JPH04328124A - ポリカーボネート組成物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、ポリカーボネート組成物
の製造方法に関し、さらに詳しくは、成形時の熱安定性
、色相安定性などの滞留安定性に優れるとともに、耐水
性にも優れたポリカーボネート組成物を製造しうるポリ
カーボネート組成物の製造方法に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】ポリカーボネートは、耐衝撃性な
どの機械的特性に優れ、しかも耐熱性、透明性などにも
優れており、各種機械部品、光学用ディスク、自動車部
品などの用途に広く用いられている。

【０００３】このようなポリカーボネートは、従来、ビ
スフェノールなどの芳香族ジヒドロキシ化合物とホスゲ
ンとを直接反応させる方法（界面法）、あるいは、芳香
族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとをエステル交
換反応させる方法（溶融法）によって製造されている。

【０００４】これらのうち、後者は、前者界面法と比較
して安価にポリカーボネートを製造することができると
いう利点を有するとともに、ホスゲンなどの毒性物質を
用いないので、環境衛生上好ましい。

【０００５】ところで、従来のポリカーボネートでは、
溶融時に、その一部が熱分解して、分子量が低下したり
、着色したりすることがあり、滞留安定性に欠けること
があった。

【０００６】このため、通常、製造後ペレットなどに成
形されたポリカーボネートを再溶融し、耐熱安定剤など
を添加して、熱安定性を向上させている。しかしながら
、この方法では、熱安定性が低い状態でポリカーボネー
トに加熱処理を施すことになり、また、ポリカーボネー
トが受ける熱履歴回数を増加させることになる。

【０００７】また、上記耐熱安定剤の添加によって、ポ
リカーボネートの耐水性が低下することがあり、このよ
うなポリカーボネートから得られる成形体では、使用中
に透明性が低下してしまうことがあった。

【０００８】このため、溶融時の熱安定性、色相安定性
などの滞留安定性に優れるとともに、耐水性、透明性に
も優れた成形体を形成しうるポリカーボネートを効率よ
く製造することができるポリカーボネートの製造方法の
出現が望まれている。

【０００９】

【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に鑑み
てなされたものであって、成形時の熱安定性、色相安定
性などの滞留安定性に優れるとともに、耐水性、透明性
にも優れたポリカーボネート組成物を効率よく製造する
ことができるポリカーボネート組成物の製造方法を提供
することを目的としている。

【００１０】

【発明の概要】本発明に係るポリカーボネート組成物の
製造方法は、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１
０−８〜１０−３モルの量の（ａ）　アルカリ金属化合
物および／またはアルカリ土類金属化合物を含有する触
媒の存在下に溶融重縮合させた後、反応生成物である［
Ａ］ポリカーボネートが溶融状態にある間に、［Ｂ］ｐ
Ｋａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物および／ま
たは該酸性化合物から形成される誘導体と、［Ｃ］リン
化合物とを添加することを特徴としている。

【００１１】本発明に係るポリカーボネート組成物の製
造方法によれば、溶融重縮合により得られた反応生成物
であるポリカーボネートが溶融状態にある間に、上記［
Ｂ］、［Ｃ］化合物を添加して、耐熱安定性が向上され
たポリカーボネート組成物が得られる。したがって、製
造工程においてポリカーボネートが受ける熱履歴回数が
低減されとともに、その後の加熱処理においても、ポリ
カーボネート組成物が熱分解するのを抑制することがで
きる。

【００１２】さらに好ましくは［Ｂ］、［Ｃ］化合物と
ともに［Ｄ］エポキシ化合物を添加しており、耐水性も
向上されたポリカーボネート組成物が得られる。本発明
で得られるポリカーボネート組成物は、成形時の着色が
少なく、透明性、耐水性に優れた成形体を形成しうる。

【００１３】

【発明の具体的説明】以下、本発明に係るポリカーボネ
ート組成物の製造方法について具体的に説明する。

【００１４】まず、本発明では、芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとを、触媒の存在下に溶融重縮合
させてポリカーボネートを製造する。このような芳香族
ジヒドロキシ化合物としては、特に限定されないが、下
記式［Ｉ］で示される化合物を挙げることができる。

【００１５】

【化２】

【００１６】Ｒ１　およびＲ２　は水素原子または１価
の炭化水素基であり、Ｒ３　は２価の炭化水素基である
。またＲ４　、Ｒ５　は、ハロゲンまたは１価の炭化水
素基であり、これらは、同一であっても異なっていても
よい。 ｐ、ｑは０〜４の整数を表す。）上記芳香族ジヒドロキ
シ化合物としては、具体的には、以下に示す化合物を挙
げることができるビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２
，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４
−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシ−１−　メチルフェニル）プロパン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモ
フェニル）プロパンなどのビス（ヒドロキシアリール）
アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサンなどのビス（ヒドロキシアリール）
シクロアルカン類、４，４’−ジヒドロキシジフェニル
エーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチ
ルフェニルエーテルなどのジヒドロキシアリールエーテ
ル類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニ
ルスルフィドなどのジヒドロキシジアリールスルフィド
類、４，４’−　ジヒドロキシジフェニルスルホキシド
、４，４’−　ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフ
ェニルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリールスル
ホキシド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフ
ェニルスルホンなどのジヒドロキシジアリールスルホン
類。

【００１７】これらのうちでは、特に２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパンが好ましく用いられる
。また、芳香族ジヒドロキシ化合物として、下記一般式
［ＩＩ］で表される化合物を用いることもできる。

【００１８】

【化３】

【００１９】式中、Ｒ６　は、それぞれ炭素数１〜１０
の炭化水素基またはそのハロゲン化物、またはハロゲン
であり、同一であっても異なっていてもよい。ｎは０〜
４の整数である。

【００２０】上記一般式［ＩＩ］で表される芳香族ジヒ
ドロキシ化合物としては、具体的に、レゾルシンおよび
３−メチルレゾルシン、３−エチルレゾルシン、３−プ
ロピルレゾルシン、３−ブチルレゾルシン、３−ｔ−ブ
チルレゾルシン、３−フェニルレゾルシン、３−クミル
レゾルシン、２，３，４，６−テトラフルオロレゾルシ
ン、２，３，４，６−テトラブロムレゾルシンなどの置
換レゾルシン、カテコール、ハイドロキノンおよび３−
メチルハイドロキノン、３−エチルハイドロキノン、３
−プロピルハイドロキノン、３−ブチルハイドロキノン
、３−ｔ−ブチルハイドロキノン、３−フェニルハイド
ロキノン、３−クミルハイドロキノン、２，３，５，６
−テトラメチルハイドロキノン、２，３，５，６−テト
ラ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，３，５，６−テト
ラフルオロハイドロキノン、２，３，５，６−テトラブ
ロムハイドロキノンなどの置換ハイドロキノンを挙げる
ことができる。

