JPH0735348B2 - エリスリトール結晶の乾燥法 - Google Patents
エリスリトール結晶の乾燥法Info
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- JPH0735348B2 JPH0735348B2 JP3190058A JP19005891A JPH0735348B2 JP H0735348 B2 JPH0735348 B2 JP H0735348B2 JP 3190058 A JP3190058 A JP 3190058A JP 19005891 A JP19005891 A JP 19005891A JP H0735348 B2 JPH0735348 B2 JP H0735348B2
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- Japan
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- drying
- crystals
- erythritol
- water content
- weight
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C31/00—Saturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C31/18—Polyhydroxylic acyclic alcohols
- C07C31/24—Tetrahydroxylic alcohols, e.g. pentaerythritol
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエリスリトール結晶の乾
燥法に関するもので、特に、粒径が５００〜７００μｍ
と大きいエリスリトール結晶を結晶状態を悪化させるこ
となく、含水量０．１５重量％以下まで効率的に乾燥す
るための方法に関するものである。
燥法に関するもので、特に、粒径が５００〜７００μｍ
と大きいエリスリトール結晶を結晶状態を悪化させるこ
となく、含水量０．１５重量％以下まで効率的に乾燥す
るための方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】エリスリトールは低カロリー甘味剤（甘
さはショ糖に対して約０．８倍）として注目を集めてい
る。エリスリトールの製造法としては、ブドウ糖を原料
として、これを水性培地中でエリスリトール生産菌の存
在下、培養する方法が一般的である。この方法において
は、培養により得られたエリスリトールを含有する培養
液より菌体を除去し、精製した後、これを晶析してエリ
スリトール結晶を回収する。そして、この結晶を通常、
含水量０．１５重量％以下と低水分量まで乾燥する必要
がある。エリスリトールの融点は１１９℃と高く、熱安
定性も良好なので、従来より、乾燥効率を考え、この乾
燥処理は高温の熱風乾燥によって実施されていた。
さはショ糖に対して約０．８倍）として注目を集めてい
る。エリスリトールの製造法としては、ブドウ糖を原料
として、これを水性培地中でエリスリトール生産菌の存
在下、培養する方法が一般的である。この方法において
は、培養により得られたエリスリトールを含有する培養
液より菌体を除去し、精製した後、これを晶析してエリ
スリトール結晶を回収する。そして、この結晶を通常、
含水量０．１５重量％以下と低水分量まで乾燥する必要
がある。エリスリトールの融点は１１９℃と高く、熱安
定性も良好なので、従来より、乾燥効率を考え、この乾
燥処理は高温の熱風乾燥によって実施されていた。
【０００３】ところが、従来のエリスリトール結晶の乾
燥方法においては、所定の水分量まで乾燥するには極め
て長時間を要し、また、乾燥の途中で結晶の一部が凝集
合体し結晶性状が悪化するという欠点があった。特に、
この傾向はエリスリトールの結晶サイズが５００〜７０
０μｍと大きい場合に著しい。
燥方法においては、所定の水分量まで乾燥するには極め
て長時間を要し、また、乾燥の途中で結晶の一部が凝集
合体し結晶性状が悪化するという欠点があった。特に、
この傾向はエリスリトールの結晶サイズが５００〜７０
０μｍと大きい場合に著しい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記実情に鑑
み、エリスリトール結晶の結晶性状を悪化させることな
く、含水量０．１５重量％以下まで効率的に乾燥するた
めの方法を提供することを目的とする。
み、エリスリトール結晶の結晶性状を悪化させることな
く、含水量０．１５重量％以下まで効率的に乾燥するた
めの方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記の目的
を達成すべく種々検討を重ねた結果、特定の温度に調節
されたガスを用いて、エリスリトール結晶を流動乾燥法
により乾燥することによって、大きいサイズの結晶であ
っても、乾燥途中で結晶の凝集合体が起こらず、所定の
水分量まで効率的に乾燥できることを見い出した。
を達成すべく種々検討を重ねた結果、特定の温度に調節
されたガスを用いて、エリスリトール結晶を流動乾燥法
により乾燥することによって、大きいサイズの結晶であ
っても、乾燥途中で結晶の凝集合体が起こらず、所定の
水分量まで効率的に乾燥できることを見い出した。
【０００６】すなわち、本発明の要旨は、含水量１〜１
０重量％のエリスリトール結晶を乾燥して含水量０．１
５重量％以下の結晶を回収するに際し、乾燥手段として
流動乾燥法を採用し、しかも、少なくとも前記結晶の含
水量が０．５重量％以下になるまで、流動乾燥に用いる
ガスの温度を１０〜６０℃の範囲に調節することを特徴
とするエリスリトール結晶の乾燥法に存する。
０重量％のエリスリトール結晶を乾燥して含水量０．１
５重量％以下の結晶を回収するに際し、乾燥手段として
流動乾燥法を採用し、しかも、少なくとも前記結晶の含
水量が０．５重量％以下になるまで、流動乾燥に用いる
ガスの温度を１０〜６０℃の範囲に調節することを特徴
とするエリスリトール結晶の乾燥法に存する。
【０００７】以下、本発明の内容を詳細に説明する。本
発明において対象となるエリスリトール結晶としては、
通常、ブドウ糖を原料としてエリスリトール生産菌の存
在下、水性培地中、好気性条件下で培養して得た混合培
養液を精製し、これを晶析することにより回収される結
晶である。このエリスリトール結晶の含水量としては、
１〜１０重量％、一般的には２〜８重量％である。ま
た、本発明では、例えば、粒径５００〜７００μｍの比
較的に大きいサイズのエリスリトール結晶を対象とした
場合に特に効果が著しい。なお、培養法によるエリスリ
トール自体の製造法は公知（特開昭６３−１９６２９８
号等）であり、代表的な培養条件を例示すれば後記表１
の通りである。
発明において対象となるエリスリトール結晶としては、
通常、ブドウ糖を原料としてエリスリトール生産菌の存
在下、水性培地中、好気性条件下で培養して得た混合培
養液を精製し、これを晶析することにより回収される結
晶である。このエリスリトール結晶の含水量としては、
１〜１０重量％、一般的には２〜８重量％である。ま
た、本発明では、例えば、粒径５００〜７００μｍの比
較的に大きいサイズのエリスリトール結晶を対象とした
場合に特に効果が著しい。なお、培養法によるエリスリ
トール自体の製造法は公知（特開昭６３−１９６２９８
号等）であり、代表的な培養条件を例示すれば後記表１
の通りである。
【０００８】上述のようなエリスリトール結晶を含水量
０．１５重量％以下まで乾燥する必要があるが、本発明
では流動乾燥による乾燥法を採用することを必須要件と
する。そして、本発明では少なくとも結晶の含水量が
０．５重量％以下、好ましくは０．１５重量％以下にな
るまで、流動乾燥に用いるガスの温度を１０〜６０℃、
好ましくは４０〜５５℃の範囲に調節することが重要で
ある。この際のガス温度が上記温度よりも高いと、長時
間の乾燥を実施してもエリスリトール結晶中の水分量が
低下しにくいばかりか、結晶の一部が凝集し塊状物が生
成するので好ましくなく、逆に、上記温度よりも低い
と、乾燥速度が遅く乾燥時間がかかりすぎるので好まし
くない。
０．１５重量％以下まで乾燥する必要があるが、本発明
では流動乾燥による乾燥法を採用することを必須要件と
する。そして、本発明では少なくとも結晶の含水量が
０．５重量％以下、好ましくは０．１５重量％以下にな
るまで、流動乾燥に用いるガスの温度を１０〜６０℃、
好ましくは４０〜５５℃の範囲に調節することが重要で
ある。この際のガス温度が上記温度よりも高いと、長時
間の乾燥を実施してもエリスリトール結晶中の水分量が
低下しにくいばかりか、結晶の一部が凝集し塊状物が生
成するので好ましくなく、逆に、上記温度よりも低い
と、乾燥速度が遅く乾燥時間がかかりすぎるので好まし
くない。
【０００９】流動乾燥法としては、通常、処理粉体の下
部より多量の噴射ガスを噴出することにより流動床を形
成させ乾燥を行う公知の方法が採用し得る。ここで使用
可能なガスとしては、例えば、空気又は窒素ガスなどの
不活性ガスが挙げられる。本発明の乾燥においては、ガ
ス中の水分濃度は乾燥速度に影響を与えないので特に限
定されないが、通常、ガス中の水分濃度は０．１〜４重
量％程度である。乾燥時間はガス温度及びガス流量など
によって異なるが、通常、１０〜２０分程度である。ま
た、ガス流量は、エリスリトール１ｋｇあたり通常、
０．０５〜２ｍ3 ／分・ｋｇ、ガス線速としては通常
０．３〜１ｍ／秒である。
部より多量の噴射ガスを噴出することにより流動床を形
成させ乾燥を行う公知の方法が採用し得る。ここで使用
可能なガスとしては、例えば、空気又は窒素ガスなどの
不活性ガスが挙げられる。本発明の乾燥においては、ガ
ス中の水分濃度は乾燥速度に影響を与えないので特に限
定されないが、通常、ガス中の水分濃度は０．１〜４重
量％程度である。乾燥時間はガス温度及びガス流量など
によって異なるが、通常、１０〜２０分程度である。ま
た、ガス流量は、エリスリトール１ｋｇあたり通常、
０．０５〜２ｍ3 ／分・ｋｇ、ガス線速としては通常
０．３〜１ｍ／秒である。
【００１０】
【実施例】次に、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り実施例の記
載に限定されるものではない。 実施例１〜２及び比較例１〜３ 培養法によって得られたエリスリトール結晶（含水量３
重量％、平均粒径５００μｍ）２．０ｋｇを下部に流動
ガス噴射機構を備えた密閉式の回分式流動乾燥機（宮本
製作所（株）製、ミヤモトホットブラスター）を用い
て、後記表２に示す温度の空気（含水率１．５重量％）
を流動ガスとし、ガス流量１．５ｍ3／分、ガス線速
０．７ｍ／秒にて流動乾燥を行った。
明するが、本発明はその要旨を超えない限り実施例の記
載に限定されるものではない。 実施例１〜２及び比較例１〜３ 培養法によって得られたエリスリトール結晶（含水量３
重量％、平均粒径５００μｍ）２．０ｋｇを下部に流動
ガス噴射機構を備えた密閉式の回分式流動乾燥機（宮本
製作所（株）製、ミヤモトホットブラスター）を用い
て、後記表２に示す温度の空気（含水率１．５重量％）
を流動ガスとし、ガス流量１．５ｍ3／分、ガス線速
０．７ｍ／秒にて流動乾燥を行った。
【００１１】このような流動乾燥後のエリスリトール結
晶につき、含水量を測定するとともに、結晶の凝集有無
をチェックした結果を後記表２に示す。
晶につき、含水量を測定するとともに、結晶の凝集有無
をチェックした結果を後記表２に示す。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、含水量１〜１０重量％
のエリスリトール結晶を特定の低温の流動ガスを用いて
流動乾燥することにより結晶状態を悪化させることな
く、極めて効率的に目標水分量である０．１５重量％以
下まで安定して乾燥することができる。本発明におい
て、高温ガスを用いた場合に比べて低温ガスを用いた場
合の方が効率的な乾燥ができる理由は詳らかではない
が、元来、エリスリトール結晶からの水分蒸発速度が大
きいため、高温ガスを用いると、結晶表面水分の蒸発に
より結晶の凝集や表面のみの固化を起こしやすく、内部
残留水分の蒸発をさまたげるためと推定される。
のエリスリトール結晶を特定の低温の流動ガスを用いて
流動乾燥することにより結晶状態を悪化させることな
く、極めて効率的に目標水分量である０．１５重量％以
下まで安定して乾燥することができる。本発明におい
て、高温ガスを用いた場合に比べて低温ガスを用いた場
合の方が効率的な乾燥ができる理由は詳らかではない
が、元来、エリスリトール結晶からの水分蒸発速度が大
きいため、高温ガスを用いると、結晶表面水分の蒸発に
より結晶の凝集や表面のみの固化を起こしやすく、内部
残留水分の蒸発をさまたげるためと推定される。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
Claims (1)
- 【請求項１】 含水量１〜１０重量％のエリスリトール
結晶を乾燥して含水量０．１５重量％以下の結晶を回収
するに際し、乾燥手段として流動乾燥法を採用し、しか
も、少なくとも前記結晶の含水量が０．５重量％以下に
なるまで、流動乾燥に用いるガスの温度を１０〜６０℃
の範囲に調節することを特徴とするエリスリトール結晶
の乾燥法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3190058A JPH0735348B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | エリスリトール結晶の乾燥法 |
| US07/904,508 US5202507A (en) | 1991-07-30 | 1992-06-25 | Method for drying erythritol crystals |
| EP92112771A EP0525694B1 (en) | 1991-07-30 | 1992-07-27 | Method for drying erythritol crystals |
| DE69218062T DE69218062T2 (de) | 1991-07-30 | 1992-07-27 | Trocknungsverfahren von Erythritolkristallen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3190058A JPH0735348B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | エリスリトール結晶の乾燥法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0597733A JPH0597733A (ja) | 1993-04-20 |
