JPH0737218A - 磁気変換器とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】ロスは最小にし、漏れリラクタンスを減少さ
せ、コア材料は通常の信号レベルで用いるときには磁気
飽和に励磁されない変換器を提供すること。 【構成】絶縁ギャップによって分けられ面取りされた縁
を有し、前記縁に対して実質的に垂直な表面を規定する
ように一体接着されており、それぞれが前記面取りした
縁上に配置された高い透磁率の磁気材料の薄い層を有し
ており、前記縁は前記表面に近接した巻線開口３０を形
成する一対の磁気コア部１２，１４をお互いに向かい合
わせた形状となっている実質的に同一な磁気コア部１
２，１４と、第１の窓に近接したコア部１２，１４に形
成され、前記表面から距離をおいて設けられた巻線開口
４４と、前記縁に連結した実質的に一直線に配置された
前記窓を通り、巻線開口３０を実質的に満たすコイル手
段３５とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッド変換器に関
し、特にそのコアの脚を形成するためにスパッタストリ
ップを用いた小コアメタルヘッド変換器に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気テープデータレコーダの性能は記録
ヘッドやテープを形成するのに用いられる磁気材料の特
性やそれらの磁性に影響するこれらの材料の構造の形状
に依存する。記録テープや他の関連する記録媒体の製造
には、高い残留磁気、高い飽和保磁力、低い透磁率を特
色とする磁気的にかたい材料が主に用いられている。一
方、磁気テープに電気信号を記録し、また電気信号を再
生する手段であるヘッドの磁気コアを製造するのに、低
い飽和保磁力、低い残留磁気、相対的に高い透磁率を示
す磁気的にやわらかい材料が用いられている。

【０００３】典型的なリング型磁気ヘッドは、非磁性の
ギャップスペーサと信号データと結合されたコイルとと
もに２つの高い透磁性を有する磁気コアで構成されてい
る。記録ヘッドは、信号システムからの電気エネルギ
を、電気信号に比例して磁気テープ上に磁気パターンを
印加するヘッドの物理的なギャップから放射される磁気
フィールドに変換する変換器である。逆に再生ヘッド
は、物理的ギャップを横切る磁気テープからの磁束を収
集し、かつ記録された磁束に比例した電気信号に変換す
る変換器である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】フェライト材料は、従
来からビデオヘッドにおける磁性体として用いられてい
た。金属粉末媒体や金属蒸着媒体等のような高い飽和保
磁力の記録媒体を合成使用した高精細度ビデオテープレ
コーダ、デジタルビデオテープレコーダ、コンピュータ
デジタルデータ記憶機器等の到来は、より大容量の情報
でさえも録音するための高密度構造への傾向を加速し
た。この進展の一部分として、媒体に記録した情報信号
の周波数の増大の必要が生じた。通常のフェライトコア
はこれらの用途のために必要とされる性能を達成するた
めに求められた特徴を提供することが簡単にはできな
い。固有の脆性により製造過程で必然的に生じるフェラ
イト材料のチッピング破壊を排除できないために、フェ
ライトコアは狭いトラック幅又は細い磁気コア積層を作
れない。

【０００５】フェライトヘッドに関係する製造の問題に
加えて、特にこのようなヘッドが高い飽和保磁力の磁気
テープと共に用いられる場合や、録音過程において性能
の問題がある。録音期間において、より大きい信号は従
来の磁気テープよりも高い飽和保磁力の磁気テープを必
要とする。この問題は、テープからの信号レベルは大き
さにおいてもっとより小さいので、再生操作をしている
間については厳しくない。記録信号が大きくなるにつれ
て、信号はフェライトヘッドを磁気飽和させるように駆
動する傾向がある。再生または“プレイバック”してい
る間、そのような高い飽和保磁力を有する磁気テープと
フェライトヘッドの接触の結果によるかなりの雑音レベ
ルが観察される。その高いノイズレベルは許容できるＳ
／Ｎ比を達成するためにはより大きい信号を必要とす
る。同様に大型メタルヘッドは主として、高い周波数応
答が不良という不利な性能を有している。

【０００６】上述した問題点は、コバルト−ジルコニウ
ム−ニオビウム（ＣＺＮ）合金や、各々基準組成が鉄８
５％、アルミニウム６％、シリコン９％であるアルフェ
シル（Alfesil ），センダスト（Sendust ），スピンア
ロイ（Spinalloy ）又はバコダ（Vacodur ）を含む鉄−
アルミニウム−シリコン合金や、さらにアモルファス金
属を含むそのような材料の録音ヘッドの使用から導かれ
る。

【０００７】ヘッドコア材料の磁性の使用に加えて、ヘ
ッドの性能を規定する限界設計問題はトラック幅、ギャ
ップ長さ、ギャップ深さ、コア形状（例えば、パス長
さ）である。これらのパラメータそれぞれは、同時にヘ
ッドを可能な限り高い効率に保つ一方で、磁気テープレ
コーダ設計判定基準にしたがって選択されるべきであ
る。

