JPH0517564A - ポリカーボネートの製造方法 - Google Patents
ポリカーボネートの製造方法Info
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- JPH0517564A JPH0517564A JP14885191A JP14885191A JPH0517564A JP H0517564 A JPH0517564 A JP H0517564A JP 14885191 A JP14885191 A JP 14885191A JP 14885191 A JP14885191 A JP 14885191A JP H0517564 A JPH0517564 A JP H0517564A
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Abstract
成形時の熱安定性、色相安定性などの滞留安定性に優
れ、さらに耐水性、透明性にも優れたポリカーボネート
を製造することができるポリカーボネートの製造方法を
提供する。 【構成】 芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステル
とを、(a) 含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下に
溶融重縮合させてポリカーボネートを製造するに際し
て、該溶融重縮合を2段以上の多段工程で実施し、第1
段の重縮合工程において、芳香族ジヒドロキシ化合物と
炭酸ジエステルとを、(a) 含窒素塩基性化合物からなる
触媒の存在下に溶融重縮合させ、第2段以降の重縮合工
程において、さらに(a) 含窒素塩基性化合物を少なくと
も1回添加する。
Description
法に関し、さらに詳しくは、特に優れた色相、耐水性、
透明性が要求される光学部品、自動車の透明部品などの
用途に利用しうるポリカーボネートを製造することがで
きるポリカーボネートの製造方法に関する。
どの機械的特性に優れ、しかも耐熱性、透明性などにも
優れており、各種機械部品、光学用ディスク、自動車部
品などの用途に広く用いられている。
スフェノールAなどの芳香族ジヒドロキシ化合物とホス
ゲンとを直接反応させる方法(界面法)、あるいは、芳
香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとをエステル
交換反応させる方法(溶融法)によって製造されてい
る。
して安価にポリカーボネートを製造することができると
いう利点を有するとともに、ホスゲンなどの毒性物質を
用いないので、環境衛生上好ましい。
製造方法は、通常、触媒としてアルカリ金属化合物、ア
ルカリ土類金属化合物などを用いて行われている。しか
しながらこのような触媒を多量に用いて行う方法では、
重縮合中に反応生成物が着色しやすく、重縮合後に初期
色調に劣るポリカーボネートが得られる傾向にある。ま
た、得られるポリカーボネートは、成形時の滞留安定性
が低下しやすく、成形物では耐水性が低下しやすくな
る。
ると、重合活性が不充分になることがあり、他の触媒を
併用することが提案されている。たとえば、特公昭47
−14742号公報には、初期縮合反応にアルカリ金属
化合物を用い、縮合反応の後段に第4級アンモニウム化
合物を用いる方法が開示されている。しかしながら、こ
の方法では、重合活性が充分ではなく、アルカリ金属化
合物を多量に用いなければならなかった。
金属化合物またはアルカリ土類金属化合物とともに窒素
含有塩基性化合物を添加する方法を提案した(特開平2
−124934号公報)。この方法においても、アルカ
リ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物の使用量
は、さらに低減されることが望まれている。
物またはアルカリ土類金属化合物の使用量を低減して
も、重縮合活性を充分保持したまま重縮合反応を行える
とともに、溶融時の滞留安定性に優れ、耐水性にも優れ
たポリカーボネートを製造することができるポリカーボ
ネートの製造方法の出現が望まれている。
てなされたものであって、触媒としてのアルカリ金属化
合物またはアルカリ土類金属化合物の使用量を低減して
も、あるいは全く用いなくとも、重縮合活性を充分保持
したまま重縮合反応を行えるとともに、重縮合直後に着
色が少なく、かつ成形時の熱安定性、色相安定性などの
滞留安定性に優れ、さらに耐水性、透明性にも優れたポ
リカーボネートを製造することができるポリカーボネー
トの製造方法を提供することを目的としている。
法は、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルと
を、(a) 含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下に溶
融重縮合させてポリカーボネートを製造するに際して、
該溶融重縮合を2段以上の多段工程で実施し、第1段の
重縮合工程において、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸
ジエステルとを、(a) 含窒素塩基性化合物からなる触媒
の存在下に溶融重縮合させ、第2段以降の重縮合工程に
おいて、さらに(a) 含窒素塩基性化合物を少なくとも1
回添加することを特徴としている。
では、重縮合に際して、(b) アルカリ金属化合物および
/またはアルカリ土類金属化合物を、芳香族ジヒドロキ
シ化合物1モルに対して、8×10-7モル以下の量で、
好ましくは5×10-7モル以下の量で、さらに好ましく
は5×10-8〜3×10-7モルの量で用いることが好ま
しい。
造方法では、上記のようにして得られる[A]ポリカー
ボネートに、[B]下記一般式[III]で表されるスル
ホン酸化合物を、ポリカーボネートに対して、0.05
〜10ppm の量で添加することが好ましい。
(水素はハロゲンで置換されていてもよい)であり、R
8 は水素または炭素数1〜8の炭化水素基(水素はハロ
ゲンで置換されていてもよい)であり、nは0〜3の整
数である。〕本発明に係るポリカーボネートの製造方法
では、上記[B]スルホン酸化合物とともに、[C]エ
ポキシ化合物を、ポリカーボネートに対して1〜200
0ppm の量でさらに、[D]リン化合物を、ポリカーボ
ネートに対して10〜1000ppm の量で添加すること
が好ましい。
によれば、重縮合直後の初期色調に優れ、着色が少ない
とともに溶融成形時の滞留安定性に優れ、かつ耐水性も
向上されたポリカーボネートが経済性良く得られる。
た色相、耐水性、透明性が要求される光学部品、自動車
の透明部品などの用途に好適に利用される。
ートの製造方法について具体的に説明する。まず本発明
で用いられる芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとについて説明する。
ては、特に限定されないが、下記式[I]で示される化
合物を挙げることができる。
化水素基であり、R3 は2価の炭化水素基である。また
R4 、R5 は、ハロゲンまたは1価の炭化水素基であ
り、これらは、同一であっても異なっていてもよい。
p、qは0〜4の整数を表す。
具体的には、以下に示す化合物を挙げることができる ビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、1,1-ビス(4-ヒ
ドロキシフェニル)エタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)オクタン、
ビス(4-ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、2,2-ビ
ス(4-ヒドロキシ-1- メチルフェニル)プロパン、1,1-
ビス(4-ヒドロキシ-t-ブチルフェニル)プロパン、2,2
-ビス(4-ヒドロキシ-3-ブロモフェニル)プロパンなど
のビス(ヒドロキシアリール)アルカン類、1,1-ビス
(4-ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1-ビス
(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンなどのビス
(ヒドロキシアリール)シクロアルカン類、4,4'-ジヒ
ドロキシジフェニルエーテル、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'
-ジメチルフェニルエーテルなどのジヒドロキシアリー
ルエーテル類、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィ
ド、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスル
フィドなどのジヒドロキシジアリールスルフィド類、4,
4'-ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4'-ジヒド
ロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルスルホキシドなどのジ
ヒドロキシジアリールスルホキシド類、4,4'-ジヒドロ
キシジフェニルスルホン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジ
メチルジフェニルスルホンなどのジヒドロキシジアリー
ルスルホン類。
ロキシフェニル)プロパンが好ましく用いられる。ま
た、芳香族ジヒドロキシ化合物として、下記一般式[I
I]で表される化合物を用いることもできる。
炭化水素基またはそのハロゲン化物、またはハロゲンで
