JPH075308A - 裏面反射鏡 - Google Patents
裏面反射鏡Info
- Publication number
- JPH075308A JPH075308A JP14482893A JP14482893A JPH075308A JP H075308 A JPH075308 A JP H075308A JP 14482893 A JP14482893 A JP 14482893A JP 14482893 A JP14482893 A JP 14482893A JP H075308 A JPH075308 A JP H075308A
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- Japan
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- metal
- ceo2
- reflecting mirror
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護層を含め裏面反射鏡の全層を同一装置内
で形成でき、しかも耐久性に優れた裏面反射鏡を提供す
ること。 【構成】 基板上に少なくともAg層および保護層をこ
の順で有し、該保護層がCeO2層および金属層から構
成されていることを特徴とする裏面反射鏡。
で形成でき、しかも耐久性に優れた裏面反射鏡を提供す
ること。 【構成】 基板上に少なくともAg層および保護層をこ
の順で有し、該保護層がCeO2層および金属層から構
成されていることを特徴とする裏面反射鏡。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は鏡、ペンタプリズム等に
使用される裏面反射鏡に関する。
使用される裏面反射鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】裏面反射鏡は、図2に示すように、光が
ガラス等の基板側から入射し、コート面で反射するもの
で、カメラのペンタプリズムの反射面等に利用されてい
る。コート面としては、銀(Ag)やアルミニウム(Al)
が主に用いられている。可視光の反射率に関してはAg
が金属の中で最も優れており、高い反射率が必要とされ
るペンタプリズム等ではほとんどAgが採用されてい
る。
ガラス等の基板側から入射し、コート面で反射するもの
で、カメラのペンタプリズムの反射面等に利用されてい
る。コート面としては、銀(Ag)やアルミニウム(Al)
が主に用いられている。可視光の反射率に関してはAg
が金属の中で最も優れており、高い反射率が必要とされ
るペンタプリズム等ではほとんどAgが採用されてい
る。
【0003】しかし、Agは非常に腐食しやすいので、
Alの様にMgF2やSiO2の単層膜を上に蒸着するだ
けでは耐久性の面で満足できるものが得られない。その
Agの腐食を防止するため、通常、Ag面の上に銅(C
u)等の金属を蒸着し、その上にさらに、吹き付け塗装
等を行なってAg面を保護している。
Alの様にMgF2やSiO2の単層膜を上に蒸着するだ
けでは耐久性の面で満足できるものが得られない。その
Agの腐食を防止するため、通常、Ag面の上に銅(C
u)等の金属を蒸着し、その上にさらに、吹き付け塗装
等を行なってAg面を保護している。
【0004】Cu等の金属の蒸着はAgの蒸着と同一の
装置内で行うことができるが、蒸着後にさらに行う塗装
は、蒸着とは全く異なる工程で行わなければならない。
そのため、製品を蒸着工程から塗装工程へ移動するとい
う工程を踏まねばならない。製造工程が増え、繁雑にな
るだけでなく、余分な時間と労力が必要となる。さらに
蒸着装置とはまったく別の塗装装置を設けなければなら
いため、コストがかかる等の問題がある。
装置内で行うことができるが、蒸着後にさらに行う塗装
は、蒸着とは全く異なる工程で行わなければならない。
そのため、製品を蒸着工程から塗装工程へ移動するとい
う工程を踏まねばならない。製造工程が増え、繁雑にな
るだけでなく、余分な時間と労力が必要となる。さらに
蒸着装置とはまったく別の塗装装置を設けなければなら
いため、コストがかかる等の問題がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みなされたものであり、Ag面の保護層として形成され
ていた塗装面を使用せず、保護層を含め裏面反射鏡の全
層を同一装置内で形成でき、しかも耐久性に優れた裏面
反射鏡を提供することを目的とする。
みなされたものであり、Ag面の保護層として形成され
ていた塗装面を使用せず、保護層を含め裏面反射鏡の全
層を同一装置内で形成でき、しかも耐久性に優れた裏面
反射鏡を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的は、Ag裏面反
射鏡のAg面上に、CeO2層および金属層から構成さ
れている保護層を形成することにより達成される。
射鏡のAg面上に、CeO2層および金属層から構成さ
れている保護層を形成することにより達成される。
【0007】すなわち本発明は基板上に少なくともAg
層、CeO2層、金属層の各層がこの順で形成されてい
ることを特徴とする裏面反射鏡に関する。
層、CeO2層、金属層の各層がこの順で形成されてい
ることを特徴とする裏面反射鏡に関する。
【0008】このように、保護層をCeO2層および金
属層から構成することにより、全製造工程を同一の装置
内で行うことができ、しかも耐久性に優れた裏面反射鏡
とすることができる。
属層から構成することにより、全製造工程を同一の装置
内で行うことができ、しかも耐久性に優れた裏面反射鏡
とすることができる。
【0009】本発明の裏面反射鏡は、基板上に少なくと
もAg層および保護層をこの順に有する。所望であれば
基板とAg層との間に介在層を設けてもよい。介在層を
設けた場合の、本発明の裏面反射鏡の概略断面構成を図
1に示した。
もAg層および保護層をこの順に有する。所望であれば
基板とAg層との間に介在層を設けてもよい。介在層を
設けた場合の、本発明の裏面反射鏡の概略断面構成を図
1に示した。
【0010】基板は、可視光を透過しさえすればよく、
例えば光学ガラス等のガラス、またはポリカーボネート
樹脂あるいはアクリル樹脂等の樹脂等が使用可能であ
る。
例えば光学ガラス等のガラス、またはポリカーボネート
樹脂あるいはアクリル樹脂等の樹脂等が使用可能であ
る。
【0011】介在層は、Ag層と基板との接着性を向上
させ、さらに基板の影響によるAgの腐食を防ぐ目的で
設けられるもので、従来から光学薄膜の介在層として適
用されているもの、例えばAl2O3、CeO2等を使
用可能である。本発明に適用する介在層は、1層あるい
は2層以上の多層で構成されていてもよい。
させ、さらに基板の影響によるAgの腐食を防ぐ目的で
設けられるもので、従来から光学薄膜の介在層として適
用されているもの、例えばAl2O3、CeO2等を使
用可能である。本発明に適用する介在層は、1層あるい
は2層以上の多層で構成されていてもよい。
【0012】Ag層は、Agを主成分とする層で、蒸着
またはスパッタ等の手段で成膜される。従来から使用さ
れているAg層を適用すればよい。
またはスパッタ等の手段で成膜される。従来から使用さ
れているAg層を適用すればよい。
【0013】Ag層上に形成される保護層は、Ag層に
接触してなるCeO2層および金属層から構成される。
接触してなるCeO2層および金属層から構成される。
【0014】CeO2層上に形成される金属層は、C
r、CuあるいはAl等の金属を含むものである。それ
らの層は、下層のAg層等を腐食から防止できれば、単
層あるいは多層であってもよく、種々の組み合わせが可
能である。この金属層も蒸着あるいはスパッタ等で形成
可能であり、Ag層と同一の装置内で形成できる。
r、CuあるいはAl等の金属を含むものである。それ
らの層は、下層のAg層等を腐食から防止できれば、単
層あるいは多層であってもよく、種々の組み合わせが可
能である。この金属層も蒸着あるいはスパッタ等で形成
可能であり、Ag層と同一の装置内で形成できる。
【0015】本発明の裏面反射鏡においては、本発明の
効果を損なわない限り、介在層とAg層、Ag層とCe
O2層、CeO2層と金属層との間および金属層の上に、
さらに任意の層を挿入してもよい。
効果を損なわない限り、介在層とAg層、Ag層とCe
O2層、CeO2層と金属層との間および金属層の上に、
さらに任意の層を挿入してもよい。
【0016】
【実施例】実施例1 常温下で、真空槽を1×10−5Torrに排気し、基
板から1層目、3層目および5層目は電子銃加熱法で、
2層目および4層目は抵抗加熱法を使用し、図3に示し
た構成の裏面反射鏡を形成した。
板から1層目、3層目および5層目は電子銃加熱法で、
2層目および4層目は抵抗加熱法を使用し、図3に示し
た構成の裏面反射鏡を形成した。
【0017】得られた裏面反射鏡を70℃、80%環境
下で240時間放置した後、さらに−30℃と70℃と
の間の温度サイクルを10回繰り返しが、クラックある
いは腐食等の発生は認められなかった。
下で240時間放置した後、さらに−30℃と70℃と
の間の温度サイクルを10回繰り返しが、クラックある
いは腐食等の発生は認められなかった。
【0018】実施例2 実施例1と同様にして図4に示した構成の裏面反射鏡を
形成した。得られた裏面反射鏡を実施例1と同様に評価
したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認められ
なかった。
形成した。得られた裏面反射鏡を実施例1と同様に評価
したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認められ
なかった。
【0019】実施例3 実施例1と同様にして図5に示した構成の裏面反射鏡を
形成した。得られた裏面反射鏡を実施例1と同様に評価
したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認められ
なかった。
形成した。得られた裏面反射鏡を実施例1と同様に評価
したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認められ
なかった。
【0020】実施例4 実施例1と同様にして、基板から1層目、3層目、3層
目、5層目および7層目は電子銃加熱法で、2層目およ
び6層目は抵抗加熱法を使用し、図6に示した構成の裏
面反射鏡を形成した。得られた裏面反射鏡を実施例1と
同様に評価したところ、クラックあるいは腐食等の発生
は認められなかった。
目、5層目および7層目は電子銃加熱法で、2層目およ
び6層目は抵抗加熱法を使用し、図6に示した構成の裏
面反射鏡を形成した。得られた裏面反射鏡を実施例1と
同様に評価したところ、クラックあるいは腐食等の発生
は認められなかった。
【0021】実施例5 実施例1と同様にして、基板から1層目、3層目、4層
目および6層目は電子銃加熱法で、2層目および5層目
は抵抗加熱法を使用し、図7に示した構成の裏面反射鏡
を形成した。得られた裏面反射鏡を実施例1と同様に評
価したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認めら
