JPH0751137B2 - 寒冷療法の実施装置 - Google Patents

寒冷療法の実施装置

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JPH0751137B2
JPH0751137B2 JP61275498A JP27549886A JPH0751137B2 JP H0751137 B2 JPH0751137 B2 JP H0751137B2 JP 61275498 A JP61275498 A JP 61275498A JP 27549886 A JP27549886 A JP 27549886A JP H0751137 B2 JPH0751137 B2 JP H0751137B2
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ロルフ・デイーター・ガルマイスター
トーマス・シユトラツツ
ルートヴイヒ・ラマース
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野: 本発明は特許請求の範囲第1項の上位概念による低温処
置ガスにより全身に寒冷療法を実施する装置に関する。
従来の技術: リユーマチ性疾患を処置するため数年来実施されている
低温処置ガスによる局部的寒冷療法のほかに特定の形の
疾患の場合全身の寒冷療法も実施される。この場合液体
チツ素により空気を熱交換器で冷却し、閉鎖した処置室
に導入する。室またはキヤビンとして形成したこの処置
室は断熱材料の壁および処置ガスを供給および導出する
接続管を有する。たとえば実願昭56−168125号はこのよ
うな処置室を示す。しかしこの概念は医師にも患者にも
歓迎されない。その理由は多数ある。患者は医師と直接
の接触がないことが不満である。というのは処置の間、
窓または通話装置を介する間接的接触しか可能でないか
らである。室内の激しい霧の形成は直接接触のないこの
印象をさらに強める。患者の頭部範囲の冷却も欠点であ
る。さらに特殊な手段によつて低温空気の吸入を咲けな
ければならない。このような室は高い投資費用を必要と
する。始動時間が長いため連続作業が必要であり、それ
によつて比較的高い作業費が発生する。処置の間の患者
の監視は費用を要する。
発明が解決しようとする問題点: それゆえ本発明の目的は処置の間医師と患者の間の直接
接触が可能であり、患者の頭部を解放し、患者がいつで
も装置を去ることができ、始動時間が短いため連続作業
を必要としない、低温処置ガスにより全身に寒冷療法を
実施する装置を得ることである。
問題点を解決するための手段: この目的は特許請求の範囲第1項の上位概念記載の技術
水準から出発して特許請求の範囲第1項の特徴部に記載
の特徴によつて解決される。
本発明の有利な実施態様は従属請求項に示される。
作用: 操作盤および半殻の配置によつて患者の身体に有効に低
温処置ガスを流しうる処置室が得られる。他面処置の間
患者と医師の間の視線および会話接触が可能であるのみ
ならず、医師はたとえば患者の位置ぎめのため直接手を
出すこともできる。それにも拘らず患者は何かの理由か
ら所望の場合いつでもただちに装置を去ることができ
る。処置ガスの操作盤を介する供給は、とくに半殻の側
面部の孔から出る処置ガスの圧力が半殻によつて形成さ
れる処置室を有効に流れるために十分に大きい場合、中
止することができる。そのため処置ガスを供給する孔を
垂直のノズルブロツクに配置し、このブロツクを半殻の
開口面内で互いに上下に移動可能にし、かつその垂直軸
を中心に回転可能に形成するのが有利である。それによ
つて患者のそれぞれの体躯のサイズおよび体形に個々に
適合させることが可能になる。一般に小さい患者の場合
も頭部範囲に処置ガスを流さないように、少なくとも処
置ガスの高い位置にある流出孔は閉鎖可能に形成され
る。
実施例: 次に本発明の実施例を図面により説明する。
第1〜3図に示す装置は基板1に組立てられる。主とし
て側面の2つのプロフイル2および後面のプロフイル3
から形成される半殻が本来の処置室を形成する。プロフ
イル2,3の間に断熱材料からなる壁4が固定される。半
殻の開口の前の一定距離に操作盤5が配置される。距離
は半殻の前および中に処置ガスの最適の流れが生ずるよ
うに決定される。処置ガスの流れ方向は矢印で示され
る。
低温処置ガスは接続管6から側面プロフイル2へ供給さ
れる。ここから導管8により個々の孔7へ分配され、こ
の孔からガスは半殻内へ進入する。後面プロフイル3の
相当する孔9,導管10および接続管11を介して処置ガスは
半殻から導出される。
プロフイル2,3は有利に中空プロフイルであり、導管8,1
0を設置した後フオームを充てんすることができる。さ
らに基板1の近くの壁4にさらに処置ガスを導出する孔
12が備えられる。この孔12は接続管13へ開口する図示さ
れていない導管によつて互いに結合される。
低温処置ガスのもう1つの供給は相当する接続管14を備
える操作盤5を介して行われる。接続管14へ導管15が接
続し、これによつて低温処置ガスは孔16へ達し、ここか
らガスは半殻の方向へ出る。患者は操作盤5と半殻の間
に形成された通路を介して装置を出入する。処置の間も
患者は所望の場合ただちに装置から出ることができる。
医師は処置の継続中もつねに患者に接触し、たとえば患
者の位置を変えることができる。
半殻内に所望の特定の流れの形を達成するため、孔7,9,
12および16が個々に閉鎖可能であれば有利である。その
ためとくに側面プロフイル2の孔7を旋回可能に配置
し、流入する低温処置ガスに種々の流れ方向を与えるこ
とができれば有利である。孔7および9をプロフイル2
および3の種々の高さに配置しうるノズルブロックに配
置するのも有利である。このような実施例を第4図に示
す。
第4図に断面を示す中空プロフイル17は第1〜3図の側
面プロフイル2に相当する。中空プロフイル17は上部17
aおよび下部17bからなる。上部17aへノズルブロツク18
が挿入される。ノズルブロツク18は所望に応じて中空プ
ロフイル17の種々の高さに挿入することができる。ノズ
ルブロツク18内には第1図の孔7に相当する多数のすべ
ての方向へ旋回しうるノズル19が存在する。ノズル19は
個々に閉鎖することもできる。このようなノズル19はそ
れ自体排気技術から公知である。
操作盤5は寒冷療法実施医師に重要な処置パラメータの
調節および監視を可能にする。
個々の孔7またはノズル19を閉鎖する可能性は装置を種
々の身体サイズを有する患者に適合させ、またはとくに
身体の特定部位のみを処置するために重要である。処置
ガスのとくに底部近くの特殊な吸出によつて激しい霧の
形式が避けられる。患者がドアまたはゲートによつて妨
げられずに装置を随時簡単に去りうることは患者に処置
に拘束されていない感じを与える。患者による寒冷療法
の受入れがそれによつて改善される。
低温処置ガスの形成にはそのために常用のすべての装置
およびガス組成を使用することができる。乾燥空気と低
温液化ガスとくにチツ素との混合による処置ガスの形成
が有利である。同様庭園処置ガスを乾燥空気の熱交換器
内の低温液化ガスとくにチツ素による冷却によつてつく
ることもできる。
これに適する装置が第5図に示される、導管20によつて
液体チツ素、導管21によつて乾燥空気が混合装置22へ供
給される。混合装置22に形成された低温処置ガスは導管
23を介して操作盤5および接続管6へ流れ、そこから本
発明により開いた半殻として形成した処置室へ流れる。
ガス流の方向は再び矢印で示される。接続管11を通つて
処置ガスは吸出ブロア24により導管25を介して熱交換器
26を通して導かれる。熱交換器内でガスはその冷熱を導
管21へ入る空気に伝達する。この方法で本発明による装
置の作業の際冷却は最高に利用される。吸出は流れに方
向を与へ、冷熱回収に役立つ。
患者を処置せず、しかし装置を準備状態に維持する場
合、装置は空運転に切替えられる。空運転の場合低温処
置ガスは直接導管27を通つて熱交換器26へ戻る。空運転
作業への切替は弁28および29の操作によつて行われる。
空運転作業は有利に少量のガスによつて維持される。作
業は単に冷風製造装置および導管の低温維持を保証する
だけである。したがつて本発明は操作は処置休止期にも
作業準備状態にあり、短時間に始動可能の状態にある。
このような作業法はエネルギー節約のほかに患者を冷却
条件下に配置する必要がない利点を有する。
装置は図示されていない常用の安全装置を備えている。
主として患者頭部範囲の酸素センサであり、これによつ
て呼吸空気中の酸素不足の場合、自動的に低温作業が遮
断される。さらに患者の皮膚表面の無接触温度監視を可
能にする赤外ゾンデを備えることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は寒冷療法を実施する装置の縦断面図、第2図は
第1図A−A線断面図、第3図は第1図B−B線断面
図、第4図は旋回可能の孔を有する中空プロフイルの横
断面図、第5図は処置ガス発生装置の回路図である。 1……基板、2,3……プロフイル、4……断熱壁、5…
…操作台、6,11,13,14……接続管、7,9,12,16……孔、1
7……中空プロフイル、18……ノズルブロツク、19……
ノズル、24……ブロア、26……熱交換器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヴオルフガング・フオルカー ドイツ連邦共和国テニスフオルスト1・パ ストルスブツシユ 35 (72)発明者 ロルフ・デイーター・ガルマイスター ドイツ連邦共和国バート・ゼツキンゲン・ ウーラント シユトラーセ 14 (72)発明者 トーマス・シユトラツツ ドイツ連邦共和国バート・ゼツキンゲン・ プケルスドルフアーシユトラーセ 49 (72)発明者 ルートヴイヒ・ラマース ドイツ連邦共和国イトシユタイン・ザール ブルクヴエーク 3 (56)参考文献 実開 昭56−168127(JP,U) 実公 昭44−24302(JP,Y1)

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】患者を収容するための断熱材料の処置室か
    らなり、この室が処置ガスを供給および導出するための
    接続管(6,14,11)を備えている、低温処置ガスにより
    全身に寒冷療法を実施する装置において、処置室が開い
    た半殻として形成され、その後部に処置ガスを導出する
    孔(9)およびその側面部に処置ガスを半殻内部へ供給
    する孔(7)が配置されていることを特徴とする寒冷療
    法の実施装置。
  2. 【請求項2】半殻の開口の前の一定距離に操作盤(5)
    が固定され、これが処置ガス供給のため半殻へ向く孔
    (16)を有する特許請求の範囲第1項記載の装置。
  3. 【請求項3】半殻が間に固定した壁(4)を有する中空
    プロフィル(17)から形成され、処置ガスを供給および
    導出するための孔が中空プロフィルに配置されている特
    許請求の範囲第1項または第2項記載の装置。
  4. 【請求項4】処置ガスを供給および導出するための孔が
    ノズルブロック(18)に配置され、このブロックが中空
    プロフィルに挿入されている特許請求の範囲第3項記載
    の装置。
  5. 【請求項5】ノズルブロックが中空プロフィルの種々の
    高さに挿入可能である特許請求の範囲第4項記載の装
    置。
  6. 【請求項6】処置ガスを供給するための孔が旋回可能の
    ノズル(19)としてノズルブロックに形成されている特
    許請求の範囲第4項または第5項記載の装置。
  7. 【請求項7】処置ガスを供給するための半殻の側面部に
    ある孔(7)が半殻の端縁に設置した2つの垂直ノズル
    ブロックとして形成されている特許請求の範囲第1項ま
    たは第2項記載の装置。
  8. 【請求項8】ノズルブロックが半殻の開口面内で互いに
    上下に移動可能である特許請求の範囲第7項記載の装
    置。
  9. 【請求項9】ノズルブロックがその垂直軸を中心に回転
    可能である特許請求の範囲第7項または第8項記載の装
    置。
  10. 【請求項10】底部近くに処置ガスを導出するための付
    加的孔(12)を有する特許請求の範囲第1項から第9項
    までのいずれか1項に記載の装置。
JP61275498A 1985-11-22 1986-11-20 寒冷療法の実施装置 Expired - Fee Related JPH0751137B2 (ja)

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