あり、同一であっても異なっていてもよい。nは0〜4
の整数である。
ロキシ化合物としては、具体的に、レゾルシンおよび3-
メチルレゾルシン、3-エチルレゾルシン、3-プロピルレ
ゾルシン、3-ブチルレゾルシン、3-t-ブチルレゾルシ
ン、3-フェニルレゾルシン、3-クミルレゾルシン、2,3,
4,6-テトラフルオロレゾルシン、2,3,4,6-テトラブロム
レゾルシンなどの置換レゾルシン、カテコール、ハイド
ロキノンおよび3-メチルハイドロキノン、3-エチルハイ
ドロキノン、3-プロピルハイドロキノン、3-ブチルハイ
ドロキノン、3-t-ブチルハイドロキノン、3-フェニルハ
イドロキノン、3-クミルハイドロキノン、2,3,5,6-テト
ラメチルハイドロキノン、2,3,5,6-テトラ-t-ブチルハ
イドロキノン、2,3,5,6-テトラフルオロハイドロキノ
ン、2,3,5,6-テトラブロムハイドロキノンなどの置換ハ
イドロキノンを挙げることができる。
物として、下記一般式で表される2,2,2',2'-テトラヒド
ロ-3,3,3',3'-テトラメチル-1,1'-スピロビ-[IH-イン
デン]-6,6'-ジオールを用いることもできる。
独であるいは組み合わせて用いることができる。また炭
酸ジエステルとしては、具体的には、ジフェニルカーボ
ネート、ジトリールカーボネート、ビス(クロロフェニ
ル)カーボネート、m-クレジルカーボネート、ジナフチ
ルカーボネート、ビス(ジフェニル)カーボネート、ジ
エチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチル
カーボネート、ジシクロヘキシルカーボネートなどを挙
げることができる。
が好ましく用いられる。これらの炭酸ジエステルは、単
独であるいは組み合わせて用いることができる。
しくは50モル%以下、さらに好ましくは30モル%以
下の量で、ジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステル
を含有していてもよい。
ン酸エステルとしては、テレフタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニルなど
の芳香族ジカルボン酸類、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバ
シン酸、デカン二酸、ドデカン二酸、セバシン酸ジフェ
ニル、デカン二酸ジフェニル、ドデカン二酸ジフェニル
などの脂肪族ジカルボン酸類、シクロプロパンジカルボ
ン酸、1,2-シクロブタンジカルボン酸、1,3-シクロブタ
ンジカルボン酸、1,2-シクロペンタンジカルボン酸、1,
3-シクロペンタンジカルボン酸、1,2-シクロヘキサンジ
カルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シ
クロヘキサンジカルボン酸、シクロプロパンジカルボン
酸ジフェニル、1,2-シクロブタンジカルボン酸ジフェニ
ル、1,3-シクロブタンジカルボン酸ジフェニル、1,2-シ
クロペンタンジカルボン酸ジフェニル、1,3-シクロペン
タンジカルボン酸ジフェニル、1,2-シクロヘキサンジカ
ルボン酸ジフェニル、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸
ジフェニル、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニ
ルなどの脂環族ジカルボン酸類を挙げることができる。
ン酸エステルは、単独であるいは組み合わせて含有され
ていていてよい。上記のような炭酸ジエステルは、芳香
族ジヒドロキシ化合物1モルに対して、通常、1.0〜
1.30モル、好ましくは1.01〜1.20モルの量で
用いられることが望ましい。
するに際して、上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物
と炭酸ジエステルとともに、1分子中に3個以上の官能
基を有する多官能化合物とを用いることもできる。
ール性水酸基またはカルボキシル基を有する化合物が好
ましく、特にフェノール性水酸基を3個含有する化合物
が好ましい。具体的には、たとえば、1,1,1-トリス(4-
ヒドロキシフェニル) エタン、2,2',2"-トリス(4-ヒド
ロキシフェニル)ジイソプロピルベンゼン、α-メチル-
α,α',α'-トリス(4-ヒドロキシフェニル)-1,4-ジエチ
ルベンゼン、α, α',α"-トリス(4-ヒドロキシフェニ
ル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼン、フロログリシ
ン、4,6-ジメチル-2,4,6-トリ(4-ヒドロキシフェニ
ル)-ヘプタン-2、1,3,5-トリ(4-ヒドロキシフェニル)
ベンゼン、2,2-ビス-[4,4-(4,4'-ジヒドロキシフェニ
ル)-シクロヘキシル]-プロパン、トリメリット酸、1,
3,5-ベンゼントリカルボン酸、ピロメリット酸などが挙
げられる。
シフェニル) エタン、α, α',α"-トリス(4-ヒドロキ
シフェニル)-1,3,5-トリイソプロピルベンゼンなどが好
ましく用いられる。
能化合物は芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対して、
通常、0.03モル以下、好ましくは0.001〜0.0
2モル、さらに好ましくは0.001〜0.01モルの量
で用いられる。
では、触媒として(a) 含窒素塩基性化合物を用いる。こ
のような(a) 含窒素塩基性化合物としては、たとえば高
温で易分解性あるいは揮発性である含窒素塩基性化合物
が挙げられ、具体的には、以下のような化合物を挙げる
ことができる。
(Me4NOH)、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド
(Et4NOH)、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
(Bu4NOH)、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキ
シド(C6H5-CH2(Me)3NOH)などのアルキル基、アリール
基、アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロオ
キシド類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメ
チルベンジルアミン、トリフェニルアミンなどの三級ア
ミン類、R2NH(式中Rはメチル、エチルなどのアル
キル、フェニル、トルイルなどのアリール基などであ
る)で示される二級アミン類、RNH2 (式中Rは上記
と同じである)で示される一級アミン類、さらに2-メチ
ルイミダゾール、2-フェニルイミダゾールなどのイミダ
ゾール類、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロ
ハイドライド(Me4NBH4)、テトラブチルアンモニウム
ボロハイドライド(Bu4NBH4 )、テトラブチルアンモニ
ウムテトラフェニルボレート(Bu4NBPh4)、テトラメチ
ルアンモニウムテトラフェニルボレート(Me4NBPh4)な
どの塩基性塩。
わせて用いることができる。これらのうち、アルキルア
ンモニウムヒドロキシド類が好ましく、さらにテトラメ
チルアンモニウムヒドロキシド、またはテトラ-n-ブチ
ルアンモニウムヒドロキシドが好ましく用いられる。
性化合物では、塩素含有量が10ppm 以下であり、ナト
リウム含有量が20ppb 以下であることが好ましい。具
体的に、このようなナトリウム不純物の含有量が少ない
含窒素塩基性化合物、特にテトラアルキルアンモニウム
ヒドロキシド類は、電子用途に用いられる銘柄として市
販されているものを用いることができる。
液あるいはフェノール溶液として用いることができる。
本発明では、このような(a) 含窒素塩基性化合物からな
る触媒の存在下に、上記のような芳香族ジヒドロキシ化
合物と炭酸ジエステルとを、溶融重縮合させてポリカー
ボネートを製造する。この際、該溶融重縮合を2段以上
の多段工程で実施する。
ドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを、(a) 含窒素塩基
性化合物からなる触媒の存在下に溶融重縮合させ、次い
で、第2段以降の重縮合工程において、さらに(a) 含窒
素塩基性化合物を少なくとも1回添加する。
は、芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対して、好まし
くは2.5×10-6〜2.5×10-3モルの量で、さらに
好ましくは5×10-6〜1.25×10-3モルの量で添
加した(a) 含窒素塩基性化合物の存在下に芳香族ジヒド
ロキシ化合物と炭酸ジエステルとを溶融重縮合させ、他
の重縮合工程においては、(a) 含窒素塩基性化合物を、
第2段の重縮合工程から最終段の重縮合工程までの合計
量で、芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対して、好ま
しくは2.5×10-6〜2.5×10-3モルの量、さらに
好ましくは5×10-6〜1.25×10-3モルの量とな
るように添加する。
香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合反
応は、従来知られている重縮合反応と同様な条件下に実
施することができる。具体的に、以下に示すような条件
で行われる。
40℃、好ましくは100〜230℃、さらに好ましく
は120〜220℃の反応温度で、常圧下に、通常0.
1〜5時間、好ましくは0.2〜4時間、さらに好まし
くは0.25〜3時間、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭
酸ジエステルとを反応させる。
応系を減圧にしながら反応温度を高めながら反応を行な
い、通常、140〜300℃、好ましくは160〜29
0℃、さらに好ましくは180〜280℃の反応温度
で、200mmHg以下の圧力下に、最終的には240〜3
20℃、0.05〜5mmHgとなるように、通常0.1〜5
時間、好ましくは0.2〜4時間、さらに好ましくは0.
25〜3時間反応を行なう。
ってもよく、バッチ式で行なってもよい。また上記の反
応を行なうに際して用いられる反応装置は、槽型であっ
ても管型であっても塔型であってもよい。
性化合物からなる触媒が、重縮合反応の初期工程に1回
と、該触媒の存在下に行われている重縮合反応の途中に
少なくとも1回添加されている。触媒をこのようにして
添加すると、多段で行われる重縮合工程の各段の工程で
は、充分な重縮合活性を保持しうるようになる。
従来に比べて少量であっても、充分な重縮合活性下に反
応が行われるとともに、経済効率も向上する。触媒とし
ての(a) 含窒素塩基性化合物を上記のように重縮合系に
添加して、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステル
とを溶融重縮合させると、重縮合直後に着色が少なく、
かつ溶融成形時の滞留安定性に優れるとともに、耐水性
に優れたポリカーボネートを製造することができる。
(b) アルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金
属化合物を添加することができる。このようなアルカリ
金属化合物およびアルカリ土類金属化合物としては、具
体的には、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の有機
酸塩、無機酸塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいは
アルコラートなどが好ましく挙げられる。
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ス
テアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステア
リン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ
素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナ
トリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン
酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水
素二リチウム、ビスフェノールAの二ナトリウム塩、二
カリウム塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム
塩、カリウム塩、リチウム塩などを挙げることができ
る。
体的に、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウ
ム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水
素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭
酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウ
ム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチ
ウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウ
ム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロン
チウムなどを挙げることができる。
せて用いることができる。このような(b) アルカリ金属
化合物および/またはアルカリ土類金属化合物は、上記
芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対して8×10-7モ
ル以下の量で、好ましくは5×10-7モル以下の量で、
さらに好ましくは5×10-8〜3×10-7モルの量で用
いられる。
アルカリ土類金属化合物は、240℃、好ましくは18
0℃、さらに好ましくは140℃以下の温度で実施され
ている重縮合反応に添加することが望ましい。このよう
な条件にこれら(b) 金属化合物を添加すると、分子量が
高く、かつ着色が少なく、耐水性に優れたポリカーボネ
ートを得ることができるようになり好ましい。
では、(c) ホウ酸エステルを用いることが好ましい。こ
のような(c) ホウ酸化合物は、上記溶融重縮合の際に触
媒として用いることもできるし、溶融重縮合後に得られ
る[A]ポリカーボネートに添加することもでき、ま
た、両方に添加することもできる。本発明では、溶融重
縮合の際に触媒として添加することが好ましい。
ウ酸およびホウ酸エステルなどを挙げることができる。
ホウ酸エステルとしては、下記一般式で示されるホウ酸
エステルを挙げることができる。
どのアリールなどであり、nは1、2または3である。
的には、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸
トリブチル、ホウ酸トリヘキシル、ホウ酸トリヘプチ
ル、ホウ酸トリフェニル、ホウ酸トリトリル、ホウ酸ト
リナフチルなどが挙げられる。
合わせて用いることができる。(c) ホウ酸またはホウ酸
エステルが用いられるときは、通常、芳香族ジヒドロキ
シ化合物1モルに対して、10-6〜10-4モルの量で用
いられる。
て、および/または溶融重縮合後に得られる[A]ポリ
カーボネートに添加することによって、最終的に耐熱安
定性が向上され、特に成形時に分子量低下が抑制された
ポリカーボネートが得られるようになる。
る[A]ポリカーボネートでは、通常、20℃塩化メチ
レン中で測定した極限粘度が、0.10〜1.0dl/g、
好ましくは0.30〜0.65dl/gである。
融重縮合に際して、毒性物質であるホスゲンや塩化メチ
レンなどを用いないので、環境衛生上好ましい。本発明
では、上記のようにして得られる[A]ポリカーボネー
トに、[B]下記一般式[III]で表されるスルホン酸
化合物を添加する。
(水素はハロゲンで置換されていてもよい)であり、R
8 は水素または炭素数1〜8の炭化水素基(水素はハロ
ゲンで置換されていてもよい)であり、nは0〜3の整
数、好ましくは0または1である。
るスルホン酸化合物としては、具体的に、たとえば、ベ
ンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などのスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸
エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン
酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、p-トルエン
スルホン酸メチル、p-トルエンスルホン酸エチル、p-ト
ルエンスルホン酸ブチル、p-トルエンスルホン酸オクチ
ル、p-トルエンスルホン酸フェニルなどのスルホン酸エ
ステルを挙げることができる。
ナフタレンスルホン酸、スルホン化ポリスチレン、アク
リル酸メチル-スルホン化スチレン共重合体などのスル
ホン酸化合物を用いてもよい。
合わせて用いることができる。本発明では、[B]スル
ホン酸化合物として、上記一般式[III]において、R
7 はメチル基、R8 は炭素数1〜6の脂肪族炭化水素
基、nは0〜1の整数で表される化合物が好ましく用い
られる。具体的には、p-トルエンスルホン酸、p-トルエ
ンスルホン酸ブチルが好ましく用いられる。
式[III]で表されるスルホン酸化合物を、上記[A]
ポリカーボネートに対して、0.05〜10pmm 、好ま
しくは0.1〜5ppm 、特に好ましくは0.2〜2ppm の
量で添加する。
に、特定の[B]スルホン酸化合物をこのような量で添
加することにより、[A]ポリカーボネート中に残存す
るアルカリ性金属化合物が中和されあるいは弱められ
て、最終的にさらに耐熱特性を向上させ、特に成形時の
分子量低下が抑制された向上されたポリカーボネートを
得ることができるようになる。
では、上記[B]スルホン酸化合物とともに[C]エポ
キシ化合物を添加することが好ましい。このような
[C]エポキシ化合物として、1分子中にエポキシ基を
1個以上有する化合物が用いられる。具体的には、エポ
キシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、フェニルグリシジ
ルエーテル、アリルグリシジルエーテル、t-ブチルフェ
ニルグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシル
メチル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレー
ト、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチル-3',
4'-エポキシ-6'-メチルシクロヘキシルカルボキシレー
ト、2,3-エポキシシクロヘキシルメチル-3',4'-エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、4-(3,4-エポキシ
-5-メチルシクロヘキシル)ブチル-3',4'-エポキシシク
ロヘキシルカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキ
シルエチレンオキシド、シクロヘキシルメチル3,4-エポ
キシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4-エポキシ-6
-メチルシクロヘキシルメチル-6'- メチルシロヘキシル
カルボキシレート、ビスフェノールAジグリシジルエー
テル、テトラブロモビスフェノールAグリシジルエーテ
ル、フタル酸のジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフ
タル酸のジグリシジルエステル、ビス-エポキシジシク
ロペンタジエニルエーテル、ビス-エポキシエチレング
リコール、ビス-エポキシシクロヘキシルアジペート、
ブタジエンジエポキシド、テトラフェニルエチレンエポ
キシド、オクチルエポキシタレート、エポキシ化ポリブ
タジエン、3,4-ジメチル-1,2-エポキシシクロヘキサ
ン、3,5-ジメチル-1,2-エポキシシクロヘキサン、3-メ
チル-5-t-ブチル-1,2-エポキシシクロヘキサン、オクタ
デシル-2,2-ジメチル-3,4-エポキシシクロヘキシルカル
ボキシレート、N-ブチル-2,2-ジメチル-3,4-エポキシシ
クロヘキシルカルボキシレート、シクロヘキシル-2-メ
チル-3,4-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、N
-ブチル-2-イソプロピル-3,4-エポキシ-5-メチルシクロ
ヘキシルカルボキシレート、オクタデシル-3,4-エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、2-エチルヘキシル
-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、4,6
-ジメチル-2,3-エポキシシクロヘキシル-3',4'-エポキ
シシクロヘキシルカルボキシレート、4,5-エポキシ無水
テトラヒドロフタル酸、3-t-ブチル-4,5-エポキシ無水
テトラヒドロフタル酸、ジエチル4,5-エポキシ-シス-1,
2-シクロヘキシルジカルボキシレート、ジ-n-ブチル-3-
t-ブチル-4,5-エポキシ-シス-1,2-シクロヘキシルジカ
ルボキシレートなどを挙げることができる。
用いてもよい。これらのうち、脂環族エポキシ化合物が
好ましく用いられ、特に3,4-エポキシシクロヘキシルメ
チル-3',4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート
が好ましく用いられる。
合物を、上記[A]ポリカーボネートに対して、1〜2
000ppm の量で、好ましくは1〜1000ppm の量で
添加することが好ましい。
で添加すると、[A]ポリカーボネート中に上記[B]
スルホン酸化合物が過剰に残存しても、これが[C]エ
ポキシ化合物と反応して中性化され、最終的に色相安定
性に優れ、耐熱特性に優れるとともに、特に耐水性が向
上されたポリカーボネートが得られるようになる。
では、[B]スルホン酸化合物とともに[D]リン化合
物を添加してもよい。このような[D]リン化合物とし
ては、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポ
リリン酸、リン酸エステルおよび亜リン酸エステルを用
いることができる。
的に、たとえば、トリメチルホスフェート、トリエチル
ホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチル
ホスフェート、トリデシルホスフェート、トリオクタデ
シルホスフェート、ジステアリルペンタエリスリチルジ
ホスフェート、トリス(2-クロロエチル)ホスフェー
ト、トリス(2,3-ジクロロプロピル)ホスフェートなど
のトリアルキルホスフェート、トリシクロヘキシルホス
フェートなどのトリシクロアルキルホスフェート、トリ
フェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、ト
リス(ノニルフェニル)ホスフェート、2-エチルフェニ
ルジフェニルホスフェートなどのトリアリールホスフェ
ートなどを挙げることができる。
般式で表される化合物を挙げることができる。 P(OR)3 (式中、Rは脂環族炭化水素基、脂肪族炭化水素基また
は芳香族炭化水素基を表す。これらは同一であっても異
なっていてもよい。)このような式で表される化合物と
して、たとえば、トリメチルホスファイト、トリエチル
ホスファイト、トリブチルホスファイト、トリオクチル
ホスファイト、トリス(2-エチルヘキシル)ホスファイ
ト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリオクタデシルホスファイト、トリステアリルホ
スファイト、トリス(2-クロロエチル)ホスファイト、
トリス(2,3-ジクロロプロピル)ホスファイトなどのト
リアルキルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファ
イトなどのトリシクロアルキルホスファイト、トリフェ
ニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス
(エチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4-ジ-t-
ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニ
ル)ホスファイト、トリス(ヒドロキシフェニル)ホス
ファイトなどのトリアリールホスファイト、フェニルジ
デシルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、
ジフェニルイソオクチルホスファイト、フェニルジイソ
オクチルホスファイト、2-エチルヘキシルジフェニルホ
スファイトなどのアリールアルキルホスファイトなどを
挙げることができる。
リルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス(2,4-ジ
-t-ブチルフェニル)ペンタエリスリチルジホスファイ
