JPH0753710A - ポリカーボネート樹脂の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は溶融安定性、耐加水分解性に優れた
ポリカーボネートを製造することを目的とする。 【構成】 本発明は、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸
ジエステルとを、触媒の存在下溶融重縮合してポリカー
ボネート樹脂を製造する方法において、反応が実質的に
終了した段階以降に、下記一般式（Ｉ）等で表わされる
化合物を添加することを特徴とする安定化されたポリカ
ーボネート樹脂の製造方法である。 ［式中、Ｙはヘテロ原子を含有していてもよい２価の炭
化水素基、Ｘは該イミノエステル環を形成している環員
炭素原子を１個または２個有する反応条件下で非反応性
の２価の炭化水素基、ｍは０または１である。］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ポリカーボネート樹脂
の製造方法に関するものであり、更に詳しくは、溶融し
たときの安定性および耐加水分解性に優れたポリカーボ
ネート樹脂の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネートは耐衝撃性等の機械的
物性や透明性に優れており種々の用途を有する。ポリカ
ーボネートの製造方法としてはジヒドロキシ化合物とホ
スゲンを直接反応させる界面法、あるいはジヒドロキシ
化合物と炭酸ジエステルとを加熱減圧下エステル交換反
応させる溶融法などが知られている。

【０００３】これらのうち後者は前者界面法に比較し
て、安価にポリカーボネート樹脂を製造することができ
る利点を有するとともに、メチレンクロリド等の溶媒を
用いないので環境上好ましい。

【０００４】従来の溶融法によるポリカーボネートの製
造方法では、通常、触媒としてアルカリ金属化合物、ア
ルカリ土類金属化合物などを、芳香族ジヒドロキシ化合
物１モルに対して１０^-2〜１０^-8モルの量で用いる。し
かし、かかる触媒を用いて得るポリカーボネート樹脂で
は、残存する触媒のため、溶融安定性に欠けポリカーボ
ネートを溶融、成形する時、その一部が熱分解すること
があり、分子量が低下したり着色したり透明性が低下す
る等の問題がある。

【０００５】特開昭６３―５１４２９号公報には、トル
エンスルホン酸フェニル等のスルホン酸エステルを用い
て、高温安定性に優れたポリカーボネートの製造法が提
案されている。しかし該方法では触媒に起因するポリカ
ーボネート樹脂の劣化は、ある程度防止されるが、該剤
のポリカーボネート中での反応の結果生じるフェノール
が樹脂分子鎖の解重合を引き起こし分子量低下問題を引
き起こすことがあり、未だ十分な解決とはなっていな
い。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、溶融安定
性、耐加水分解性に優れたポリカーボネート樹脂の製造
方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述した
問題点の解決のため鋭意研究の結果、溶融重合法により
ポリカーボネート樹脂を製造する際に、上記式（Ｉ）〜
（III ）で示される化合物を添加混合することによって
高温安定性、溶融安定性に優れた製造しうることを見い
出し、本発明に到達した。

【０００８】すなわち本発明は、芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとを、触媒の存在下溶融重縮合し
てポリカーボネート樹脂を製造する方法において、反応
が実質的に終了した段階以降に、下記一般式（Ｉ）、
（II）および（III ）で表わされる化合物からなる群よ
り選ばれる少くとも一種の化合物を添加することを特徴
とする安定化されたポリカーボネート樹脂の製造方法で
ある。

【０００９】

【化７】

【００１０】［式中、Ｙはヘテロ原子を含有していても
よい２価の炭化水素基、Ｘはイミノエステル環を形成し
ている環員炭素原子を１個または２個有する反応条件下
で非反応性の２価の炭化水素基、ｍは０または１であ
る。］

【００１１】

【化８】

【００１２】［式中、Ａは下記式（II）―ａ

【００１３】

【化９】

【００１４】（ここでＲ² は１価の炭化水素基であ
る。）または下記式（II）―ｂ

【００１５】

【化１０】

【００１６】（ここでＲ² の定義は上記に同じであ
る。）で表わされる基であり、Ａｒはヘテロ原子を含有
していてもよい４価の芳香族基であり、Ｒ¹ はＲ² と同
一もしくは異なる１価の炭化水素基である。］

【００１７】

【化１１】

【００１８】［式中、Ｚは、

【００１９】

【化１２】

【００２０】であり、Ｐ⁰ は炭素数１〜２０のアルキル
基、炭素数１〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２
２のアリール基および炭素数６〜２２のアラルキル基か
ら選ばれる。Ｐ¹ 、Ｐ² は各々独立に、水素原子、炭素
数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のシクロアル
キル基、炭素数６〜２２のアリール基および炭素数６〜
２２のアラルキル基から選ばれる。ただし、Ｐ¹ および
Ｐ² がともに水素原子となる場合はない。］本発明で用
いられる芳香族ジヒドロキシ化合物は、下記式（ａ）で
示される化合物である。

【００２１】

【化１３】

【００２２】式中、Ｘは

【００２３】

【化１４】

【００２４】を表わす。

【００２５】Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ は、同一または異なり、水素原
子、炭素数１〜５のアルキル基もしくは炭素数６〜１０
の置換されていてもよいアリール基を示す。アルキル基
としてメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ
る。アリール基としてフェニル基が挙げられる。Ｒ⁷ は
炭素数３〜８のアルキレン基である。アルキレン基とし
て、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。
Ｒ³ 、Ｒ⁴ は同一または異なり、ハロゲン原子もしくは
炭素数１〜５のアルキル基を示す。ハロゲン原子として
は塩素、臭素等が挙げられる。アルキル基としてはメチ
ル基、ｔ―ブチル基等が挙げられる。ｐ、ｑは同一また
は異なり、０、１または２である。