れなかった。
目および6層目は電子銃加熱法で、2層目および5層目
は抵抗加熱法を使用し、図7に示した構成の裏面反射鏡
を形成した。得られた裏面反射鏡を実施例1と同様に評
価したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認めら
れなかった。
【0022】比較例1 実施例1と同様にして、1層目および2層目ともに抵抗
加熱法を使用し、図8に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、70℃、80%の環境下
で240時間放置したところ、Ag面に斑点状に腐食が
現れた。
加熱法を使用し、図8に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、70℃、80%の環境下
で240時間放置したところ、Ag面に斑点状に腐食が
現れた。
【0023】比較例2 比較例1と同様にして、1層目および2層目ともに抵抗
加熱法を使用し、図9に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、70℃、80%の環境下
で240時間放置したところ、Ag面に斑点状に腐食が
現れた。
加熱法を使用し、図9に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、70℃、80%の環境下
で240時間放置したところ、Ag面に斑点状に腐食が
現れた。
【0024】比較例3 実施例1と同様にして、基板から1層目、3層目および
5層目は電子銃加熱法で、2層目および4層目は抵抗加
熱法を使用し、図10に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、70℃、80%の環境下
で240時間放置したところ、Ag面に斑点状に腐食が
現れた。
5層目は電子銃加熱法で、2層目および4層目は抵抗加
熱法を使用し、図10に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、70℃、80%の環境下
で240時間放置したところ、Ag面に斑点状に腐食が
現れた。
【0025】
【発明の効果】本発明の裏面反射鏡は耐久性に優れてい
る。また本発明の裏面反射鏡は全構成層を同一の装置内
で形成可能であり、工程の簡略化とコストの低減化を図
れる。
る。また本発明の裏面反射鏡は全構成層を同一の装置内
で形成可能であり、工程の簡略化とコストの低減化を図
れる。
【図1】 本発明の裏面反射鏡の概略断面構成図を示
す。
す。
【図2】 裏面反射鏡の概念を説明するための図であ
る。
る。
【図3】 実施例1で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図4】 実施例2で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図5】 実施例3で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図6】 実施例4で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図7】 実施例5で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図8】 比較例1で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図9】 比較例2で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図10】 比較例3で形成した裏面反射鏡の概略断面
構成図を示す。
構成図を示す。
Claims (1)
- 【請求項1】 基板上に少なくともAg層、CeO
2層、金属層の各層がこの順で形成されていることを特
徴とする裏面反射鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14482893A JPH075308A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 裏面反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14482893A JPH075308A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 裏面反射鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH075308A true JPH075308A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15371396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14482893A Pending JPH075308A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 裏面反射鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH075308A (ja) |
-
1993
- 1993-06-16 JP JP14482893A patent/JPH075308A/ja active Pending
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