JPH0753433A - ケトン類の製造方法 - Google Patents
ケトン類の製造方法Info
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- JPH0753433A JPH0753433A JP5206580A JP20658093A JPH0753433A JP H0753433 A JPH0753433 A JP H0753433A JP 5206580 A JP5206580 A JP 5206580A JP 20658093 A JP20658093 A JP 20658093A JP H0753433 A JPH0753433 A JP H0753433A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 第２級アルコールを脱水素してケトン類を製
造する触媒を提供する。 【構成】 銅、亜鉛及びアルミニウム三元合金を展開し
た球状変性ラネー銅触媒を使用する。
造する触媒を提供する。 【構成】 銅、亜鉛及びアルミニウム三元合金を展開し
た球状変性ラネー銅触媒を使用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ケトン類の製造方法に
関する。更に詳しくは、本発明は第２級アルコールを脱
水素してケトン類を製造する方法に関する。ケトン類、
即ちアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
は基礎的な汎用化学品である。
関する。更に詳しくは、本発明は第２級アルコールを脱
水素してケトン類を製造する方法に関する。ケトン類、
即ちアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
は基礎的な汎用化学品である。
【０００２】
【従来の技術】アセトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノンなどのケトン類の製造方法として、触媒の存
在下に第２級アルコールを脱水素する方法が知られてい
る。アセトン、メチルエチルケトンを脱水素法で製造す
る先行技術として、特開昭６０−２５８１３５公報で
は、ラネーニッケル触媒を用い、液相懸濁法、１６０〜
１９０℃でケトンを合成する方法、ヨーロッパ特許第４
３３０９号（１９８２年）でも同様、ラネーニッケル触
媒を用い、パラフィン溶媒に液相懸濁させ、１７０〜２
３０℃でケトンを合成する方法が開示されている。又、
米国特許第４，４５３，０１５号（１９８４年）には、
銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、クロム（Ｃｒ）酸化物系の
触媒を用いて、気相３５０〜４００℃の温度範囲で脱水
素する方法が開示されている。
ヘキサノンなどのケトン類の製造方法として、触媒の存
在下に第２級アルコールを脱水素する方法が知られてい
る。アセトン、メチルエチルケトンを脱水素法で製造す
る先行技術として、特開昭６０−２５８１３５公報で
は、ラネーニッケル触媒を用い、液相懸濁法、１６０〜
１９０℃でケトンを合成する方法、ヨーロッパ特許第４
３３０９号（１９８２年）でも同様、ラネーニッケル触
媒を用い、パラフィン溶媒に液相懸濁させ、１７０〜２
３０℃でケトンを合成する方法が開示されている。又、
米国特許第４，４５３，０１５号（１９８４年）には、
銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、クロム（Ｃｒ）酸化物系の
触媒を用いて、気相３５０〜４００℃の温度範囲で脱水
素する方法が開示されている。
【０００３】しかし、酸化亜鉛−銅系の触媒を用いる気
相触媒固定床法は転化率は高いが選択率が低く、副生物
が多いという欠点があり、ラネーニッケルを用いる液相
触媒懸濁法は逆に選択率は高いが転化率が低く、また空
時収量、即ちＳｐａｃｅ Ｔｉｍｅ Ｙｉｅｌｄ（ケト
ン収量／触媒量・反応時間）も低いという欠点がある。