【００２１】また、本発明では芳香族ジヒドロキシ化合
物として、下記一般式で表される２，２，２’，２’−
テトラヒドロ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１
，１’−スピロビ−［ＩＨ−インデン］−６，６’−ジ
オールを用いることもできる。

【００２２】

【化４】

【００２３】これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は、単
独であるいは組み合わせて用いることができる。また炭
酸ジエステルとしては、具体的には、ジフェニルカーボ
ネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニ
ル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジナフ
チルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、
ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチ
ルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネートなどを
挙げることができる。

【００２４】これらのうち特にジフェニルカーボネート
が好ましく用いられる。これらの炭酸ジエステルは、単
独であるいは組み合わせて用いることができる。

【００２５】また上記のような炭酸ジエステルは、好ま
しくは５０モル％以下、さらに好ましくは３０モル％以
下の量で、ジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステル
を含有していてもよい。

【００２６】このようなジカルボン酸あるいはジカルボ
ン酸エステルとしては、テレフタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニルなど
の芳香族ジカルボン酸類、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバ
シン酸、デカン二酸、ドデカン二酸、セバシン酸ジフェ
ニル、デカン二酸ジフェニル、ドデカン二酸ジフェニル
などの脂肪族ジカルボン酸類、シクロプロパンジカルボ
ン酸、１，２−シクロブタンジカルボン酸、１，３−シ
クロブタンジカルボン酸、１，２−シクロペンタンジカ
ルボン酸、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，
２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキ
サンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン
酸、シクロプロパンジカルボン酸ジフェニル、１，２−
シクロブタンジカルボン酸ジフェニル、１，３−シクロ
ブタンジカルボン酸ジフェニル、１，２−シクロペンタ
ンジカルボン酸ジフェニル、１，３−シクロペンタンジ
カルボン酸ジフェニル、１，２−シクロヘキサンジカル
ボン酸ジフェニル、１，３−シクロヘキサンジカルボン
酸ジフェニル、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジ
フェニルなどの脂環族ジカルボン酸類を挙げることがで
きる。

【００２７】このようなジカルボン酸あるいはジカルボ
ン酸エステルは、単独であるいは組み合わせて含有され
ていていてよい。上記のような炭酸ジエステルは、芳香
族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、通常、１．０〜
１．３０モル、好ましくは１．０１〜１．２０モルの量
で用いられることが望ましい。

【００２８】また本発明では、ポリカーボネートを製造
するに際して、上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物
と炭酸ジエステルとともに、１分子中に３個以上の官能
基を有する多官能化合物とを用いることもできる。

【００２９】このような多官能化合物としては、フェノ
ール性水酸基またはカルボキシル基を有する化合物が好
ましく、特にフェノール性水酸基を３個含有する化合物
が好ましい。具体的には、たとえば、１，１，１−トリ
ス（４−ヒドロキシフェニル）　エタン、２，２’，２
”−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ジイソプロピル
ベンゼン、α−メチル−α，α’，α’−トリス（４−
ヒドロキシフェニル）−１，４−ジエチルベンゼン、α
，　α’，α”−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−
１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、フロログリシ
ン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロ
キシフェニル）−ヘプタン−２、１，３，５−トリ（４
−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、２，２−ビス−［４
，４−（４，４’−ジヒドロキシフェニル）−シクロヘ
キシル］−プロパン、トリメリット酸、１，３，５−ベ
ンゼントリカルボン酸、ピロメリット酸などが挙げられ
る。

【００３０】これらのうち、１，１，１−トリス（４−
ヒドロキシフェニル）　エタン、α，　α’，α”−ト
リス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイ
ソプロピルベンゼンなどが好ましく用いられる。

【００３１】多官能化合物は、芳香族ジヒドロキシ化合
物１モルに対して、通常は０．０３モル以下好ましくは
０．００１〜０．０２モルさらに好ましくは０．００１
〜０．０１モルの量で用いられる。

【００３２】本発明で用いられるポリカーボネートは、
上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、触媒の存在下に溶融重縮合させて得られる。こ
のような触媒として、（ａ）　アルカリ金属化合物およ
び／またはアルカリ土類金属化合物を用いることが好ま
しい。

【００３３】アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金
属化合物としては、具体的には、アルカリ金属およびア
ルカリ土類金属の有機酸塩、無機酸塩、酸化物、水酸化
物、水素化物あるいはアルコラートなどが好ましく挙げ
られる。

【００３４】より具体的に、アルカリ金属化合物として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ス
テアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステア
リン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナ
トリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン
酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水
素二リチウム、ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二
カリウム塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム塩
、カリウム塩、リチウム塩などを挙げることができる。

【００３５】またアルカリ土類金属化合物としては、具
体的に、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウ
ム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水
素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウム
、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウ
ム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、
ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロンチウ
ムなどを挙げることができる。

【００３６】これら化合物は単独で、あるいは組み合わ
せて用いることができる。このような（ａ）　アルカリ
金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物は、
上記芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して１０−８
〜１０−３モル、好ましくは１０−７〜２×１０−６モ
ルの量で用いられる。

【００３７】上記のように、触媒として、（ａ）　アル
カリ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物を、芳香
族ジヒドロキシ化合物１モルに対して１０−８〜１０−
３モルの量で使用すると、高い重合活性でポリカーボネ
ートを製造できるとともに、得られるポリカーボネート
に悪影響を及ぼさない量で後述する酸性化合物を添加し
て、これら化合物が示す塩基性を充分に中和するかある
いは弱めることができる。

【００３８】本発明では、触媒として、上記のような（
ａ）　アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類
金属化合物とともに、（ｂ）　塩基性化合物および／ま
たは（ｃ）　ホウ酸化合物を用いることもできる。

