JPH0523200U - エリア型電子線照射装置 - Google Patents
エリア型電子線照射装置Info
- Publication number
- JPH0523200U JPH0523200U JP7677891U JP7677891U JPH0523200U JP H0523200 U JPH0523200 U JP H0523200U JP 7677891 U JP7677891 U JP 7677891U JP 7677891 U JP7677891 U JP 7677891U JP H0523200 U JPH0523200 U JP H0523200U
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- JP
- Japan
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- electron beam
- beam irradiation
- free
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 照射領域前後のウエブ案内用フリ−ロ−ルの
芯出し精度の向上。 【構成】 電子線照射装置本体1における照射室4の底
部遮蔽体部分は開閉可能の遮蔽蓋5として構成されてい
る。遮蔽蓋は被照射ウエブ7を通すとき下げられ、照射
室内は開放される。照射領域前後の従来遮蔽蓋側に取付
けられていたフリ−ロ−ル10、11は、電子線照射装
置本体の固定部に取付けられたフリ−ロ−ル支持部材1
7に軸支取付ける。両ロ−ルの芯出しはその取付け時に
行われ、芯出し精度が向上し、搬送時のウエブの位置ず
れが発生しない。
芯出し精度の向上。 【構成】 電子線照射装置本体1における照射室4の底
部遮蔽体部分は開閉可能の遮蔽蓋5として構成されてい
る。遮蔽蓋は被照射ウエブ7を通すとき下げられ、照射
室内は開放される。照射領域前後の従来遮蔽蓋側に取付
けられていたフリ−ロ−ル10、11は、電子線照射装
置本体の固定部に取付けられたフリ−ロ−ル支持部材1
7に軸支取付ける。両ロ−ルの芯出しはその取付け時に
行われ、芯出し精度が向上し、搬送時のウエブの位置ず
れが発生しない。
Description
【0001】
本考案は、電子線照射室内に被照射ウエブの案内用フリ−ロ−ルを有するエリ ア型電子線照射装置に関する。
【0002】
図3は電子線照射室の底部遮蔽体部分が開閉できる遮蔽蓋として構成されてい るエリア型電子線照射装置の概略正面図であり、図4は電子線照射時の電子線照 射装置の内部構成図、図5は遮蔽蓋を降ろしたときの電子線照射装置の構成状況 図である。電子線照射装置本体1は架台2で支持されており、その中央上部に電 子線源及び加速部を収容した真空チャンバ3を有する。電子線照射装置本体1に おける電子線照射室4の底部遮蔽体部分、例えば前面、後面、側面及び底面の遮 蔽体部分は昇降して開閉可能の遮蔽蓋5として構成され、ピストンとシリンダに よる油圧操作機構6によって、昇降操作される。電子線照射に先立ち被照射ウエ ブ7を照射室4に通すとき、あるいは照射室内を点検するとき図5に示すように 、遮蔽蓋5は下げられ、照射室4は開放される。
【0003】 電子線照射時、遮蔽蓋5は操作機構6によって上げられ、図4に示すように、 照射室4は閉鎖される。被照射ウエブ7は、入口側予備室8に導入され、フリ− ロ−ル9、フリ−ロ−ル10及び同11で案内されて照射窓12とビ−ムキャッ チャ13間の照射領域を通過し、フリ−ロ−ル14で案内されて出口側予備室1 5から出る。
【0004】
かかる従来の電子線照射装置にあっては、照射室4内に被照射ウエブ7を通し 易くすることをも考慮し、照射領域前後のフリ−ロ−ル10、11は遮蔽蓋5側 に取り付け、遮蔽蓋5を下げたとき、これらロ−ル10、11も下がるように構 成されている。遮蔽蓋5は油圧操作機構6によって昇降操作されるが、この操作 機構6の停止位置精度、特に遮蔽蓋5を上げたときの停止位置精度は、大重量、 大構造物の遮蔽蓋5による照射室2の閉鎖には充分なものであるが、遮蔽蓋5を 昇降開閉させる度に上昇停止位置に多少のバラツキが生じ、これに伴いフリ−ロ −ル10、11の位置もまた変化する。操作機構6は電子線照射装置の図示しな い後側にも左右2個設けられており、遮蔽蓋5の上昇停止位置のバラツキにより フリ−ロ−ル10、11の軸線位置が変化する。この変化により、フリ−ロ−ル 9と10、フリ−ロ−ル10と11、或いはフリ−ロ−ル11と14のそれぞれ 二つのロ−ルの軸線の平行度が損なわれる。図6に示すように、二つのロ−ルA 、Bが平行に配置されない場合、被照射ウエブ7は搬送につれてその位置が一点 鎖線で示すようにずれてしまい、ウエブ7に対する電子線照射が適切に行われな いという事態が発生する。そこで従来の装置では、ウエブ7を通す度に毎回フリ −ロ−ル10、11の芯出しを行わねばならず、フリ−ロ−ルの軸支位置を上下 に微調節できるように芯出し調節機構が設けられていた。
【0005】 本考案は、照射領域前後に配置されるフリ−ロ−ルを遮蔽蓋から分離し、遮蔽 蓋の昇降開閉の度にフリ−ロ−ルの芯出しを行わずに済むようにした電子線照射 装置を提供することを目的とするものである。
【0006】
本考案は、照射室の底部の遮蔽体部分が開閉可能の遮蔽蓋として構成されてい るエリア型電子線照射装置において、照射領域の前後の位置に配置されるフリ− ロ−ルが、電子線照射装置本体の固定部に軸支取付けられていることを特徴とす るものである。
【0007】
照射領域前後の位置に配置されるフリ−ロ−ルは遮蔽蓋ではなく、電子線照射 装置本体の固定部に軸支取付けられているから、その取付け時に芯出しを一度行 うだけで良く、芯出し精度もフリ−ロ−ル軸支部取付けの機械的精度まで向上さ せることができる。
【0008】
本考案の一実施例について図面を参照して説明する。図1は電子線照射時、遮 蔽蓋を上昇させたときの電子線照射装置の内部構成図、図2は遮蔽蓋を降ろした ときの電子線照射装置の構成状況図であり、図3ないし図6と同一符号は同等部 分を示す。照射窓12は真空チャンバ3の下端部に設けられた支持部材16に取 付けられており、この支持部材16の端部にフリ−ロ−ル支持部材17が取付け 固定されてフリ−ロ−ル10及び同11をそれぞれ軸支しており、フリ−ロ−ル 10、11は遮蔽蓋5ではなく、電子線照射装置本体1の固定部に軸支取付けら れている。
【0009】 被照射ウエブ7を通す場合、照射室4の底部遮蔽体部分、例えば前面、後面、 側面及び底面の遮蔽体部分を形成する開閉可能の遮蔽蓋5を下げ、照射室4を開 放する。ウエブ7の通し作業が済むと再び遮蔽蓋5を上げ、照射室4を閉鎖する が、フリ−ロ−ル10、11は電子線照射装置本体1の固定部に軸支取付けされ ているから、この取付け時に一度ロ−ルの芯出しを行えばフリ−ロ−ル10、1 1の位置は遮蔽蓋5の昇降開閉に影響されない。ウエブ7の通し作業時、フリ− ロ−ル10、11は下げられないが、ロ−ル周囲には充分な空間があるから通し 作業に影響を与えることはない。なお、上述の実施例では、電子線照射装置本体 1を水平に位置させたものを示したが、電子線照射装置本体1を垂直に位置させ て電子線照射装置を構成してもよく、この場合には遮蔽蓋5は左右、横方向に開 閉される。
【0010】
本考案は以上説明したように、照射領域前後の位置に配置されるフリ−ロ−ル は遮蔽蓋ではなく、電子線照射装置本体の固定部に軸支取付けられているから、 その取付け時に芯出しを一度行うだけで良く、芯出し精度もフリ−ロ−ル軸支部 取付けの機械的精度まで向上させることができ、被照射ウエブを電子線照射装置 内において位置ずれを生ずることなく搬送することができるから、ウエブに電子 線を的確に照射することができる。
【図1】本考案の実施例の構成図である。
【図2】遮蔽蓋を降ろしたときの構成状況図である。
【図3】電子線照射装置の正面図である。
【図4】従来例の構成図である。
【図5】従来例の遮蔽蓋を降ろしたときの構成状況図で
ある。
ある。
【図6】フリ−ロ−ル位置変化時における被照射ウエブ
位置ずれの説明図である。
位置ずれの説明図である。
1 電子線照射装置本体 3 真空チャンバ 4 電子線照射室 5 遮蔽蓋 7 被照射ウエブ 10 フリ−ロ−ル 11 フリ−ロ−ル 12 照射窓 13 ビ−ムキャッチャ 16 支持部材 17 フリ−ロ−ル支持部材
Claims (1)
- 【請求項1】 電子線照射室の底部遮蔽体部分が開閉可
能の遮蔽蓋として構成されているエリア型電子線照射装
置において、照射領域の前後の位置に配置されるフリ−
ロ−ルが、電子線照射装置本体の固定部に軸支取付けら
れていることを特徴とする電子線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7677891U JPH0523200U (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | エリア型電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7677891U JPH0523200U (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | エリア型電子線照射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0523200U true JPH0523200U (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=13615059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7677891U Pending JPH0523200U (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | エリア型電子線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0523200U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009068973A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Hamamatsu Photonics Kk | 電子線照射装置 |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP7677891U patent/JPH0523200U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009068973A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Hamamatsu Photonics Kk | 電子線照射装置 |
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