【００２６】具体的には、ビス（４―ヒドロキシフェニ
ル）メタン、１，１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）
エタン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロ
パン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）ブタ
ン、２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）オクタ
ン、ビス（４―ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、
２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―メチルフェニル）
プロパン、１，１―ビス（４―ヒドロキシ―ｔ―ブチル
フェニル）プロパン、２，２―ビス（４―ヒドロキシ―
３―ブロモフェニル）プロパンなどのビス（ヒドロキシ
アリール）アルカン類、１，１―ビス（４―ヒドロキシ
フェニル）シクロペンタン、１，１―ビス（４―ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサンなどのビス（ヒドロキシ
アリール）シクロアルカン類、４，４′―ジヒドロキシ
ジフェニルエーテル、４，４′―ジヒドロキシ―３，
３′―ジメチルフェニルエーテルなどのジヒドロキシア
リールエーテル類、４，４′―ジヒドロキシジフェニル
スルフィド、４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメ
チルジフェニルスルフィドなどのジヒドロキシジアリー
ルスルフィド類、４，４′―ジヒドロキシジフェニルス
ルホキシド、４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメ
チルジフェニルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリ
ールスルホキシド類、４，４′―ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン、４，４′―ジヒドロキシ―３，３′―ジメ
チルジフェニルスルホンなどのジヒドロキシジアリール
スルホン類などが用いられる。これらのうちでは、特に
２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパンが好
ましい。

【００２７】本発明で用いられる炭酸ジエステルとして
は、置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール、
アラアルキル、炭素数１〜５のアルキル、炭素数３〜８
のシクロアルキル等のエステルが挙げられる。

【００２８】具体的には、ジフェニルカーボネート、ジ
トリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボ
ネート、ｍ―クレジルカーボネート、ジナフチルカーボ
ネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジエチルカ
ーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチルカーボネ
ート、ジシクロヘキシルカーボネートなどが用いられ
る。これらのうちでは、特にジフェニルカーボネートが
好ましい。

【００２９】またこれらの炭酸ジエステルは、ジカルボ
ン酸あるいはジカルボン酸エステルを含有していてもよ
い。このようなジカルボン酸あるいはジカルボン酸エス
テルとしては、特に炭素数の制限はなく、具体的には、
テレフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジフェニルなどが例示できる。

【００３０】上記のようなジカルボン酸あるいはジカル
ボン酸エステルを炭酸ジエステルと併用した場合には、
ポリエステルポリカーボネートが得られるが、本発明の
ポリカーボネートの製造方法には、このポリエステルポ
リカーボネートの製造方法も含まれる。

【００３１】炭酸ジエステルの使用量としては上記芳香
族ジヒドロキシ化合物（ａ）に対し８０〜３００モル
％、好ましくは９０〜２８０モル％、特に好ましくは９
５〜２５０モル％の範囲で用いられることが望ましい。

【００３２】本発明で使用する触媒としては、前述の炭
酸ジエステルおよび芳香族ジヒドロキシ化合物を出発原
料として、副反応少なく、着色等少なく、品質良好なポ
リカーボネートポリマーを与えるものが、好ましく使用
される。かかる触媒として好ましくは以下のものを挙げ
ることができる。

【００３３】アルカリ金属化合物としては、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナト
リウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウ
ム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、
フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安
息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素ジナト
リウム、リン酸水素ジカリウム、リン酸水素ジリチウ
ム、ビスフェノールＡのジナトリウム塩、ジカリウム
塩、ジリチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウ
ム塩、リチウム塩などが挙げられる。

【００３４】また、アルカリ土類金属化合物としては、
具体的には、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸
化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カル
シウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭
酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カル
シウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロ
ンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリ
ウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロ
ンチウムなどが挙げられる。

【００３５】含窒素塩基性化合物としては、テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ ₄ ＮＯＨ）、テトラ
エチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ₄ ＮＯＨ）、テ
トラブチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂｕ₄ ＮＯ
Ｈ）、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド
（φ―ＣＨ₂ （Ｍｅ）₃ ＮＯＨ）などのアルキル、アリ
ール、アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロ
オキシド類、トリブチルアミン、トリエチルアミン、ジ
メチルベンジルアミン、ヘキサデシルジメチルアミンな
どの三級アミン類、Ｒ₂ ＮＨ（式中Ｒはメチル、エチル
などのアルキル、フェニル、トルイルなどのアリール基
などである）で示される二級アミン類、ＲＮＨ ₂ （式中
Ｒは上記と同じである）で示される一級アミン類、２―
メチルイミダゾール、２―フェニルイミダゾールなどの
イミダゾール類、あるいはテトラメチルアンモニウムボ
ロハイドライド（Ｍｅ₄ ＮＢＨ₄ ）、テトラブチルアン
モニウムボロハイドライド（Ｂｕ₄ ＮＢＨ₄ ）、テトラ
ブチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｂｕ₄ Ｎ
ＢＰｈ₄ ）、テトラメチルアンモニウムテトラフェニル
ボレート（Ｍｅ₄ ＮＢＰｈ₄ ）などの塩基性塩等を挙げ
ることができる。

【００３６】また所望によりその他の金属触媒も併用使
用することもできる。例えば周期律表のIIＢ、III Ｂ、
IVＡおよびIVＢ族に属する金属元素およびその化合物の
中から選ばれる。