又、液相懸濁法の触媒としては、破砕型の触媒を使用す
る為作業性、操作性が悪いという欠点があり、その改良
が望まれている。
相触媒固定床法は転化率は高いが選択率が低く、副生物
が多いという欠点があり、ラネーニッケルを用いる液相
触媒懸濁法は逆に選択率は高いが転化率が低く、また空
時収量、即ちＳｐａｃｅ Ｔｉｍｅ Ｙｉｅｌｄ（ケト
ン収量／触媒量・反応時間）も低いという欠点がある。
又、液相懸濁法の触媒としては、破砕型の触媒を使用す
る為作業性、操作性が悪いという欠点があり、その改良
が望まれている。
【０００４】シクロヘキサノールの脱水素によりシクロ
ヘキサノンを製造する先行技術としては、特開昭５６−
２０５４１号公報、Ｃｕ−Ｃｒ系酸化物を高温熱処理
後、還元した触媒を用いて、気相で脱水素する例、特開
昭５８−１５７７４１号公報、Ｃｕ−Ｃｒ−Ｋ系酸化物
触媒を気相で用いる例、特開昭６１−２８２３３４号公
報、Ｃｕ−Ｚｎ系酸化物にアルカリ金属酸化物を添加し
た触媒を用いて、気相で脱水素する例などが開示されて
いる。
ヘキサノンを製造する先行技術としては、特開昭５６−
２０５４１号公報、Ｃｕ−Ｃｒ系酸化物を高温熱処理
後、還元した触媒を用いて、気相で脱水素する例、特開
昭５８−１５７７４１号公報、Ｃｕ−Ｃｒ−Ｋ系酸化物
触媒を気相で用いる例、特開昭６１−２８２３３４号公
報、Ｃｕ−Ｚｎ系酸化物にアルカリ金属酸化物を添加し
た触媒を用いて、気相で脱水素する例などが開示されて
いる。
【０００５】これらの先行触媒は性能面ではかなり高い
レベルに達しているが、実用触媒の製造といった面から
すると、主として共沈法で製造されるケースが多く、製
造工程も長く複雑といった欠点があり、その触媒製造方
法の改良が望まれている。
レベルに達しているが、実用触媒の製造といった面から
すると、主として共沈法で製造されるケースが多く、製
造工程も長く複雑といった欠点があり、その触媒製造方
法の改良が望まれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明はこのよ
うな問題がなく第２級アルコールを脱水素して効率的に
ケトン類を製造する方法を提供することを目的とする。
うな問題がなく第２級アルコールを脱水素して効率的に
ケトン類を製造する方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記課題は、第２級アル
コールを脱水素してケトン類を製造する方法において、
脱水素触媒として、球状の銅、亜鉛、アルミニウム三元
合金を展開した球状変性ラネー銅触媒を使用することを
特徴とするケトン類の製造方法によって達成される。以
下、本発明を詳細に説明する。
コールを脱水素してケトン類を製造する方法において、
脱水素触媒として、球状の銅、亜鉛、アルミニウム三元
合金を展開した球状変性ラネー銅触媒を使用することを
特徴とするケトン類の製造方法によって達成される。以
下、本発明を詳細に説明する。
【０００８】本発明者は気相法又は液相懸濁法によるケ
トン類の製造方法を改良すべく脱水素反応用の触媒につ
いて検討した結果、先行触媒の製法に比し一層簡略化さ
れた方法で製造できる球状の変性ラネー銅触媒（以下、
球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒と略す。）を用いることによりこ
の目的が達成し得る事を見出し本発見に到達した。即ち
本発明は、第２級アルコールを脱水素してケトン類を製
造する方法において、脱水素触媒として、球状のＣｕ、
Ｚｎ、Ａｌ三元合金を展開した球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒を
使用することを特徴とするケトン類の製造方法である。
トン類の製造方法を改良すべく脱水素反応用の触媒につ
いて検討した結果、先行触媒の製法に比し一層簡略化さ
れた方法で製造できる球状の変性ラネー銅触媒（以下、
