JPH07507602A - ウラン,トリウム及び希土類含有率の低い電気精錬アルミニウム - Google Patents

ウラン,トリウム及び希土類含有率の低い電気精錬アルミニウム

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JPH07507602A
JPH07507602A JP7504965A JP50496594A JPH07507602A JP H07507602 A JPH07507602 A JP H07507602A JP 7504965 A JP7504965 A JP 7504965A JP 50496594 A JP50496594 A JP 50496594A JP H07507602 A JPH07507602 A JP H07507602A
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ルロイ,ミシエル
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アリユミニウム・ペシネ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ウラン、トリウム及び希土類含有率の低い電気精錬アルミ本発明は電解精錬製品 である純度が99.998%より高いアルミニウム及びこのアルミニウムの取1 4方法に係る。
従来技術 例えば電子回路に蒸着するのに使用される高純度アルミニウムは不純物、特に回 路のメモリの内容を変更する恐れのあるα粒子を放出する危険のある不純物の含 有率を非常に低(する必要がある。
一般に、少なくとも3種の高純度アルミニウムが殆どの場合には高純度合金成分 の添加後に、回路製造業者により第1種は要件の厳しくない用途に用いられ、ウ ラン申トリメ〜有率が20ppb (10億分率)未満及び最小アルミニウム含 有率が99.998%より大であり、第2種は通常用途に用いられ、U及びT  bの含有率が5ppb未満及び最小A1含有率が99.999%より大であり、 第3種は要件のより厳しい用途に用いられ、最小アルミニウム含有率が99.9 995%より大(場合によっては99゜9997%より犬)であってU及びTh の含有率が1ppb未満、場合によってはQ、3ppb又はO,IDI)b未満 である。
サマリウムのように顕著なα放射能を有するものを含む希土類も同様に望ましく ない。例えば10ppbの天然サマリウムは0.Ippbのウラン238と同程 度のα粒子を放出する。
本用途に使用される高純度アルミニウムは一般に連続する2段階により得られる 。
a)第1段階は、例えば鎖国特許第759588号明細書及び832528号明 細書に記載されているような3層電解として知られる方法による電解精錬である 。
少な(とも700℃の温度に維持されるこれらの3層は、アノード電位にされた 精錬すべき高密度アルミニウムー銅合金からなる底部層と、底部の合金上を浮動 する弗化物及び場合により塩化物の溶融混合物から構成される電解浴からなる中 央層と、電解浴上を浮動する非常に高純度のカソードアルミニウムからなる上部 層とを順次配置してなる。
精錬はアルミニウムよりも責な不純物を底部の不純合金中に残してアルミニウム を底部から表面層に移動させ、又アルミニウムよりも卑で浴中にトラップされた 金属不純物を酸化することにより実施される。
しかしながら、電解精錬は一次アルミニウムから例えばFe、S i、Ga、Z nのような主要不純物を除去するのには非常に有効であるが、精錬すべきアルミ ニウム中のみならず電気精練浴を構成し又は正しい組成に保つハロゲン化塩中に も常に存在する特定の不純物(例えばウラン、トリウム及び希土類)を除去する のにはほとんど無効である。
場合によってはハロゲン化塩の存在によりこれらの不純物成分の含有率が増加す る可能性もある。これらの特定不純物に対し無効であることの理由はまだ解明さ れていない。
従って、−次アルミニウムから電解精錬した金属は、そ一旦電解精錬したアルミ ニウムから電解精錬した金属であっても、50ppb#−より多いU及びTh及 び200ppbより多い希土類(主にLa、Ce、Nd5Pr、Sm)を依然と して含有している。
