JPH0743260U - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本考案は、ＶＴＲ装置等の高密度磁気記録再生
装置等に使用され、磁気に積層磁性薄膜部を用いた磁気
ヘッドに関するもので、加工性の向上を図ると供に、磁
性膜薄膜部の膜特性を向上させた高密度磁気記録再生に
対応した磁気を提供をすることを目的とする。 【構成】本考案は、積層磁性薄膜部１３と、この積層磁
性薄膜部１３の両側に配した基板材１４，１５とからな
る積層型の磁気ヘッド１０において、基板材１４，１５
を微弱な磁性を示す単結晶フェライト等で形成したこと
を特徴とする磁気ヘッド構成としたものである。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、ＶＴＲ装置等の高密度磁気記録再生装置等に使用され、磁路に積層 磁性薄膜部を用いた磁気ヘッドに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

従来、記録再生ギヤップ部となる磁路に、積層磁性薄膜部を使用した磁気ヘッ ドとしては、図２に示す構成の磁気ヘッドが一般的であり、これについて説明す る。

【０００３】 図示するように、従来の磁気ヘッド１は、セラミック等の非磁性基板２ａ，２ ｂ間に、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ等の強磁性合金の磁性薄膜部３を、サンドイッチ状に 配設したコア半体４，５を接合してギヤップ部６を設けた構成となっている。ま た、磁気ヘッド１の磁性薄膜部３は、積層形成された状態で磁気ヘッド１の記録 再生トラック幅Ｔとなるように形成されている。

【０００４】 尚ここで、磁気ヘッド１の形成について詳説すると、磁気ヘッド１のコア半体 ４，５のブロック状態時に、各ブロックの両方若しくは一方に接合溝７，８を形 成し、各コア半体４，５のブロック状態接合時に形成された接合溝７，８内に接 合ガラス９を充填することにより接合され、ギヤップ部６が形成されると共に、 接合されたブロック状態の非磁性基板部分を切り離すことより、チップ状の磁気 ヘッド１が形成されるものである。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記のように構成された従来の磁気ヘッド１においては、非磁 性基板２ａ，２ｂがセラミックや結晶化ガラス等の基板によって形成されている 。

【０００６】 このため、磁気ヘッド１の形成において、非磁性基板２ａ，２ｂの加工に際し 、加工性が悪く、非磁性基板に欠けや割れの発生が多く発生しやすいという課題 が生じていた。

【０００７】 また、磁性薄膜部３の形成に際し、磁性薄膜部３を非磁性基板２ａに積層状に 形成するに際し、基板が非磁性であるため成膜する磁性膜の配向性を制御するこ とが難しく、膜構造が安定せず、磁気特性が不安定となるという課題も生じてい た。

【０００８】 本考案は、上記した点に鑑みて考案されたもので、加工性の向上を図ると供に 、磁性薄膜部の膜特性を向上させた高密度磁気記録再生に対応した磁気を提供す ることを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】

そこで、上記した課題を解決するための手段として、本考案は、積層磁性薄膜 部と、この積層磁性薄膜部の両側に配した基板材とからなる積層型の磁気ヘッド において、基板材を微弱な磁性を示す単結晶フエライト等で形成したことを特徴 とする磁気ヘッド構成としたものである。

【００１０】

【作用】

上記構成によれば、磁気ヘッドはその磁路を形成する積層磁性薄膜部が、微弱 な磁性を示す単結晶フェライト等で形成した微弱磁性基板でサンドイッチ状に挟 まれて形成されることとなり、磁気ヘッドの加工において欠けや割れの発生を少 なくすることができると共に、成膜する磁性膜の配向性を制御することができる 事となる。

【００１１】

【実施例】

以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明すると、図１は本考案に係る磁気 ヘッドの一実施例を示す斜視図である。

【００１２】 図示すように、本考案に係る磁気ヘッド１０はコア半体１１，１２を接合して 形成されている。 この、コア半体１１，１２は、それぞれトラック幅Ｔでテープ習動方向に露出 した積層状の磁性薄膜部１３が、コア半体１１，１２を形成する単結晶フェライ ト等で形成した微弱磁性基板１４，１５によってサンドイッチ状に挟まれた状態 で形成されている。そして、このコア半体１１，１２を接合して、積層磁性薄膜 部１３の磁路中にギヤップ部１６を備えた磁気ヘッド１０が形成されている。

【００１３】 尚、図中符号１７，１８，１９は磁気ヘッド１０の巻線用溝を示し、符号２０ はコア半体１１，１２を接合する接合用溝を示し、切削加工等によりコア半体１ １，１２のブロック状態時に加工形成される。

【００１４】 次ぎに、本考案に係る磁気ヘッド１０の積層磁性薄膜部１３の成膜について説 明すると、積層磁性薄膜部１３は単結晶フェライト等で形成した微弱磁性基板１ ４，１５にスパッタリングや蒸着等の手段によって成膜される。この時、基板が 従来のセラミックやガラスと異なり、微弱な磁性基板であるため、成膜時に磁性 薄膜の配向性が制御でき、磁性薄膜は緻密な膜構造に形成される。

【００１５】

【考案の効果】

上記したように、本考案に係る磁気ヘッドによれば、磁路として配設した積層 磁性薄膜部が、単結晶フェライト等で形成した微弱磁性基板に挟まれた構成とさ れているため、磁気ヘッド化するための加工成型において、加工性が良好となり 、コアの欠けや割れの発生が防止される事となり、安定した磁気ヘッドを形成で きる。 また、積層磁性薄膜部は微弱磁性基板にスパッタリング等によって形成される ため、成膜時に磁性薄膜の配向性が制御でき、磁性薄膜は緻密な膜構造に形成さ れる事となり、磁気特性の向上を図ることができるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案による磁気ヘッドの一実施例を示す斜視
図である。

【図２】従来例を示す磁気ヘッドを示す斜視図である。

【符号の説明】

１０ 磁気ヘッド １１，１２ コア半体 １３ 積層磁性薄膜部 １４，１５ 微弱磁性基板（基板材） １６ ギヤップ部 １７，１８，１９ 巻線溝 ２０ 接合溝

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 積層磁性薄膜と、この積層磁性薄膜部の
   両側に配した基板材とからなる積層型の磁気ヘッドにお
   いて、 基板材を微弱な磁性を示す単結晶フエライトで形成した
   ことを特徴とする磁気ヘッド。