JPH0745652A - 樹脂封止型半導体装置の製造装置およびその製造方法 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置の製造装置およびその製造方法

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JPH0745652A
JPH0745652A JP18797993A JP18797993A JPH0745652A JP H0745652 A JPH0745652 A JP H0745652A JP 18797993 A JP18797993 A JP 18797993A JP 18797993 A JP18797993 A JP 18797993A JP H0745652 A JPH0745652 A JP H0745652A
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JP
Japan
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lead frame
resin
mold
semiconductor chip
space
Prior art date
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Application number
JP18797993A
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English (en)
Inventor
Michiya Azuma
道也 東
Miyoshi Egashira
美佳 江頭
Yasumasa Noda
康昌 野田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、トランスファモールド法を用いたモ
ールド装置およびそのモールド方法において、リードフ
レームのダイパッドの位置の移動に起因する、歩留まり
の低下を抑制できるようにすることを最も主要な特徴と
する。 【構成】たとえば、リードフレーム12を型締めする上
金型21aおよび下金型21bの、キャビティ部22に
対向する部位に電磁石27a,27bをそれぞれ設置す
る。そして、電磁石27a,27bを励磁させてリード
フレーム12に磁力を付与し、この磁力によりリードフ
レーム12の位置を固定する。この状態で、キャビティ
部22への樹脂23の充填を行うことで、充填される樹
脂23の粘度や速度によってダイパッド12aの位置が
移動されるのを防止する構成となっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、たとえば樹脂封止型
半導体装置の製造に用いられる樹脂封止型半導体装置の
製造装置およびその製造方法に関するもので、特にトラ
ンスファモールド法を用いたモールド装置に使用される
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置をパッケージングする
技術としては、トランスファモールド法が良く知られて
いる。これは、たとえば図3に示すように、半導体チッ
プ1が搭載されたリードフレーム2を上金型3と下金型
4とで型締めし、その上下の金型3,4を約175℃〜
185℃で加熱することによってタブレット状の樹脂を
溶融するとともに、この溶融された樹脂をプランジャ5
によりランナ部6を経てゲート部7から上下の金型3,
4内のキャビティ部8に充填するものであった。
【0003】この場合、半導体チップ1が搭載されたリ
ードフレーム2は、ダイパット2a上にダイボンドされ
た半導体チップ1の、その電極パッドとリード線とがボ
ンディングワイヤ9を介して電気的に接続された構成と
なっている。
【0004】しかしながら、上記したトランスファモー
ルド法においては、封止用の樹脂の粘度や充填の速度に
よって、リードフレーム2が変形されてダイパット2a
の位置が移動されるという欠点があった。
【0005】図4は、上金型3および下金型4によって
形成されるキャビティ部8の周辺を取り出して示すもの
である。このように、ダイパット2aの位置が移動され
ると、チップ1の上下の樹脂の厚さの不均一により、ソ
リの発生や表面実装時の樹脂クラックが発生しやすくな
る。
【0006】また、樹脂よりボンディングワイヤ9が突
出してパッケージの外に飛び出すなど、モールド工程で
の製品の歩留りが低下する。これらの問題は、パッケー
ジ厚が薄型化する傾向にある近年において、より顕著な
ものとなってくる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
においては、封止用の樹脂の粘度や充填の速度によって
リードフレームが変形され、モールド工程での製品の歩