球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒と略す。）を用いることによりこ
の目的が達成し得る事を見出し本発見に到達した。即ち
本発明は、第２級アルコールを脱水素してケトン類を製
造する方法において、脱水素触媒として、球状のＣｕ、
Ｚｎ、Ａｌ三元合金を展開した球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒を
使用することを特徴とするケトン類の製造方法である。
【０００９】本発明に用いる第２級アルコールとして
は、第２級ブタノール、シクロヘキサノール、イソプロ
パノールが好適であり、脱水素反応で得られるケトン
類、夫々メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トンは化学工業用基礎原料として重要なものである。
は、第２級ブタノール、シクロヘキサノール、イソプロ
パノールが好適であり、脱水素反応で得られるケトン
類、夫々メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トンは化学工業用基礎原料として重要なものである。
【００１０】本発明に用いられるラネー銅触媒は公知文
献に基づき、次のように定義される。即ち、アルミニウ
ム、シリコンのようなアルカリ又は酸に可溶な金属とア
ルカリ又は酸に不溶な金属との合金を製造した後、この
合金を展開して得られる金属触媒と定義され、ラネー銅
触媒とは展開後得られる金属触媒中の金属組成が銅を主
体とするものである。ラネー銅触媒のうち、アルカリ又
は酸に可溶な金属としては、展開の容易さ及び経済性を
考慮してアルミニウムが多用される。
献に基づき、次のように定義される。即ち、アルミニウ
ム、シリコンのようなアルカリ又は酸に可溶な金属とア
ルカリ又は酸に不溶な金属との合金を製造した後、この
合金を展開して得られる金属触媒と定義され、ラネー銅
触媒とは展開後得られる金属触媒中の金属組成が銅を主
体とするものである。ラネー銅触媒のうち、アルカリ又
は酸に可溶な金属としては、展開の容易さ及び経済性を
考慮してアルミニウムが多用される。
【００１１】通常、Ｃｕ／Ａｌ合金を展開したＲ−Ｃｕ
触媒の主成分はＣｕで少量のＡｌを含有するが、Ｃｕ及
びＡｌ以外の成分、即ち、本発明ではＺｎを含有する触
媒は変性Ｒ−Ｃｕ触媒と称されている。本発明でいう球
状のＣｕ／Ｚｎ／Ａｌ三元合金（以下、球状変性Ｒ−Ｃ
ｕ合金）又は球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒とは合金又は触媒粒
子、とくに微粒子を平面に投影して観察したときに、長
軸、短軸方向の長さを夫々ａ，ｂとするとき、殆どａ／
ｂ比が１になる粒子と定義する。
触媒の主成分はＣｕで少量のＡｌを含有するが、Ｃｕ及
びＡｌ以外の成分、即ち、本発明ではＺｎを含有する触
媒は変性Ｒ−Ｃｕ触媒と称されている。本発明でいう球
状のＣｕ／Ｚｎ／Ａｌ三元合金（以下、球状変性Ｒ−Ｃ
ｕ合金）又は球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒とは合金又は触媒粒
子、とくに微粒子を平面に投影して観察したときに、長
軸、短軸方向の長さを夫々ａ，ｂとするとき、殆どａ／
ｂ比が１になる粒子と定義する。
【００１２】本発明で使用される球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒
は、Ｚｎ１〜５０重量％、Ａｌ３０〜７０重量％、残部
がほぼ全量Ｃｕである球状変性Ｒ−Ｃｕ合金を形成させ
た後、これを通常のアルカリ金属水酸化物の水溶液を使
用して展開したものを好適に使用することができる。
は、Ｚｎ１〜５０重量％、Ａｌ３０〜７０重量％、残部
がほぼ全量Ｃｕである球状変性Ｒ−Ｃｕ合金を形成させ
た後、これを通常のアルカリ金属水酸化物の水溶液を使
用して展開したものを好適に使用することができる。
【００１３】展開に用いるアルカリ金属水酸化物は水酸
化ナトリウム又は水酸化カリウムが好ましく、その水溶
