JPH0750720Y2 - 電子線照射装置 - Google Patents

電子線照射装置

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JPH0750720Y2
JPH0750720Y2 JP1990119801U JP11980190U JPH0750720Y2 JP H0750720 Y2 JPH0750720 Y2 JP H0750720Y2 JP 1990119801 U JP1990119801 U JP 1990119801U JP 11980190 U JP11980190 U JP 11980190U JP H0750720 Y2 JPH0750720 Y2 JP H0750720Y2
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JP
Japan
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web
roll
electron beam
shield plate
beam irradiation
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Application number
JP1990119801U
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JPH04106800U (ja
Inventor
寿男 木村
隆裕 寺澤
健一 水澤
Original Assignee
日新ハイボルテージ株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この考案は電子線照射装置に関する。
(従来の技術) 周知のように電子線照射装置は、電子線照射源を内蔵す
る真空室と、電子線が照射される被処理物が通過する照
射室とによって、主として構成されている。
照射室をウエブ、バッチ兼用の構成とする場合、照射室
内部には、ウエブを搬送するロールを設置するととも
に、バッチ用のコンベアを設置するようにしている。
このような構成において、ウエブを搬送する場合、ロー
ルを上昇させてその表面をウエブが転接するようにして
いる。その場合照射室のウエブ出口からのX線の漏洩を
少なくするため、ロールの昇降と連動して昇降する遮蔽
板を、ウエブの裏面に合い対して設置するのを普通とし
ている。
(考案が解決しようとする課題) しかし従来の構成では、ウエブ表面にX線をコリメート
するための遮蔽板がないため、ウエブ出口からは若干の
X線が漏洩する。
これを回避するためにウエブ表面に前記したような遮蔽
板を設置すればよいが、その遮蔽板がバッチ処理による
搬送の際に邪魔になってはならないため、ウエブの表面
に接近して設置することができない。
すなわちその遮蔽板とウエブの表面との間には、広い隙
間が必要となるため、その隙間からX線が漏洩していく
のは、どうしても避けることができない。
この考案は、ウエブ表面からのX線の漏洩を、バッチ処
理の際に邪魔にならないような遮蔽板によって防止する
ことを目的とする。
(課題を解決する手段) この考案は、ウエブを搬送するロールの昇降に連動して
昇降する、搬送されるウエブの上面に向かいあう位置に
ある上遮蔽板と、同じく下面に向かい合う位置にある下
遮蔽板を設けたことを特徴とする。
(作用) ロールをウエブの搬送位置まで上昇させたときは、これ
に連動して下遮蔽板は上昇し、また上遮蔽板は下降す
る。これによって両遮蔽板間の間隔は狭くなり、またそ
の間をウエブが通過する。
バッチ処理の際には、ロールはバッチ搬送位置よりも下
降される。これに連動して下遮蔽板は下降し、上遮蔽板
は上昇して、バッチ搬送位置よりも上方に位置するよう
になる。
これによってウエブ搬送の際は、両遮蔽板の間隔を十分
に狭くすることができ、漏洩X線を極力低減させること
ができるようになる。そしてその上遮蔽板はバッチ処理
の際には上方に動かされるので、なんら邪魔な存在には
ならない。
(実施例) この考案の実施例を図によって説明する。1は電子線照
射源2を内蔵する真空室、3は電子線照射源2からの電
子線が照射される被処理物が通過する照射室である。照
射室3の両側には予備室4が配置されてあり、そこには
バッチ処理の際に、トレーを搬送するコンベア5が配置
されてある。6はトレーの出入口を開閉する扉、7は予
備室4のウエブ出口、8はウエブ出口7を開閉する扉で
ある。
照射室3の内部には、バッチ処理の際に使用するコンベ
ア9が設置されてあり、図示しない駆動源によって矢印
方向に駆動されるようになっている。コンベア7にはト
レーが載せられ、そのトレーに被処理物が載せられて搬
送される。その搬送過程で電子線が照射される。