留りが低下するなどの問題があった。
【0008】そこで、この発明は、封止用の樹脂の粘度
や充填の速度によるリードフレームの変形を抑制でき、
製品の歩留りを向上することが可能な樹脂封止型半導体
装置の製造装置およびその製造方法を提供することを目
的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明の樹脂封止型半導体装置の製造装置にあ
っては、磁性体からなるリードフレーム上に搭載された
半導体チップを封止用樹脂によりモールドするものにお
いて、前記リードフレームを型締めし、そのリードフレ
ームを含む前記半導体チップの周辺に空間を形成する金
型と、この金型によって形成された前記空間内に磁界を
生じさせ、その空間内における前記リードフレームの位
置を固定する固定部材と、この固定部材により前記リー
ドフレームの位置を固定した状態で、前記金型により形
成された前記空間内に封止用樹脂を充填する充填機構と
から構成されている。
【0010】また、この発明の樹脂封止型半導体装置の
製造方法にあっては、磁性体からなるリードフレーム上
に搭載された半導体チップを封止用樹脂によりモールド
する場合において、前記リードフレームの上下を金型に
より型締めして、そのリードフレームを含む前記半導体
チップの周辺に空間を形成し、この空間内に固定部材か
らの磁界を生じさせ、その空間内における前記リードフ
レームの位置を固定し、この状態で、前記金型により形
成された前記空間内に充填機構からの封止用樹脂を充填
することによって、樹脂パッケージを形成するようにな
っている。
【0011】
【作用】この発明は、上記した手段により、空間に対す
るリードフレームの相対的位置を維持できるようになる
ため、封止用の樹脂の粘度や充填の速度によるリードフ
レームの変形量を小さくすることが可能となるものであ
る。
【0012】
【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
して説明する。図1は、本発明の第1の実施例にかかる
モールド装置の概略構成を示すものである。
【0013】すなわち、このモールド装置は、半導体チ
ップ11が搭載されたリードフレーム12を型締めする
上下の金型21a,21b、この金型21a,21bに
より形成されるキャビティ部(空間)22内に樹脂23
を充填するための、プランジャ24、ランナ部25、お
よびゲート部26などを有して構成されている。
【0014】そして、上記金型21a,21bの、たと
えばキャビティ部22に対向するそれぞれの部位には電
磁石27a,27bが設置されており、これら電磁石2
7a,27bは各々の配線28a,28bを介して励磁
されるようになっている。
【0015】また、この場合、半導体チップ11が搭載
されるリードフレーム12は、磁性体、つまり鉄系の金
属からなり、ダイパット12a上にダイボンドされた半
導体チップ11の、その電極パッドとリード線とがボン
ディングワイヤ13を介して電気的に接続されるように
なっている。
【0016】しかして、本実施例装置を用いたモールド
工程においては、まず、ダイパット12a上に半導体チ
ップ11がダイボンドされて、その電極パッドとリード
線とがボンディングワイヤ13を介して電気的に接続さ
れることにより半導体チップ11が搭載されたリードフ
レーム12の上下が、上金型21aおよび下金型21b
によって型締めされる。
【0017】そして、各配線28a,28bを介して、
それぞれの電磁石27a,27bが励磁される。する
と、これら電磁石27a,27bからの等価な磁力によ
って、たとえばリードフレーム12が上方向および下方
向に互いに引かれる、または上方向および下方向より互
いに押されることにより、リードフレーム12のキャビ
ティ部22に対する相対的な位置が維持される。
【0018】すなわち、上,下方向からの磁界により、
リードフレーム12のキャビティ部22内における位置
が固定されることになる。この状態において、上下の金
型21a,21bが約175℃〜185℃で加熱される
ことによりタブレット状の樹脂が溶融され、この溶融さ
れた樹脂23がプランジャ24によりランナ部25を経
てゲート部26からキャビティ部22内に充填される。
【0019】これにより、半導体チップ11が搭載され
たリードフレーム12の上下が、樹脂23によりパッケ
ージングされる。この場合、リードフレーム12のキャ
ビティ部22内における位置が固定された状態で、樹脂
23によるモールドが行われることになる。
【0020】そこで、キャビティ部22内の樹脂23が
充分に硬化した時点で、金型21a,21b内より硬化
物(パッケージングされた製品)を取り出し、その側面
をカットしてリードフレーム12の変形量(モールド前
のダイパッド12aの位置を「0」とし、どれだけの距
離を移動したか)を調べた。
【0021】以下に、硬化物として、たとえばQFP
(Quad Flat Package)160pin
タイプの樹脂封止型半導体装置(ダイパッド12aのサ
イズを15.5mm、パッケージの厚さを3.6mmと
した)を評価した場合の結果について示す。
【0022】まず、磁界をかけずに樹脂モールドを行っ
た場合の、リードフレーム12の変形量は、ダイパット
12aの移動距離にして約250μmであった。これに
対し、磁界をかけた状態で樹脂モールドを行った本実施
例の場合の、リードフレーム12の変形量は、ダイパッ
ド12aの移動距離にしてわずか20μm程度であっ
た。
【0023】この結果、半導体チップ11の上下におけ
る樹脂23の厚さの不均一に起因する、ソリの発生や表
面実装時の樹脂クラックの発生を軽減することが可能と
なる。
【0024】次に、ダイパッドがパッケージより露出す
る構造の半導体装置をモールドする装置の概要について
説明する。図2は、この発明の第2の実施例にかかるモ
ールド装置の概略構成を示すものである。
【0025】すなわち、このモールド装置は、半導体チ
ップ31が搭載されたリードフレーム32を型締めする
上下の金型41a,41b、この金型41a,41bに
より形成されるキャビティ部(空間)42内に樹脂43
を充填するための、プランジャ44、ランナ部45、お
よびゲート部46などを有して構成されている。
【0026】そして、上記した金型41a,41bの一
方(この場合は、下金型41b)の、たとえばキャビテ
ィ部42に対向する部位には電磁石47が設置されてお
り、この電磁石47は配線48を介して励磁されるよう
になっている。
【0027】また、この場合、半導体チップ31が搭載
されるリードフレーム32は、磁性体、つまり鉄系の金
属からなり、ダイパット32a上にダイボンドされた半
導体チップ31の表面において、フレーム32の一端
(リード線)が接着層33を介して接着されるととも
に、その電極パッドとリード線とがボンディングワイヤ
34を介して電気的に接続されるようになっている。
【0028】なお、キャビティ部42を形成する下金型
41bによりダイパッド32aの裏面が当接される、つ
まり下金型41bはダイパッド32aに対応する深さを
有して構成されるものである。
【0029】しかして、本実施例装置を用いたモールド
工程においては、まず、ダイパット32a上に半導体チ
ップ31がダイボンドされ、その半導体チップ31の表
面にフレーム32上のリード線が接着層33を介して接
着されるとともに、半導体チップ31の電極パッドと上
記リード線とがボンディングワイヤ34を介して電気的
に接続されることにより半導体チップ31が搭載された
リードフレーム32の上下が、上金型41aおよび下金
型41bによって型締めされる。
【0030】そして、配線48を介して電磁石47が励
磁される。すると、この電磁石47からの磁力によっ
て、たとえばリードフレーム32のダイパッド32aが
吸着されることにより、リードフレーム32のキャビテ
ィ部42に対する相対的な位置が維持される。
【0031】すなわち、下方向からの磁界により、リー
ドフレーム32のキャビティ部42内における位置が固
定されることになる。この状態において、上下の金型4
1a,41bが約175℃〜185℃で加熱されること
によりタブレット状の樹脂が溶融され、この溶融された
樹脂43がプランジャ44によりランナ部45を経てゲ
ート部46からキャビティ部42内に充填される。
【0032】これにより、半導体チップ31が搭載され
たリードフレーム32は、ダイパッド32aの下側が露
出する状態で、樹脂43によりパッケージングされる。
この場合、リードフレーム32のキャビティ部42内に
おける位置が固定された状態で、樹脂43によるモール
ドが行われることになる。
【0033】そこで、キャビティ部42内の樹脂43が
充分に硬化した時点で、金型41a,41b内より硬化
物(パッケージングされた製品)を取り出し、その断面
を観察してリードフレーム32の変形量(モールド前の
ダイパッド32aと下金型41bとの接触を「0」と
し、どれだけの距離を移動したか)を調べた。
【0034】この結果、磁界をかけずに樹脂モールドを
行った場合のリードフレーム32の変形量が、ダイパッ
ト32aの移動距離にして約50μmであったのに対
し、磁界をかけた状態で樹脂モールドを行った本実施例
の場合のリードフレーム32の変形量は「0」、つまり
ダイパッド32aは移動せず、よってダイパッド32a
と下金型41bとの間に樹脂43が侵入することもなか
った。
【0035】上記したように、キャビティ部に対するリ
ードフレームの相対的位置を維持できるようにしてい
る。すなわち、金型により型締めされたリードフレーム