液濃度は１５〜３０重量％の範囲で選択される。アルカ
リ金属酸化物の溶液は合金中のＡｌを全量溶出するに必
要な量より過剰の量を加えるのが好ましい。展開温度は
大気圧下、５０〜８０℃、好ましくは６５〜７５℃の範
囲で選択するのが好適である。
化ナトリウム又は水酸化カリウムが好ましく、その水溶
液濃度は１５〜３０重量％の範囲で選択される。アルカ
リ金属酸化物の溶液は合金中のＡｌを全量溶出するに必
要な量より過剰の量を加えるのが好ましい。展開温度は
大気圧下、５０〜８０℃、好ましくは６５〜７５℃の範
囲で選択するのが好適である。
【００１４】又、球状変性Ｒ−Ｃｕ合金の展開方法とし
て特表平３−５０１３５３号公報に開示されているよう
なアルカリ金属水酸化物の水溶液中に適量の亜鉛酸イオ
ン、例えばＮａ2 Ｚｎ（ＯＨ）4 を存在させて展開する
方法も適用可能である。この方法は、Ｃｕ／Ｚｎ／Ａｌ
合金を金属水酸化物の水溶液で展開する際に、Ａｌとと
もにＺｎも同時に溶出するために、展開触媒中のＺｎ量
をコントロールするために有効である。
て特表平３−５０１３５３号公報に開示されているよう
なアルカリ金属水酸化物の水溶液中に適量の亜鉛酸イオ
ン、例えばＮａ2 Ｚｎ（ＯＨ）4 を存在させて展開する
方法も適用可能である。この方法は、Ｃｕ／Ｚｎ／Ａｌ
合金を金属水酸化物の水溶液で展開する際に、Ａｌとと
もにＺｎも同時に溶出するために、展開触媒中のＺｎ量
をコントロールするために有効である。
【００１５】液相懸濁法で変性Ｒ−Ｃｕ触媒を用いる場
合、球状変性Ｒ−Ｃｕ合金で粒径が２０〜２００μの範
囲のものを展開した触媒を好適に使用できる。通常のＲ
−Ｃｕ触媒はＣｕ／ＡｌよりなるＲ−Ｃｕ合金のインゴ
ットを製造した後、これを破砕して適切な粒度分布とし
た後、展開する製法が採用される。この場合、触媒形状
は不規則型であり、この形状のものは懸濁法用の触媒と
しては不適当である。即ち、触媒形状が不規則型である
と撹拌時に摩耗して、微粒子が著しく増大すること、後
の微粒子触媒の回収が難しくなること及び懸濁状態も悪
く反応効率が低下するといったことが起こる為である。
合、球状変性Ｒ−Ｃｕ合金で粒径が２０〜２００μの範
囲のものを展開した触媒を好適に使用できる。通常のＲ
−Ｃｕ触媒はＣｕ／ＡｌよりなるＲ−Ｃｕ合金のインゴ
ットを製造した後、これを破砕して適切な粒度分布とし
た後、展開する製法が採用される。この場合、触媒形状
は不規則型であり、この形状のものは懸濁法用の触媒と
しては不適当である。即ち、触媒形状が不規則型である
と撹拌時に摩耗して、微粒子が著しく増大すること、後
の微粒子触媒の回収が難しくなること及び懸濁状態も悪
く反応効率が低下するといったことが起こる為である。
【００１６】本発明で使用される球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒
は合金の段階ですでに２０〜２００μ粒径範囲の球状を
しているものであり、その後の展開で粒子が微粒子化す
ることは殆どなく、その粒径範囲を維持して十分な機械
的強度を保持する触媒である。気相法で変性Ｒ−Ｃｕ触
媒を用いる場合は、球状変性Ｒ−Ｃｕ合金に粒径１〜６
ｍｍφ範囲のものを展開した触媒を好適に使用できる。
球状の変性Ｒ−Ｃｕ合金の製造法としては公知の方法を
採用することができる。
は合金の段階ですでに２０〜２００μ粒径範囲の球状を
しているものであり、その後の展開で粒子が微粒子化す
ることは殆どなく、その粒径範囲を維持して十分な機械
的強度を保持する触媒である。気相法で変性Ｒ−Ｃｕ触
媒を用いる場合は、球状変性Ｒ−Ｃｕ合金に粒径１〜６
ｍｍφ範囲のものを展開した触媒を好適に使用できる。
球状の変性Ｒ−Ｃｕ合金の製造法としては公知の方法を
採用することができる。
【００１７】変性Ｒ−Ｃｕ触媒の製造工程は主に合金製
造−展開−水洗の３工程より成り立っており、従来の脱
水素触媒の製造工程、例えば特開昭５８−１５７７４１
号公報に開示されているＣｕ／Ｃｒ系酸化物触媒の共沈
法による製造を参照すると、合金展開法は工程が簡略化
され、再現性よく工学触媒を製造する方法として優れて
いることがわかる。変性Ｒ−Ｃｕ触媒は展開後、通常、
水封状態で保管される。
造−展開−水洗の３工程より成り立っており、従来の脱
水素触媒の製造工程、例えば特開昭５８−１５７７４１
号公報に開示されているＣｕ／Ｃｒ系酸化物触媒の共沈
法による製造を参照すると、合金展開法は工程が簡略化
され、再現性よく工学触媒を製造する方法として優れて
いることがわかる。変性Ｒ−Ｃｕ触媒は展開後、通常、
水封状態で保管される。
【００１８】使用に当っては、水切り後、不活性ガス中
で乾燥後、使用することができる。触媒は還元状態にあ
るため、還元せずに使用することもできるが、反応直前
に必要なときはＨｚなどを用いて１５０〜４００℃の範
囲で還元することが好ましい。本発明で使用される球状
変性Ｒ−Ｃｕ触媒の特色は 触媒製造工程が簡略化され、経済的に有利。 触媒が製造終了後還元状態にあり、反応に先立つ還元
が不要、又は容易。 性能向上（とくに低温活性）に有利。 液相懸濁法で使用する場合、触媒沈降性も良く、操作
性、作業性が良好。 等を挙げることができる。
で乾燥後、使用することができる。触媒は還元状態にあ
るため、還元せずに使用することもできるが、反応直前
に必要なときはＨｚなどを用いて１５０〜４００℃の範
囲で還元することが好ましい。本発明で使用される球状
変性Ｒ−Ｃｕ触媒の特色は 触媒製造工程が簡略化され、経済的に有利。 触媒が製造終了後還元状態にあり、反応に先立つ還元
が不要、又は容易。 性能向上（とくに低温活性）に有利。 液相懸濁法で使用する場合、触媒沈降性も良く、操作
性、作業性が良好。 等を挙げることができる。
【００１９】脱水素反応を液相懸濁法で実施する際の反
応条件は、反応温度１６０〜１９０℃、反応圧力２〜８
ｋｇ／ｃｍ2 の範囲が好ましい。触媒を懸濁させる溶媒
としては、好ましくは沸点が２００℃以上のパラフィン
系およびナフテン系飽和炭化水素又はそれらの混合物な
どの炭化水素を使用することができる。
応条件は、反応温度１６０〜１９０℃、反応圧力２〜８
ｋｇ／ｃｍ2 の範囲が好ましい。触媒を懸濁させる溶媒
としては、好ましくは沸点が２００℃以上のパラフィン
系およびナフテン系飽和炭化水素又はそれらの混合物な
どの炭化水素を使用することができる。
【００２０】脱水素反応を気相で実施する際の反応条件
は反応温度２００〜４００℃、好ましくは２５０〜３５
０℃、反応圧力は特に制限はないが、減圧から加圧迄、
通常、常圧付近の圧力を選ぶのがよい。原料液の供給速
度は、液空間速度ＬＨＳＶで０．１〜１００hr-1、好ま
しくは０．５〜２０hr-1の範囲である。原料液はＮ2、
Ｈ2 などの不活性ガスで希釈して供給することもでき
る。
は反応温度２００〜４００℃、好ましくは２５０〜３５
０℃、反応圧力は特に制限はないが、減圧から加圧迄、
通常、常圧付近の圧力を選ぶのがよい。原料液の供給速
度は、液空間速度ＬＨＳＶで０．１〜１００hr-1、好ま
しくは０．５〜２０hr-1の範囲である。原料液はＮ2、
Ｈ2 などの不活性ガスで希釈して供給することもでき
る。
【００２１】
【実施例】本発明を更に実施例をもって説明する。 実施例１ 組成がＣｕ４０、Ｚｎ１０、Ａｌ５０重量％よりなる球
状変性Ｒ−Ｃｕ合金を用いて２０重量％の苛性ソーダ水
溶液を用いて４０〜６０℃の温度範囲で展開を行って水
洗後、球状の変性Ｒ−Ｃｕ触媒を得た。触媒は水封状態
で保管してある。球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒の組成はＣｕ９
３．３、Ｚｎ５．２、Ａｌ１．５重量％であり、レーザ
ー回折法で実測した粒度分布は次であった。
状変性Ｒ−Ｃｕ合金を用いて２０重量％の苛性ソーダ水
溶液を用いて４０〜６０℃の温度範囲で展開を行って水
洗後、球状の変性Ｒ−Ｃｕ触媒を得た。触媒は水封状態
で保管してある。球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒の組成はＣｕ９