【０００８】したがって、コアリラクタンスを減じ、そ
して減じられたコアリラクタンスを磁気コアにおいて用
いられる磁性体の透磁率により依存しないようにさせる
ために高い周波数磁気変換器は重大な要求が存在する。
加えて、損失は最小とすべきで、漏れリラクタンスは減
らされるべきで、コア材料は通常の信号レベルで用いる
ときには磁気飽和するように駆動されてはならない。そ
のような変換器の製造は大容量の体積、高い精度、低コ
ストであるべき、高い均等度を達成べきである。本発明
はこのような要求を実行し、一層利点に関連したものを
備える。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の前述したもの等
の目的は、磁気テープ媒体上の高い周波数信号を再生／
記録する改良された磁気変換器によって達成された。す
なわち、この変換器は第１と第２のほぼ同じ部分を有
し、これらは対向関係に接着され、ポールチップに近接
した形成された巻口と低い切断巻口を有する変換器を形
成し、巻口は変換器のギャップの軸上のコイルを提供す
るようにコイルが巻かれ、コアの足は非磁性支持体の上
にスパッタリング等により設けられたAlfesil 材料等の
２つの片によって形成されている。

【００１０】それぞれのコア部は細長い非磁性ブロック
支持体の一部分として形成され、最初は共通の面の対向
する縁の対向する細長い接着切欠と一方の切欠に近接し
た中間巻線溝とを提供するように形成されている。クロ
ム接着層は溝が設けられた面と巻線溝に配置され、その
上にAlfesil 材料のような適当な磁性材料のコア層が形
成されている。次に、工作物には巻線溝に対して垂直方
向に向けられた溝を規定するアレー又は多数の等間隔の
Ｖ字型トラック幅が設けられ、工作物の第２の巻線溝が
第１の巻線溝に対して平行かつ近接して工作物が切断さ
れる。トラック幅溝と第２の巻線溝は、多数の近接した
ほぼ平行で独立したコア部を提供する接着層及びコア層
を全体に切断するのに十分な深さである。溝が設けられ
た面はクロム接着層が配置され、適当な絶縁物又はアル
ミニウム酸化物又はシリコン二酸化物のような適当な材
料のギャップ層が続いている。２つのこのような工作物
は接触関係に対向配置されており、２つの接着切欠によ
りガラス接着が行われ、ガラスの流れの温度と時間が巻
線開口にガラスの流れが入らないように制御されてい
る。

【００１１】

【作用】上記手段を講じた結果、次のような作用が生じ
る。すなわち、磁気コアのサイズは非常に小さく、磁路
長さを小さくしている。磁気パスが非常に短いことで、
コアリラクタンスがコア透磁率に依存しなくなり、その
結果、７５から１５０ＭＨｚの周波数範囲において磁束
効率が増大する。完全な変換器は、大量生産、非常に高
い精度、材料析出過程のような低コストによって製造さ
れる。一括製造によって、大量の変換器のための全ての
磁気コア材料が同じ製造ステップの間にでき、同時に全
ての変換ギャップが形成される。このことにより全ての
変換器の均等度が高くなる。

【００１２】

【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明す
る。図１において、１０はヘッド又は変換器を示してい
る。変換器１０は、１２，１４で示す第１と第２のコア
ハーフから形成されており、その製造の説明の間に明白
になるものであり、これらは全く同様の形状のハーフで
あり、これらは両方は必要があれば同時に形成してもよ
い。組み立てられた変換器は概して平板状の細い断面の
部材として形成されており、２つのブロックを並べ、一
体に接着した後にこれらをスライス等することによって
形成されている。

【００１３】図２から図１０において、変換器１０は第
１と第２の同一の断面又はコアハーフ１２，１４を含ん
でおり、これらが対向関係に一体に接着され、ポールチ
ップに隣接した巻線開口３０と低いカットの巻線開口４
４を有しており、それらの巻線開口は変換器１０のギャ
ップの軸線上にコイル３５を設けるためにあってコイル
３５の巻線を受けるために配列されており、コアの足
は、Alfesil 材料等の高い透磁性の磁性合金材料の２つ
の片によって形成されており、非磁性支持体の上に溶着
又はスッパタされている。本実施例においては、スッパ
タリングが望ましい。

【００１４】コアセクション又はハーフ１２，１４のそ
れぞれは、細長い非磁性ブロック支持体２０の部位とし
て形成されており、共通の表面２２の反対側の端の上の
対向した細長く接着した芯切欠２６，２８と、隣接した
関係において細長い巻線開口３０と、一つの切欠と平行
になるように２６，２８，３０を設けている。クロム接
着層３２は面２２上、巻線溝３０の中に配置され、３２
の上にはAlfesil 材料等の適当な高い周波数磁性材料の
コア層３４が設けられている。コバルト−ジルコニウム
−ニオビウム合金を使ってもよいが、望ましい実施例で
はAlfesil が用いられる。その後、工作物にはアレイ又
は巻線溝３０の対して垂直方向に定められたアレイ又は
複数の等間隔に並べられたＶ字型のトラック幅基準溝４
０ａ〜４０ｊが設けられ、工作物に第１の巻線溝３０に
平行、隣接関係に第２の巻線溝４４が切られている。ト
ラック幅溝４０ａ〜４０ｊと第２の巻線溝４４は、隣接
の大多数、通常は平行なコアセクションを設けることが
できるように接着層３２とコア層３４を通して完全に切
ることができる十分な深さである。溝が設けられた表面
２２は、第２のクロム接着層５２の上に配置されてお
り、５２の上には絶縁物又はアルミ酸化物やシリコン二
酸化物のような適当な材料のギャップ層５４が続いてい
る。２つのそのような工作物は突き合わせ関係に対向配
置されるように位置しており、ガラス接着は２組の対向
する接着溝によって形成された２つの溝によって行わ
れ、ガラス５７の流れ温度と時間は巻線開口へのガラス
の流れを妨げるように制御されている。

【００１５】図２から図５において、本発明の高い周波
数の磁性変換器１０のコアセクション又はハーフ１２，
１４のそれぞれの製造に用いられる順序方法段階を述べ
る。図２に固有の方法における最初はカルシウムチタネ
ートや他のセラミック材料や他の比較可能な誘電体材料
等の適当な非磁性・非導電の材料の細長く薄いブロック
支持体２０である。最初にこの支持体２０は少なくとも
第１と第２の相互に垂直な面２２，２４を有しており、
面２２は接着面と呼ばれ、面２４はヘッド端の面と呼ば
れる。支持体２０は通常の機械的方法又は反応性イオン
ビームエッチング（ＲＩＢＥ）によって、支持体２０の
上側・下側（図において）の縦端にそれぞれ２６，２８
で示す直角の第１と第２の接着切欠が形成される。これ
らの溝２６，２８は等しい深さ（接着面２２に対して垂
直方向において）であり、それの一つの面は接着面２２
に対して垂直になるように形成されている。巻線溝３０
は、上側端に隣接する支持体２０の接着面に上側の接着
溝２６と隣接するがずれているように形成されている。
巻線溝３０はＶ字型・Ｕ字型や半円型のような便利な形
状をとり、溝３０の形状と深さをいう主な機能は後述す
るように他の部分に接着されたときコイル巻を受けるの
に十分な寸法を有する。

【００１６】図３において、支持体２０の構成と形成の
後、クロムのような適当な物質の接着層３２を面２２に
溶着し、通常組成が鉄８５％、アルミニウム６％、シリ
コン９％である鉄−アルミニウム−シリコン合金である
Alfesil 等の適当な高い透磁性の磁性合金のコア層３４
が続いている。接着層３２の組成の選択は層３４の組成
の互換性と同じように支持体２０の材料の組成の互換性
によって述べられる。クロム層３２とAlfesil 層３４と
は、２〜３マイクロインチ程度の極めて僅かな厚さのク
ロム層にスパッタリング等の適当な手段によって溶着さ
れてもよい。層３２，３４の溶着において、接着切欠は
マスキング方法等のめっきを妨げる適当な方法によって
保護されている。

【００１７】図４において、半製品には多数の等間隔の
トラック幅切欠４０ａ〜４０ｊが設けられ、これらの切
欠４０ａ〜４０ｊは端面に垂直方向に延びており、接着
切欠２６，２８の深さのほぼ半分の深さに層３２，３４
を切り進むのに十分な深さである。これらのトラック幅
切欠は都合のよい方法、すなわち、通常の機械的方法又
は反応性イオンビームエッチングによって形成されてい
る。トラック幅切欠４０ａ〜４０ｊは水平面（例えば図
５に示すように）において対称的にである。すなわち、
これらはむしろ断面がＶ字型であり、この結果、後述す
るスライスの後、３５で示すポールチップが断面が台形
形状となり、０．００２インチ程度のＴＷで示すトラッ
ク幅を規定する台形の短い（又は先）足又は端の寸法と
なる。特に選択された順番は使用された機器の機能であ
る。スパッタリングに先行して切欠の形成を行うとき、
スパッタリングに先行してばりをとる作業が必要とな
る。しかし、用いた切削方法に依存するだろう。

【００１８】深い縦の巻線溝４４は上側の巻線溝３０に
平行する方向に切られ、溝４４の深さは交差トラック幅
溝４０ａ〜４０ｊの深さより深くなっており、接着切欠
２６，２８の深さよりも深くなっている。溝４４の切る
方向は接着面２２に規定された水平面に垂直であり、層
３２，３４双方と支持体２０の本体に切り進んでいる。