【００３７】触媒として用いられる金属化合物として
は、例えばＺｎ（ＯＡｃ）₂ 、Ｚｎ（ＯＢｚ）₂ などの
亜鉛のカルボン酸塩、ＺｎＯ、ＺｎＳなどの亜鉛の酸化
物または硫化物、Ｚｎ（ＯＨ）₂ などの亜鉛の水酸化
物、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₂ Ｚｎ、Ｐｈ₂Ｚｎ、Ｃ₂ Ｈ₅ ＺｎＯ
Ｃ₂ Ｈ₅ 、ＰｈＺｎＣｌ、ＰｈＺｎＯＡｃ、Ｃ₄ Ｈ₉ Ｚ
ｎＯＡｃなどの有機亜鉛化合物、Ｚｎ（ＯＣ
₂ Ｈ₅ ）₂ 、Ｚｎ（ＯＰｈ）₂ などの亜鉛のアルコキシ
ドまたはアリーロキシド、Ｚｎ（ａｃａｃ）₂ 、Ｚｎ
（ｏｘｉｎ）₂ などの亜鉛の化合物類；Ａｌ（ＯＡｃ）
₃ 、Ａｌ（ＯＢｚ）₃ などのアルミニウムのカルボン酸
塩、Ａｌ₂ Ｏ₃ などのアルミニウムの酸化物、Ａｌ（Ｏ
Ｈ）₃ などのアルミニウムの水酸化物、Ｐｈ₃ Ａｌなど
の有機アルミニウム化合物、Ａｌ（ＯＣＨ₃ ）₃ 、Ａｌ
（ＯＣ₃ Ｈ₇ ―ｉ）₃ 、Ａｌ（ＯＰｈ）₃ などのアルミ
ニウムのアルコキシドまたはアリーロキシド、Ａｌ（ａ
ｃａｃ）₃ 、Ａｌ（ｏｘｉｎ）₃ などのアルミニウムの
キレート化合物などのアルミニウムの化合物類；（Ｇａ
（ＯＡｃ）₃ 、Ｇａ（ＯＢｚ）、ＧａＯ（ＯＡｃ）など
のガリウムのカルボン酸塩、Ｇａ₂ Ｏ₃ などのガリウム
の酸化物、Ｇａ（ＯＨ）₃ などのガリウムの水酸化物、
（ＣＨ₃ ）₃ Ｇａ、Ｐｈ₃ Ｇａなどの有機ガリウム化合
物、Ｇａ（ＯＣＨ₃ ）₃ 、Ｇａ（ＯＰｈ）₃ などのガリ
ウムのアルコキシドまたはアリーロキシド、Ｇａ（ａｃ
ａｃ）₃ などのガリウムのキレート化合物などのガリウ
ムの化合物類；Ｉｎ（ＯＡｃ）₃ などのインジウムのカ
ルボン酸塩、Ｉｎ₂ Ｏ₃などのインジウムの酸化物、
（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₃ Ｉｎ、Ｐｈ₃ Ｉｎなどの有機インジウム
化合物、Ｉｎ（ａｃａｃ）₃ などのインジウムのキレー
ト化合物などのインジウムの化合物類；Ｇｅ（ＯＡｃ）
₄ 、Ｇｅ（ＯＢｚ）₄ などのゲルマニウムのカルボン酸
塩、ＧｅＯ₂ などのゲルマニウムの酸化物、Ｇｅ（Ｏ
Ｈ）₂ 、Ｇｅ（ＯＨ）₄ などのゲルマニウムの水酸化
物、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₄ Ｇｅ、Ｐｈ₄ Ｇｅ、［（Ｃ₄ Ｈ₉ ）
₂ ＧｅＯ］_n 、［Ｐｈ₂ ＧｅＯ］_n などの有機ゲルマニ
ウム化合物、Ｇｅ（ＯＣＨ₃ ）₄ 、Ｇｅ（ＯＰｈ）₄ な
どのゲルマニウムのアルコキシドまたはアリーロキシド
などのゲルマニウムの化合物類；Ｓｎ（ＯＡｃ）₂ 、Ｓ
ｎ（ＯＡｃ）₄ 、Ｓｎ（ＯＢｚ）₄ などのスズのカルボ
ン酸塩、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₄ Ｓｎ、Ｐｈ₄ Ｓｎなどの有機ス
ズ化合物、（Ｃ₄ Ｈ₉ ）₂ ＳｎＯ、［（Ｃ₄ Ｈ₉ ）₂Ｓ
ｎＯ］_n 、［（Ｃ₈ Ｈ₁₇）₂ ＳｎＯ］_n 、［（Ｃ
₄ Ｈ₉ ）ＰｈＳｎＯ］_n などの有機スズオキシド、（Ｃ
₄ Ｈ₉ ）₂ Ｓｎ（ＯＡｃ）₂ 、ジブチルスズラウレート
などの有機スズのカルボン酸塩、ＳｎＯ、ＳｎＯ₂ など
のスズの酸化物、Ｓｎ（ＯＨ）₂ 、Ｓｎ（ＯＨ）₄ など
のスズの水酸化物、Ｓｎ（ＯＣＨ₃ ）₂ 、Ｓｎ（ＯＣ
Ｈ）₃ 、Ｓｎ（ＯＣ₄ Ｈ₉ ）₄ 、Ｓｎ（ＯＰｈ）₂ 、Ｓ
ｎ（ＯＰｈ）₄ 、

【００３８】

【化１５】

【００３９】（Ｃ₄ Ｈ₉ ）₂ Ｓｎ（ＯＣＨ₃ ）₂ などの
スズおよび有機スズのアルコキシドまたはアリーロキシ
ド、ＳｎＳＯ₄ などのスズの無機酸塩、Ｐｂ（ＯＡｃ）
₂ 、Ｐｂ（ＯＡｃ）₄ 、Ｐｂ（ＯＢｚ）₂ などの鉛のカ
ルボン酸塩、ＰｂＣＯ₃ 、２ＰｂＣＯ₃ ・Ｐｂ（ＯＨ）
₂ などの鉛の無機酸塩、Ｎａ₂ ［Ｐｂ（ＯＨ）₆ ］など
の鉛の錯化合物、ＰｂＯ、ＰｂＯ₂ 、Ｐｂ₃ Ｏ₄ などの
鉛の酸化物、Ｐｂ（ＯＨ）₂ などの鉛の水酸化物、（Ｃ
₄ Ｈ₉ ）₄ Ｐｂ、Ｐｈ₄ Ｐｂ、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₃ ＰｂＣ
ｌ、Ｐｈ₃ ＰｂＣｌ、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₂ ＰｂＣｌ₂ 、（Ｃ
₂ Ｈ₅ ）₃ Ｐｂ（ＯＡｃ）などの有機鉛化合物、Ｐｂ
（ＯＣＨ₃ ）₄ 、Ｐｂ（ＯＰｈ）₄ 、（Ｃ₄ Ｈ ₉ ）₂ Ｐ
ｂ（ＯＰｈ）₂ などの鉛および有機鉛のアルコキシドま
たはアリーロキシドなどの鉛の化合物類；Ｚｒ（ＯＡ
ｃ）₄ 、Ｚｒ（ＯＢｚ）₄ などのジルコニウムのカルボ
ン酸塩、ＺｒＯ₂ などのジルコニウムの酸化物、Ｚｒ
（ＯＣ₄ Ｈ₉）₄ 、Ｚｒ（ＯＰｈ）₄ などのジルコニウ
ムのアルコキシドまたはアリーロキシド、Ｚｒ（ＯＡ
ｃ）₃ （π―Ｃ₂ Ｈ₅ ）、ＺｒＨ₂ （π―Ｃ₂ Ｈ₅ ）₂
などの有機ジルコニウム化合物、Ｚｒ（ａｃａｃ）₄ な
どのジルコニウムのキレート化合物などのジルコニウム
の化合物類などが挙げられる。これらの触媒は、１種ま
たは２種以上を併用することもできる。