３．３、Ｚｎ５．２、Ａｌ１．５重量％であり、レーザ
ー回折法で実測した粒度分布は次であった。
【００２２】
【表１】
【００２３】合金の展開に伴う触媒の微粒子化は無視で
きる程度であり、合金と触媒の粒度は大差がなかった。
球状Ｒ−Ｃｕ触媒を水切りを行った後、Ｎ2 中１００℃
で乾燥したもの２０ｇを内容積２００ｍｌのオートクレ
ーブ（ＳＵＳ製）に沸点２８０〜３５０℃の飽和炭化水
素油１２０ｍｌとともに仕込んで１７０℃に加熱した。
次いで、このオートクレーブに２級ブタノールを５０ｇ
／hrで供給し、圧力は６ｋｇ／ｃｍ2 Ｇとした。２級ブ
タノールの転化率４４（％）、メチルエチルケトンの選
択率、収率は夫々９７、４２．７（％）、メチルエチル
ケトンの空時収量１．０４（ｋｇ／ｋｇ触媒・hr）であ
った。
きる程度であり、合金と触媒の粒度は大差がなかった。
球状Ｒ−Ｃｕ触媒を水切りを行った後、Ｎ2 中１００℃
で乾燥したもの２０ｇを内容積２００ｍｌのオートクレ
ーブ（ＳＵＳ製）に沸点２８０〜３５０℃の飽和炭化水
素油１２０ｍｌとともに仕込んで１７０℃に加熱した。
次いで、このオートクレーブに２級ブタノールを５０ｇ
／hrで供給し、圧力は６ｋｇ／ｃｍ2 Ｇとした。２級ブ
タノールの転化率４４（％）、メチルエチルケトンの選
択率、収率は夫々９７、４２．７（％）、メチルエチル
ケトンの空時収量１．０４（ｋｇ／ｋｇ触媒・hr）であ
った。
【００２４】実施例２ 実施例１と同じ触媒を用い、反応条件の内、圧力を４ｋ
ｇ／ｃｍ2 Ｇとする以外、実施例１と同じにして、２級
ブタノールの脱水素反応を行った。２級ブタノールの転
化率３７（％）、メチルエチルケトンの選択率、収率は
夫々９７、３５．９（％）、メチルエチルケトンの空時
収量０．８７（ｋｇ／ｋｇ触媒・hr）であった。
ｇ／ｃｍ2 Ｇとする以外、実施例１と同じにして、２級
ブタノールの脱水素反応を行った。２級ブタノールの転
化率３７（％）、メチルエチルケトンの選択率、収率は
夫々９７、３５．９（％）、メチルエチルケトンの空時
収量０．８７（ｋｇ／ｋｇ触媒・hr）であった。
【００２５】実施例３ 組成がＣｕ３３、Ｚｎ１７、Ａｌ５０重量％よりなる球
状変性Ｒ−Ｃｕ合金を用いて２０重量％の苛性ソーダ水
溶液を用いて４０〜６０℃の温度範囲で展開を行って水
洗後、球状の変性Ｒ−Ｃｕ触媒を得た。触媒は水封状態
で保管してある。球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒の組成はＣｕ８
６．３、Ｚｎ１１．６、Ａｌ２．１重量％であり、その
粒度分布は実施例１の触媒に殆ど同じであった。水切り
を行った後、Ｎ2 中１００℃で乾燥した触媒２０ｇを用
いる以外、実施例１と同じにして２級ブタノールの脱水
素反応を行った。２級ブタノールの転化率４２（％）、
メチルエチルケトンの選択率、収率は夫々９７、４０．
８（％）、メチルエチルケトンの空時収量１．０（ｋｇ
／ｋｇ触媒・hr）であった。
状変性Ｒ−Ｃｕ合金を用いて２０重量％の苛性ソーダ水
溶液を用いて４０〜６０℃の温度範囲で展開を行って水
洗後、球状の変性Ｒ−Ｃｕ触媒を得た。触媒は水封状態
で保管してある。球状変性Ｒ−Ｃｕ触媒の組成はＣｕ８
６．３、Ｚｎ１１．６、Ａｌ２．１重量％であり、その
粒度分布は実施例１の触媒に殆ど同じであった。水切り
を行った後、Ｎ2 中１００℃で乾燥した触媒２０ｇを用
いる以外、実施例１と同じにして２級ブタノールの脱水
素反応を行った。２級ブタノールの転化率４２（％）、
メチルエチルケトンの選択率、収率は夫々９７、４０．
８（％）、メチルエチルケトンの空時収量１．０（ｋｇ
／ｋｇ触媒・hr）であった。
【００２６】実施例４ 粒径が０．５〜１．５ｍｍφ、組成がＣｕ４０、Ｚｎ１
０、Ａｌ５０重量％よりなる球状変性Ｒ−Ｃｕ合金を用
いて、実施例１と同様に展開を行って組成Ｃｕ９３．
３、Ｚｎ５．２、Ａｌ１．５重量％の球状変性Ｒ−Ｃｕ
触媒を得た。触媒は水封状態で保管してある。内径１０