【００１９】溝４４は巻線溝３０から予め決められた距
離だけ離されて設けられ、長さと幅において、実質的に
巻線溝３０よりも大きい。トラック幅ＴＷによる巻線溝
３０と切欠２６の隣接面との間の距離は前ギャップの面
積を規定し、溝３０と溝４０に隣接する上側の端との距
離はトラック幅が規定する後ギャップの範囲を結合さ
せ、前述した距離はほぼ１０：１のリラクタンスの比率
を提供するように選択される。すなわち、この前ギャッ
プのリラクタンスは後ギャップの１０倍である。巻線溝
４４の下のAlfesil コア層３４の部分は全て、形成され
た変換器１０の磁気回路の外にある。この巻線溝４４の
部分は変換器のコアの長さ、すなわち、溝４４の上のコ
ア層３４の寸法を決定する。溝４４の上のコア層３４が
前ギャップ部分に対応するヘッドコア部分であるチップ
と、巻線溝３０である中間部と、後ギャップ部分に対応
する巻線溝３４と４０との間の低いコア部分からなる３
つの部分を有することが観察される。

【００２０】図５は断面を拡大したものであり、付加層
の溶着が見られ、最初にクロムの約１〜２マイクロイン
チの第２の接着層５２が溶着されており、第２の接着層
５２には絶縁物又はギャップ層５４が続き、この厚さは
要求されたトラックギャップ間の半分である。本実施例
では、このギャップ層はほぼ４マイクロインチであり、
この結果、ギャップ間は１２マイクロインチとなる。ク
ロム接着層３２を設ける設けないは選択的であり、もし
使用した製造方法においてギャップ層５４とコア層３４
との間の適切な接着があれば設けなくてもよい。

【００２１】図６と図７において、２つのコアハーフ１
２，１４は対向関係にある２つの同種のブロック２０，
２０′の部分であり、個別のポール面は一列に並んだ対
向関係にある。個別のブロック２０，２０′のポール面
は、本質的に連続的に溶着された前述した層の上の面２
２のそれらの残りの部分である。２０′で示すこのブロ
ックはブロック２０と等しく、説明の便宜上、対応する
要素はプライム（′）が付された同じ参照番号として示
されている。面接触関係にあるブロック２０，２０′に
より、上側巻線開口が２つの巻線溝３０，３０′から形
成され、下側巻線開口が切り窓溝４４，４４′から形成
されている。上側と下側の接着溝は上側の接着切欠２
６，２６′の組み及び下側の接着切欠２８，２８′から
形成されている。２つのコアハーフ１２，１４は接着の
ために適当に一体として締め付けられている。

【００２２】ガラス接着方法によるブロック２０，２
０′を一体に接着する方法において、巻線開口へのガラ
ス接着材料の注入を妨げるように注意されなくてはなら
ない。この目的のために、図８と図９に例示する二段階
接着方法を用いる。最初に図７を参照にして、Ｖ字型の
溝４０ａ〜４０ｊを対応する溝４０ａ′〜４０ｊ′に対
向する関係に接続すると、２つのブロック２０，２０′
の接合部あるいはインターフェース部においてダイヤモ
ンド形開口部３９ａ〜３９ｊが形成される。これらの開
口部３９ａ〜３９ｊは合成ブロックの深さを横切り、巻
線溝３０，３０′によって形成された上側コイル巻線開
口と溝４４，４４′によって形成された下側巻線開口へ
の流体流れ経路を設ける。合成ブロックは図８（形成さ
れた開口部の１つの断面）に示されているように第１に
反転しており、巻線開口は合成ブロックの底部に配置さ
れている。適当なガラスロッド５６は、隣接した接着切
欠２８，２８′によって形成された溝内に位置してお
り、ブロックとガラスはガラスロッド５６が溶けて、溶
けたガラス５６′が溝４４，４４′によって形成された
巻線開口を除いて接着溝と開口部３９ａ〜３９ｊとに流
れ込む間に所定の温度及び所定の時間熱せられる。

【００２３】締め付けられた合成ブロックは１８０度回
転させられ、第２のガラスロッド５７が隣接した接着切
欠２６，２６′によって形成された溝内に配置されてい
る。ブロックとガラスロッド５７は、ガラスロッド５７
が溶けて、溶けたガラス５７′が近接した溝３０，３
０′によって形成された巻線開口を除いた開口部に流れ
込む間に所定の温度及び所定の時間熱せられる。ガラス
ロッド５６，５７の組成は支持体、すなわち支持体ブロ
ック２０，２０′のカルシウムチタネート材料の温度膨
張係数よりも大きいものが選ばれる。最初にブロックの
反対部分が熱することによって、この部分は溝４４，４
４′に形成された巻線開口へ長い距離をガラス５６′が
流れる。ガラス５６′が開口部３９ａ〜３９ｊに流れ、
凝固すると、ブロックは反転される。第２のガラスロッ
ド５７は切欠２６，２６′によって形成された接着溝に
配置された場合、接着溝から溝３０，３０′によって形
成された巻線開口へガラスの流れ距離はとても小さい距
離である。したがって、この流れのために必要とされる
付加された時間は短い。いずれにしても、どちらの部分
の流れは要求された結果に作用するための温度と時間の
機能として制御されている。