【００３９】このような（ｂ）　塩基性化合物としては
、たとえば高温で易分解性あるいは揮発性の含窒素塩基
性化合物が挙げられ、具体的には、以下のような化合物
を挙げることができる。

【００４０】テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（
Ｍｅ４ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシ
ド（Ｅｔ４ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロ
キシド（Ｂｕ４ＮＯＨ）、トリメチルベンジルアンモニ
ウムヒドロキシド（φ−ＣＨ２（Ｍｅ）３ＮＯＨ　）な
どのアルキル、アリール、アルアリール基などを有する
アンモニウムヒドロオキシド類、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニ
ルアミンなどの三級アミン類、Ｒ２ＮＨ（式中Ｒはメチ
ル、エチルなどのアルキル、フェニル、トルイルなどの
アリール基などである）で示される二級アミン類、ＲＮ
Ｈ２　（式中Ｒは上記と同じである）で示される一級ア
ミン類、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダ
ゾールなどのイミダゾール類、あるいはアンモニア、テ
トラメチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ４ＮＢ
Ｈ４）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド（
Ｂｕ４ＮＢＨ４　）、テトラブチルアンモニウムテトラ
フェニルボレート（Ｂｕ４ＮＢＰｈ４）、テトラメチル
アンモニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ４ＮＢＰｈ
４）などの塩基性塩。

【００４１】これらのうち、テトラアルキルアンモニウ
ムヒドロキシド類、特に金属不純物の少ない電子用テト
ラアルキルアンモニウムヒドロキシド類が好ましく用い
られる。

【００４２】触媒として（ｂ）　含窒素塩基性化合物が
用いられるときは、（ｂ）　含窒素塩基性化合物は、芳
香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１０−６〜１
０−１モル以下、好ましくは１０−５〜１０−２モルの
量で用いられる。

【００４３】また、（ｃ）　ホウ酸化合物としては、ホ
ウ酸およびホウ酸エステルなどを挙げることができる。 ホウ酸エステルとしては、下記一般式で示されるホウ酸
エステルを挙げることができる。

【００４４】Ｂ（ＯＲ）ｎ（ＯＨ）３−ｎ　式中、Ｒは
メチル、エチルなどのアルキル、フェニルなどのアリー
ルなどであり、ｎは１，２または３である。

【００４５】このようなホウ酸エステルとしては、具体
的には、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸
トリブチル、ホウ酸トリヘキシル、ホウ酸トリヘプチル
、ホウ酸トリフェニル、ホウ酸トリトリル、ホウ酸トリ
ナフチルなどが挙げられる。

【００４６】触媒として、（ｃ）　ホウ酸またはホウ酸
エステルが用いられるときは、芳香族ジヒドロキシ化合
物１モルに対して、１０−８〜１０−１モル、好ましく
は１０−７〜１０−２モル、さらに好ましくは１０−６
〜１０−４モルの量で用いられる。

【００４７】これらは、たとえば、（ａ）　アルカリ金
属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物　　お
よび（ｂ）　含窒素塩基性化合物を組合せて、さらに、
（ａ）　アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土
類金属化合物、（ｂ）　含窒素塩基性化合物　　および
（ｃ）　ホウ酸またはホウ酸エステルの三者を組合せて
、好ましく用いることができる。

【００４８】このように上記のような使用量で、（ａ）
　アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属
化合物と、（ｂ）　含窒素塩基性化合物とを組合せた触
媒は、重縮合反応を十分な速度で進行させ、高分子量の
ポリカーボネートを、高い重合活性で生成させることが
できて好ましい。

【００４９】さらに、上記のような使用量で、三者を組
合せた触媒は、熱老化後に分子量低下を起こしにくいポ
リカーボネートを製造することができ、好ましい。この
ような触媒の存在下、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸
ジエステルとの重縮合反応は、従来知られている重縮合
反応条件と同様な条件下で行なうことができる。

【００５０】具体的には、第一段目の反応を８０〜２５
０℃、好ましくは１００〜２３０℃、さらに好ましくは
１２０〜１９０℃の温度で、０〜５時間、好ましくは０
〜４時間、さらに好ましくは０〜３時間、常圧下、芳香
族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを反応させる
。次いで反応系を減圧にしながら反応温度を高めて、芳
香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を行
ない、最終的には５ｍｍＨｇ以下、好ましくは１ｍｍＨ
ｇ以下の減圧下で、２４０〜３２０℃で芳香族ジヒドロ
キシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反応を行なう。

【００５１】上記のような重縮合反応は、連続式で行な
ってもよく、バッチ式で行なってもよい。また上記の反
応を行なうに際して用いられる反応装置は、槽型であっ
ても管型であっても塔型であってもよい。

【００５２】上記のようにして得られる反応生成物であ
るポリカーボネートでは、通常、２０℃塩化メチレン中
で測定した極限粘度が、０．１０〜１．０ｄｌ／ｇ、好
ましくは０．３０〜０．６５ｄｌ／ｇである。

【００５３】上記のように本発明に係る製造方法は、溶
融重縮合に際して、毒性物質であるホスゲンや塩化メチ
レンなどを用いないので、環境衛生上好ましい。本発明
では、上記のようにして得られる反応生成物である［Ａ
］ポリカーボネートを冷却することなく重縮合反応後た
だちに、下記［Ｂ］および［Ｃ］化合物を添加する。す
なわち、重縮合反応が終了して得られる溶融状態にある
反応器内または押出機内の反応生成物である［Ａ］ポリ
カーボネートが溶融状態にある間に、直接、［Ｂ］ｐＫ
ａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物および／また
は該酸性化合物から形成される誘導体と、［Ｃ］リン化
合物とを添加する。

【００５４】これらは、別々に添加してもよいし、ある
いは同時に添加してもよい。このような［Ｂ］ｐＫａ値
が３以下であるイオウ含有酸性化合物および／または該
酸性化合物から形成される誘導体について説明する。

【００５５】本発明では、［Ｂ］イオウ含有酸性化合物
および該酸性化合物から形成される誘導体としては、亜
硫酸、硫酸、スルフィン酸系化合物、スルホン酸系化合
物およびこれらの誘導体を挙げることができる。具体的
に、亜硫酸誘導体としては、ジメチル亜硫酸、ジエチル
亜硫酸、ジプロピル亜硫酸、ジブチル亜硫酸、ジフェニ
ル亜硫酸などを挙げることができる。