別にウエブ処理のために、ウエブ10が添接するロール11
を設置する。ロール11は上下方向に昇降自在とされてい
る。
そのためにウエブ10の幅方向に沿って延びる支点軸12を
用意し、その両端に揺動金具13を固定する。揺動金具13
にロール11が回転自在に指示されている。
また揺動金具13は、アーム14を介してシリンダー15のシ
リンダー軸16に連結されてあり、シリンダー15の動作に
したがって、支点軸12を中心として揺動される。
揺動金具13が第1図、第2図に示す位置に揺動したと
き、ロール11はコンベア9より上部にまで移動されるよ
うになっている。これによってロール11に添接するウエ
ブ10と、コンベア9に載せられるトレー上の被処理物と
は、電子線照射源2から等距離に位置するようになる。
揺動金具13が第3図に示す位置に揺動されたとき、ロー
ル11はコンベア9よりも下部にまで移動されるようにな
っている。これによってロール11はバッチ処理時のコン
ベア9の移動路から外れるので、バッチ処理の際にはな
んら邪魔にはならない。
揺動金具13には下遮蔽板17が取り付けられてあり、ロー
ル11とともに上下に揺動する。ロール11が上方に移動し
たとき、ウエブ10の下面に近接して向かい合うことによ
って、X線が出口7から外部に漏洩するのを防止する。
なお18は固定されてある遮蔽板、19はガイド用のロー
ル、20は不活性ガス供給口である。
この考案にしたがい、揺動金具13の上端に上遮蔽板21を
取り付ける。この上遮蔽板21は第1図、第2図に示すよ
うに、ウエブ処理のためにロール11が上方に移動したと
き、下降してウエブ10に接近する。これによってウエブ
10の上面からのX線の漏洩が防止される。
バッチ処理の際には、揺動金具13がシリンダ15によって
反時計方向に回動される。この回動によってロール11が
下遮蔽板17とともに下降するが、そのとき同時に上遮蔽
板21は上昇する。この上昇によって上遮蔽板21はバッチ
処理には邪魔にならない個所に位置するようになる。
(考案の効果) 以上詳述したようにこの考案によれば、ウエブ表面から
のX線の漏洩を防止することができるとともに、ウエブ
搬送用のロールの昇降に連動して上遮蔽物を昇降するよ
うにしたので、バッチ処理の際になんら邪魔になること
はないといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の実施例を示す断面図、第2図は要部
の拡大正面図、第3図は同じく動作状態が異なる場合の
拡大正面図である。 1……真空室、2……電子線照射源、3……照射室、9
……コンベア、10……ウエブ、11……ロール、13……揺
動金具、17……下遮蔽板、21……上遮蔽板、

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子線照射源を内蔵する真空室と、電子線
    を被処理物に照射する照射室とを備えてなる電子線照射
    装置において、前記照射室の内部にバッチ処理用のコン
    ベアと、ウエブ搬送用のロールを設けるとともに、前記
    ロールを昇降自在に支持する揺動金具に、前記ウエブの
    下面および上面に向かい合う下遮蔽板および上遮蔽板を
    設け、ウエブ処理の際、前記揺動金具の回動によって前
    記上下両遮蔽板を、バッチ処理時の邪魔にならない位置
    より前記ウエブの上下各面に近接する位置に移動してな
    ることを特徴とする電子線照射装置。
JP1990119801U 1990-11-14 1990-11-14 電子線照射装置 Expired - Lifetime JPH0750720Y2 (ja)

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JPH04106800U JPH04106800U (ja) 1992-09-14
JPH0750720Y2 true JPH0750720Y2 (ja) 1995-11-15

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6479700A (en) * 1987-09-22 1989-03-24 Toshiba Corp X-ray aperture for x-ray ct device
JPH0719037Y2 (ja) * 1988-11-15 1995-05-01 日新ハイボルテージ株式会社 電子線照射装置

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JPH04106800U (ja) 1992-09-14

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