JPH0564800U - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
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- JPH0564800U JPH0564800U JP1287792U JP1287792U JPH0564800U JP H0564800 U JPH0564800 U JP H0564800U JP 1287792 U JP1287792 U JP 1287792U JP 1287792 U JP1287792 U JP 1287792U JP H0564800 U JPH0564800 U JP H0564800U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 X線遮蔽及び搬送ラインの構造を簡単化し、
電子線照射装置の小型化、軽量化すること。 【構成】 照射室1に隣接する予備室51、52に、エレ
ベータ機構により上下方向に移動操作される移動コンベ
ア91、92が設置されている。スリット111から導入
された被照射物4は、コンベア91、7で搬送され、走
査管部3からの電子線が照射され、コンベア92で送り
出される。両移動コンベアの上下にはX線遮蔽部材1
6、17を取り付ける。これら遮蔽部材により、スリッ
ト111、112から漏出するX線を許容値以下に抑える
ことができ、従来、予備室51、52に隣接して、さらに
設けられていた予備室を不要とした。
電子線照射装置の小型化、軽量化すること。 【構成】 照射室1に隣接する予備室51、52に、エレ
ベータ機構により上下方向に移動操作される移動コンベ
ア91、92が設置されている。スリット111から導入
された被照射物4は、コンベア91、7で搬送され、走
査管部3からの電子線が照射され、コンベア92で送り
出される。両移動コンベアの上下にはX線遮蔽部材1
6、17を取り付ける。これら遮蔽部材により、スリッ
ト111、112から漏出するX線を許容値以下に抑える
ことができ、従来、予備室51、52に隣接して、さらに
設けられていた予備室を不要とした。
Description
【0001】
本考案は、エレベータ機構を備え上下方向に移動操作されるコンベアにより、 形状が大きくて厚い被照射物を搬送する自己遮蔽型電子線照射装置に関する。
【0002】
電子線照射装置にあっては、その内部に発生するX線が外に洩れないように遮 蔽体で蔽われており、被照射物の搬出入は遮蔽体に設けたスリットを通して行っ ている。そして、このスリットからのX線漏洩を防ぐために、被照射物の搬送経 路を傾斜させると共に、この経路中に適数個のスリットを配置している。しかし 、被照射物が大きく、厚いものであると、被照射物搬送用コンベアに傾斜を付け るのが難しいし、また、傾斜を付けることができたとしても、そのコンベア傾斜 角度を大きくとることができないから、電子線照射装置は被照射物の搬送方向に 長く、大きなものとなってしまう。
【0003】 そこで、照射室或いはこれに隣接する予備室に、、エレベータ機構を有するコ ンベアを配置し、電子線照射装置の被照射物搬送方向長さを短くしたものが考案 されている。図3は、かかる従来の自己遮蔽型電子線照射装置の一例の構成図で あり、照射室1の上部に設けられた加速管部2からの電子線は走査管部3によっ て、その下を搬送される被照射物(4)に照射される。照射室1の両隣には入口 側と出口側の第2予備室51、52が設けられ、これら予備室は入口側と出口側の 第1予備室61、62に続いている。照射室1及び第1予備室61、62にはコンベ ア7、81及び82が設置されており、第2予備室にはエレベータ機構により上下 方向に移動操作される移動コンベア91、92が設置されている。
【0004】 入口側第1予備室61の遮蔽体に形成されたスリット101から導入された被照 射物4は、コンベア81によってスリット111を通り、第2予備室51に送り込 まれ、エレベータ機構によりコンベア81と同じレベル位置にされているコンベ ア91によって、同コンベアの所定の位置に搬送される。次いで、エレベータ機 構を操作し、コンベア91を照射室1のコンベア7と同じレベル位置に上昇させ る。コンベア91、コンベア7及びコンベア7と同じレベル位置にされているコ ンベア92を運転し、被照射物を第2予備室51からスリット121を経て照射室 1に送り込み、走査管部3の下を通過させて電子線を照射し、スリット122を 通り第2予備室52のコンベア92の所定の位置に搬送する。このコンベア92を エレベータ機構によって下降させ、コンベア92とコンベア82を運転し、スリッ ト112、102を通過させて、照射済の被照射物を第1予備室62の外に送り出 す。
【0005】
上述の電子線照射装置の場合、照射室1内に発生したX線はスリット121、 122から一部漏洩するが、このスリットを通ったX線のうち、第2予備室51、 52の内部で充分に吸収、反射減衰されずにスリット111、112を通り抜ける 部分が存在する。そこで更に予備室即ち第1予備室61、62が設け、そのスリッ ト101、102から被照射物4を搬出入し、X線の漏洩を防止しているが、これ によれば、電子線照射装置は依然として搬送方向に長くなり、装置全体の小型化 を阻むものとなっている。
【0006】 本考案は、X線遮蔽及び搬送ラインの構造を簡単化し、装置全体を小型化、軽 量化した電子線照射装置を提供することを目的とするものである。
【0007】
本考案は、エレベータ機構を備え上下方向に移動操作されるコンベアにより被 照射物を搬送する自己遮蔽型電子線照射装置において、前記コンベアの上下にX 線遮蔽部材が取り付けられていることを特徴とするものである。