【００２４】図１に示した個体の変換器１０は、図７に
示した線６０で支持体ブロック２０，２０′がスライス
され、刻まれることによって得られる。この線６０は、
アジマス記録のために要求された角度がつくられるため
には通常は支持体ブロック２０，２０′の側面に対して
φ度であり、個体の変換器１０が一度に一つスライスさ
れる一方で、１回の単純パスにおいて同時に変換器１０
の全てを広幅スライスする動きが普通である。

【００２５】図１０は図１の変換器１０のためのスライ
スされた素材と上側と下側の巻線開口を捩じり又は越え
たコイル３５の巻きの側面から示す断面図である。説明
の便宜上、変換器１０の物理的大きさはかなり小さい。
図１１と図１２は回転ヘッドアッセンブリにおいて使用
するための処理の後の変換器１０を示したものである。
変換器１０は丸くされ、外形が作られたヘッド表面を有
しており、ヘッドの形状はかなり横側の切欠又はくびれ
部分２５ａ，２５ｂを形成する部分の取り外しによって
修正され、その上をテープが通過する細い稜部分２５ｃ
を設ける。実際には、組み立ての間この外形と切欠は支
持体２０，２０′をスライスする前に形成される。最初
に、ヘッド表面２４が作られ、適正幅の溝が線６０（図
７）によって形成され、図１０に示した形状を設けるこ
れらの溝の中間点においてスライスする。図１１には結
果が示されており、ほぼ０．００２インチのトラック幅
と、ほぼ０．００８インチの変換器の厚さＴと、ほぼ
０．００４インチの合成稜２５ｃの厚さＸとなってい
る。

【００２６】一例として、個体の変換器１０の長さと幅
は、厚さが０．００８から０．０２０インチの範囲であ
る一方で０．１００から０．１２５インチである。コア
層３４の能動磁性部分、すなわち、溝４４，４４′で形
成された巻線開口の下側の上の層３４の部分はほぼ０．
０１６インチの寸法Ａであり、この結果、非常に小さい
サイズの磁性コアができる。Ｂで示すギャップ深さ寸法
は０．００１インチのオーダーであり、上側巻線開口寸
法Ｃは０．００４インチであり、上側と下側の巻線開口
の間は約０．０１１インチ離れている。このため、コイ
ル３５はギャップの平面と同じ平面上にあり、巻長さ
（窓と窓との間の距離）は０．０１１インチとなり、上
側巻線開口（溝３０，３０′によって形成されている）
は０．００４インチとなり、コイル３５のターンが十分
に巻け、コイル３５が磁性媒体又はテープの表面のパス
から０．００１インチとなる。最良の図１０において
は、溝３０，３０′によって形成された窓はほぼ正方形
であり、溝３０，３０′の角度βはほぼ４５度である。

【００２７】このようなメタル−イン−ギャップ変換器
１０においては、磁路は前ギャップ及び後ギャップの２
つのギャップに相対している。前ギャップの表面に向か
い合うギャップの面積に対して後ギャップの向かい合う
ギャップの面積は大きいので、後ギャップは前ギャップ
に比較してとても低いリラクタンスパスを提供し、その
結果、磁束集中はコイル３５に非常に近接する前ギャッ
プにある。本発明による構成の小サイズの変換器によっ
て、コイル３５の１巻あたりのインダクタンスが減り、
ヘッド出力電圧の上昇となる与えられた共振周波数の巻
数の増加を許容する。

【００２８】小さい物理的サイズの磁気コアのために、
磁気パスの長さを短くできる。磁気パスを非常に短くし
たため、コアリラクタンスがコア透磁率に依存しなくな
り、１００〜１５０ＭＨｚの周波数範囲における磁束効
率のかなりの利得が得られる。高い生産量、極めて高い
精密度、材料めっきやスパッタリング等の方法による低
いコストによって完全な変換器１０が製造される。一括
して製造することによって、多数の変換器１０のための
全ての磁気コア材料が同じ過程ステップの間において処
理され、全ての変換ギャップが同時に形成される。この
結果、全ての変換器１０の一様度が高くなる。類似の寸
法のフェライトヘッドと対照的に、本発明のメタルイン
ギャップ変換器１０は、周波数範囲の傾向における６ｄ
Ｂの信号レベルの改良と、変換器によるテープ接触によ
るノイズレベルの実質的な減少を示している。なお、本
発明は前記各実施例に限定されるものではなく、本発明
の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であるのは
勿論である。

【００２９】

【発明の効果】本発明によれば、変換器１０の構造は経
済的で、簡単で、複雑でなく、簡素さにおいて究極的で
ある。本発明の変換器１０は、支持体の縁をとって形成
された実質的な２つのスパッタした足である。製造方法
は簡単で、複雑でないため、低コストとなり、高い磁束
効率の通常の用意された有用な製造装置のユニットとな
る。改良の種類は広く、積層し、高い周波数、磁気変換
器と述べてきた製造方法は、この技術において明白であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係るメタルインギャップ変
換器の全体を示す透視図。

