JP2584921Y2 - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
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- JP2584921Y2 JP2584921Y2 JP1287792U JP1287792U JP2584921Y2 JP 2584921 Y2 JP2584921 Y2 JP 2584921Y2 JP 1287792 U JP1287792 U JP 1287792U JP 1287792 U JP1287792 U JP 1287792U JP 2584921 Y2 JP2584921 Y2 JP 2584921Y2
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- Japan
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- electron beam
- beam irradiation
- irradiation
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- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、エレベータ機構を備え
上下方向に移動操作されるコンベアにより、形状が大き
くて厚い被照射物を搬送する自己遮蔽型電子線照射装置
に関する。
上下方向に移動操作されるコンベアにより、形状が大き
くて厚い被照射物を搬送する自己遮蔽型電子線照射装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子線照射装置にあっては、その内部に
発生するＸ線が外に洩れないように遮蔽体で蔽われてお
り、被照射物の搬出入は遮蔽体に設けたスリットを通し
て行っている。そして、このスリットからのＸ線漏洩を
防ぐために、被照射物の搬送経路を傾斜させると共に、
この経路中に適数個のスリットを配置している。しか
し、被照射物が大きく、厚いものであると、被照射物搬
送用コンベアに傾斜を付けるのが難しいし、また、傾斜
を付けることができたとしても、そのコンベア傾斜角度
を大きくとることができないから、電子線照射装置は被
照射物の搬送方向に長く、大きなものとなってしまう。
発生するＸ線が外に洩れないように遮蔽体で蔽われてお
り、被照射物の搬出入は遮蔽体に設けたスリットを通し
て行っている。そして、このスリットからのＸ線漏洩を
防ぐために、被照射物の搬送経路を傾斜させると共に、
この経路中に適数個のスリットを配置している。しか
し、被照射物が大きく、厚いものであると、被照射物搬
送用コンベアに傾斜を付けるのが難しいし、また、傾斜
を付けることができたとしても、そのコンベア傾斜角度
を大きくとることができないから、電子線照射装置は被
照射物の搬送方向に長く、大きなものとなってしまう。
【０００３】そこで、照射室或いはこれに隣接する予備
室に、、エレベータ機構を有するコンベアを配置し、電
子線照射装置の被照射物搬送方向長さを短くしたものが
考案されている。図３は、かかる従来の自己遮蔽型電子
線照射装置の一例の構成図であり、照射室１の上部に設
けられた加速管部２からの電子線は走査管部３によっ
て、その下を搬送される被照射物（４）に照射される。
照射室１の両隣には入口側と出口側の第２予備室５1、
５2が設けられ、これら予備室は入口側と出口側の第１
予備室６1、６2に続いている。照射室１及び第１予備室
６1、６2にはコンベア７、８1及び８2が設置されてお
り、第２予備室にはエレベータ機構により上下方向に移
動操作される移動コンベア９1、９2が設置されている。
室に、、エレベータ機構を有するコンベアを配置し、電
子線照射装置の被照射物搬送方向長さを短くしたものが
考案されている。図３は、かかる従来の自己遮蔽型電子
線照射装置の一例の構成図であり、照射室１の上部に設
けられた加速管部２からの電子線は走査管部３によっ
て、その下を搬送される被照射物（４）に照射される。
照射室１の両隣には入口側と出口側の第２予備室５1、
５2が設けられ、これら予備室は入口側と出口側の第１
予備室６1、６2に続いている。照射室１及び第１予備室
６1、６2にはコンベア７、８1及び８2が設置されてお
り、第２予備室にはエレベータ機構により上下方向に移
動操作される移動コンベア９1、９2が設置されている。
【０００４】入口側第１予備室６1の遮蔽体に形成され
たスリット１０1から導入された被照射物４は、コンベ
ア８1によってスリット１１1を通り、第２予備室５1に
送り込まれ、エレベータ機構によりコンベア８1と同じ
レベル位置にされているコンベア９1によって、同コン
ベアの所定の位置に搬送される。次いで、エレベータ機
構を操作し、コンベア９1を照射室１のコンベア７と同
じレベル位置に上昇させる。コンベア９1、コンベア７
及びコンベア７と同じレベル位置にされているコンベア
９2を運転し、被照射物を第２予備室５1からスリット１
２1を経て照射室１に送り込み、走査管部３の下を通過
させて電子線を照射し、スリット１２2を通り第２予備
室５2のコンベア９2の所定の位置に搬送する。このコン