に対して、金型より磁界をかけることで、その位置を固
定するようにしている。これにより、リードフレームの
位置が固定された状態で、半導体チップをモールドでき
るようになるため、封止用の樹脂の粘度や充填の速度に
よるリードフレームの変形量を小さくすることが可能と
なる。したがって、半導体チップの上下における樹脂の
厚さの不均一に起因する、ソリの発生や表面実装時の樹
脂クラックの発生、および樹脂よりボンディングワイヤ
が突出してパッケージの外に飛び出すといった、モール
ド工程での製品の歩留りの低下を防止できるものであ
る。
【0036】また、パッケージの薄型化にともなう信頼
性をも容易に向上することができるものである。なお、
上記実施例においては、金型の一部に電磁石を配置した
場合について説明したが、これに限らず、たとえば金型
の全体を電磁石で構成することも可能である。
【0037】また、電磁石に変えて永久磁石を使用する
こともできる。その他、この発明の要旨を変えない範囲
において、種々変形実施可能なことは勿論である。
【0038】
【発明の効果】以上、詳述したようにこの発明によれ
ば、封止用の樹脂の粘度や充填の速度によるリードフレ
ームの変形を抑制でき、製品の歩留りを向上することが
可能な樹脂封止型半導体装置の製造装置およびその製造
方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施例にかかるモールド装置
の概略を示す構成図。
【図2】この発明の第2の実施例にかかるモールド装置
の概略を示す構成図。
【図3】従来技術とその問題点を説明するために示すモ
ールド装置の構成図。
【図4】同じく、ダイパットの位置の移動を説明するた
めに示す図。
【符号の説明】
11,31…半導体チップ、12,32…リードフレー
ム、12a,32a…ダイパッド、21a,41a…上
金型、21b,41b…下金型、22,42…キャビテ
ィ部、23,43…樹脂、24,44…プランジャ、2
5,45…ランナ部、26,46…ゲート部、27a,
27b,47…電磁石。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁性体からなるリードフレーム上に搭載
    された半導体チップを封止用樹脂によりモールドする装
    置において、 前記リードフレームを型締めし、そのリードフレームを
    含む前記半導体チップの周辺に空間を形成する金型と、 この金型によって形成された前記空間内に磁界を生じさ
    せ、その空間内における前記リードフレームの位置を固
    定する固定部材と、 この固定部材により前記リードフレームの位置を固定し
    た状態で、前記金型により形成された前記空間内に封止
    用樹脂を充填する充填機構とを具備したことを特徴とす
    る樹脂封止型半導体装置の製造装置。
  2. 【請求項2】 前記金型は上金型と下金型とからなり、
    この上下の金型により前記リードフレームを型締めする
    ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型半導体装
    置の製造装置。
  3. 【請求項3】 前記固定部材は、前記金型の上金型およ
    び下金型の一部に設けられることを特徴とする請求項2
    に記載の樹脂封止型半導体装置の製造装置。
  4. 【請求項4】 前記固定部材は、前記金型の上金型また
    は下金型の一部に設けられることを特徴とする請求項2
    に記載の樹脂封止型半導体装置の製造装置。
  5. 【請求項5】 磁性体からなるリードフレーム上に搭載
    された半導体チップを封止用樹脂によりモールドする方
    法において、 前記リードフレームの上下を金型により型締めして、そ
    のリードフレームを含む前記半導体チップの周辺に空間
    を形成し、 この空間内に固定部材からの磁界を生じさせ、その空間
    内における前記リードフレームの位置を固定し、 この状態で、前記金型により形成された前記空間内に充
    填機構からの封止用樹脂を充填することによって、樹脂
    パッケージを形成することを特徴とする樹脂封止型半導
    体装置の製造方法。
JP18797993A 1993-07-29 1993-07-29 樹脂封止型半導体装置の製造装置およびその製造方法 Pending JPH0745652A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010143690A1 (ja) 2009-06-11 2010-12-16 三菱瓦斯化学株式会社 アンモ酸化触媒及びそれを用いたニトリル化合物の製造方法

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