【００５６】硫酸誘導体としては、ジメチル硫酸、ジエ
チル硫酸、ジプロピル硫酸、ジブチル硫酸、ジフェニル
硫酸などを挙げることができる。スルフィン酸系化合物
としては、ベンゼンスルフィン酸、トルエンスルフィン
酸、ナフテレンスルフィン酸などを挙げることができる
。

【００５７】また、スルホン酸系化合物およびこの誘導
体としては、下記一般式［ＩＩＩ］で表わされる化合物
やそれらのアンモニウム塩を挙げることができる。

【００５８】

【化５】

【００５９】式中、Ｒ７　は炭素数１〜５０の炭化水素
基（水素はハロゲンで置換されていてもよい）であり、
Ｒ８　は水素または炭素数１〜５０の炭化水素基（水素
はハロゲンで置換されていてもよい）であり、ｎは０〜
３の整数である。

【００６０】このようなスルホン酸系化合物およびこの
誘導体としては、以下のような化合物を挙げることがで
きる。ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸な
どのスルホン酸、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼン
スルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼ
ンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、
ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン
酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエ
ンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエンスルホン酸フェニ
ルなどのスルホン酸エステル、ｐ−トルエンスルホン酸
アンモニウムなどのスルホン酸アンモニウム塩。

【００６１】さらに上記一般式［ＩＩＩ］で表されるス
ルホン酸化合物以外にも、トリフルオロメタンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、スルホン化ポリスチレン、
アクリル酸メチル−スルホン化スチレン共重合体などの
スルホン酸化合物を挙げることができる。

【００６２】これらの化合物は、単独で、あるいは組み
合わせて用いることができる。本発明では、［Ｂ］イオ
ウ含有酸性化合物および該酸性化合物から形成される誘
導体として、上記一般式［ＩＩＩ］で表されるスルホン
酸系化合物およびこの誘導体が好ましく用いられる。さ
らに、上記一般式［ＩＩＩ］において、Ｒ７　、Ｒ８　
は炭素数１〜１０の置換脂肪族炭化水素基、ｎは０〜１
の整数で表される化合物が好ましく用いられる。具体的
には、ベンゼンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸ブチル
、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸エ
チル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチルが好ましく用いら
れる。

【００６３】特に、本発明では、ｐ−トルエンスルホン
酸ブチルが好ましく用いられる。本発明では、上記のよ
うな［Ｂ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合
物および／または該酸性化合物から形成される誘導体を
、上記［Ａ］ポリカーボネートに対して、０．１〜１０
ｐｍｍ　、好ましくは０．１〜８ｐｐｍ　、特に好まし
くは０．１〜５ｐｐｍ　の量で添加する。

【００６４】次に、本発明で用いられる［Ｃ］リン化合
物について説明する。［Ｃ］リン化合物としては、リン
酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、
リン酸エステルおよび亜リン酸エステルを用いることが
できる。

【００６５】このようなリン酸エステルとしては、具体
的に、たとえば、トリメチルホスフェート、トリエチル
ホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチル
ホスフェート、トリデシルホスフェート、トリオクタデ
シルホスフェート、ジステアリルペンタエリスリチルジ
ホスフェート、トリス（２−クロロエチル）ホスフェー
ト、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェート
などのトリアルキルホスフェート、トリシクロヘキシル
ホスフェートなどのトリシクロアルキルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート
、トリス（ノニルフェニル）ホスフェート、２−エチル
フェニルジフェニルホスフェートなどのトリアリールホ
スフェートなどを挙げることができる。

【００６６】また、亜リン酸エステルとしては、下記一
般式で表される化合物を挙げることができる。Ｐ（ＯＲ
）３　（式中、Ｒは脂環族炭化水素基、脂肪族炭化水素
基または芳香族炭化水素基を表す。これらは同一であっ
ても異なっていてもよい。）このような式で表される化
合物として、たとえば、トリメチルホスファイト、トリ
エチルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリオ
クチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホ
スファイト、トリノニルホスファイト、トリデシルホス
ファイト、トリオクタデシルホスファイト、トリステア
リルホスファイト、トリス（２−クロロエチル）ホスフ
ァイト、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスファ
イトなどのトリアルキルホスファイト、トリシクロヘキ
シルホスファイトなどのトリシクロアルキルホスファイ
ト、トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファ
イト、トリス（エチルフェニル）ホスファイト、トリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロ
キシフェニル）ホスファイトなどのトリアリールホスフ
ァイト、フェニルジデシルホスファイト、ジフェニルデ
シルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイ
ト、フェニルイソオクチルホスファイト、２−エチルヘ
キシルジフェニルホスファイトなどのアリールアルキル
ホスファイトなどを挙げることができる。

【００６７】さらに亜リン酸エステルとして、ジステア
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホス
ファイトなどを挙げることができる。

【００６８】これらの化合物は、単独で、あるいは組み
合わせて用いることができる。これらのうち、［Ｃ］リ
ン化合物として、上記一般式で表される亜リン酸エステ
ルが好ましく、さらに芳香族亜リン酸エステルが好まし
く、特にトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホ
スファイトが好ましく用いられる。

【００６９】本発明では、上記のような［Ｃ］リン化合
物を、［Ａ］ポリカーボネートに対して、１０〜１００
０ｐｐｍ　、好ましくは５０〜５００ｐｐｍ　の量で添
加する。 本発明では、上述したように、反応生成物である［Ａ］
ポリカーボネートが溶融状態にある間に、上記［Ｂ］、
［Ｃ］化合物を添加してポリカーボネート組成物とする
。そして、このポリカーボネート組成物は、通常、ペレ
タイズされて得られる。具体的には、たとえば、反応器
内にある重縮合反応で得られた［Ａ］ポリカーボネート
に、［Ｂ］、［Ｃ］化合物を添加してポリカーボネート
組成物を形成した後、押出機を通してペレタイズしても
よいし、また、重縮合反応で得られた［Ａ］ポリカーボ
ネートが反応器から押出機を通ってペレタイズされる間
に、［Ｂ］、［Ｃ］化合物を添加して、これらを混練し
てポリカーボネート組成物とすることができる。