【図２】図１の変換器の製造において用いられる順序方
法ステップ及び部分の組み立てを示す透視図。

【図３】図１の変換器の製造において用いられる順序方
法ステップ及び部分の組み立てを示す透視図。

【図４】図１の変換器の製造において用いられる順序方
法ステップ及び部分の組み立てを示す透視図。

【図５】図４の５−５線を取り出して工作物を見た断面
図。

【図６】同実施例において、対向関係にある２つの工作
物の分解組立図。

【図７】接着する前の接触関係にある図６と同様の図。

【図８】図１における変換器の２つの部分を接着するの
に用いる２段階ガラス接着方法を示す透視図。

【図９】図１における変換器の２つの部分を接着するの
に用いる２段階ガラス接着方法を示す透視図。

【図１０】図１の変換器を１０−１０線に沿って見た断
面図。

【図１１】回転ヘッドアッセンブリに用いた図１の変換
器の透視図。

【図１２】図１１の変換器の一部を上方から見た図。

【符号の説明】

１０…変換器 １２，１４…コア
ハーフ ２０，２０′…支持体 ２２，２４…面 ２６，２６′２８，２８′…切欠 ３０，３０′，４
４，４４′…巻線溝 ３２…接着層 ３４…コア層 ３５…コイル ３９ａ〜３０ｊ…
開口部 ４０ａ〜４０ｊ，４０ａ′〜４０ｊ′…トラッ
ク幅溝 ５２…クロム接着層 ５４…ギャップ層 ５６，５６′，５７，５７′…ガラスロッド