ベア９2をエレベータ機構によって下降させ、コンベア
９2とコンベア８2を運転し、スリット１１2、１０2を通
過させて、照射済の被照射物を第１予備室６2の外に送
り出す。
たスリット１０1から導入された被照射物４は、コンベ
ア８1によってスリット１１1を通り、第２予備室５1に
送り込まれ、エレベータ機構によりコンベア８1と同じ
レベル位置にされているコンベア９1によって、同コン
ベアの所定の位置に搬送される。次いで、エレベータ機
構を操作し、コンベア９1を照射室１のコンベア７と同
じレベル位置に上昇させる。コンベア９1、コンベア７
及びコンベア７と同じレベル位置にされているコンベア
９2を運転し、被照射物を第２予備室５1からスリット１
２1を経て照射室１に送り込み、走査管部３の下を通過
させて電子線を照射し、スリット１２2を通り第２予備
室５2のコンベア９2の所定の位置に搬送する。このコン
ベア９2をエレベータ機構によって下降させ、コンベア
９2とコンベア８2を運転し、スリット１１2、１０2を通
過させて、照射済の被照射物を第１予備室６2の外に送
り出す。
【０００５】
【考案が解決しようとする課題】上述の電子線照射装置
の場合、照射室１内に発生したＸ線はスリット１２1、
１２2から一部漏洩するが、このスリットを通ったＸ線
のうち、第２予備室５1、５2の内部で充分に吸収、反射
減衰されずにスリット１１1、１１2を通り抜ける部分が
存在する。そこで更に予備室即ち第１予備室６1、６2が
設け、そのスリット１０1、１０2から被照射物４を搬出
入し、Ｘ線の漏洩を防止しているが、これによれば、電
子線照射装置は依然として搬送方向に長くなり、装置全
体の小型化を阻むものとなっている。
の場合、照射室１内に発生したＸ線はスリット１２1、
１２2から一部漏洩するが、このスリットを通ったＸ線
のうち、第２予備室５1、５2の内部で充分に吸収、反射
減衰されずにスリット１１1、１１2を通り抜ける部分が
存在する。そこで更に予備室即ち第１予備室６1、６2が
設け、そのスリット１０1、１０2から被照射物４を搬出
入し、Ｘ線の漏洩を防止しているが、これによれば、電
子線照射装置は依然として搬送方向に長くなり、装置全
体の小型化を阻むものとなっている。
【０００６】本考案は、Ｘ線遮蔽及び搬送ラインの構造
を簡単化し、装置全体を小型化、軽量化した電子線照射
装置を提供することを目的とするものである。
を簡単化し、装置全体を小型化、軽量化した電子線照射
装置を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本考案は、エレベータ機
構を備え上下方向に移動操作されるコンベアにより被照
射物を搬送する自己遮蔽型電子線照射装置において、前
記コンベアの上下にＸ線遮蔽部材が取り付けられている
ことを特徴とするものである。
構を備え上下方向に移動操作されるコンベアにより被照
射物を搬送する自己遮蔽型電子線照射装置において、前
記コンベアの上下にＸ線遮蔽部材が取り付けられている
ことを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】照射部領域ないし照射室のスリットから、上下
方向に移動操作されるコンベアを収容する領域ないし予
備室に入り込んだＸ線は、コンベアの上下に設けられた
Ｘ線遮蔽部材で吸収、反射減衰し、コンベア収容領域な
いし予備室のスリットからのＸ線の漏出を防ぐことがで
きる。
方向に移動操作されるコンベアを収容する領域ないし予
備室に入り込んだＸ線は、コンベアの上下に設けられた
Ｘ線遮蔽部材で吸収、反射減衰し、コンベア収容領域な
いし予備室のスリットからのＸ線の漏出を防ぐことがで
きる。
【０００９】
【実施例】本考案の実施例について図面を参照して説明
する。図１は電子線照射装置の構成図であり、図３と同
一符号は同等部分を示す。コンベア７を有する照射室１
に隣接して予備室５1、５2が設けられており、これら予
備室にはエレベータ機構によって上下方向に移動操作さ
れる移動コンベア９1、９2が設置されている。この移動
コンベアは、図２に、その正面図を示すように、アング
ル材等を用いて枠組み、補強形成された架台１３にコン
ベアベルトないしチェーンを有する搬送本体部１４が取
り付けられており、架台１３に取り付けられた駆動軸１
５を油圧機構等によって操作することにより上下移動操
作される。架台１３の上下には、鉛等で形成された平板
状のＸ線遮蔽部材１６、同１７が取り付けられている。
する。図１は電子線照射装置の構成図であり、図３と同
一符号は同等部分を示す。コンベア７を有する照射室１
に隣接して予備室５1、５2が設けられており、これら予
備室にはエレベータ機構によって上下方向に移動操作さ
れる移動コンベア９1、９2が設置されている。この移動
コンベアは、図２に、その正面図を示すように、アング
ル材等を用いて枠組み、補強形成された架台１３にコン
ベアベルトないしチェーンを有する搬送本体部１４が取
り付けられており、架台１３に取り付けられた駆動軸１
５を油圧機構等によって操作することにより上下移動操
作される。架台１３の上下には、鉛等で形成された平板
状のＸ線遮蔽部材１６、同１７が取り付けられている。
【００１０】移動コンベア９1、９2が、コンベア９1に