【００７０】本発明で得られるポリカーボネート組成物
では、［Ｂ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化
合物および／または該酸性化合物から形成される誘導体
と、［Ｃ］リン化合物とを、上記の量で含有しており、
ポリカーボネート中に残存するアルカリ性触媒が中性化
あるいは弱められており、［Ａ］ポリカーボネートに比
べて、溶融時の滞留安定性が向上されている。

【００７１】通常、ポリカーボネートは、製造後に一旦
ペレタイズされる。そして、使用時に、このペレットを
再溶融して耐熱安定剤などの種々添加剤を配合して使用
している。本発明で得られるポリカーボネート組成物で
は、上記のように溶融時の熱安定性が向上されているの
で、各種添加剤を配合したり、成形するに際して、該ポ
リカーボネート組成物からなるペレットを再溶融しても
、特に熱分解が抑制され、分子量が低下しにくい。また
、ポリカーボネート組成物は、溶融しても着色しにくい
。

【００７２】本発明では、ポリカーボネート組成物を製
造するに際して、上記［Ｂ］、［Ｃ］化合物とともに［
Ｄ］エポキシ化合物を添加することが好ましい。このよ
うな［Ｄ］エポキシ化合物として、１分子中にエポキシ
基を１個以上有する化合物が用いられる。具体的には、
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、フェニルグリ
シジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、ｔ−ブチ
ルフェニルグリシジルエーテル、３，４−エポキシシク
ロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキシ
ルカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシ
クロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシ−６’−メ
チルシクロヘキシルカルボキシレート、２，３−エポキ
シシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロ
ヘキシルカルボキシレート、４−（３，４−エポキシ−
５−メチルシクロヘキシル）ブチル−３’，４’−エポ
キシシクロヘキシルカルボキシレート、３，４−エポキ
シシクロヘキシルエチレンオキシド、シクロヘキシルメ
チル３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート
、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル
−６’−　メチルシロヘキシルカルボキシレート、ビス
フェノール−Ａジグリシジルエーテル、テトラブロモビ
スフェノール−Ａグリシジルエーテル、フタル酸のジグ
リシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸のジグリシジ
ルエステル、ビス−エポキシジシクロペンタジエニルエ
ーテル、ビス−エポキシエチレングリコール、ビス−エ
ポキシシクロヘキシルアジペート、ブタジエンジエポキ
シド、テトラフェニルエチレンエポキシド、オクチルエ
ポキシタレート、エポキシ化ポリブタジエン、３，４−
ジメチル−１，２−エポキシシクロヘキサン、３，５−
ジメチル−１，２−エポキシシクロヘキサン、３−メチ
ル−５−ｔ−ブチル−１，２−エポキシシクロヘキサン
、オクタデシル−２，２−ジメチル−３，４−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、Ｎ−ブチル−２，２
−ジメチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキ
シレート、シクロヘキシル−２−メチル−３，４−エポ
キシシクロヘキシルカルボキシレート、Ｎ−ブチル−２
−イソプロピル−３，４−エポキシ−５−メチルシクロ
ヘキシルカルボキシレート、オクタデシル−３，４−エ
ポキシシクロヘキシルカルボキシレート、２−エチルヘ
キシル−３’，４’−エポキシシクロヘキシルカルボキ
シレート、４，６−ジメチル−２，３−エポキシシクロ
ヘキシル−３’，４’−エポキシシクロヘキシルカルボ
キシレート、４，５−エポキシ無水テトラヒドロフタル
酸、３−ｔ−ブチル−４，５−エポキシ無水テトラヒド
ロフタル酸、ジエチル４，５−エポキシ−シス−１，２
−シクロヘキシルジカルボキシレート、ジ−ｎ−ブチル
−３−ｔ−ブチル−４，５−エポキシ−シス−１，２−
シクロヘキシルジカルボキシレートなどを挙げることが
できる。

【００７３】これらのうち、脂環族エポキシ化合物が好
ましく用いられ、特に３，４−エポキシシクロヘキシル
メチル−３’，４’−エポキシシクロヘキシルカルボキ
シレートが好ましく用いられる。

【００７４】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。本発明では、このような［Ｄ］エポキシ
化合物を、上記［Ａ］ポリカーボネートに対して、１〜
２０００ｐｐｍ　の量で、好ましくは１０〜１０００ｐ
ｐｍ　の量で添加することが好ましい。

【００７５】このように［Ｄ］エポキシ化合物を添加す
ると、組成物中に、上記［Ｂ］、［Ｃ］化合物が過剰に
残存しても、これらが［Ｄ］エポキシ化合物と反応して
中性化され、耐水性および透明性に優れたポリカーボネ
ート組成物が得られる。

【００７６】このような［Ｄ］エポキシ化合物は、上記
のようなポリカーボネート組成物を調製する際に、［Ｂ
］、［Ｃ］化合物とともに［Ａ］ポリカーボネートに添
加する。さらに、必要に応じて一旦ポリカーボネート組
成物をペレタイズした後、ペレットを一軸または二軸押
出機などに供給して再溶融混練する際に添加してもよい
。

【００７７】［Ａ］ポリカーボネートに、［Ｂ］、［Ｃ
］および［Ｄ］エポキシ化合物を添加する順序は問わな
い。また、本発明では、上記のようにして得られるポリ
カーボネート組成物に、本発明の目的を損なわない範囲
で、以下に示すような通常の耐熱安定剤、紫外線吸収剤
、離型剤、着色剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブ
ロッキング剤、滑剤、防曇剤、天然油、合成油、ワック
ス、有機系充填剤、無機系充填剤などを添加してもよい
。このような、添加剤は、［Ｂ］、［Ｃ］および［Ｄ］
化合物と同様に、溶融状態にある［Ａ］ポリカーボネー
トに添加することもできるし、また一旦ペレタイズされ
たポリカーボネート組成物を再溶融して添加することも
できる。本発明では、前者の方法が好ましい。

【００７８】上記のような耐熱安定剤としては、具体的
には、たとえば、フェノール系安定剤、有機チオエーテ
ル系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げるこ
とができる。

【００７９】フェノール系安定剤としては、たとえば、
ｎ−オクタデシル−３−（４−ヒドロキシ−３’，５’
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキ
ス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−　ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１
，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−
ｔ−　ブチルフェニル）ブタン、ジステアリル（４−ヒ
ドロキシ−３−メチル−５−ｔ−ブチル）ベンジルマロ
ネート、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔ−ブチ
ルフェノール等が挙げられ、これらを単独で用いても２
種以上混合して用いてもよい。