Claims (43)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】絶縁ギャップによって分けられ対向する縁
   を有し、前記縁に対して実質的に垂直な表面を規定する
   ように一体接着されており、それぞれが前記対向する縁
   上に配置された高い透磁率の磁気材料の薄い層を有して
   おり、前記縁はお互いに向かい合わせた時に前記表面に
   近接した第１の巻線開口を形成するような形状となって
   いる実質的に同一な一対の磁気コア部と、 前記第１の窓に近接した前記一対のコア部に形成され、
   前記表面から距離をおいて設けられた第２の巻線開口
   と、 前記縁の結合部と実質的に一直線に配置された前記窓を
   通り、前記第１の巻線開口を実質的に満たすコイル手段
   とを備えてなることを特徴とする磁気媒体に高い周波数
   信号を再生／記録する磁気変換器。
2. 【請求項２】前記磁気コア部は実質的に絶縁材料で形成
   されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気変換
   器。
3. 【請求項３】前記対向する縁がトラック幅を定め、かつ
   前記高い透磁率の材料の薄い層はスパッタされた磁性材
   料であることを特徴とする請求項２に記載の磁気変換
   器。
4. 【請求項４】前記磁性材料はコバルト−ジルコニウム−
   ニオビウム合金及び鉄−アルミニウム−シリコン合金か
   ら構成される群から選ばれていることを特徴とする請求
   項３に記載の磁気変換器。
5. 【請求項５】前記絶縁材料はアルミナ及びシリコン二酸
   化物及びセラミックスから構成される群から選ばれてい
   ることを特徴とする請求項４に記載の磁気変換器。
6. 【請求項６】前記第２の巻線開口の面積は第１の巻線開
   口の面積よりも実質的に大きいことを特徴とする請求項
   １に記載の磁気変換器。
7. 【請求項７】前記第１と第２の巻線開口との間の距離は
   前記表面と前記第１の巻線開口との間の距離よりも実質
   的に大きいことを特徴とする請求項１に記載の磁気変換
   器。
8. 【請求項８】前記第１と第２の巻線開口との間の距離は
   前記表面と前記第１の巻線開口との間の距離のほぼ１０
   倍であることをことを特徴とする請求項７に記載の磁気
   変換器。
9. 【請求項９】前記薄い層は約１０００分の１インチのス
   パッタ層であることを特徴とする請求項４に記載の磁気
   変換器。
10. 【請求項１０】前記表面と第１の巻線開口の間の距離
    は、約１０００分の１インチであることを特徴とする請
    求項９に記載の磁気変換器。
11. 【請求項１１】絶縁ギャップによって分けられ対向する
    縁を有し、前記縁に対して実質的に垂直な表面を規定す
    るように一体接着されており、前記表面は磁気テープメ
    ディアに近接して配置されるような形状となっている実
    質的に同一な一対の磁気コア部，一対の磁気コア部のそ
    れぞれは、 絶縁材料からなり、一方の前記対向する縁を有した支持
    体と、 前記対向する縁上に配置された高い透磁率の磁気材料の
    薄い層を有しており、 同様の他の縁と向かい合わせた時に、両方の縁は前記表
    面に近接した前記巻線開口によって第１と第２の巻線開
    口を形成する，と、 前記縁の結合部と実質的に一直線に配置された前記窓を
    通り、前記表面に近接した巻線開口を実質的に満たす信
    号コイルとを備えてなることを特徴とする磁気媒体に高
    い周波数信号を再生／記録する磁気変換器。
12. 【請求項１２】前記高い透磁率の材料の薄い層はスパッ
    タされた磁性材料であることを特徴とする請求項１１に
    記載の磁気変換器。
13. 【請求項１３】前記磁性材料はコバルト−ジルコニウム
    −ニオビウム合金及び鉄−アルミニウム−シリコン合金
    から構成される群から選ばれていることを特徴とする請
    求項１１に記載の磁気変換器。
14. 【請求項１４】前記絶縁材料はアルミナ及びシリコン二
    酸化物及びセラミックスから構成される群から選ばれて
    いることを特徴とする請求項１２に記載の磁気変換器。
15. 【請求項１５】前記表面に近接した巻線開口の面積は他
    の巻線開口の面積よりも実質的に小さいことを特徴とす
    る請求項１１に記載の磁気変換器。
16. 【請求項１６】前記巻線開口相互の間の距離は前記表面
    とこの表面に近接した巻線開口との間の距離のほぼ１０
    倍であることをことを特徴とする請求項１１に記載の磁
    気変換器。
17. 【請求項１７】前記薄い層は約１０００分の１インチの
    スパッタ層であることを特徴とする請求項１１に記載の
    磁気変換器。
18. 【請求項１８】前記表面とこの表面に近接した巻線開口
    の間の距離は、約１０００分の１インチであることを特
    徴とする請求項１６に記載の磁気変換器。
19. 【請求項１９】前記磁性材料の薄い層は前記表面に近接
    した前記巻線開口の対向する縁上に配置されていること
    を特徴とする請求項１１に記載の磁気変換器。
20. 【請求項２０】磁気テープ媒体に高い周波数信号を再生
    ／記録する多数の磁気変換器を形成する工作物におい
    て、 互いに垂直な第１と第２の面を有する誘電性のブロック
    型の支持体と、 他の前記表面にほぼ平行し近接した線上の前記表面の一
    つにある第１の浅い溝と、 前記第１の溝と平行な一方の面に設けられたより大きい
    第２の溝と、 前記切欠が介在する多数の縁を供給するために前記第１
    の溝に対してほぼ垂直方向に設けられた前記一方の面に
    設けられた等間隔の多数の切欠と、 少なくとも前記多数の縁上に配置され、縁に他の同様の
    工作物に対向するように配置され、絶縁材料を介挿して
    接着された時に変換器半製品のマトリックスを形成する
    ような形状で、寸法を有し、配置され、工作物を切断に
    よって変換器を形成し、接着し、それぞれが前記第１と
    第２の溝によって形成された第１と第２の巻線開口を有
    している高い透磁率の磁性材料の薄い層とを具備するこ
    とを特徴とする工作物。
21. 【請求項２１】前記高い透磁率の材料の薄い層はスパッ
    タされた磁性材料であることを特徴とする請求項２０に
    記載の工作物。
22. 【請求項２２】前記磁性材料はコバルト−ジルコニウム
    −ニオビウム合金及び鉄−アルミニウム−シリコン合金
    から構成される群から選ばれていることを特徴とする請
    求項２０に記載の工作物。
