JPH075308A - 裏面反射鏡 - Google Patents
裏面反射鏡Info
- Publication number
- JPH075308A JPH075308A JP14482893A JP14482893A JPH075308A JP H075308 A JPH075308 A JP H075308A JP 14482893 A JP14482893 A JP 14482893A JP 14482893 A JP14482893 A JP 14482893A JP H075308 A JPH075308 A JP H075308A
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- Japan
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- layer
- metal
- ceo2
- reflecting mirror
- back surface
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護層を含め裏面反射鏡の全層を同一装置内
で形成でき、しかも耐久性に優れた裏面反射鏡を提供す
ること。 【構成】 基板上に少なくともＡｇ層および保護層をこ
の順で有し、該保護層がＣｅＯ２層および金属層から構
成されていることを特徴とする裏面反射鏡。
で形成でき、しかも耐久性に優れた裏面反射鏡を提供す
ること。 【構成】 基板上に少なくともＡｇ層および保護層をこ
の順で有し、該保護層がＣｅＯ２層および金属層から構
成されていることを特徴とする裏面反射鏡。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は鏡、ペンタプリズム等に
使用される裏面反射鏡に関する。
使用される裏面反射鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】裏面反射鏡は、図２に示すように、光が
ガラス等の基板側から入射し、コート面で反射するもの
で、カメラのペンタプリズムの反射面等に利用されてい
る。コート面としては、銀(Ａｇ)やアルミニウム(Ａｌ)
が主に用いられている。可視光の反射率に関してはＡｇ
が金属の中で最も優れており、高い反射率が必要とされ
るペンタプリズム等ではほとんどＡｇが採用されてい
る。
ガラス等の基板側から入射し、コート面で反射するもの
で、カメラのペンタプリズムの反射面等に利用されてい
る。コート面としては、銀(Ａｇ)やアルミニウム(Ａｌ)
が主に用いられている。可視光の反射率に関してはＡｇ
が金属の中で最も優れており、高い反射率が必要とされ
るペンタプリズム等ではほとんどＡｇが採用されてい
る。
【０００３】しかし、Ａｇは非常に腐食しやすいので、
Ａｌの様にＭｇＦ2やＳｉＯ2の単層膜を上に蒸着するだ
けでは耐久性の面で満足できるものが得られない。その
Ａｇの腐食を防止するため、通常、Ａｇ面の上に銅（Ｃ
ｕ）等の金属を蒸着し、その上にさらに、吹き付け塗装
等を行なってＡｇ面を保護している。
Ａｌの様にＭｇＦ2やＳｉＯ2の単層膜を上に蒸着するだ
けでは耐久性の面で満足できるものが得られない。その
Ａｇの腐食を防止するため、通常、Ａｇ面の上に銅（Ｃ
ｕ）等の金属を蒸着し、その上にさらに、吹き付け塗装
等を行なってＡｇ面を保護している。
【０００４】Ｃｕ等の金属の蒸着はＡｇの蒸着と同一の
装置内で行うことができるが、蒸着後にさらに行う塗装
は、蒸着とは全く異なる工程で行わなければならない。
そのため、製品を蒸着工程から塗装工程へ移動するとい
う工程を踏まねばならない。製造工程が増え、繁雑にな
るだけでなく、余分な時間と労力が必要となる。さらに
蒸着装置とはまったく別の塗装装置を設けなければなら
いため、コストがかかる等の問題がある。
装置内で行うことができるが、蒸着後にさらに行う塗装
は、蒸着とは全く異なる工程で行わなければならない。
そのため、製品を蒸着工程から塗装工程へ移動するとい
う工程を踏まねばならない。製造工程が増え、繁雑にな
るだけでなく、余分な時間と労力が必要となる。さらに
蒸着装置とはまったく別の塗装装置を設けなければなら
いため、コストがかかる等の問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みなされたものであり、Ａｇ面の保護層として形成され
ていた塗装面を使用せず、保護層を含め裏面反射鏡の全
層を同一装置内で形成でき、しかも耐久性に優れた裏面
反射鏡を提供することを目的とする。
みなされたものであり、Ａｇ面の保護層として形成され
ていた塗装面を使用せず、保護層を含め裏面反射鏡の全
層を同一装置内で形成でき、しかも耐久性に優れた裏面
反射鏡を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的は、Ａｇ裏面反
射鏡のＡｇ面上に、ＣｅＯ2層および金属層から構成さ
れている保護層を形成することにより達成される。
射鏡のＡｇ面上に、ＣｅＯ2層および金属層から構成さ
れている保護層を形成することにより達成される。
【０００７】すなわち本発明は基板上に少なくともＡｇ
層、ＣｅＯ2層、金属層の各層がこの順で形成されてい
ることを特徴とする裏面反射鏡に関する。
層、ＣｅＯ2層、金属層の各層がこの順で形成されてい
ることを特徴とする裏面反射鏡に関する。
【０００８】このように、保護層をＣｅＯ2層および金
属層から構成することにより、全製造工程を同一の装置
内で行うことができ、しかも耐久性に優れた裏面反射鏡
とすることができる。
属層から構成することにより、全製造工程を同一の装置
内で行うことができ、しかも耐久性に優れた裏面反射鏡
とすることができる。
【０００９】本発明の裏面反射鏡は、基板上に少なくと
もＡｇ層および保護層をこの順に有する。所望であれば
基板とＡｇ層との間に介在層を設けてもよい。介在層を
設けた場合の、本発明の裏面反射鏡の概略断面構成を図
１に示した。
もＡｇ層および保護層をこの順に有する。所望であれば
基板とＡｇ層との間に介在層を設けてもよい。介在層を
設けた場合の、本発明の裏面反射鏡の概略断面構成を図
１に示した。
【００１０】基板は、可視光を透過しさえすればよく、
例えば光学ガラス等のガラス、またはポリカーボネート
樹脂あるいはアクリル樹脂等の樹脂等が使用可能であ
る。
例えば光学ガラス等のガラス、またはポリカーボネート
樹脂あるいはアクリル樹脂等の樹脂等が使用可能であ
る。
【００１１】介在層は、Ａｇ層と基板との接着性を向上
させ、さらに基板の影響によるＡｇの腐食を防ぐ目的で
設けられるもので、従来から光学薄膜の介在層として適
用されているもの、例えばＡｌ２Ｏ３、ＣｅＯ２等を使
用可能である。本発明に適用する介在層は、１層あるい
は２層以上の多層で構成されていてもよい。
させ、さらに基板の影響によるＡｇの腐食を防ぐ目的で
設けられるもので、従来から光学薄膜の介在層として適
用されているもの、例えばＡｌ２Ｏ３、ＣｅＯ２等を使
用可能である。本発明に適用する介在層は、１層あるい
は２層以上の多層で構成されていてもよい。
【００１２】Ａｇ層は、Ａｇを主成分とする層で、蒸着
またはスパッタ等の手段で成膜される。従来から使用さ
れているＡｇ層を適用すればよい。
またはスパッタ等の手段で成膜される。従来から使用さ
れているＡｇ層を適用すればよい。
【００１３】Ａｇ層上に形成される保護層は、Ａｇ層に
接触してなるＣｅＯ２層および金属層から構成される。
接触してなるＣｅＯ２層および金属層から構成される。
【００１４】ＣｅＯ２層上に形成される金属層は、Ｃ
ｒ、ＣｕあるいはＡｌ等の金属を含むものである。それ
らの層は、下層のＡｇ層等を腐食から防止できれば、単
層あるいは多層であってもよく、種々の組み合わせが可
能である。この金属層も蒸着あるいはスパッタ等で形成
可能であり、Ａｇ層と同一の装置内で形成できる。
ｒ、ＣｕあるいはＡｌ等の金属を含むものである。それ
らの層は、下層のＡｇ層等を腐食から防止できれば、単
層あるいは多層であってもよく、種々の組み合わせが可
能である。この金属層も蒸着あるいはスパッタ等で形成
可能であり、Ａｇ層と同一の装置内で形成できる。
【００１５】本発明の裏面反射鏡においては、本発明の
効果を損なわない限り、介在層とＡｇ層、Ａｇ層とＣｅ
Ｏ2層、ＣｅＯ2層と金属層との間および金属層の上に、
さらに任意の層を挿入してもよい。
効果を損なわない限り、介在層とＡｇ層、Ａｇ層とＣｅ
Ｏ2層、ＣｅＯ2層と金属層との間および金属層の上に、
さらに任意の層を挿入してもよい。
【００１６】
【実施例】実施例１ 常温下で、真空槽を１×１０−５Ｔｏｒｒに排気し、基
板から１層目、３層目および５層目は電子銃加熱法で、
２層目および４層目は抵抗加熱法を使用し、図３に示し
た構成の裏面反射鏡を形成した。
板から１層目、３層目および５層目は電子銃加熱法で、
２層目および４層目は抵抗加熱法を使用し、図３に示し
た構成の裏面反射鏡を形成した。
【００１７】得られた裏面反射鏡を７０℃、８０％環境
下で２４０時間放置した後、さらに−３０℃と７０℃と
の間の温度サイクルを１０回繰り返しが、クラックある
いは腐食等の発生は認められなかった。
下で２４０時間放置した後、さらに−３０℃と７０℃と
の間の温度サイクルを１０回繰り返しが、クラックある
いは腐食等の発生は認められなかった。
【００１８】実施例２ 実施例１と同様にして図４に示した構成の裏面反射鏡を
形成した。得られた裏面反射鏡を実施例１と同様に評価
したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認められ
なかった。
形成した。得られた裏面反射鏡を実施例１と同様に評価
したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認められ
なかった。
【００１９】実施例３ 実施例１と同様にして図５に示した構成の裏面反射鏡を
形成した。得られた裏面反射鏡を実施例１と同様に評価
したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認められ
なかった。
形成した。得られた裏面反射鏡を実施例１と同様に評価
したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認められ
なかった。
【００２０】実施例４ 実施例１と同様にして、基板から１層目、３層目、３層
目、５層目および７層目は電子銃加熱法で、２層目およ
び６層目は抵抗加熱法を使用し、図６に示した構成の裏
面反射鏡を形成した。得られた裏面反射鏡を実施例１と
同様に評価したところ、クラックあるいは腐食等の発生
は認められなかった。
目、５層目および７層目は電子銃加熱法で、２層目およ
び６層目は抵抗加熱法を使用し、図６に示した構成の裏
面反射鏡を形成した。得られた裏面反射鏡を実施例１と
同様に評価したところ、クラックあるいは腐食等の発生
は認められなかった。
【００２１】実施例５ 実施例１と同様にして、基板から１層目、３層目、４層
目および６層目は電子銃加熱法で、２層目および５層目
は抵抗加熱法を使用し、図７に示した構成の裏面反射鏡
を形成した。得られた裏面反射鏡を実施例１と同様に評
価したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認めら
れなかった。
目および６層目は電子銃加熱法で、２層目および５層目
は抵抗加熱法を使用し、図７に示した構成の裏面反射鏡
を形成した。得られた裏面反射鏡を実施例１と同様に評
価したところ、クラックあるいは腐食等の発生は認めら
れなかった。
【００２２】比較例１ 実施例１と同様にして、１層目および２層目ともに抵抗
加熱法を使用し、図８に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、７０℃、８０％の環境下
で２４０時間放置したところ、Ａｇ面に斑点状に腐食が
現れた。
加熱法を使用し、図８に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、７０℃、８０％の環境下
で２４０時間放置したところ、Ａｇ面に斑点状に腐食が
現れた。
【００２３】比較例２ 比較例１と同様にして、１層目および２層目ともに抵抗
加熱法を使用し、図９に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、７０℃、８０％の環境下
で２４０時間放置したところ、Ａｇ面に斑点状に腐食が
現れた。
加熱法を使用し、図９に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、７０℃、８０％の環境下
で２４０時間放置したところ、Ａｇ面に斑点状に腐食が
現れた。
【００２４】比較例３ 実施例１と同様にして、基板から１層目、３層目および
５層目は電子銃加熱法で、２層目および４層目は抵抗加
熱法を使用し、図１０に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、７０℃、８０％の環境下
で２４０時間放置したところ、Ａｇ面に斑点状に腐食が
現れた。
５層目は電子銃加熱法で、２層目および４層目は抵抗加
熱法を使用し、図１０に示した構成の裏面反射鏡を形成
した。得られた裏面反射鏡を、７０℃、８０％の環境下
で２４０時間放置したところ、Ａｇ面に斑点状に腐食が
現れた。
【００２５】
【発明の効果】本発明の裏面反射鏡は耐久性に優れてい
る。また本発明の裏面反射鏡は全構成層を同一の装置内
で形成可能であり、工程の簡略化とコストの低減化を図
れる。
る。また本発明の裏面反射鏡は全構成層を同一の装置内
で形成可能であり、工程の簡略化とコストの低減化を図
れる。
【図１】 本発明の裏面反射鏡の概略断面構成図を示
す。
す。
【図２】 裏面反射鏡の概念を説明するための図であ
る。
る。
【図３】 実施例１で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図４】 実施例２で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図５】 実施例３で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図６】 実施例４で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図７】 実施例５で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図８】 比較例１で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図９】 比較例２で形成した裏面反射鏡の概略断面構
成図を示す。
成図を示す。
【図１０】 比較例３で形成した裏面反射鏡の概略断面
構成図を示す。
構成図を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に少なくともＡｇ層、ＣｅＯ
2層、金属層の各層がこの順で形成されていることを特
徴とする裏面反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14482893A JPH075308A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 裏面反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14482893A JPH075308A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 裏面反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH075308A true JPH075308A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15371396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14482893A Pending JPH075308A (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 裏面反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH075308A (ja) |
-
1993
- 1993-06-16 JP JP14482893A patent/JPH075308A/ja active Pending
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