【００４０】かかる触媒の使用量としては、上記芳香族
ジヒドロキシ化合物１モルに対し１０^-8〜０．１モル、
好ましくは１０^-7〜１０^-2モル、特に好ましくは１０^-6
〜１０^-3モルの範囲で使用しうる。上記使用範囲を逸脱
すると、得られるポリカーボネートの諸物性に悪影響を
及ぼしたり、また、重縮合反応が十分に進行せず高分子
量のポリカーボネートが得られない等の問題があり好ま
しくない。

【００４１】本発明では反応が実質的に終了した段階以
降に下記式（Ｉ）〜（III ）で示される化合物をポリカ
ーボネートに添加する。

【００４２】

【化１６】

【００４３】

【化１７】

【００４４】［ここで、Ａは下記式（II）―ａ

【００４５】

【化１８】

【００４６】または下記式（II）―ｂ

【００４７】

【化１９】

【００４８】である。］

【００４９】

【化２０】

【００５０】式中Ｚは、

【００５１】

【化２１】

【００５２】Ｐ⁰ は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素
数１〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２２のアリ
ール基および炭素数６〜２２のアラルキル基から選ばれ
る。Ｐ ¹ 、Ｐ² は各々独立に、水素原子、炭素数１〜２
０のアルキル基、炭素数１〜２０のシクロアルキル基、
炭素数６〜２２のアリール基および炭素数６〜２２のア
ラルキル基から選ばれる。ただしＰ¹ およびＰ² がとも
に水素原子となる場合はない。

【００５３】上記式（Ｉ）中、Ｙはヘテロ原子を含有し
ていてもよい２価の炭化水素基であり、Ｘは該イミノエ
ステル環を形成している環員炭素原子を１個または２個
有する、反応条件下で非反応性の２価の炭化水素基であ
り、ｍは０または１である。

【００５４】ヘテロ原子を含有していてもよい２価の炭
化水素基Ｙは、好ましくは、窒素、酸素または硫黄原子
の如きヘテロ原子、特に好ましくは酸素または硫黄原子
を１〜３個含有する２価の炭化水素基であり、これらは
反応条件下で芳香族ポリカーボネートと非反応性の置換
基を有していてもよい。かかる２価の炭化水素基として
は、例えば、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６
〜１２のアリーレン基、炭素数５〜１２のシクロアルキ
レン基、炭素数８〜２０のアルキレン―アリーレン―ア
ルキレン基およびこれらの炭素原子の１〜３個がヘテロ
原子により置換された基を好ましいものとして挙げるこ
とができる。

【００５５】また、上記非反応性の置換基としては、例
えば炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１２のア
リール基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数
８〜２０のアラルキル基等を好ましいものとして挙げる
ことができる。

【００５６】かかる２価の炭化水素基の好ましい具体例
としては、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレ
ン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレ
ン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレン、ジ
メチルメチレンの如き炭素数１〜１０のアルキレン基；
フェニレンナフチレン、ジフェニレン、式

【００５７】

【化２２】

【００５８】［ここで、Ｚは―Ｏ―，―ＣＯ―，―Ｓ
―，―ＳＯ₂ ―，―ＣＨ₂ ―，―ＣＨ₂ＣＨ₂ ―，―Ｃ
（ＣＨ₃ ）₂ ―である。］で表わされる基の如き炭素数
６〜１２のアリーレン基；シクロペンチレン、シクロヘ
キシレン、シクロドデカメチレンの如き炭素数５〜１２
のシクロアルキレン基；ｐ―キシリレン、ｍ―キシリレ
ンの如き炭素数８〜２０のアルキレン―アリーレン―ア
ルキレン基等を挙げることができる。これらのうちアル
キレンまたはアリーレン基が特に好ましい。

【００５９】置換基の好ましい具体例としては、例えば
メチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシルの如き炭
素数１〜１０のアルキル基；フェニル、ナフチルの如き
炭素数６〜１２のアリール基；シクロペンチル、シクロ
ヘキシルの如き炭素数５〜１２のシクロアルキル；フェ
ネチルの如き炭素数８〜２０のアラルキル基等を挙げる
ことができる。これらのうち、アルキル基またはアリー
ル基が特に好ましい。

【００６０】イミノエステル環を形成している環員炭素
原子を１個または２個有する、反応条件下で非反応性の
２価の炭化水素基Ｘとしては、例えばメチレン基、エチ
レン基、オルソフェニレン基および反応条件下で非反応
性の置換基で置換されたこれらの基を好ましいものとし
て挙げることができる。これらの置換基としては、Ｙに
ついて上記した置換基と同じものを挙げることができ、
またオルトフェニレン基について置換されていてもよい
２個の置換基は互いに結合して環を形成していてもよ
い。これらのうち、置換メチレン、置換エチレンおよび
オルトフェニレンが好ましく、オルトフェニレンが特に
好ましい。

【００６１】式（Ｉ）のｍは０または１であり、ｍが０
のときには式（Ｉ）は２個の環状イミノエステル基が直
接結合していることを表わしている。

【００６２】一般式（Ｉ）で表わされる化合物の具体例
として以下のものが挙げられる。

【００６３】すなわち、２，２′―ビス（３，１―ベン
ゾオキサジン―４―オン）、２，２′―メチレンビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′―
エチレンビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
ン）、２，２′―テトラメチレンビス（３，１―ベンゾ
オキサジン―４―オン）、２，２′―ヘキサメチレンビ
ス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′
―デカメチレンビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―
オン）、２，２′―ｐ―フェニレンビス（３，１―ベン
ゾオキサジン―４―オン）、２，２′―ｍ―フェニレン
ビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，
２′―ナフタレンビス（３，１―ベンゾオキサジン―４
―オン）、２，２′―（４，４′―ジフェニレン）ビス
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′―
（１，４―シクロヘキサシレン）ビス（３，１―ベンゾ
オキサジン―４―オン）、２，２′―ビス（４，５―ジ
ヒドロ―１，３，６Ｈ―オキサジン―６―オン）、２，
２′―ｐ―フェニレンビス（（４，５―ジヒドロ―１，
３，６Ｈ―オキサジン―６―オン）、２，２′―ｐ―フ
ェニレンビス（４―メチル―５―ヒドロ―１，３，６Ｈ
―オキサジン―６―オン）等のビスオキサジノン；２，
２′―ｐ―フェニレンビス（５（４Ｈ）―オキサゾロ
ン）、２，２′―テトラメチレンビス（４―メチル―５
（４Ｈ）―オキサゾロン）、２，２′―ヘキサメチレン
ビス（４―メチル―５（４Ｈ）―オキサゾロン）、２，
２′―テトラメチレンビス（４，４―ジメチル―５（４
Ｈ）―オキサゾロン）、２，２′―ヘキサメチレンビス
（４，４―ジメチル―５（４Ｈ）―オキサゾロン）、
２，２′―ｐ―フェニレンビス（４，４―ジメチル―５
（４Ｈ）―オキサゾロン）等のビスオキサゾロン等が挙
げられる。

【００６４】上記式（II）中、Ａｒはヘテロ原子を含有
していてもよい４価の芳香族基であり、Ｒ¹ およびＲ²
は同一もしくは異なる１価の炭化水素基である。

【００６５】ヘテロ原子を含有していてもよい４価の芳
香族基（式（II）のＡｒ）としては、例えば、式

【００６６】

【化２３】

【００６７】（Ｚは上記定義に同じ）で表わされる単
環、縮合環または多環の４価の芳香族基を好ましいもの
として挙げることができる。これらのうち、

【００６８】

【化２４】

【００６９】が特に好ましい。これらはＹについて上記
した置換基と同じ置換基で置換されていてもよい。

【００７０】式（II）のＲ¹ およびＲ² を表わす１価の
炭化水素基としては、例えば炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１
８のアリール基を好ましいものとして挙げることができ
る。これらのうち炭素数１〜１０のアルキル基が特に好
ましい。

【００７１】一般式（II）で表わされる化合物Ｘの具体
例として下記のものが挙げられる。

【００７２】すなわち、２，８―ジメチル―４Ｈ，６Ｈ
―ベンゾ［１，２―ｄ：５，４―ｄ′］ビス―［１，
３］―オキサジン―４，６―ジノン、２，７―ジメチル
―４Ｈ，９Ｈ―ベンゾ［１，２―ｄ：４，５―ｄ′］ビ
ス―［１，３］―オキサジン―４，９―ジオン、２，８
―ジフェニル―４Ｈ，８Ｈ―ベンゾ［１，２―ｄ：５，
４―ｄ′］ビス―［１，３］―オキサジン―４，６―ジ
オン、２，７―ジフェニル―４Ｈ，９Ｈ―ベンゾ［１，
２―ｄ：４，５―ｄ′］ビス―［１，３］―オキサジン
―４，６―ジオン、６，６′―ビス（２―メチル―４
Ｈ，３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、６，６′
―ビス（２―エチル―４Ｈ，３，１―ベンゾオキサジン
―４―オン）、６，６′―ビス（２―フェニル―４Ｈ，
３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、６，６′―メ
チレンビス（２―メチル―４Ｈ，３，１―ベンゾオキサ
ジン―４―オン）、６，６′―メチレンビス（２―フェ
ニル―４Ｈ，３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、
６，６′―オキシビス（２―フェニル―４Ｈ，３，１―
ベンゾオキサジン―４―オン）、６，６′―スルホニル
ビス（２―メチル―４Ｈ，３，１―ベンゾオキサジン―
４―オン）、６，６′―スルホニルビス（２―フェニル
―４Ｈ，３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、６，
６′―カルボニルビス（２―メチル―４Ｈ，３，１―ベ
ンゾオキサジン―４―オン）、６，６′―カルボニルビ
ス（２―フェニル―４Ｈ，３，１―ベンゾオキサジン―
４―オン）等が挙げられる。

【００７３】式（III ）で表わされる化合物において、
Ｐ⁰ は各々独立に炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数
１〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２２のアリー
ル基および炭素数６〜２２のアラルキル基から選ばれ
る。Ｐ¹ 、Ｐ² は各々独立に、水素原子、炭素数１〜２
０のアルキル基、炭素数１〜２０のシクロアルキル基、
炭素数６〜２２のアリール基および炭素数６〜２２のア
ラルキル基から選ばれる。ただし、Ｐ¹ およびＰ² がと
もに水素原子となる場合はない。これらの具体例として
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デ
シル、トリデシル、ヘキサデシルの如き、炭素数１〜２
０のアルキル基；フェニル、ナフチルの如き炭素数６〜
２２のアリール基；シクロペンチル、シクロヘキシル、
４―ノニルシクロヘキシルの如き炭素数５〜２０のシク
ロアルキル；トリル、フェネチル、４―トリデシルトリ
ルの如き炭素数７〜２２のアラルキル基等を挙げること
ができる。

【００７４】一般式（III ）で表わされる化合物の具体
例として以下のものが挙げられる。

【００７５】すなわち、かかるモノイミノエステル化合
物としては、２―Ｎ―メチルアミノ―３，１―ベンゾオ
キサジン―４―オン、２―Ｎ―ヘキシルアミノ―３，１
―ベンゾオキサジン―４―オン、２―Ｎ，Ｎ―ジメチル
アミノ―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、２―
Ｎ，Ｎ―フェニルメチルアミノ―３，１―ベンゾオキサ
ジン―４―オン、２―メトキシ―３，１―ベンゾオキサ
ジン―４―オン、２―ヘプチルオキシ―３，１―ベンゾ
オキサジン―４―オン、２―アリルオキシ―３，１―ベ
ンゾオキサジン―４―オン、２―Ｎ―エチルアミノ―
４，５―ジヒドロ―１，３，６Ｈ―オキサジン―６―オ
ン、２―Ｎ，Ｎ―ジプロピルアミノ―４，５―ジヒドロ
―１，３，６Ｈ―オキサジン―６―オン、２―Ｎ，Ｎ―
フェニルエチルアミノ―４，５―ジヒドロ―１，３，６
Ｈ―オキサジン―６―オン、２―エトキシ―４，５―ジ
ヒドロ―１，３，６Ｈ―オキサジン―６―オン、２―オ
クチルオキシ―４，５―ジヒドロ―１，３，６Ｈ―オキ
サジン―６―オン、２―メタアリルオキシ―４，５―ジ
ヒドロ―１，３，６Ｈ―オキサジン―６―オン、２―Ｎ
―プロピルアミノ―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―Ｎ
―オクチルアミノ―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―
Ｎ，Ｎ―ジプロピルアミノ―５（４Ｈ）―オキサゾロ
ン、２―Ｎ，Ｎ―ジフェニルアミノ―５（４Ｈ）―オキ
サゾロン、２―プロポキシ―５（４Ｈ）―オキサゾロ
ン、２―ノニルオキシ―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２
―クロチルオキシ―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―Ｎ
―ブチルアミノ―４―メチル―５（４Ｈ）―オキサゾロ
ン、２―Ｎ―アリルアミノ―４―メチル―５（４Ｈ）―
オキサゾロン、２―Ｎ，Ｎ―ジブチルアミノ―４―メチ
ル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―Ｎ―フェニルアミ
ノ―４―メチル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―ブト
キシ―４―メチル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―デ
シルオキシ―４―メチル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、
２―シクロペンチルオキシ―４―メチル―５（４Ｈ）―
オキサゾロン、２―クロチルオキシ―４―メチル―５
（４Ｈ）―オキサゾロン、２―Ｎ―ペンチルアミノ―
４，４―ジメチル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―Ｎ
―フェニルエチルアミノ―４，４―ジメチル―５（４
Ｈ）―オキサゾロン、２―Ｎ―ナフチルアミノ―４，４
―ジメチル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―Ｎ，Ｎ―
ジアリルアミノ―４，４―ジメチル―５（４Ｈ）―オキ
サゾロン、２―Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノ―４，４―ジメ
チル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―ペンチルオキシ
―４，４―ジメチル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―
ヘキシルオキシ―４，４―ジメチル―５（４Ｈ）―オキ
サゾロン、２―シクロペンチルオキシ―４，４―ジメチ
ル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、２―シクロヘキシルオ
キシ―４，４―ジメチル―５（４Ｈ）―オキサゾロン、
２―クロチルオキシ―４，４―ジメチル―５（４Ｈ）―
オキサゾロン等を挙げることができる。

【００７６】上記化合物（Ｉ）〜（III ）の使用量とし
ては、ポリカーボネート末端ＯＨ基数１当量当り、化学
量論的には１当量使用すればよいが、好ましくは１当量
以上使用される。また１当量以下の使用量では、化合物
（Ｉ）〜（III ）の使用量は不足であるが、本発明の目
的とする効果は、ある程度得ることができる。従って化
合物（Ｉ）〜（III ）の使用量は末端ＯＨ基１当量当り
０．５〜１００当量の範囲で使用しうる。しかし化学量
論的見地よりは、０．６〜５０当量使用するのが好まし
く、更に好ましくは０．６〜３０当量の範囲で使用され
る。

【００７７】本発明に係るポリカーボネートの製造方法
では、上記化合物（Ｉ）〜（III ）とともにリン化合物
を添加してもよい。このようなリン化合物としては、リ
ン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン
酸、リン酸エステルおよび亜リン酸エステルを用いるこ
とができる。

【００７８】このようなリン酸エステルとしては、具体
的に、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホ
スフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホ
スフェート、トリデシルホスフェート、トリオクタデシ
ルホスフェート、ジステアリルペンタエリスリチルジホ
スフェート、トシル（２―クロロエチル）ホスフェー
ト、トリス（２，３―ジクロロプロピル）ホスフェート
などのトリアルキルホスフェート、トリシクロヘキシル
ホスフェートなどのトリシクロアルキルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェー
ト、トリス（ノニルフェニル）ホスフェート、２―エチ
ルフェニルジフェニルホスフェートなどのトリアリール
ホスフェートなどを挙げることができる。

【００７９】また、亜リン酸エステルとしては、下記一
般式で表わされる化合物を挙げることができる。

【００８０】Ｐ（ＯＲ）₃ （式中、Ｒは脂環族炭化水素基、脂肪族炭化水素基また
は芳香族炭化水素基を表わす。これらは同一であっても
異なっていてもよい。）このような式で表わされる化合
物として、例えば、トリメチルホスファイト、トリエチ
ルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリオクチ
ルホスファイト、トリス（２―エチルヘキシル）ホスフ
ァイト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファ
イト、トリオクタデシルホスファイト、トリステアリル
ホスファイト、トリス（２―クロロエチル）ホスファイ
ト、トリス（２，３―ジクロロプロピル）ホスファイト
などのトリアルキルホスファイト、トリシクロヘキシル
ホスファイトなどのトリシクロアルキルホスファイト、
トリフェニルホスファイト、トリクリジルホスファイ
ト、トリス（エチルフェニル）ホスファイト、トリス
（２，４―ジ―ｔ―ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロ
キシフェニル）ホスファイトなどのトリアリールホスフ
ァイト、フェニルジデシルホスファイト、ジフェニルデ
シルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイ
ト、フェニルイソオクチルホスファイト、２―エチルヘ
キシルジフェニルホスファイトなどのアリールアルキル
ホスファイトなどを挙げることができる。

【００８１】さらに亜リン酸エステルとして、ジステア
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（２，４
―ジ―ｔ―ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホス
ファイトなどである。

【００８２】これらの化合物は、単独で、あるいは組合
せて用いることができる。これらは別々に添加してもよ
いし、あるいは同時に添加してもよい。本発明では、上
記の如きリン化合物をポリカーボネート樹脂に対して、
１０〜１０００ｐｐｍ、好ましくは５０〜５００ｐｐｍ
の量で添加してもよい。

【００８３】上記化合物（Ｉ）〜（III ）および必要に
応じてリン化合物は、重縮合反応が実質的に終了した段
階以降で添加する。すなわち、反応生成物であるポリカ
ーボネートが溶融状態にある間にこれらを添加してもよ
いし、一旦ポリカーボネートをペレタイズした後再溶融
して添加してもよい。前者においては、重縮合反応が終
了して得られる溶融状態にある反応器内または押出機内
の反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある
間に、これらを添加する。

【００８４】具体的には、例えば、反応器内にある重縮
合反応で得られたポリカーボネートに化合物（Ｉ）〜
（III ）および必要に応じてリン化合物を添加してポリ
カーボネートを形成した後、押出機を通してペレタイズ
してもよいし、また、重縮合反応で得られたポリカーボ
ネートが反応器から押出機を通ってペレタイズされる間
に、化合物（Ｉ）〜（III ）および必要に応じて、リン
化合物を添加して、これらを混練することによってポリ
カーボネートを得ることができる。

【００８５】本発明では、上記のようにして得られるポ
リカーボネートに、本発明の目的を損なわない範囲で、
以下に示すような通常の耐熱安定剤、紫外線吸収剤、離
型剤、着色剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッ
キング剤、滑剤、防曇剤、天然油、合成油、ワックス、
有機系充填剤、無機系充填剤などを添加してもよい。こ
のような添加剤は、上記化合物（Ｉ）〜（III ）と同時
に添加してもよいし、別々に添加してもよい。

【００８６】このような耐熱安定剤としては、具体的に
は、例えば、フェノール系安定剤、有機チオエーテル系
安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げることが
できる。

【００８７】フェノール系安定剤としては、例えば、ｎ
―オクタデシル―３―（４―ヒドロキシ―３′，５′―
ジ―ｔ―ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
［メチレン―３―（３′，５′―ジ―ｔ―ブチル―４―
ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，
１，３―トリス（２―メチル―４―ヒドロキシ―５―ｔ
―ブチルフェニル）ブタン、ジステアリル（４―ヒドロ
キシ―３―メチル―５―ｔ―ブチル）ベンジルマロネー
ト、４―ヒドロキシメチル―２，６―ジ―ｔ―ブチルフ
ェノール等が挙げられ、これらを単独で用いても２種以
上混合して用いてもよい。

【００８８】チオエーテル系安定剤としては、例えば、
ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル・チ
オジプロピオネート、ジミリスチル―３，３′―チオジ
プロピオネート、ジトリデシル―３，３′―チオジプロ
ピオネート、ペンタエリスリトール―テトラキス―（β
―ラウリル―チオプロピオネート）などを挙げることが
できる。

【００８９】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。またヒンダードアミン系安定剤として
は、例えば、ビス（２，２，６，６―テトラメチル―４
―ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
―ペンタメチル―４―ピペリジル）セバケート、１―
［２―｛３―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキ
シフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］―４―｛３
―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝―２，２，６，６―テトラメ
チルピペリジン、８―ベンジル―７，７，９，９―テト
ラメチル―３―オクチル―１，２，３―トリアザスピロ
［４，５］ウンデカン―２，４―ジオン、４―ベンゾイ
ルオキシ―２，２，６，６―テトラメチルピペリジン、
２―（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシベンジ
ル）―２―ｎ―ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，
６―ペンタメチル―４―ピペリジル）、テトラキス
（２，２，６，６―テトラメチル―４―ピペリジル）
１，２，３，４―ブタンテトラカルボキシレートなどを
挙げることができる。

【００９０】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。これらの耐熱安定剤は、ポリカーボネー
ト１００重量部に対して０．００１〜５重量部、好まし
くは０．００５〜０．５重量部、さらに好ましくは０．
０１〜０．３重量部の量で用いられることが望ましい。

【００９１】このような耐熱安定剤は、固体状で添加し
てもよく、液体状で添加してもよい。このような耐熱安
定剤は、得られるポリカーボネートが最終重合器から冷
却されてペレタイズされる間の溶融状態にある間に添加
することが好ましく、このようにするとポリカーボネー
トが受ける熱履歴回数が少ない。また、押出成形やペレ
タイズなど再び加熱処理をする際には、ポリカーボネー
トは耐熱安定剤を含有しているので、熱分解を抑制する
ことができる。

【００９２】また紫外線吸収剤としては、一般的な紫外
線吸収剤でよく、特に限定されないが、例えば、サリチ
ル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレー
ト系紫外線吸収剤などを挙げることができる。

【００９３】サリチル酸系紫外線吸収剤としては、具体
的には、フェニルサリシレート、ｐ―ｔ―ブチルフェニ
ルサリシレートが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線
吸収剤としては、２，４―ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフェノン、
２，２′―ジヒドロキシ―４―メトキシベンゾフェノ
ン、２，２′―ジヒドロキシ―４，４′―ジメトキシベ
ンゾフェノン、２―ヒドロキシ―４―メトキシ―２′―
カルボキシベンゾフェノン、２―ヒドロキシ―４―メト
キシ―５―スルホベンゾフェノントリヒドレート、２―
ヒドロキシ―４―ｎ―オクトキシベンゾフェノン、２，
２′，４，４′―テトラヒドロキシベンゾフェノン、４
―ドデシロキシ―２―ヒドロキシベンゾフェノン、ビス
（５―ベンゾイル―４―ヒドロキシ―２―メトキシフェ
ニル）メタン、２―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフ
ェノン―５―スルホン酸などが挙げられる。

【００９４】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、２―（２′―ヒドロキシ―５′―メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール、２―（２′―ヒドロキシ―３′，
５′―ジ―ｔ―ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２―（２′―ヒドロキシ―３′―ｔ―ブチル―５′―メ
チルフェニル）―５―クロロベンゾトリアゾール、２―
（２′―ヒドロキシ―３′，５′―ジ―ｔ―ブチルフェ
ニル）―５―クロロベンゾトリアゾール、２―（２′―
ヒドロキシ―５′―ｔ―オクチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２―（２′―ヒドロキシ―３′，５′―ジ―
ｔ―アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２―［２′
―ヒドロキシ―３′―（３″，４″，５″，６″―テト
ラヒドロフタルイミドメチル）―５′―メチルフェニ
ル］ベンゾトリアゾール、２，２′―メチレンビス［４
―（１，１，３，３―テトラメチルブチル）―６―（２
Ｈ―ベンゾトリアゾール―２―イル）フェノール］など
を挙げることができる。

【００９５】シアノアクリレート系紫外線吸収剤として
は、２―エチルヘキシル―２―シアノ―３，３―ジフェ
ニルアクリレート、エチル―２―シアノ―３，３―ジフ
ェニルアクリレートなどを挙げることができる。これら
を単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。

【００９６】これらの紫外線吸収剤は、ポリカーボネー
ト１００重量部に対して、通常０．００１〜５重量部、
好ましくは０．００５〜１．０重量部、さらに好ましく
は０．０１〜０．５重量部の量で用いることができる。

【００９７】さらに、離型剤としては、一般的な離型剤
でよく、特に限定されない。例えば、炭化水素系離型剤
としては、天然、合成パラフィン類、ポリエチレンワッ
クス類、フルオロカーボン類などを挙げることができ
る。

【００９８】これらの離型剤は、ポリカーボネート１０
０重量部に対して、通常、０．００１〜５重量部、好ま
しくは０．００５〜１重量部、さらに好ましくは０．０
１〜０．５重量部の量で用いることができる。