ｍｍφの反応管（ＳＵＳ製）に、水切りを行い、Ｎ2 気
流下１００℃で乾燥した触媒を１０ｍｌ充填した。１５
０℃でＨ2 中予備還元を行ってから２級ブタノールの気
相脱水素反応を行った。反応温度３８０℃、反応圧力は
常圧、ＬＨＳＶ６hr-1で第２級アルコールを触媒層に流
通させた結果、２級ブタノールの転化率８３．４
（％）、メチルエチルケトンの選択率、収率は夫々９
３．０、７７．６（％）であった。
０、Ａｌ５０重量％よりなる球状変性Ｒ−Ｃｕ合金を用
いて、実施例１と同様に展開を行って組成Ｃｕ９３．
３、Ｚｎ５．２、Ａｌ１．５重量％の球状変性Ｒ−Ｃｕ
触媒を得た。触媒は水封状態で保管してある。内径１０
ｍｍφの反応管（ＳＵＳ製）に、水切りを行い、Ｎ2 気
流下１００℃で乾燥した触媒を１０ｍｌ充填した。１５
０℃でＨ2 中予備還元を行ってから２級ブタノールの気
相脱水素反応を行った。反応温度３８０℃、反応圧力は
常圧、ＬＨＳＶ６hr-1で第２級アルコールを触媒層に流
通させた結果、２級ブタノールの転化率８３．４
（％）、メチルエチルケトンの選択率、収率は夫々９
３．０、７７．６（％）であった。
【００２７】実施例５ 実施例４と同じ触媒を用いて、シクロヘキサンの気相脱
水素反応を行った。内径１０ｍｍφの反応管（ＳＵＳ
製）に、水切りを行い、Ｎ2 気流下１００℃で乾燥した
触媒を１０ｍｌ充填した。１５０℃でＨ2 中予備還元を
行ってからシクロヘキサノールの気相脱水素反応による
シクロヘキサノンの合成を行った。反応温度２２０℃、
反応圧力は常圧、ＬＨＳＶ２hr-1でシクロヘキサノール
を触媒層に流通させた結果、シクロヘキサノールの転化
率４７（％）、シクロヘキサノンの選択率、収率は夫々
９９．８、４６．９（％）であった。
水素反応を行った。内径１０ｍｍφの反応管（ＳＵＳ
製）に、水切りを行い、Ｎ2 気流下１００℃で乾燥した
触媒を１０ｍｌ充填した。１５０℃でＨ2 中予備還元を
行ってからシクロヘキサノールの気相脱水素反応による
シクロヘキサノンの合成を行った。反応温度２２０℃、
反応圧力は常圧、ＬＨＳＶ２hr-1でシクロヘキサノール
を触媒層に流通させた結果、シクロヘキサノールの転化
率４７（％）、シクロヘキサノンの選択率、収率は夫々
９９．８、４６．９（％）であった。
【００２８】実施例６ 反応条件の内、反応温度を２８０℃、ＬＨＳＶを４hr-1
と変更する以外、実施例５と全く同じにして、シクロヘ
キサノールの脱水素反応を行った。シクロヘキサノール
の転化率８１（％）、シクロヘキサノンの選択率、収率
は夫々９９．５、８０．６（％）であった。
と変更する以外、実施例５と全く同じにして、シクロヘ
キサノールの脱水素反応を行った。シクロヘキサノール
の転化率８１（％）、シクロヘキサノンの選択率、収率
は夫々９９．５、８０．６（％）であった。
【００２９】
【発明の効果】本発明の方法により、脱水素触媒として
球状変性Ｒ−Ｃｕを用いることで、第２級アルコールよ
りケトン類の効率的な製造が可能となる。
球状変性Ｒ−Ｃｕを用いることで、第２級アルコールよ
りケトン類の効率的な製造が可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (1)
- 【請求項１】 第２級アルコールを脱水素してケトン類
を製造する方法において、銅、亜鉛及びアルミニウム三
元合金を展開した球状変性ラネー銅触媒を使用すること
を特徴とするケトン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5206580A JPH0753433A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | ケトン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5206580A JPH0753433A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | ケトン類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0753433A true JPH0753433A (ja) | 1995-02-28 |