【００８０】チオエーテル系安定剤としては、たとえば
、ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル・
チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオ
ジプロピオネート、ジトリデシル−３，３’−チオジプ
ロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（
β−ラウリル−チオプロピオネート）などを挙げること
ができる。

【００８１】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。またヒンダードアミン系安定剤としては
、たとえば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［
２−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−４−｛３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ｝−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメ
チル−３−オクチル−１，２，３−トリアザスピロ［４
，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオ
キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチル−４−ピペリジル）、テトラキス（２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３
，４−ブタンテトラカルボキシレートなどを挙げること
ができる。

【００８２】これらは単独で用いても２種以上混合して
用いてもよい。これらの耐熱安定剤は、ポリカーボネー
ト１００重量部に対して、０．００１〜５重量部、好ま
しくは０．００５〜０．５重量部、さらに好ましくは０
．０１〜０．３重量部の量で用いられることが望ましい
。

【００８３】このような耐熱安定剤は、固体状で添加し
てもよく、液体状で添加してもよい。このような耐熱安
定剤は、［Ａ］ポリカーボネートが最終重合器から冷却
されてペレタイズされる間の溶融状態にある間に添加す
ることが好ましく、このようにするとポリカーボネート
が受ける熱履歴回数が少ない。また、押出成形やペレタ
イズなど再び加熱処理をする際には、ポリカーボネート
は耐熱安定剤を含有しているので、熱分解を抑制するこ
とができる。

【００８４】また紫外線吸収剤としては、一般的な紫外
線吸収剤でよく、特に限定されないが、たとえば、サリ
チル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレ
ート系紫外線吸収剤などを挙げることができる。

【００８５】サリチル酸系紫外線吸収剤としては、具体
的には、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニ
ルサリシレートが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線
吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，
２’−ジヒドロキシ−４−　メトキシベンゾフェノン、
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾ
フェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カル
ボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ
−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒド
ロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２’
，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−ド
デシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ビス（５
−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル
）メタン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン−５−スルホン酸などが挙げられる。

【００８６】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル−フェニル
）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’
，５’−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’
−メチル−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチ
ル−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５
’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−［２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６
”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチル
フェニル］ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビ
ス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール
］などを挙げることができる。

【００８７】シアノアクリレート系紫外線吸収剤として
は、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェ
ニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３−ジフ
ェニルアクリレートなどを挙げることができる。これら
を単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。

【００８８】これらの紫外線吸収剤は、［Ａ］ポリカー
ボネート１００重量部に対して、通常０．００１〜５重
量部、好ましくは０．００５〜１．０重量部、さらに好
ましくは０．０１〜０．５重量部の量で用いることがで
きる。

【００８９】さらに、離型剤としては、一般的な離型剤
でよく、特に限定されない。たとえば、炭化水素系離型
剤としては、天然、合成パラフィン類、ポリエチレンワ
ックス類、フルオロカーボン類などを挙げることができ
る。

【００９０】脂肪酸系離型剤としては、ステアリン酸、
ヒドロキシステアリン酸などの高級脂肪酸、オキシ脂肪
酸類などを挙げることができる。脂肪酸アミド系離型剤
としては、ステアリン酸アミド、エチレンビスステアロ
アミドなどの脂肪酸アミド、アルキレンビス脂肪酸アミ
ド類などを挙げることができる。

【００９１】アルコール系離型剤としては、ステアリル
アルコール、セチルアルコールなどの脂肪族アルコール
、多価アルコール、ポリグリコール、ポリグリセロール
類などを挙げることができる。

【００９２】脂肪酸エステル系離型剤としては、ブチル
ステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレー
トなどの脂肪族酸低級アルコールエステル、脂肪酸多価
アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル類
などを挙げることができる。

【００９３】シリコーン系離型剤としては、シリコーン
オイル類などを挙げることができる。これらは単独で用
いても、２種以上混合して用いてもよい。

【００９４】これらの離型剤は、［Ａ］ポリカーボネー
ト１００重量部に対して、通常、０．００１〜５重量部
、好ましくは０．００５〜１重量部、さらに好ましくは
０．０１〜０．５重量部の量で用いることができる。

【００９５】さらに、着色剤としては、顔料であっても
よく、染料であってもよい。着色剤には、無機系と有機
系の着色剤があるが、どちらを使用してもよく、また、
組み合わせて用いてもよい。

【００９６】無機系着色剤として、具体的には、二酸化
チタン、ベンガラなどの酸化物、アルミナホワイトなど
の水酸化物、硫化亜鉛などの硫化物、セレン化物、紺青
などのフェロシアン化物、ジンククロ　　メート、モリ
ブデンレッドなどのクロム酸塩、硫酸バリウムなどの硫
酸塩、炭酸カルシウムなどの炭酸塩、群青などの硅酸塩
、マンガンバイオレットなどのリン酸塩、カーボンブラ
ックなどの炭素、ブロンズ粉やアルミニウム粉などの金
属粉着色剤などが挙げられる。

【００９７】有機系着色剤としては、具体的には、ナフ
トールグリーンＢなどのニトロソ系、ナフトールイエロ
−Ｓなどのニトロ系、リソールレッドやボルドー１０Ｂ
、ナフトールレッド、クロモフタールイエローなどのア
ゾ系、フタロシアニンブルーやファストスカイブルーな
どのフタロシアニン系、インダントロンブルーやキナク
ソドンバイオレット、ジオクサジンバイオレットなどの
縮合多環系着色剤などが挙げられる。

【００９８】これらの着色剤は、単独で用いても組み合
わせて用いてもよい。これらの着色剤は、［Ａ］ポリカ
ーボネート１００重量部に対して、通常１×１０−６〜
５重量部、好ましくは１×１０−５〜３重量部、さらに
好ましくは１×１０−５〜１重量部の量で用いることが
できる。

【００９９】上記のように、本発明では、重縮合反応後
、ペレタイズされる前に、耐熱安定性が向上されたポリ
カーボネート組成物が得られる。したがって、本発明で
は、ペレタイズ後に再溶融して耐熱安定剤を添加する従
来の方法に比べて、製造工程においてポリカーボネート
組成物が受ける熱履歴回数が少なく、かつ製造効率がよ
い。