【0008】
照射部領域ないし照射室のスリットから、上下方向に移動操作されるコンベア を収容する領域ないし予備室に入り込んだX線は、コンベアの上下に設けられた X線遮蔽部材で吸収、反射減衰し、コンベア収容領域ないし予備室のスリットか らのX線の漏出を防ぐことができる。
【0009】
本考案の実施例について図面を参照して説明する。図1は電子線照射装置の構 成図であり、図3と同一符号は同等部分を示す。コンベア7を有する照射室1に 隣接して予備室51、52が設けられており、これら予備室にはエレベータ機構に よって上下方向に移動操作される移動コンベア91、92が設置されている。この 移動コンベアは、図2に、その正面図を示すように、アングル材等を用いて枠組 み、補強形成された架台13にコンベアベルトないしチェーンを有する搬送本体 部14が取り付けられており、架台13に取り付けられた駆動軸15を油圧機構 等によって操作することにより上下移動操作される。架台13の上下には、鉛等 で形成された平板状のX線遮蔽部材16、同17が取り付けられている。
【0010】 移動コンベア91、92が、コンベア91については図1の実線で、コンベア92 については一点鎖線でそれぞれ示す下降位置にあるときには、照射室1のスリッ ト121、122と予備室51、52のスリット111、112とを結ぶ直進路にはX 線遮蔽部材16が介在し、移動コンベアが上昇位置にあるときには、スリット1 11、112と同121、122との間にはX線遮蔽部材17が介在する。したがっ て、スリット121、122から予備室51、52に入射したX線は、X線遮蔽部材 16、17と予備室を形成する遮蔽体によって吸収及び反射減衰し、減衰してい ないX線がスリット111、112から出るのが防止され、スリット111、112 から漏出するX線を許容値以下に抑えることができる。これにより、スリット1 11、112を電子線照射装置における被照射物4の搬出入口とすることができる から、図3に示した従来の電子線照射装置における予備室61、62を要しないも のとすることができる。
【0011】
【考案の効果】 本考案は以上説明したように構成したので、従来の電子線照射装置において必 要とした移動コンベアの収容予備室に隣接する被照射物搬出入予備室が不要とな るから、電子線照射装置を小型化、軽量化することが可能となった。
【図1】本考案の一実施例の構成図である。
【図2】移動コンベアの正面図である。
【図3】従来の電子線照射装置の構成図である。
1 照射室 4 被照射物 51,52 予備室 7 コンベア 91,92 移動コンベア 16, 17 X線遮蔽部材
Claims (1)
- 【請求項1】 エレベータ機構によって上下方向に移動
操作される被照射物搬送コンベアを備えた自己遮蔽型電
子線照射装置において、前記コンベアの上下にX線遮蔽
部材が取り付けられていることを特徴とする電子線照射
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1287792U JP2584921Y2 (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1287792U JP2584921Y2 (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 電子線照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0564800U true JPH0564800U (ja) | 1993-08-27 |
JP2584921Y2 JP2584921Y2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=11817653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1287792U Expired - Fee Related JP2584921Y2 (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2584921Y2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015515317A (ja) * | 2012-04-02 | 2015-05-28 | ジェタンジュ ラ カレーヌ | コンパクトな電子衝撃滅菌用システム |
JP2022536830A (ja) * | 2019-06-14 | 2022-08-19 | フラマトム・ゲーエムベーハー | 滅菌ユニットを滅菌するためのシステムおよびこのようなシステムを動作させるための方法 |
-
1992
- 1992-02-07 JP JP1287792U patent/JP2584921Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015515317A (ja) * | 2012-04-02 | 2015-05-28 | ジェタンジュ ラ カレーヌ | コンパクトな電子衝撃滅菌用システム |
JP2022536830A (ja) * | 2019-06-14 | 2022-08-19 | フラマトム・ゲーエムベーハー | 滅菌ユニットを滅菌するためのシステムおよびこのようなシステムを動作させるための方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2584921Y2 (ja) | 1998-11-11 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |