JPH0745578A - 基板の乾燥機 - Google Patents

基板の乾燥機

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Publication number
JPH0745578A
JPH0745578A JP19150793A JP19150793A JPH0745578A JP H0745578 A JPH0745578 A JP H0745578A JP 19150793 A JP19150793 A JP 19150793A JP 19150793 A JP19150793 A JP 19150793A JP H0745578 A JPH0745578 A JP H0745578A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
turntable
wafers
cradle
carrier
motor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19150793A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Ito
敦 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Yamagata Ltd
Original Assignee
NEC Yamagata Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Yamagata Ltd filed Critical NEC Yamagata Ltd
Priority to JP19150793A priority Critical patent/JPH0745578A/ja
Publication of JPH0745578A publication Critical patent/JPH0745578A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】液晶基板や半導体基板など洗浄後に乾燥する基
板の乾燥装置であって、グレードル12とターンテーブ
ル2の位置ずれによるバランスの不均衡を無くしかつウ
ェーハへのパーティルクルの再付着を防止する。 【構成】ターンテーブル2にクレードル12を固定し、
キャリア3に収納されるウェーハ4の有無を検知するフ
ォトセンサ1と、このフォトセンサ1からの信号を計数
するカウンタ15と、ターンテーブル2の下部にあって
キャリア3に対応し配置されターンテーブル2の半径方
向にバランスウエイト8を移動させる送りねじ9aとモ
ータ9の移動機構と、この移動機構を閉鎖するカバー1
0とを備え、キャリア3のそれぞれからのカウンタ15
の読み込む計数値に応じてキャリア3のそれぞれに対応
するバランスウエイト8を移動させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハや液晶
基板等の基板を純水等で処理した後乾燥する基板の乾燥
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図2は従来の基板の乾燥装置の一例を説
明するための基板の乾燥装置の構成を示す断面図であ
る。従来、この種の基板の乾燥装置は、例えば図2に示
すように、回転軸11により回転するターンテーブル2
と、このターンテーブル2に乗せられターンテーブル2
の任意の位置に移動し回転バランスをとるスライドテー
ブル13と、ウェーハ4を収納するキャリア3a,3b
を収納しスライドテーブル13に載置されるクレード1
2と、ターンテーブル2より上側に取付けられスライド
テーブル13の位置を変える駆動機構部14と、これら
スライドテーブル13、ターンテーブル2及びクレード
12を収納する室の開口を塞ぎフィルタ6をもつ蓋5を
備えている。
【0003】この基板の乾燥装置の動作は、まず蓋5を
開け、洗浄済みのウェーハ4を収納したキャリア3a,
3bをクレードル12に取付ける。このときクレードル
12は駆動機構部14によってターンテーブルの回転中
心位置に移動されている。次に、蓋5で室の開口を閉
じ、蓋5のフィルタ6を通し乾燥空気を流す。そして、
ターンテーブル2を回転させ、空気の流れ7によってキ
ャリア3a,3b内のウェーハ4を乾燥する。このと
き、キャリア3aとキャリア3bとに重量差があれば、
スライドテーブル13は半径方向に移動し重量差を解消
する位置でバランスを保つ。
【0004】このようにこの基板の乾燥装置は、ターン
テーブル2の回転によりウェーハ4面に付着する洗浄液
を移動させ、乾燥空気により気化熱を吸収し洗浄液を気
化させ乾燥することを特徴としていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この従来の基板の乾燥
装置においては、スライドテーブルがキャリアの出し入
れ時に毎回グレードルの原点復帰するため、しばしば位
置ずれを起し、バランスがとれなくなり、非常に危険な
問題となる。また、このスライドテーブルを動かす駆動
機構がキャリアを載置する位置であるテーブル上部に一
部あることや、ターンテーブルが回転する雰囲気内にむ
き出しになっているため、しばしば機械的こすれ等によ
り発生したパーティクルがウェーハに付着し汚染させ品
質に著しい欠陥をもたらすという問題があった。
【0006】従って、本発明の目的は、グレードルのタ
ーンテーブルに対し位置ずれによるバランス不均衡を無
くしパーティクルが洗浄された基板に再付着すること無
く乾燥できる基板の乾燥装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、乾燥空
気を送り込む開口にフィルターを設け該乾燥空気を排出
する穴を有する乾燥室と、この乾燥室に収納され回転す
るターンテーブルと、このターンテーブルに取付られる
とともに半導体ウェーハの複数枚を溝状の棚に収納する
キャリアの複数個を互いに開口を向い合せて載置するク
レードルと、前記キャリアの複数の前記棚に収納される
前記半導体ウェーハの有無を検知するセンサと、このセ
ンサからの信号を計数するカウンタと、前記ターンテー
ブルの下部にあって前記キャリアに対応し配置され該タ
ーンテーブルの半径方向にバランスウエイトを移動させ