| JPH0735348B2 true JPH0735348B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=16251646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3190058A Expired - Lifetime JPH0735348B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | エリスリトール結晶の乾燥法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5202507A (ja) |
| EP (1) | EP0525694B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0735348B2 (ja) |
| DE (1) | DE69218062T2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980066546A (ko) * | 1997-01-25 | 1998-10-15 | 백운화 | 에리스리톨의 제조방법 |
| JP4151089B2 (ja) * | 1997-10-07 | 2008-09-17 | 三菱化学株式会社 | 高純度エリスリトール結晶の製造方法 |
| AU2009244077B2 (en) * | 2008-05-09 | 2014-10-02 | Cargill, Incorporated | Sweetener, methods of preparing sweetener and applications thereof |
| JP6718866B2 (ja) | 2014-10-16 | 2020-07-08 | カーギル インコーポレイテッド | 直接圧縮性のエリスリトールの調製方法及びその使用 |
| CA2985669C (en) | 2015-05-20 | 2022-05-03 | Cargill, Incorporated | Glycoside compositions |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE149462C (ja) * | ||||
| US3035060A (en) * | 1957-06-18 | 1962-05-15 | Standard Oil Co | Process for removing water from organic chemicals |
| US3308171A (en) * | 1964-07-17 | 1967-03-07 | Yokohama Seito Kabushiki Kaish | Method for producing granular or powdery sorbitol from sorbitol solution |
| FR2575180B1 (fr) * | 1984-12-20 | 1987-02-06 | Roquette Freres | Produit a haute teneur en maltitol, ses applications et son procede de fabrication |
| US4886677A (en) * | 1987-08-25 | 1989-12-12 | Mitsubishi Kasei Corporation | Surface-modified meso-erythritol composition |
| US5139795A (en) * | 1991-08-09 | 1992-08-18 | Ici Americas Inc. | Melt crystallized xylitol |
-
1991
- 1991-07-30 JP JP3190058A patent/JPH0735348B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-06-25 US US07/904,508 patent/US5202507A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-27 DE DE69218062T patent/DE69218062T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-27 EP EP92112771A patent/EP0525694B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0525694B1 (en) | 1997-03-12 |
| JPH0597733A (ja) | 1993-04-20 |
| DE69218062D1 (de) | 1997-04-17 |
| DE69218062T2 (de) | 1997-06-19 |
| EP0525694A2 (en) | 1993-02-03 |
| US5202507A (en) | 1993-04-13 |
| EP0525694A3 (en) | 1993-10-20 |
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