【０１００】また、得られるポリカーボネート組成物で
は、成形時に、熱分解が起こりにくく、分子量が低下し
にくいとともに黄色化しにくく、色相安定性にも優れて
いる。

【０１０１】さらに、エポキシ化合物を含有するポリカ
ーボネート組成物では、特に耐水性が向上されており、
透明性も低下しにくい。本発明で得られるポリカーボネ
ート組成物は、成形時の熱安定性に優れるとともに、使
用時においても長時間に亘って色相安定性に優れるとと
もに、耐水性および透明性に優れた成形体を形成しうる
。

【０１０２】

【発明の効果】本発明によれば、溶融時の熱安定性、色
相安定性などの滞留安定性に優れたポリカーボネート組
成物を、効率よく製造することができる。

【０１０３】以下本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。

【０１０４】

【実施例】本明細書において、ポリカーボネート組成物
の極限粘度〔ＩＶ〕、ＭＦＲ、色相〔ＹＩ〕、光線透過
率、ヘイズ、滞留安定性、耐水性は、以下のようにして
測定される。

【０１０５】［極限粘度〔ＩＶ〕］塩化メチレン中、２
０℃でウベローデ粘度計を用いて測定した。 ［ＭＦＲ］ＪＩＳ　　Ｋ−７２１０の方法に準拠し、温
度３００℃、荷重１．２Ｋｇで測定した。

【０１０６】［色相］３ｍｍ厚の射出成形板をシリンダ
ー温度２９０℃、射出圧力１０００Ｋｇ／ｃｍ、１サイ
クル４５秒、金型温度１００℃で成形し、Ｘ、Ｙ、Ｚ値
を日本電色工業（株）　製の　Ｃｏｌｏｒａｎｄ　Ｃｏ
ｌｏｒ　Ｄｅｆｆｅｒｅｎｃｅ　Ｍｅｔｅｒ　ＮＤ−１
００１　ＤＰ　を用いて透過法で測定し、黄色度〔ＹＩ
〕を測定した。

【０１０７】ＹＩ＝１００（１．２７７Ｘ−１．０６０
Ｚ）／Ｙ ［光線透過率］ＡＳＴＭ　　Ｄ　　１００３の方法に従
い、色相測定用の射出成形板を用いて測定した。

【０１０８】［ヘイズ］日本電色工業（　株）　製のＮ
ＤＨ−２００を用い、色相測定用の射出成形板のヘイズ
を測定した。

【０１０９】［滞留安定性］３２０℃の温度で１５分間
射出成形機のシリンダー内に樹脂を滞留させた　　後、
その温度で射出成形を行い、その成形板のＭＦＲ、色相
（ＹＩ）、光線透過率を測定した。

【０１１０】［耐水性］色相測定用の射出成形板をオー
トクレーブ中の水に浸漬し、１２５℃のオーブン中に５
日間保持する。この試験片を用いてヘイズを測定した。

【０１１１】

【実施例１】ビスフェノールＡ（日本ジーイープラスチ
ックス（株）製）０．４４キロモルと、ジフェニルカー
ボネート（エニィ社製）０．４６キロモルとを２５０リ
ットル槽型攪拌槽に仕込み、窒素置換をした後に、１４
０℃で溶解した。

【０１１２】次にこれを１８０℃の温度まで昇温し、触
媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを０．
１１モルおよび水酸化ナトリウムを０．０００４４モル
（１×１０−６モル／モル−ビスフェノールＡ）添加し
３０分間攪拌する。

【０１１３】次に、温度を２１０℃まで昇温させると同
時に除々に２００ｍｍＨｇまで下げて３０分後、温度を
２４０℃まで昇温させると同時に徐々に１５ｍｍＨｇま
で下げて温度圧力を一定に保ち留出するフェノールの量
を測定し、留出するフェノールがなくなった時点で窒素
にて大気圧に戻した。反応に要した時間は１時間であっ
た。 得られた反応物の極限粘度［η］は０．１５ｄｌ／ｇで
あった。

【０１１４】次にこの反応物をギヤポンプで昇圧し、遠
心式薄膜蒸発機に送入し、反応を進めた。薄膜蒸発機の
温度、圧力はそれぞれ２７０℃、２ｍｍＨｇにコントロ
ールした。蒸発機下部よりギヤポンプにて２９０℃、０
．２ｍｍＨｇにコントロールされた二軸横型攪拌重合槽
（Ｌ／Ｄ＝３、攪拌翼回転直径２２０ｍｍ、内容積８０
リットル）に４０ｋｇ／時間で送り込み滞留時間３０分
にて重合させた。

【０１１５】次に、溶融状態のままで、このポリマーを
ギヤポンプにて２軸押出機（Ｌ／Ｄ＝１７．５、バレル
温度２８５℃）に送入し、樹脂に対して、ｐ−トルエン
スルホン酸ブチル１．８ｐｐｍ　、トリス（２，４−ジ
−ｔ−　ブチルフェニル）ホスファイト（マーク　２１
１２　：アデカアーガス社製）３００ｐｐｍ　、３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル−３，’４’−エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート（セロキサイド　２
０２１Ｐ：ダイセル化学社製）３００ｐｐｍ　を混練し
、ダイを通してストランド状とし、カッターで切断して
ペレットとした。

【０１１６】得られたポリマーの極限粘度〔ＩＶ〕は０
．４９ｄｌ／ｇであった。結果を表１に示す。

【０１１７】

【実施例２】実施例１において、重合温度を２８０℃に
した以外は実施例１と同様の方法でペレットを得た。

【０１１８】結果を表１に示す。

【０１１９】

【実施例３，４】実施例１において、ｐ−トルエンスル
ホン酸ブチルの代わりに、表１に記載した化合物を表１
に記載した量で用いた他は実施例１と同様の方法によっ
てペレットを得た。

【０１２０】結果を表１に示す。

【０１２１】

【実施例５】実施例１において、３，４−エポキシシク
ロヘキシルメチル−３，’４’−エポキシシクロヘキシ
ルカルボキシレートを添加しなかった以外は実施例１と
同様にしてペレットを得た。