23. 【請求項２３】前記絶縁材料はアルミナ及びシリコン二
    酸化物及びセラミックスから構成される群から選ばれて
    いることを特徴とする請求項２０に記載の工作物。
24. 【請求項２４】前記第１と第２の溝の寸法は、前記他の
    表面に近接した巻線開口の面積は他の巻線開口の面積よ
    りも実質的に小さくなるようになっていることを特徴と
    する請求項２０に記載の工作物。
25. 【請求項２５】前記巻線開口相互の間の距離は前記他の
    表面とこの表面に近接した巻線開口との間の距離のほぼ
    １０倍であることをことを特徴とする請求項２４に記載
    の工作物。
26. 【請求項２６】前記磁性材料の薄い層は約１０００分の
    １インチのスパッタ層であることを特徴とする請求項２
    ５に記載の工作物。
27. 【請求項２７】前記表面とこの表面に近接した巻線開口
    の間の距離は、約１０００分の１インチであることを特
    徴とする請求項２６に記載の工作物。
28. 【請求項２８】前記縁の幅は約１０００分の２インチで
    あることを特徴とする請求項２７に記載の工作物。
29. 【請求項２９】前記巻線開口相互の間の距離は約１００
    ０分の１１インチであることを特徴とする請求項２８に
    記載の工作物。
30. 【請求項３０】非磁性体の１つの平坦な第１の面と、前
    記第１の面と実質的に垂直な第２の面を有する非導電性
    の支持体とを形成し、前記第１面内に前記第２面に近接
    し、実質的に平行な第１の溝を形成するステップと、 第１の面の上と第１の溝の中に高い透磁率の薄い層を配
    置するステップと、 薄い層配置面上に実質的に同一な多数の切欠きを等間隔
    に形成するステップ、切欠は溝と実質的に垂直な方向
    に、しかも切欠間にランドを形成するに足りる深さを有
    し、各ランドはその上に磁性層が配置される部分を有す
    る，と、 第１の溝に実質的に平行な方向に第１の溝よりも深い第
    ２の溝を形成するステップと、 少なくともランドの上にギャップ絶縁層を配置するステ
    ップと、 このように処理された前記２つの支持体をランドが対向
    するように結合するステップと、 前記結合支持体から個々の磁気変換器を切り出すステッ
    プと、 第１と第２の溝により形成される２つの開口を巻線を通
    過させることにより、巻線で窓を実質的に充填し、前記
    個々の変換器のいくつかに対してコイルを形成するステ
    ップを具備することを特徴とする周波数信号を再生／記
    録する磁気変換器の製造方法。
31. 【請求項３１】前記磁性材料はスパッタされており、か
    つコバルト−ジルコニウム−ニオビウム合金及び鉄−ア
    ルミニウム−シリコン合金から構成される群から選ばれ
    ていることを特徴とする請求項３０に記載の磁気変換器
    の製造方法。
32. 【請求項３２】前記絶縁材料はアルミナ及びシリコン二
    酸化物及びセラミックスから構成される群から選ばれて
    いることを特徴とする請求項３０に記載の磁気変換器の
    製造方法。
33. 【請求項３３】前記磁性材料の薄い層の厚さは１０００
    分の１インチのオーダーであり、かつ前記第１の溝と第
    ２の表面との間は約１０００分の１インチであることを
    特徴とする請求項３０に記載の磁気変換器の製造方法。
34. 【請求項３４】前記第１の溝によって形成された窓は正
    方形であり、かつその寸法は約１０００分の４インチで
    あることを特徴とする請求項３３に記載の磁気変換器の
    製造方法。
35. 【請求項３５】２つの窓の間の距離は約１０００分の１
    １インチであることを特徴とする請求項３４に記載の磁
    気変換器の製造方法。
36. 【請求項３６】非磁性体の１つの平坦な第１の面と、前
    記第１の面と実質的に垂直な第２の面を有する非導電性
    の支持体とを形成し、前記第１面内に前記第２面に近接
    し、実質的に平行な第１の溝を形成するステップと、 少なくとも前記溝の中と前記ランドの上の一つの前記面
    の上に高い透磁率の薄い層を配置するステップと、 前記一つの面に実質的に同一な多数の切欠きを等間隔に
    形成するステップ、切欠は溝と実質的に垂直な方向に、
    しかも切欠間にランドを形成するに足りる深さを有す
    る，と、 第１の溝に実質的に平行な方向に第１の溝よりも深い第
    ２の溝を形成するステップと、 少なくともランドの上にギャップ絶縁層を配置するステ
    ップと、 このように処理された前記２つの支持体をランドが対向
    するように結合するステップと、 前記結合支持体から個々の磁気変換器を切り出すステッ
    プと、 第１と第２の溝により形成される２つの開口を巻線を通
    過させることにより、前記個々の変換器のいくつかに対
    してコイルを形成するステップを具備することを特徴と
    する周波数信号を再生／記録する磁気変換器の製造方
    法。
37. 【請求項３７】前記信号コイルの巻線は第１の溝によっ
    て形成された窓を実質的に満たしていることを特徴とす
    る請求項３６に記載の磁気変換器の製造方法。
38. 【請求項３８】前記磁性材料はスッパタされており、か
    つコバルト−ジルコニウム−ニオビウム合金及び鉄−ア
    ルミニウム−シリコン合金から構成される群から選ばれ
    ていることを特徴とする請求項３６に記載の磁気変換器
    の製造方法。
39. 【請求項３９】前記絶縁材料はアルミナ及びシリコン二
    酸化物及びセラミックスから構成される群から選ばれて
    いることを特徴とする請求項３６に記載の磁気変換器の
    製造方法。
40. 【請求項４０】前記磁性材料の薄い層の厚さは１０００
    分の１インチのオーダーであり、かつ前記第１の溝と第
    ２の表面との間は約１０００分の１インチであることを
    特徴とする請求項３６に記載の磁気変換器の製造方法。
41. 【請求項４１】前記第１の溝によって形成された窓はほ
    ぼ正方形であり、かつその寸法は約１０００分の４イン
    チであることを特徴とする請求項４０に記載の磁気変換
    器の製造方法。
42. 【請求項４２】２つの窓の間の距離は約１０００分の１
    １インチであることを特徴とする請求項４１に記載の磁
    気変換器の製造方法。
43. 【請求項４３】前記ランド部の幅は前記変換器のトラッ
    ク幅を規定しており、かつ前記第２の表面と前記第１の
    溝によって形成された窓は変換器のギャップ深さを規定
    していることを特徴とする請求項３６に記載の磁気変換
    器の製造方法。