストの削減、工事期間の短縮を
図ることができる。

【００４２】また請求項２の発明によれば装置の下の配
管用スペースをさらに広くでき、作業性をさらに向上さ
せることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を説明する斜視図である。

【図２】図１の実施例の側面図である。

【図３】図１及び図２中の支持部材の斜視図である。

【図４】図３のIV−IV断面を示す図である。

【図５】従来の装置の設置構造を示す図である。

【符号の説明】

１ ＣＶＤ装置 ２ 真空排気配管 ３ 建築床 ４ 上部床 ４ａ スラブ ５ アッセンブルフロア ５ａ グレーティング床 ５ｂ 開口部 ６ 基礎支柱 ７ 上部支柱 ８ ＨＥＰＡフィルタ ９ 天井 １０ パーティション １１ 補強用上部支柱 １２ 支持部材 １２ａ 側板 １３ カバー １４ 配管 １５ バルブ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 建築床（３）に対して所定高さ離間して
   敷設されたスラブ（４ａ）よりなる上部床（４）と該上
   部床（４）より所定高さ離間して支持され敷設されたグ
   レーティング床（５ａ）よりなるアッセンブルフロア
   （５）とを有する垂直層流型クリーンルーム内に、配管
   （２）の接続を必要とする装置（１）を設置する構造に
   おいて、 上記上部床上に高さ寸法が該上部床（４）と上記アッセ
   ンブルフロア（５）との距離より長い複数の支持部材
   （１２）を立設して配置し、該支持部材（１２）上に上
   記装置を設置した構成とすると共に、 上記アッセンブルフロア（５）は、上記設置された装置
   （１）の下側の部分に開口部（５ｂ）を有し、 上記配管（２）を上記開口部（５ｂ）を通して上記装置
   （１）の底部に接続してなる構成としたことを特徴とす
   るクリーンルームにおける装置の設置構造。
2. 【請求項２】 上記支持部材（１２）はＩ型の垂直断面
   形状を有することを特徴とする請求項１記載のクリーン
   ルームにおける装置の設置構造。