【０１２２】結果を表１に示す。

【０１２３】

【実施例６，７】実施例１において、ｐ−トルエンスル
ホン酸ブチルを表１に記載した量で用いた他は実施例１
と同様の方法によってペレットを得た。

【０１２４】結果を表１に示す。

【０１２５】

【比較例１】実施例１において、二軸横型攪拌重合槽よ
り直接、ポリマーをストランド状として抜き出し、カッ
ターで切断してペレットとした。

【０１２６】次に、このペレットに対して、実施例１と
同様にｐ−トルエンスルホン酸ブチル１．８ｐｐｍ　、
トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
ト（マーク２１１２：アデカアーガス社製）３００ｐｐ
ｍ　、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，’
４’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート（セロ
キサイド２０２１Ｐ　：ダイセル化学社製）３００ｐｐ
ｍ　を添加して、通常の２軸押出機で２８５℃で混練し
てペレットを得た。

【０１２７】結果を表１に示す。

【０１２８】

【比較例２】比較例１において、重合温度を２８０℃に
した以外は比較例１と同様の方法でペレットを得た。

【０１２９】結果を表１に示す。

【０１３０】

【比較例３】比較例１において、３，４−エポキシシク
ロヘキシルメチル−３，’４’−エポキシシクロヘキシ
ルカルボキシレートを添加しなかった以外は比較例１と
同様の方法でペレットを得た。

【０１３１】結果を表１に示す。

【０１３２】

【比較例４】実施例１において、ｐ−トルエンスルホン
酸ブチルを添加しなかった以外は実施例１と同様の方法
でペレットを得た。

【０１３３】結果を表１に示す。

【０１３４】

【比較例５】実施例１において、トリス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを添加しなかった以
外は実施例１と同様の方法でペレットを得た。

【０１３５】結果を表１に示す。

【０１３６】

【比較例６】実施例１において、ｐ−トルエンスルホン
酸ブチルとトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
ホスファイトを添加しなかった以外は実施例１と同様の
方法でペレットを得た。

【０１３７】結果を表１に示す。

【０１３８】

【表１】

【０１３９】

【表２】

【０１４０】

【表３】

【０１４１】

【表４】

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
   ルとを、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１
   ０−８〜１０−３モルの量の（ａ）　アルカリ金属化合
   物および／またはアルカリ土類金属化合物を含有する触
   媒の存在下に溶融重縮合させた後、反応生成物である［
   Ａ］ポリカーボネートが溶融状態にある間に、［Ｂ］ｐ
   Ｋａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物および／ま
   たは該酸性化合物から形成される誘導体と、［Ｃ］リン
   化合物とを添加することを特徴とするポリカーボネート
   組成物の製造方法。
2. 【請求項２】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
   ルとを、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対して、１
   ０−８〜１０−３モルの量の（ａ）　アルカリ金属化合
   物および／またはアルカリ土類金属化合物を含有する触
   媒の存在下に溶融重縮合させた後、反応生成物である［
   Ａ］ポリカーボネートが溶融状態にある間に、［Ｂ］ｐ
   Ｋａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物および／ま
   たは該酸性化合物から形成される誘導体と、［Ｃ］リン
   化合物と、［Ｄ］エポキシ化合物とを添加することを特
   徴とするポリカーボネート組成物の製造方法。
3. 【請求項３】（ａ）　アルカリ金属化合物および／また
   はアルカリ土類金属化合物を芳香族ジヒドロキシ化合物
   １モルに対して、１０−７〜２×１０−６モルの量で用
   いることを特徴とする請求項１または２に記載のポリカ
   ーボネート組成物の製造方法。
4. 【請求項４】［Ｂ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有
   酸性化合物および／または該酸性化合物から形成される
   誘導体を、反応生成物である［Ａ］ポリカーボネートに
   対して、０．１〜１０ｐｐｍ　の量で用いることを特徴
   とする請求項１〜３のいずれかに記載のポリカーボネー
   ト組成物の製造方法。
5. 【請求項５】［Ｂ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有
   酸性化合物および／または該酸性化合物から形成される
   誘導体を、反応生成物である［Ａ］ポリカーボネートに
   対して、０．１〜５ｐｐｍ　の量で用いることを特徴と
   する請求項１〜４のいずれかに記載のポリカーボネート
   組成物の製造方法。
6. 【請求項６】［Ｂ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有
   酸性化合物および／または該酸性化合物から形成される
   誘導体として、下記一般式［ＩＩＩ］で表される化合物
   を用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記
   載のポリカーボネート組成物の製造方法：【化１】 式中、Ｒ７　は炭素数１〜５０の炭化水素基（水素はハ
   ロゲンで置換されていてもよい）であり、Ｒ８　は水素
   または炭素数１〜５０の炭化水素基（水素はハロゲンで
   置換されていてもよい）であり、ｎは０〜３の整数であ
   る。
7. 【請求項７】［Ｂ］ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有
   酸性化合物および／または該酸性化合物から形成される
   誘導体として、ｐ−トルエンスルホン酸ブチルを用いる
   ことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のポリ
   カーボネート組成物の製造方法。
8. 【請求項８】［Ｃ］リン化合物を、反応生成物である［
   Ａ］ポリカーボネートに対して、１０〜１０００ｐｐｍ
   　の量で用いることを特徴とする請求項１〜７のいずれ
   かに記載のポリカーボネート組成物の製造方法。
9. 【請求項９】［Ｃ］リン化合物として、芳香族亜リン酸
   エステル化合物を用いることを特徴とする請求項１〜８
   のいずれかに記載のポリカーボネート組成物の製造方法
   。
10. 【請求項１０】［Ｃ］リン化合物として、トリス（２，
    ４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）　ホスファイトを用いる
    ことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のポリ
    カーボネート組成物の製造方法。
11. 【請求項１１】［Ｄ］エポキシ化合物を、反応生成物で
    ある［Ａ］ポリカーボネートに対して、１〜２０００ｐ
    ｐｍ　の量で用いることを特徴とする請求項１〜１０の
    いずれかに記載のポリカーボネート組成物の製造方法。
12. 【請求項１２】［Ｄ］エポキシ化合物として、脂環族エ
    ポキシ化合物を用いることを特徴とする請求項１〜１１
    のいずれかに記載のポリカーボネート組成物の製造方法
    。
13. 【請求項１３】［Ｄ］エポキシ化合物として、３，４−
    エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシ
    シクロヘキシルカルボキシレートを用いることを特徴と
    する請求項１〜１２のいずれかに記載のポリカーボネー
    ト組成物の製造方法。