トなどを挙げることができる。
合わせて用いることができる。これらのうち、[D]リ
ン化合物として、上記一般式で表される亜リン酸エステ
ルが好ましく、さらに芳香族亜リン酸エステルが好まし
く、特にトリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ホスファ
イトが好ましく用いられる。
物を、[A]ポリカーボネートに対して、10〜100
0ppm 、好ましくは50〜500ppm の量で添加する。
本発明では、上記のような[B]スルホン酸化合物、
[C]エポキシ化合物および[D]リン化合物を、必要
に応じて反応生成物である[A]ポリカーボネートに添
加する方法は特に限定されない。たとえば、反応生成物
である[A]ポリカーボネートが溶融状態にある間にこ
れらを添加してもよいし、一旦[A]ポリカーボネート
をペレタイズした後再溶融して添加してもよい。前者に
おいては、重縮合反応が終了して得られる溶融状態にあ
る反応器内または押出機内の反応生成物である[A]ポ
リカーボネートが溶融状態にある間に、これらを添加し
てポリカーボネートを形成した後、押出機を通してペレ
タイズしてもよいし、また、重縮合反応で得られた
[A]ポリカーボネートが反応器から押出機を通ってペ
レタイズされる間に、これらの化合物を添加して、混練
することによってポリカーボネートを得ることができ
る。
てもよいし、別々に添加してもよい。また、これらの各
化合物を組み合わせて添加する場合、これらの添加順序
は問わない。
リカーボネートに、本発明の目的を損なわない範囲で、
以下に示すような通常の耐熱安定剤、紫外線吸収剤、離
型剤、着色剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッ
キング剤、滑剤、防曇剤、天然油、合成油、ワックス、
有機系充填剤、無機系充填剤などを添加してもよい。こ
のような、添加剤は、上記[B]、[C]および[D]
化合物と同時に添加してもよいし、別々に添加してもよ
い。
は、たとえば、フェノール系安定剤、有機チオエーテル
系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げること
ができる。
n-オクタデシル-3-(4-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチルフ
ェニル)プロピオネート、テトラキス[メチレン-3-
(3',5'-ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオ
ネート]メタン、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキ
シ-5-t- ブチルフェニル)ブタン、ジステアリル(4-ヒ
ドロキシ-3-メチル-5-t-ブチル)ベンジルマロネート、
4-ヒドロキシメチル-2,6-ジ-t-ブチルフェノール等が挙
げられ、これらを単独で用いても2種以上混合して用い
てもよい。
ば、ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル
・チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3'-チオジプ
ロピオネート、ジトリデシル-3,3'-チオジプロピオネー
ト、ペンタエリスリトール-テトラキス-(β-ラウリル-
チオプロピオネート)などを挙げることができる。
用いてもよい。またヒンダードアミン系安定剤として
は、たとえば、ビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリ
ジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-
ピペリジル)セバケート、1-[2-{3-(3,5-ジ-t-ブチ
ル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}エチ
ル]-4-{3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシ}-2,2,6,6-テトラメチルピペ
リジン、8-ベンジル-7,7,9,9-テトラメチル-3-オクチル
-1,2,3-トリアザスピロ[4,5]ウンデカン-2,4-ジオ
ン、4-ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリ
ジン、2-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-2
-n-ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピ
ペリジル)、テトラキス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピ
ペリジル)1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレートなど
を挙げることができる。
用いてもよい。これらの耐熱安定剤は、ポリカーボネー
ト100重量部に対して、0.001〜5重量部、好ま
しくは0.005〜0.5重量部、さらに好ましくは0.
01〜0.3重量部の量で用いられることが望ましい。
てもよく、液体状で添加してもよい。このような耐熱安
定剤は、[A]ポリカーボネートが最終重合器から冷却
されてペレタイズされる間の溶融状態にある間に添加す
ることが好ましく、このようにするとポリカーボネート
が受ける熱履歴回数が少ない。また、押出成形やペレタ
イズなど再び加熱処理をする際には、ポリカーボネート
は耐熱安定剤を含有しているので、熱分解を抑制するこ
とができる。
線吸収剤でよく、特に限定されないが、たとえば、サリ
チル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収
剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリ
レート系紫外線吸収剤などを挙げることができる。
的には、フェニルサリシレート、p-t-ブチルフェニルサ
リシレートが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収
剤としては、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒド
ロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2,2'-ジヒドロキシ
-4- メトキシベンゾフェノン、2,2'-ジヒドロキシ-4,4'
-ジメトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ
-2'-カルボキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メト
キシ-5-スルホベンゾフェノントリヒドレート、2-ヒド
ロキシ-4-n-オクトキシベンゾフェノン、2,2',4,4'-テ
トラヒドロキシベンゾフェノン、4-ドデシロキシ-2-ヒ
ドロキシベンゾフェノン、ビス(5-ベンゾイル-4-ヒド
ロキシ-2-メトキシフェニル)メタン、2-ヒドロキシ-4-
メトキシベンゾフェノン-5-スルホン酸などが挙げられ
る。
は、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチル-フェニル)ベンゾト
リアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチル-フ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t
-ブチル-5'-メチル-フェニル)-5-クロロベンゾトリア
ゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-ブチル-フェニ
ル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ
-5'-t-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'
-ヒドロキシ-3',5'-ジ-t-アミルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2-[2'-ヒドロキシ-3'-(3",4",5",6"-テトラ
ヒドロフタルイミドメチル)-5'-メチルフェニル]ベン
ゾトリアゾール、2,2'-メチレンビス[4-(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)-6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イ
ル)フェノール]などを挙げることができる。
は、2-エチルヘキシル-2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリ
レート、エチル-2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリレート
などを挙げることができる。これらを単独で用いても、
2種以上混合して用いてもよい。
ボネート100重量部に対して、通常0.001〜5重
量部、好ましくは0.005〜1.0重量部、さらに好ま
しくは0.01〜0.5重量部の量で用いることができ
る。
でよく、特に限定されない。たとえば、炭化水素系離型
剤としては、天然、合成パラフィン類、ポリエチレンワ
ックス類、フルオロカーボン類などを挙げることができ
る。
ヒドロキシステアリン酸などの高級脂肪酸、オキシ脂肪
酸類などを挙げることができる。脂肪酸アミド系離型剤
としては、ステアリン酸アミド、エチレンビスステアロ
アミドなどの脂肪酸アミド、アルキレンビス脂肪酸アミ
ド類などを挙げることができる。
アルコール、セチルアルコールなどの脂肪族アルコー
ル、多価アルコール、ポリグリコール、ポリグリセロー
ル類などを挙げることができる。
ステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレー
トなどの脂肪族酸低級アルコールエステル、脂肪酸多価
アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル類
などを挙げることができる。
オイル類などを挙げることができる。これらは単独で用
いても、2種以上混合して用いてもよい。
ト100重量部に対して、通常、0.001〜5重量
部、好ましくは0.005〜1重量部、さらに好ましく
は0.01〜0.5重量部の量で用いることができる。
よく、染料であってもよい。着色剤には、無機系と有機
系の着色剤があるが、どちらを使用してもよく、また、
組み合わせて用いてもよい。
チタン、ベンガラなどの酸化物、アルミナホワイトなど
の水酸化物、硫化亜鉛などの硫化物、セレン化物、紺青
などのフェロシアン化物、ジンククロ メート、モリブ
デンレッドなどのクロム酸塩、硫酸バリウムなどの硫酸
塩、炭酸カルシウムなどの炭酸塩、群青などの硅酸塩、
マンガンバイオレットなどのリン酸塩、カーボンブラッ
クなどの炭素、ブロンズ粉やアルミニウム粉などの金属
粉着色剤などが挙げられる。
トールグリーンBなどのニトロソ系、ナフトールイエロ
−Sなどのニトロ系、リソールレッドやボルドー10
B、ナフトールレッド、クロモフタールイエローなどの
アゾ系、フタロシアニンブルーやファストスカイブルー
などのフタロシアニン系、インダントロンブルーやキナ
クリドンバイオレット、ジオクサジンバイオレットなど
の縮合多環系着色剤などが挙げられる。
わせて用いてもよい。これらの着色剤は、[A]ポリカ
ーボネート100重量部に対して、通常1×10-6〜5
重量部、好ましくは1×10-5〜3重量部、さらに好ま
しくは1×10-5〜1重量部の量で用いることができ
る。
たポリカーボネートに減圧処理を施すことが好ましい。
このような減圧処理をするに際しては、処理装置は特に
限定されないが、たとえば、減圧装置付反応器が用いら
れてもよく、減圧装置付押出機が用いられてもよい。
器、横型槽型反応器いずれでもよく、好ましくは横型槽
型反応器が好ましく用いられる。減圧処理を上記のよう
な反応器において行なう際は、圧力0.05〜750mm
Hg好ましくは 0.05〜5mmHgの条件下で行なわ
れる。
なう場合には、10秒〜15分間程度、また反応器を用
いる場合には、5分〜3時間程度の時間で行なうことが
好ましい。また減圧処理は、240〜350℃程度の温
度で行なうことが好ましい。
は、ベント付の一軸押出機、二軸押出機いずれが用いら
れてもよく、押出機で減圧処理をしながらペレタイズす
ることもできる。
減圧処理は、圧力1〜750mmHg好ましくは5〜70
0mmHgの条件下で行なわれる。このようにして反応生
成物であるポリカーボネートに、必要に応じて[B]、
[C]および[D]化合物を添加した後に、減圧処理を
施すと、残留モノマーやオリゴマーを低減させたポリカ
ーボネートを得ることができる。
カーボネートでは、成形時に金型汚れを生じにくく、着
色などが少ない成形品質に優れた成形品が得られうる。
上述したように本発明で得られるポリカーボネートは、
重縮合直後に着色が少なく、かつ溶融成形時の滞留安定
性に優れており、成形時に熱分解が起こりにくく、分子
量が低下しにくいとともに、色相安定性にも優れてい
る。さらに、耐水性に優れており、透明性も低下しにく
い。
亘って色相安定性に優れ、透明性に優れた成形体を形成
しうるので、特にシートやレンズ、コンパクトディスク
などの光学用用途や、屋外で使用される自動車などの透
明部品用用途さらに各種機器のハウジングなどに広く好
ましく利用することができる。
法では、(a) 含窒素塩基性化合物からなる触媒を、重縮
合反応の初期工程に1回と、該触媒の存在下に行われて
いる重縮合反応の途中に少なくとも1回添加して、溶融
重縮合反応を実施している。
の供給総量が少量であっても各段の重縮合反応を高い重
合活性に保持できるとともに、経済効率も向上される。
本発明に係るポリカーボネートの製造方法では、重縮合
直後に着色が少なく、かつ成形時の熱安定性、色相安定
性などの滞留安定性に優れ、さらに耐水性、透明性にも
優れたポリカーボネートを得ることができる。
のスルホン酸化合物を添加しており、耐熱安定性が向上
されたポリカーボネートが得られる。また、好ましくは
エポキシ化合物、リン化合物を添加して、より一層耐水
性、色相安定性が向上されたポリカーボネートを得るこ
とができる。
期間に亘って色相安定性に優れるとともに、耐水性に優
れ、透明性に優れた成形体を形成しうる。以下本発明を
実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定
されるものではない。
粘度〔IV〕、MFR、色相〔YI〕、光線透過率、ヘ
イズ、滞留安定性、耐水性は、以下のようにして測定さ
れる。
0℃でウベローデ粘度計を用いて測定した。 [色相]3mm厚の射出成形板をシリンダー温度290
℃、射出圧力1000Kg/cm、1サイクル45秒、金型
温度100℃で成形し、X、Y、Z値を日本電色工業
(株) 製の Colorand Color Defference Meter ND-1001
DP を用いて透過法で測定し、黄色度〔YI〕を測定し
た。
色相測定用の射出成形板を用いて測定した。
準拠し、温度300℃、荷重1.2Kgで測定した。
樹脂を滞留させた後、その温度で射出成形を行い、得ら
れた成形板のMFR、色相(YI)を測定した。
トクレーブ中の水に浸漬し、125℃のオーブン中に5
日間保持する。この試験片を用いてヘイズを測定した。
−200を用い、色相測定用の射出成形板のヘイズを測
定した。
ックス(株)製)0.44キロモルと、ジフェニルカー
ボネート(エニィ社製)0.46キロモルとを、250
リットル槽型攪拌槽に仕込み、窒素置換をした後に、1
40℃で溶融した。
ウムヒドロキシドを44ミリモル(1×10-4モル/モ
ル−ビスフェノールA)および水酸化ナトリウムを0.
088ミリモル(2×10-7モル/モル−ビスフェノー
ルA)添加し、140℃で30分間攪拌して、第1段の
重縮合目の反応を行った。
トラメチルアンモニウムヒドロキシドを66ミリモル
(1.5×10-4モル/モル−ビスフェノールA)添加
して、徐々に200mmHgまで減圧して30分間攪拌し
て、第2段目の反応を行った。
15mmHgまで減圧して1時間攪拌して、第3段目の反
応を行った。得られた反応物をギヤポンプで昇圧し、遠
心式薄膜蒸発機に送入し、反応を進めた。薄膜蒸発機の
温度、圧力はそれぞれ270℃、2mmHgにコントロー
ルした。
0℃、0.2mmHgにコントロールされた二軸横型攪拌
重合槽(L/D=3、攪拌翼回転直径220mm、内容積
80リットル)に、40kg/時間で送り込み、滞留時間
30分にて重合させた。
ギヤポンプにて二軸押出機(L/D=17.5、バレル
温度285℃)に送入し、樹脂に対して、p-トルエンス
ルホン酸ブチル0.7ppm 、トリス(2,4-ジ-t- ブチル
フェニル)ホスファイト(マーク 2112 :アデカアーガ
ス社製)300ppm 、3,4-エポキシシクロヘキシルメチ
ル-3,'4'-エポキシシクロヘキシルカルボキシレート
(セロキサイド 2021P:ダイセル化学社製)300ppm
を添加して混練し、ダイを通してストランド状とし、カ
ッターで切断してペレットとした。
シドは、電子用途グレードとして市販されている20%
水溶液を使用した。水溶液中のNa含有量は、9ppb 、
Cl含有量は3ppm であった。
チルフェニル)ホスファイトを使用しなかった以外は、
実施例1と同様にしてポリカーボネートからなるペレッ
トを得た。
キシルメチル-3,'4'-エポキシシクロヘキシルカルボキ
シレートを使用しなかった以外は、実施例1と同様にし
てポリカーボネートからなるペレットを得た。
するテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの量を44
ミリモル(1×10-4モル/モル−ビスフェノールA)
とし、かつ水酸化ナトリウムの量を0.176モル(4
×10-7モル/モル−ビスフェノールA)とした以外
は、実施例1と同様にしてポリカーボネートからなるペ
レットを得た。
ウムヒドロキシドの使用量を、第1段の重縮合目の反
応、第2段目の反応ともに、各88ミリモル(2×10
-4モル/モル−ビスフェノールA)とし、水酸化ナトリ
ウムの量を使用せず、p-トルエンスルホン酸ブチルも添
加しない以外は、実施例3と同様にしてポリカーボネー
トからなるペレットを得た。
ミリモル(2.5×10-5モル/モル−ビスフェノール
A)添加し、p-トルエンスルホン酸ブチルを使用しなか
った以外は、実施例1と同様にしてしてポリカーボネー
トからなるペレットを得た。
ウムヒドロキシドを、第1段の重縮合目の反応では22
ミリモル(0.5×10-4モル/モル−ビスフェノール
A)使用し、第2段目の反応では、44ミリモル(1×
10-4モル/モル−ビスフェノールA)使用し、さらに
第3段目の反応にも44ミリモル(1×10-4モル/モ
ル−ビスフェノールA)使用した以外は、実施例3と同
様にしてポリカーボネートからなるペレットを得た。
ウムヒドロキシドを、第1段の重縮合目の反応にのみ1
10ミリモル(2.5×10-4モル/モル−ビスフェノ
ールA)使用し、第2段目の反応および第3段目の反応
では使用せず、水酸化ナトリウムを0.176ミリモル
(4×10-7モル/モル−ビスフェノールA)使用した
以外は、実施例1と同様にしてポリカーボネートからな
るペレットを得た。
ウムヒドロキシドを、第1段の重縮合目の反応にのみ1
10ミリモル(2.5×10-4モル/モル−ビスフェノ
ールA)使用し、第2段目の反応および第3段目の反応
では使用せず、水酸化ナトリウムを0.176ミリモル
(4×10-7モル/モル−ビスフェノールA)使用した
以外は、実施例2と同様にしてポリカーボネートからな
るペレットを得た。
ウムヒドロキシドを、第1段の重縮合目の反応にのみ1
10ミリモル(2.5×10-4モル/モル−ビスフェノ
ールA)使用し、第2段目の反応および第3段目の反応
では使用せず、水酸化ナトリウムを0.176ミリモル
(4×10-7モル/モル−ビスフェノールA)使用した
以外は、実施例3と同様にしてポリカーボネートからな
るペレットを得た。
ウムヒドロキシドを、第1段の重縮合目の反応にのみ1
10ミリモル(2.5×10-4モル/モル−ビスフェノ
ールA)使用し、第2段目の反応および第3段目の反応
では使用しない以外は、実施例3と同様にしてポリカー
ボネートからなるペレットを得た。
ウムヒドロキシドを、第1段の重縮合目の反応にのみ2
20ミリモル(5×10-4モル/モル−ビスフェノール
A)使用し、第2段目の反応および第3段目の反応では
使用しない以外は、実施例5と同様にしてポリカーボネ
ートからなるペレットを得た。
ウムヒドロキシドを、第1段の重縮合目の反応および第
3段目の反応では使用せず、第2段目の反応にのみ11
0ミリモル(2.5×10-4モル/モル−ビスフェノー
ルA)使用し、水酸化ナトリウムを0.88ミリモル
(20×10-7モル/モル−ビスフェノールA)使用し
た以外は、実施例3と同様にしてポリカーボネートから
なるペレットを得た。
ブチルを7ppm 添加した以外は、比較例6と同様にして
ポリカーボネートからなるペレットを得た。
Claims (21)
- 【請求項1】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、(a) 含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下
に溶融重縮合させてポリカーボネートを製造するに際し
て、 該溶融重縮合を2段以上の多段工程で実施し、 第1段の重縮合工程において、芳香族ジヒドロキシ化合
物と炭酸ジエステルとを、(a) 含窒素塩基性化合物から
なる触媒の存在下に溶融重縮合させ、 第2段以降の重縮合工程において、さらに(a) 含窒素塩
基性化合物を少なくとも1回添加することを特徴とする
ポリカーボネートの製造方法。 - 【請求項2】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、(a) 含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下
に溶融重縮合させてポリカーボネートを製造するに際し
て、 該溶融重縮合を2段以上の多段工程で実施し、 第1段の重縮合工程において、芳香族ジヒドロキシ化合
物と炭酸ジエステルとを、(a) 含窒素塩基性化合物から
なる触媒の存在下に溶融重縮合させ、 第2段以降の重縮合工程において、さらに(a) 含窒素塩
基性化合物を少なくとも1回添加するとともに、 該重縮合で得られる[A]ポリカーボネートに、 [B]下記一般式[III]で表されるスルホン酸化合物
を、ポリカーボネートに対して、0.05〜10ppm の
量で添加することを特徴とするポリカーボネートの製造
方法。 【化1】 〔式中、R7 は炭素数1〜6の炭化水素基(水素はハロ
ゲンで置換されていてもよい)であり、R8 は水素また
は炭素数1〜8の炭化水素基(水素はハロゲンで置換さ
れていてもよい)であり、nは0〜3の整数である。〕 - 【請求項3】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、(a) 含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下
に溶融重縮合させてポリカーボネートを製造するに際し
て、 該溶融重縮合を2段以上の多段工程で実施し、 第1段の重縮合工程において、芳香族ジヒドロキシ化合
物と炭酸ジエステルとを、(a) 含窒素塩基性化合物から
なる触媒の存在下に溶融重縮合させ、 第2段以降の重縮合工程において、さらに(a) 含窒素塩
基性化合物を少なくとも1回添加するとともに、 該重縮合で得られる[A]ポリカーボネートに、 [B]上記一般式[III]で表されるスルホン酸化合物
を、ポリカーボネートに対して、0.05〜10ppm の
量で、 [C]エポキシ化合物を、ポリカーボネートに対して1
〜2000ppm の量で添加することを特徴とするポリカ
ーボネートの製造方法。 - 【請求項4】芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステ
ルとを、(a) 含窒素塩基性化合物からなる触媒の存在下
に溶融重縮合させてポリカーボネートを製造するに際し
て、 該溶融重縮合を2段以上の多段工程で実施し、 第1段の重縮合工程において、芳香族ジヒドロキシ化合
物と炭酸ジエステルとを、(a) 含窒素塩基性化合物から
なる触媒の存在下に溶融重縮合させ、 第2段以降の重縮合工程において、さらに(a) 含窒素塩
基性化合物を少なくとも1回添加するとともに、 該重縮合で得られる[A]ポリカーボネートに、 [B]上記一般式[III]で表されるスルホン酸化合物
を、ポリカーボネートに対して、0.05〜10ppm の
量で、 [C]エポキシ化合物を、ポリカーボネートに対して1
〜2000ppm の量で [D]リン化合物を、ポリカーボネートに対して10〜
1000ppm の量で添加することを特徴とするポリカー
ボネートの製造方法。 - 【請求項5】上記2段以上の重縮合工程が、 反応温度が80〜240℃である第1段の重縮合工程
と、 反応温度が140〜300℃である第2段以降の重縮合
工程とからなり、かつ 第1段の重縮合工程においては、(a) 含窒素塩基性化合
物を、芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対して、2.
5×10-6〜2.5×10-3モルの量で添加し、 第2段以降の重縮合工程においては、(a) 含窒素塩基性
化合物を、第2段の重縮合工程から最終段の重縮合工程
までの合計量で、芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対
して、2.5×10-6〜2.5×10-3モルの量となるよ
うに添加することを特徴とする請求項1〜4のいずれか
に記載のポリカーボネートの製造方法。 - 【請求項6】(a) 含窒素塩基性化合物が、テトラアルキ
ルアンモニウムハイドロオキサイドであることを特徴と
する請求項1〜4のいずれかに記載のポリカーボネート
の製造方法。 - 【請求項7】(a) 含窒素塩基性化合物が、テトラメチル
アンモニウムハイドロオキサイドまたはテトラ-n-ブチ
ルアンモニウムハイドロオキサイドであることを特徴と
する請求項1〜4のいずれかに記載のポリカーボネート
の製造方法。 - 【請求項8】(a) 含窒素塩基性化合物中、塩素含有量が
10ppm 以下であり、かつナトリウム含有量が20ppb
以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに
記載のポリカーボネートの製造方法。 - 【請求項9】重縮合に際して、 芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対して、8×10-7
モル以下の(b) アルカリ金属化合物および/またはアル
カリ土類金属化合物を添加することを特徴とする請求項
1〜4のいずれかに記載のポリカーボネートの製造方
法。 - 【請求項10】重縮合に際して、 芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対して、5×10-7
モル以下の(b) アルカリ金属化合物および/またはアル
カリ土類金属化合物を添加することを特徴とする請求項
1〜4のいずれかに記載のポリカーボネートの製造方
法。 - 【請求項11】重縮合に際して、 芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対して、5×10-8
〜3×10-7モルの(b) アルカリ金属化合物および/ま
たはアルカリ土類金属化合物を添加することを特徴とす
る請求項1〜4のいずれかに記載のポリカーボネートの
製造方法。 - 【請求項12】芳香族ジヒドロキシ化合物1モルに対し
て、1×10-6〜1×10-4モルの(c) ホウ酸エステル
を、重縮合の際に、および/または重縮合終了後得られ
るポリカーボネートに添加することを特徴とする請求項
1〜4のいずれかに記載のポリカーボネートの製造方
法。 - 【請求項13】[III]スルホン酸化合物を、ポリカー
ボネートに対して0.1〜5ppm の量で添加することを
特徴とする請求項2、3または4に記載のポリカーボネ
ートの製造方法。 - 【請求項14】[III]スルホン酸化合物を、ポリカー
ボネートに対して0.2〜2ppm の量で添加することを
特徴とする請求項2、3または4に記載のポリカーボネ
ートの製造方法。 - 【請求項15】[B]スルホン酸化合物が、上記一般式
[III]において、R7 はメチル基であり、R8 は水素
または炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基であり、nは0
または1であるスルホン酸化合物であることを特徴とす
る請求項2、3または4に記載のポリカーボネートの製
造方法。 - 【請求項16】[B]スルホン酸化合物が、p-トルエン
スルホン酸ブチルまたはp-トルエンスルホン酸であるこ
とを特徴とする請求項2、3または4に記載のポリカー
ボネートの製造方法。 - 【請求項17】[C]エポキシ化合物を、ポリカーボネ
ートに対して、1〜1000ppm の量で用いることを特
徴とする請求項3または4に記載のポリカーボネートの
製造方法。 - 【請求項18】[C]エポキシ化合物が、脂環族エポキ
シ化合物であることを特徴とする請求項3または4に記
載のポリカーボネートの製造方法。 - 【請求項19】[C]エポキシ化合物が、3,4-エポキシ
シクロヘキシルメチル-3',4'-エポキシシクロヘキシル
カルボキシレートであることを特徴とする請求項3また
は4に記載のポリカーボネートの製造方法。 - 【請求項20】[D]リン化合物が、芳香族亜リン酸エ
ステル化合物であることを特徴とする請求項4に記載の
ポリカーボネートの製造方法。 - 【請求項21】[D]リン化合物が、トリス(2,4-ジ-t
-ブチルフェニル) ホスファイトであることを特徴とす
る請求項4に記載のポリカーボネートの製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5364926A (en) * | 1992-02-27 | 1994-11-15 | Ge Plastics, Japan, Ltd. (Gep) | Preparing method of polycarbonate resin compounds for the optical use |
JPH07126373A (ja) * | 1993-11-04 | 1995-05-16 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネートの製造法 |
US5486555A (en) * | 1993-08-26 | 1996-01-23 | Teijin Limited | Process for production of stabilized polycarbonate |
US5502153A (en) * | 1992-02-27 | 1996-03-26 | Ge Plastics Japan Ltd. | Method for preparing optical-grade polycarbonate compositions |
EP1268606B1 (en) * | 2000-02-18 | 2006-08-16 | General Electric Company | Method for preparation of polycarbonates |
KR100805481B1 (ko) * | 2000-02-18 | 2008-02-20 | 제너럴 일렉트릭 캄파니 | 폴리카보네이트의 제조방법 |
JP2013001799A (ja) * | 2011-06-16 | 2013-01-07 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート樹脂のゲル化物の生成を低減する方法 |
-
1991
- 1991-06-20 JP JP3148851A patent/JP2911067B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5364926A (en) * | 1992-02-27 | 1994-11-15 | Ge Plastics, Japan, Ltd. (Gep) | Preparing method of polycarbonate resin compounds for the optical use |
US5502153A (en) * | 1992-02-27 | 1996-03-26 | Ge Plastics Japan Ltd. | Method for preparing optical-grade polycarbonate compositions |
US5494952A (en) * | 1993-01-29 | 1996-02-27 | Teijin Limited | Process for production of stabilized polycarbonate |
US5486555A (en) * | 1993-08-26 | 1996-01-23 | Teijin Limited | Process for production of stabilized polycarbonate |
US5668202A (en) * | 1993-08-26 | 1997-09-16 | Teijin Limited | Process for production of stabilized polycarbonate |
JPH07126373A (ja) * | 1993-11-04 | 1995-05-16 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネートの製造法 |
EP1268606B1 (en) * | 2000-02-18 | 2006-08-16 | General Electric Company | Method for preparation of polycarbonates |
KR100805481B1 (ko) * | 2000-02-18 | 2008-02-20 | 제너럴 일렉트릭 캄파니 | 폴리카보네이트의 제조방법 |
JP2013001799A (ja) * | 2011-06-16 | 2013-01-07 | Teijin Chem Ltd | ポリカーボネート樹脂のゲル化物の生成を低減する方法 |
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