る移動機構と、この移動機構を閉鎖するカバーとを備
え、前記キャリアのそれぞれからの前記カウンタの読み
込む計数値に応じて前記キャリアのそれぞれに対応する
前記バランスウエイトを移動させる基板の乾燥装置であ
る。
【0008】
【実施例】この基板の乾燥装置は、図1に示すように、
従来例で述べたスライドテーブルを廃止し、グレードル
12を直接ターンテーブル2に固定し、キャリア3の複
数の溝状の棚に収納されるウェーハ4の有無を検知する
とともに各棚に対応し上下に並べて配置される複数のフ
ォトセンサ1と、このフォトセンサ1からの信号を計数
するカウンタ15と、ターンテーブル2の下部にあって
キャリア3に対応し配置されターンテーブルの半径方向
にバランスウエイト8を移動させる送りねじ9aとバラ
ンスウエイト8のナットで構成される移動機構と、パー
テイクルの飛散を防止する移動機構を閉鎖するカバー1
0と、キャリア3のそれぞれからのカウンタ15の読み
込む計数値に応じてキャリア3のそれぞれに対応するバ
ランスウエイト8を移動させる移動機構のモータ9の回
転を制御するモータ制御部16を設けたことである。
【0009】次に、この基板の乾燥装置の動作を説明す
る。まず、蓋5を開け、クレードル12にウェーハ4を
収納したキャリア3を開口を互いに向き合せて取付け
る。次に、フォトセンサ1によりキャリア3の各棚にウ
ェーハ4が入っているか否かを調べる。次に、カウンタ
15でウェーハ有りの計数を行ない、制御部16に計数
値を送る。そして、制御部16はキャリア3のウェーハ
の数からモータ9に送るパルス信号数を演算し、パルス
ジェネレータからモータ9に演算されたパルス電圧の数
を送る。このことによりモータ9が所定角度だけ回転
し、送りねじによりバランスウエイト8を移動させ、タ
ーンテーブル2、キャリア3およびクレードル12を含
む回転体のバランスをとる。そして、回転軸11により
ターンテーブルを回転させ、ウェーハに残っている洗浄
液を飛散させ、乾燥空気により気化させて乾燥する。
【0010】こころみに、従来装置と本発明の装置とで
パーティクルの再付着を調べたところ、従来の装置によ
るパーティクル付着数が平均で24個に対し本発明の装
置では平均で5個以下となった。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように、グレードルをター
ンテーブルに直接固定しグレードルの位置ずれを無く
し、収納されるウェーハの枚数の異なるキャリアを周縁
側に寄せて搭載するクレードルの回転バランスをとるバ
ランスウエイトの移動機構をターンテーブルの下部に配
置し、さらに、この移動機構を閉鎖するカバーを設ける
ことによって、移動機構のような駆動機構部からパーテ
ィクルが発生しても、カバーによってパーティクルの飛
散を無くなり、グレードルの位置ずれによるバランスの
不均衡を無くなりかつウェーハへのパーティクルの再付
着を防止できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における基板の乾燥装置の構
成を示す断面図である。
【図2】従来の基板の乾燥装置の一例における構成を示
す断面図である。
【符号の説明】
1 フォトセンサ 2 ターンテーブル 3,3a,3b キャリア 4 ウェーハ 5 蓋 6 フィルター 7 空気の流れ 8 バランスウエイト 9 モータ 10 カバー 11 回転軸 12 クレードル 13 スライドテーブル 14 駆動機構 15 カウンタ 16 モータ制御部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 乾燥空気を送り込む開口にフィルターを
    設け該乾燥空気を排出する穴を有する乾燥室と、この乾
    燥室に収納され回転するターンテーブルと、このターン
    テーブルに取付られるとともに半導体ウェーハの複数枚
    を溝状の棚に収納するキャリアの複数個を互いに開口を
    向い合せて載置するクレードルと、前記キャリアの複数
    の前記棚に収納される前記半導体ウェーハの有無を検知
    するセンサと、このセンサからの信号を計数するカウン
    タと、前記ターンテーブルの下部にあって前記キャリア
    に対応し配置され該ターンテーブルの半径方向にバラン
    スウエイトを移動させる移動機構と、この移動機構を閉
    鎖するカバーとを備え、前記キャリアのそれぞれからの
    前記カウンタの読み込む計数値に応じて前記キャリアの
    それぞれに対応する前記バランスウエイトを移動させる
    ことを特徴とする基板の乾燥装置。
JP19150793A 1993-08-03 1993-08-03 基板の乾燥機 Pending JPH0745578A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19150793A JPH0745578A (ja) 1993-08-03 1993-08-03 基板の乾燥機

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19150793A JPH0745578A (ja) 1993-08-03 1993-08-03 基板の乾燥機

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0745578A true JPH0745578A (ja) 1995-02-14

Family

ID=16275807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19150793A Pending JPH0745578A (ja) 1993-08-03 1993-08-03 基板の乾燥機

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0745578A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107803328A (zh) * 2017-11-15 2018-03-16 韩丹 一种扬声器制作用高效烘干装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20000321