Family
ID=16525762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5206580A Pending JPH0753433A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | ケトン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0753433A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009110413A1 (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-11 | メタウォーター株式会社 | バイオエタノールからのアセトン製造方法 |
| WO2011048783A1 (ja) * | 2009-10-23 | 2011-04-28 | 出光興産株式会社 | ケトンの製造方法 |
| WO2012020833A1 (ja) | 2010-08-12 | 2012-02-16 | 三井化学株式会社 | ｇｎｔＲを破壊することによって生産性が向上したイソプロピルアルコール生産細菌 |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP5206580A patent/JPH0753433A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009110413A1 (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-11 | メタウォーター株式会社 | バイオエタノールからのアセトン製造方法 |
| JP2009209059A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Metawater Co Ltd | バイオエタノールからのアセトン製造方法 |
| US7973199B2 (en) | 2008-03-03 | 2011-07-05 | Metawater Co., Ltd. | Process for producing acetone from bioethanol |
| WO2011048783A1 (ja) * | 2009-10-23 | 2011-04-28 | 出光興産株式会社 | ケトンの製造方法 |
| CN102596876A (zh) * | 2009-10-23 | 2012-07-18 | 出光兴产株式会社 | 酮的制造方法 |
| JP5615834B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2014-10-29 | 出光興産株式会社 | ケトンの製造方法 |
| WO2012020833A1 (ja) | 2010-08-12 | 2012-02-16 | 三井化学株式会社 | ｇｎｔＲを破壊することによって生産性が向上したイソプロピルアルコール生産細菌 |
| JP5674789B2 (ja) * | 2010-08-12 | 2015-02-25 | 三井化学株式会社 | ｇｎｔＲを破壊することによって生産性が向上したイソプロピルアルコール生産細菌 |
| US9267156B2 (en) | 2010-08-12 | 2016-02-23 | Mitsui Chemicals, Inc. | Isopropyl alcohol-producing bacterium having improved productivity by GntR destruction |
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