【００９９】さらに、着色剤としては、顔料であっても
よく、染料であってもよい。着色剤には、無機系と有機
系の着色剤があるが、どちらを使用してもよく、また、
組み合わせて用いてもよい。

【０１００】これらの着色剤は、単独で用いても組み合
わせて用いてもよい。これらの着色剤は、ポリカーボネ
ート１００重量部に対して、通常１×１０^-6〜５重量
部、好ましくは１×１０^-5〜３重量部、さらに好ましく
は１×１０^-5〜１重量部の量で用いることができる。

【０１０１】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとの重縮合反応は、従来知られている芳香族ジヒドロ
キシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応条件と同様
な条件下で行うことができるが、具体的には、第一段目
の反応を８０〜２５０℃、好ましくは１００〜２４０
℃、さらに好ましくは１２０〜２３０℃の温度で０〜５
時間、好ましくは０〜４時間、さらに好ましくは０．２
５〜３時間常圧で、両者を反応させる。次いで反応系を
減圧にしながら反応温度を高めて芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１ｍ
ｍＨｇ以下の減圧下で２００〜３２０℃の温度で芳香族
ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応を
行う。

【０１０２】ポリカーボネートの重合度は、特別の範囲
に限定されるものではないが、好ましくは固有粘度で測
定して、０．１を超えるものについて、本発明記載の安
定化方法が有効に適用しうる。

【０１０３】上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物と
炭酸ジエステルとの反応は、連続式で行ってもよくまた
バッチ式で行ってもよい。また上記の反応を行うに際し
て用いられる反応装置は、槽型であっても管型であって
も塔型であってもよい。

【０１０４】

【発明の効果】本発明によれば芳香族ジヒドロキシ化合
物と炭酸ジエステルとを触媒の存在下溶融重縮合して得
られるポリカーボネートに上記化合物（Ｉ）〜（III ）
を配合することにより溶融安定性、耐加水分解性に優れ
たポリカーボネートを製造することができる。

【０１０５】

【実施例】以下実施例をあげて本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。

【０１０６】

【実施例１〜６および比較例１〜６】２，２―ビス（４
―ヒドロキシフェニル）プロパン２２８重量部、ジフェ
ニルカーボネート２０８重量部および表１〜３に示す触
媒の所定量を、攪拌装置、減圧装置、蒸留塔等を具備し
た反応装置に仕込み、１８０℃、窒素雰囲気下、３０分
間攪拌し溶解した。

【０１０７】次いで同温度で１００ｍｍＨｇの減圧下、
１時間フェノールを留出しつつ反応させた。さらに２２
０℃に昇温しつつ、３０ｍｍＨｇに減圧し同温、同圧で
１時間反応せしめた。さらに反応系を２９０℃に昇温
し、０．５ｍｍＨｇに減圧し、同温、同圧で１時間反応
せしめポリカーボネート樹脂を製造した。

【０１０８】次いで、溶融状態にある該ポリマーの末端
ＯＨ等量をＮＭＲ法により求め、表１〜３に記載の化合
物（Ｉ）〜（III ）を表１に記載された量、添加し混合
した。

【０１０９】次に溶融状態のままで、このポリマーをギ
アポンプで、二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝２０、バレル温度２
９０℃）に送入した。この時必要に応じ、表１に記載の
リン化合物、フェノール系安定剤を表１に記載の所定
量、添加した。

【０１１０】得られたポリマーに老化試験および耐加水
分解試験を実施した。

【０１１１】化合物（Ｉ）〜（III ）を使用しない場合
を比較例１〜６として併記した。結果はまとめて表１〜
３に示す。

【０１１２】

【表１】

【０１１３】

【表２】

【０１１４】

【表３】

【０１１５】物性測定は以下のように行った。

【０１１６】固有粘度ＩＶ：塩化メチレン中、２０℃で
測定した。 メルトフローレートＭＦＲ：ＪＩＳ Ｋ―７２１０に準
拠測定した。 ポリマー熱老化試験：ポリマーを３２０℃、１５分間熱
老化させた。 耐加水分解試験：ポリマーを１２０℃の水封オートクレ
ーブ中で１０時間反応せしめ、主鎖切断割合（％）を求
めた。 末端ＯＨ等量の定量：６００ＭＨｚ ＮＭＲにより末端
基

【０１１７】

【化２５】

【０１１８】の水酸基の結合している炭素原子に隣接す
る炭素原子に結合する水素原子および２，２―ビス（４
―ヒドロキシフェニル）プロパン骨格のメチル基のプロ
トン信号比より計測した。

【０１１９】表１〜３によれば、本発明の化合物（Ｉ）
〜（III ）を添加した系では、主鎖切断割合が大巾に低
下し、ポリマー耐加水分解性が大巾に向上していること
がわかる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエス
   テルとを、触媒の存在下溶融重縮合してポリカーボネー
   ト樹脂を製造する方法において、反応が実質的に終了し
   た段階以降に、下記一般式（Ｉ）、（II）および（III
   ）で表わされる化合物からなる群より選ばれる少くと
   も一種の化合物を添加することを特徴とする安定化され
   たポリカーボネート樹脂の製造方法。 【化１】 ［式中、Ｙはヘテロ原子を含有していてもよい２価の炭
   化水素基、Ｘは該イミノエステル環を形成している環員
   炭素原子を１個または２個有する反応条件下で非反応性
   の２価の炭化水素基、ｍは０または１である。］ 【化２】 ［式中、Ａは下記式（II）―ａ 【化３】 （ここでＲ² は１価の炭化水素基である。）または下記
   式（II）―ｂ 【化４】 （ここでＲ² の定義は上記に同じである。）で表わされ
   る基であり、Ａｒはヘテロ原子を含有していてもよい４
   価の芳香族基であり、Ｒ¹ はＲ² と同一もしくは異なる
   １価の炭化水素基である。］ 【化５】 ［式中、Ｚは、 【化６】 であり、Ｐ⁰ は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１
   〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２２のアリール
   基および炭素数６〜２２のアラルキル基から選ばれる。
   Ｐ¹ 、Ｐ² は各々独立に、水素原子、炭素数１〜２０の
   アルキル基、炭素数１〜２０のシクロアルキル基、炭素
   数６〜２２のアリール基および炭素数６〜２２のアラル
   キル基から選ばれる。ただし、Ｐ¹ およびＰ² がともに
   水素原子となる場合はない。］