この理由により、目的とする用途のために、この電解精錬段階後に、これらの有 害不純物を除去する第2の精製段階が常に行われている。
b)第2段階では電気精錬後の金属を例えばチョクラルスキー法による結晶引き 上げ、ゾーン溶解又は偏析等の種々の方法により物理的に精製する。最後の方法 は仏国特許第1594154号明細書(米国特許第3671229号明細書)に 記載されている。この方法は、周囲液体よりも重く且つ純粋な晶出結晶を回収及 び分離するために適正に決定された熱条件下で、精製すべきアルミニウムをるつ ぼ内で冷却することからなる。順次再溶解及び再凝固した後、圧縮し、結晶間に トラップされた残留不純液体を排出することにより、るつぼの底部で非常に純粋 な金属が得られ、液体状態に維持された上部には、精製すべき金属中に最初に含 まれていた共晶不純物の大部分が残存している。
純度99.999%のアルミニウムを得るためにこれらの2種の技術を順次適用 する方法の1例は仏国特許第2445380号明細書(米国特許第422283 0号明細書)に記載されている。
この特許文献に記載されているように、分別結晶段階は一般に所望の金属の純度 に依存して30〜70%といった並の金属収率である。このために、予め電気精 錬した金属の多くの部分が品質の低下したものになり、金属の使用可能なフラク ションを得るためには操業費用が増加する。
発明の目的 本発明は、精錬槽の出口で後処理なしに希土類含有率が0ppb未満であるよう な、電解精錬により得られる純度が99.999%よりも高いアルミニウムに係 る。
本発明は更に、50〜80%の予備精製金属収率で予備で90%より大きな最終 精製金属収率で3層型の電解精錬を行うことからなる、前記高純度アルミニウム の経済的な製造方法に係る。
発明の説明 第1の工程は、例えば仏国特許第1594154号明細書に記載されているよう な偏析を用いる予備分別結晶化工程により共晶元素、特にウラン、トリウム、そ れらの核分裂核種及び希土類(ランタン、セリウム、ネオジム、プラセオジム、 サマリウム)を含む一次アルミニウムをほぼ実質的に精製することからなる。予 備精製金属収率が50〜80%であるため、これらの特定不純物中の金属含有率 を10分の1以下、多くの場合には100分の1にすることができる。
この工程は標準純度のるつぼを使用することにより迅速なサイクルと良好な金属 収率で実施され、従って不純金属が品質の低下したものになる割合が制限され、 特に共晶不経済的に有利な条件下で実施される。
第2段階は、予め偏析させてα粒子放出性不純物を殆ど除去しておいた金属を3 層法式電解精錬容器に供給することからなる。
得られる金属の純度を更に改善するためには、電解浴を構成するために使用され る塩(例えば弗化ナトリウム、弗化アルミニウム、塩化バリウム又は弗化バリウ ム)と、損失を補償するために浴を初期組成に維持すべく工程中に添加すべき塩 とを精製することができる。
このためには、アルミニウムよりも責な不純物を還元して吸収することが可能な 溶融アルミニウム塊とこれらの塩を接触させる。
この接触は種々の方法で実施することができ、例えば精錬槽から分離したるつぼ 内で実施してもよいし、上層の精錬金属中を通したグラファイトリングを通して 実施してもために使用される固体塩を液体電解浴層に供給し、塩の不純物を還元 及び吸収することが可能な溶融アルミニウム塊をリングの内側に保持する。この 溶融アルミニウム塊はグラファイトリングを取り出す前にグラファイトリングか ら引き出す。
従って、ウラン、トリウム及び希土類の含有率が特に低(、不純物含有率がSi 2ppm未満、Fe2ppm未満、Ce、Nd、Pr及びSmの合計が100p pb未満である純度が99.999%よりも大のアルミニウムを得ることが可能 であり、これに対して未処理の一次アルミニウムから従来通りに製造した電気精 錬アルミニウムは依然として50ppbよりも多いU及びTh及び200ppb よりも多い希土類を含有している。
要件がより厳しい用途でUとThの含有率が0.1ppb未満で純度99.99 95%超といった非常に高純度のアルミニウムが所望される場合には、上記電気 精錬金属を更に迅速な物理的精製工程、例えば偏析、ゾーン溶解又はチョクラル スキー結晶引き上げ法等にかける。このためには、るつぼにより金属が汚染され ないように、今度はlppm未満という低減されたUとThの含有率を有する一 般にグラファイトからなるるつぼ又は高純度舟形容器を使用する。実際に、偏析 用るつぼの寿命は限られ、消耗するので、製造費用が増すことは知られている。
しかしながら、この第3段階は迅速なサイクルで実施され、従って30〜80% 、殆ど多くの場合には50%より高い金属収率が得られるので、全体としての総 金属収率は従来技術よりも明らかに高い。従って、本発明により製造される金属 の1トン当たりの費用は著しく廉価である。
実施例1 最初に純度99.92%の一次金属から、二番目に偏析により99.99%に精 製した同一金属から3層法により電解精錬アルミニウムを製造した。従来技術の 方法として、電解精錬後に一方では標準るつぼ(例えば炭化ケイ素、クレー及び グラファイトの焼成混合物である黒鉛容器)内で偏析を実施して純度99.99 9%のアルミニウムを得、他方では高純度るつぼで偏析を実施し、純度99.9 995%のアルミニウムを得た。
本発明の方法では、電解精錬後に高純度るつぼで迅速に偏析を実施し、純度99 .9998%のアルミニウムを得た。
添付の表は種々の製造段階におけるウラン、トリウム及び希土類の夫々の含有率 と、各操作の金属収率を示す。
純度99.999%のアルミニウムを得るためには、従来技術の方法の金属収率 は0.97X0.5=0.485であり、本発明の方法では0.7X0.97= 0.679であることが銘記されよう。
1199.9995%アルミニウムの場合には、金属収率は従来技術では0.9 7X0.3=0.291であり、本発明では0.679X0.6=0.407で ある。
実施例2 実施例1よりも明らかに低純度の純度99.6%の一次金属から出発した。ウラ ン、トリウム及び希土類の夫々の含有率と種々の製造段階における金属収率を表 2に示す。
3層電解精錬と黒鉛るつぼ内での偏析からなる従来技術の方法ではi 5 p  p bのウラン、18ppbのトリウム及び130ppbの希土類を含有する金 属が得られ、金属収率は0.97XO,5=0.485であった。
標準黒鉛るつぼで迅速に偏析後に3層電解精錬を実施することからなる本発明の 方法では、4ppbのウラン、11ppbのトリウム及び70ppbの希土類を 含有するアルミニウムが得られ、金属収率は0.7X0.97=0゜679であ った。
初期金属 表2 初期金属 ↓

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.精錬槽の出口で後処理なしに希土類含有率が100ppb未満でありウラン とトリウムの合計含有率が20ppb未満であることを特徴とする、電解精錬に より得られる純度が99.998%より高いアルミニウム。
  2. 2.50〜80%の予備精製金属収率で第1の分別結晶化工程を実施した後、9 0%より高い最終精製金属収率で溶融ハロゲン化塩の浴中で3層法により前記予 備精製金属を電解精錬することを特徴とする請求項1に記載のアルミニウムの製 造方法。
  3. 3.電解浴を構成し、又正しい組成に保つために使用されるハロゲン化塩を予め 精製することを特徴とする請求項2に記載の方法。
  4. 4.液体アルミニウムと接触させることにより塩を精製することを特徴とする請 求項3に記載の方法。
  5. 5.電解精錬工程後にU及びThの合計含有率が1ppm未満の高純度るつぼで 30〜80%の収率で物理的精製を実施することを特徴とする、請求項2から4 のいずれか一項に記載の、純度が99.9995%より高く、かつU及びThの 合計含有率が0.1ppb未満の非常に高純度のアルミニウムの製造方法。
JP7504965A 1993-07-22 1994-07-11 ウラン,トリウム及び希土類含有率の低い電気精錬アルミニウム Pending JPH07507602A (ja)

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