ついては図１の実線で、コンベア９2については一点鎖
線でそれぞれ示す下降位置にあるときには、照射室１の
スリット１２1、１２2と予備室５1、５2のスリット１１
1、１１2とを結ぶ直進路にはＸ線遮蔽部材１６が介在
し、移動コンベアが上昇位置にあるときには、スリット
１１1、１１2と同１２1、１２2との間にはＸ線遮蔽部材
１７が介在する。したがって、スリット１２1、１２2か
ら予備室５1、５2に入射したＸ線は、Ｘ線遮蔽部材１
６、１７と予備室を形成する遮蔽体によって吸収及び反
射減衰し、減衰していないＸ線がスリット１１1、１１2
から出るのが防止され、スリット１１1、１１2から漏出
するＸ線を許容値以下に抑えることができる。これによ
り、スリット１１1、１１2を電子線照射装置における被
照射物４の搬出入口とすることができるから、図３に示
した従来の電子線照射装置における予備室６1、６2を要
しないものとすることができる。
ついては図１の実線で、コンベア９2については一点鎖
線でそれぞれ示す下降位置にあるときには、照射室１の
スリット１２1、１２2と予備室５1、５2のスリット１１
1、１１2とを結ぶ直進路にはＸ線遮蔽部材１６が介在
し、移動コンベアが上昇位置にあるときには、スリット
１１1、１１2と同１２1、１２2との間にはＸ線遮蔽部材
１７が介在する。したがって、スリット１２1、１２2か
ら予備室５1、５2に入射したＸ線は、Ｘ線遮蔽部材１
６、１７と予備室を形成する遮蔽体によって吸収及び反
射減衰し、減衰していないＸ線がスリット１１1、１１2
から出るのが防止され、スリット１１1、１１2から漏出
するＸ線を許容値以下に抑えることができる。これによ
り、スリット１１1、１１2を電子線照射装置における被
照射物４の搬出入口とすることができるから、図３に示
した従来の電子線照射装置における予備室６1、６2を要
しないものとすることができる。
【００１１】
【考案の効果】本考案は以上説明したように構成したの
で、従来の電子線照射装置において必要とした移動コン
ベアの収容予備室に隣接する被照射物搬出入予備室が不
要となるから、電子線照射装置を小型化、軽量化するこ
とが可能となった。
で、従来の電子線照射装置において必要とした移動コン
ベアの収容予備室に隣接する被照射物搬出入予備室が不
要となるから、電子線照射装置を小型化、軽量化するこ
とが可能となった。
【図１】本考案の一実施例の構成図である。
【図２】移動コンベアの正面図である。
【図３】従来の電子線照射装置の構成図である。
1 照射室 4 被照射物 51,52 予備室 7 コンベア 91,92 移動コンベア 16, 17 Ｘ線遮蔽部材
Claims (1)
- 【請求項１】 エレベータ機構によって上下方向に移動
操作される被照射物搬送コンベアを備えた自己遮蔽型電
子線照射装置において、前記コンベアの上下にＸ線遮蔽
部材が取り付けられていることを特徴とする電子線照射
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1287792U JP2584921Y2 (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1287792U JP2584921Y2 (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 電子線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0564800U JPH0564800U (ja) | 1993-08-27 |
| JP2584921Y2 true JP2584921Y2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=11817653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1287792U Expired - Fee Related JP2584921Y2 (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2584921Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2988612B1 (fr) * | 2012-04-02 | 2014-08-08 | Getinge La Calhene | Systeme de sterilisation par bombardement d'electrons a encombrement reduit |
| JP7270069B2 (ja) * | 2019-06-14 | 2023-05-09 | フラマトム・ゲーエムベーハー | 滅菌ユニットを滅菌するためのシステムおよびこのようなシステムを動作させるための方法 |
-
1992
- 1992-02-07 JP JP1287792U patent/JP2584921Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0564800U (ja) | 1993-08-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |