JPH073271A - 接触水素化改質方法 - Google Patents
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Abstract
属と、ハロゲンと、ゲルマニウム、錫、鉛、ガリウム、
インジウムおよびタリウムから選ばれる付加金属Mとを
含む触媒の存在下での水素化改質方法。この方法では前
記金属Mは、有機化合物形態で、現場で、反応器中また
は前記反応器につながった予備反応器中で導入される。
続いてこの反応器で炭化水素仕込物が処理される。 【効果】 本発明の接触改質方法によると、従来の触媒
を使用する方法に比べ、優れた触媒活性、安定性が得ら
れる。
Description
と、少なくとも一つの白金族の金属(白金の存在は不可
欠であり、周期表のVIII族のもう一つの元素と組合わせ
てもよい)と、ゲルマニウム、錫、鉛、ガリウム、イン
ジウムおよびタリウムの中から選ばれる少なくとも一つ
の付加金属(金属Mと称される)と、ハロゲン(または
ハロゲン化合物)とを含む触媒の存在下での、水素化改
質による炭化水素転換方法に関するものである。
助触媒を添加が、触媒の品質を改良することを証明した
特許および刊行物は数多くある。これらの元素は、塩ま
たは有機金属化合物のような様々な形態で付加される。
一般に、ベース金属だけのものよりも、より活性または
より選択的で、時にはより安定な触媒を得る。これら修
飾元素が導入される方法は重要である、というのも、方
法によって触媒の特性を非常に決定するからである。
金属と、錫、ゲルマニウムおよび鉛(フランス特許A-20
31984 号)、ガリウム、インジウムおよび/またはタリ
ウム(米国特許A-2814599 号)からなる群より選ばれる
少なくとも一つの付加金属とを含む酸性触媒が知られて
いた。
れるべき反応器に直接、修飾元素をよく制御された条件
で添加することにより、以下にスタート時の“予備触
媒”と呼ばれる触媒の修飾を行うことに関するものであ
る。本方法は、数多くの実際的な利点をしめすが、意外
にも、このような製造法は、現場外での調製で得られた
触媒よりもはるかに効率のよい触媒を得られることが確
認できた。
水素化リホーミング)および芳香族炭化水素製造の接触
方法は、例えば温度400 〜600 ℃、絶対圧力0.1 〜3.5
MPa 、時速触媒1容量当たり液体仕込物0.1 〜10容量
で行われ、炭化水素に対する水素の比率は1〜20であ
る。本発明により調製された触媒は特に、厳しい条件で
これら2つの方法を行うことを可能とする。このように
して、触媒の使用は、とりわけ、102に等しいかまた
は明確にそれ以上のオクタン価ガソリンを得るための改
質反応に適応される。接触水素化リホーミングまたは水
素化改質反応の厳しい条件とは特に以下のようなもので
ある:平均温度およそ480 〜580 ℃、圧力0.2 〜1.8 M
Pa および好ましくは0.3 〜3 MPa 、時速触媒1容量
当たり液体仕込物1 〜10容量およびリサイクル率仕込物
1モル当たり水素1〜6モルである。もし仕込物が不飽
和のものである場合、つまり仕込物がモノまたはポリオ
レフィンを含んでいる場合、最初に全面的な水素添加に
よりそれらを取り除く必要がある。仕込物は、一般に直
接蒸留のナフサ、熱分解の、クラッキングの、特に蒸気
改質のガソリンである。
ばマグネシウム酸化物、アルミニウム酸化物、珪素酸化
物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、トリウム酸化
物のような、周期表II、III またはIV群の金属酸化物か
ら選ばれ、単独でまたはそれらの混合物の状態で、また
は周期表の他の元素の酸化物との混合物の状態で使用さ
れる、少なくとも一つの耐性酸化物を含んでいる。炭素
を使用することもできる。またゼオライト、すなわち
X、Y、モルデナイト、フォージャサイト、ZSM-5 、ZS
M-4 、ZSM-8 等のタイプのモレキュラシーブ、およびI
I、III および/またはIV族の金属酸化物とゼオライト
物質との混合物を使用することも可能である。
のために、好ましい担体は、比表面積が有利には1グラ
ム当たり50〜400 m2 、好ましくは1グラム当たり100
〜400 m2 のアルミナである。
液で担体を含浸する従来の方法により、予備成形された
担体から調製される。予備触媒中に存在する金属の共通
の溶液、あるいは何らかの秩序によるそれぞれ別の溶液
を使用する。いくつかの溶液を使用する時、中間に乾燥
および/またはカ焼を行ってもよい。
族の他の金属、および例えば白金族の元素)の導入は、
ハロゲン化合物の水性溶液による担体の含浸によって行
われてもよい。白金は、好ましくは、塩化白金酸の形態
で導入される。
合によっては行われる乾燥の後、カ焼される。カ焼は、
好ましくは温度400 〜700 ℃、場合によってはハロゲン
有機化合物の存在下に行われる。ハロゲン有機化合物は
例えば、フランス特許A-2.594.711 号に記載されたよう
に、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタンおよび
ジクロロプロパンからなる群より選ばれる。
Mの導入もまた記載されている。従って、ハロゲンの導
入の後、予備触媒内に一つまたは複数の付加金属の導入
を行う。場合によっては、前期金属Mを導入する前に、
高温で、例えば300 〜500 ℃で、水素による還元を行
う。この還元は、水素流下に、例えば300 〜500 ℃、好
ましくは350 〜450 ℃のの望ましい温度までゆっくりと
温度を上昇させ、続いてこの温度で1〜6時間、水素下
に維持されて行われてもよい。
カルボニル錯体、ポリケトン錯体と、アルキル、シクロ
アルキル、アリール、金属アルキルアリールおよび金属
アリールアルキルのような金属Mの金属炭化水素とから
なる群より選ばれる少なくとも一つの有機金属化合物ま
たはアルコラート化合物の形態で導入される。
ルコラート化合物または有機金属化合物の有機溶媒中の
溶液によって行われる。また金属Mの有機ハロゲン化合
物を使用することもできる。金属Mとして、特に、テト
ラブチル錫、テトラメチル錫、テトラプロピルゲルマニ
ウム、ジフェニル錫、テトラエチル鉛、インジウムアセ
チルアセトナート、タリウムアセチルアセトナート、タ
リウムエタノラート、トリエチルガリウム、レニウムカ
ルボニルを挙げる。
8個有する酸化有機溶媒、主に1分子当たり炭素原子を
6〜15個有するパラフィン系、ナフテン系または芳香族
炭化水素、および1分子当たり炭素原子を1〜15個有す
るハロゲン有機化合物からなる群より選ばれる。エタノ
ール、テトラヒドロフラン、n-ヘプタン、メチルシクロ
ヘキサン、トルエンおよびクロロホルムを挙げてもよ
い。米国特許A-4548918号に記載されたように、これら
溶媒を単独でまたは互いの混合物で使用してもよい。
けない結果を生じさることが発見された。好ましい導入
法は、前記付加金属Mが、不活性雰囲気(例えば窒素)
下または還元雰囲気(例えば水素)下で、少なくとも一
つの(純粋または場合によっては少なくとも一つの炭化
水素溶液中に希釈された)付加金属Mの有機化合物を、
このように調製された触媒の存在下に、水素化改質転換
を受ける例えば炭化水素などの一つまたは複数の反応仕
込物が注入される反応器内に仕込まれた予備触媒と接触
させて、または、前記反応器に直接つながっている予備
反応器内に仕込まれた予備触媒と接触させて、導入され
ることにより特徴づけられる。本発明において、予備触
媒は、少なくとも一つの担体と、少なくとも一つの元素
周期表のVIII族の金属と、場合によってはハロゲンまた
はハロゲン化合物とを含む触媒である。この予備触媒は
前記付加金属Mを含まない。
気相で、つまり予備触媒、最終触媒の前駆体が仕込まれ
る、工業用反応器(反応帯域)または前記反応器に直接
連結した工業用予備反応器(反応予備帯域)内で行われ
る。この付加金属Mの固定操作は20〜500 ℃で行われて
もよい。
技術専門者に既知のあらゆる技術により行われる。
備触媒を工業用反応器または工業用予備反応器に仕込む
ことから始める。この仕込みを行う前に、予備触媒は場
合によっては乾燥され、かつ450 〜600 ℃の酸化雰囲気
下にカ焼に付される。本発明によって、予備触媒は、次
に、還元雰囲気(水素)下にまたは不活性雰囲気(窒
素)下に、活性化処理に付される。好ましい策は、例え
ば300 〜600 ℃の高温水素下の活性化処理である。この
還元は、例えば水素流下、例えば300 〜600 ℃の還元の
最高温度までゆっくりとした温度の上昇により行われ、
続いてこの温度で1〜6時間、水素下での維持により行
われてもよい。
ましい値に温度を調節した後、続いて金属Mの導入を行
う。処理すべき仕込物と接触させる前に、含浸溶媒は、
必要なら除去され、気体好ましくは水素の流量下に、30
0 〜600 ℃の高温で、数時間熱処理を行う。
する重量にして、(a)少なくとも一つの白金族の貴金
属をおよそ0.01〜2%、好ましくは0.1 〜0.5 %、その
うち白金は0.01〜2%および好ましくは0.01〜1%、
(b)錫をおよそ0.005 〜0.5%、有利には0.005 〜0.3
%、好ましくは0.01〜0.2 %、または、ゲルマニウ
ム、鉛、インジウム、ガリウム、レニウム、タングステ
ンおよびタリウムからなる群より選ばれる少なくとも一
つの金属を0.0058〜0.3 %、好ましくはおよそ0.01〜0.
25%、および(c)塩素または弗素のようなハロゲンを
およそ0.1 〜15重量%、好ましくは0.9 〜2.8 %、を含
んでいる。錫および他の金属Mを含む触媒の金属Mの全
含有量は、およそ0.01〜0.48%、好ましくは0.02〜0.3
%である。
下のように行われる: (a)少なくとも一つのVIII族の金属を含む水性溶液に
よって、担体を含浸する。このようにして、先に“予備
触媒”と呼ばれた触媒物質を得る、(b)得られた触媒
物質(または予備触媒)を乾燥する、(c)ハロゲン化
合物の存在下に、得られた触媒物質をカ焼する、(d)
得られた触媒物質を、工業用反応器または工業用予備反
応器内に仕込む、(e)反応器内に仕込まれ、カ焼され
た触媒物質を還元する、(f)仕込まれ還元された触媒
物質を、炭化水素溶媒中に可溶化されたものの中で接触
させる、(g)必要ならば、溶媒を除去する、(h)白
金または白金族の貴金属および付加金属Mを含む、触媒
物質を還元する。
触媒の存在下に操作することによって、これらの触媒
は、従来技術により調製された触媒と比べて、活性およ
び寿命が増大しかつ一層優れた再生力を有していること
が発見された。
例証している。
%、塩素1.5 重量%を含む3つの触媒A、BおよびCを
調製する。担体は1グラム当たり 220m2 の比表面積、
および1グラム当たり0.60cm3 の多孔質容量のアルミナ
である。
り触媒Aを調製する。アルミナ担体100gに、塩酸の水溶
液500 cm3 を加える。3時間接触させてから、水気を取
る。塩素を含む乾燥された物質にヘキサクロロ白金酸お
よび塩化第二錫の溶液60cm3 を添加して、白金および錫
の含浸を行う。この溶液の白金濃度は1リットル当たり
4.2 gであり、錫の濃度は1リットル当たり2.33gであ
る。6時間接触させておき、120 ℃で1時間乾燥し、53
0 ℃で2時間カ焼する。
ルミナ担体100gから調製される。全部で白金を0.25gお
よび塩素を1.5 g含有するヘキサクロロ白金酸および塩
酸の水性溶液60cm3 の添加によって、白金および塩素の
導入を行う。4時間接触させておき、120 ℃で1時間乾
燥し、次に530 ℃で2時間カ焼する。次に触媒を、450
℃で毎時80リットルの水素流下に2時間還元する。続い
て、白金を含む還元された物質(先に予備触媒と呼ばれ
た)50gに、反応球形フラスコ内で、テトラブチル錫0.
21gを含むn-ヘプタン溶液30cm3 を添加して、錫の含浸
を行う。室温で、毎時85リットルの水素流下で、8時間
接触させておく。得られた固体は水気を取り、120 ℃で
乾燥され、次に530 ℃で2時間カ焼される。
含むカ焼された予備触媒10gが、触媒Bのために記述さ
れた条件と同じ条件で調製される。予備触媒は次に、大
気圧で下降流で機能する等温管状反応器に仕込まれる。
続いて予備触媒は、530 ℃の水素毎時20リットル下で、
反応器中で2時間還元される。水素流量を保ちながら
も、温度は室温まで下げられる。そこでテトラブチル錫
0.05gを含むn-ヘプタンの溶液を循環させる。溶媒の循
環は、常に水素流量下に室温で8 時間続けられる。溶媒
はそこで除去され、530 ℃で2時間、毎時20リットルの
水素流量下で、触媒の還元を行う。この触媒は触媒Cと
呼ばれ、検討される触媒反応に直接使用可能である。
質テストに付される。処理された仕込物の組成は、以下
のとおりである: −n-ヘキサン :50% −i-ヘキサン(等量の2−メチルペンタンと3−メチル
ペンタン):40% −メチルシクロペンタン :8 % −シクロヘキサン :2 % テストは次の操作条件で行われた: −温度 :470 ℃または510 ℃ −圧力 :1MPa −水素/炭化水素 :3 −触媒1容量当たり仕込物の時間容量 :3 これらの条件で得られた結果(全転換量、ベンゼン収量
および水素収量)を表1に示す。各収量は、仕込物に対
する重量%で表される。
術により調製された触媒Aよりも優れた効果を示す。さ
らに、触媒Cと触媒Bとを比べてみると、これら2つの
触媒は同じ錫前駆体から調製されたにもかかわらず、触
媒Cの特性は触媒Bの特性よりも優れている。触媒Cは
触媒テストの管状反応器内で直接調製された。
6留分を、付加金属としてゲルマニウム(0.08重量%)
または鉛(0.21重量%)を含む触媒によって、実施例2
に明記された操作条件と同じ条件で、処理することが提
案された。
をそれぞれ、四塩化ゲルマニウム(触媒D)および硝酸
鉛(触媒E)に代えた以外は、触媒Aのように調製され
た。四塩化ゲルマニウムの場合、あらかじめこの触媒は
使用の前に、エタノールに溶解される。
ル錫をそれぞれ、テトラブチルゲルマン(触媒F)また
はテトラエチル鉛(触媒G)に代えた以外は、触媒Bの
ように調製された。
ラブチル錫を、テトラブチルゲルマン(触媒H)または
テトラエチル鉛(触媒I)に代えた以外は、触媒Cのよ
うに調製された。
している。収量は仕込物に対する重量%で表される。
は、従来技術により調製された触媒Dおよび触媒Eより
も優れた触媒能力を示す。さらに触媒HおよびFまたは
IおよびGは、ゲルマニウムまたは鉛を持つ同じ前駆体
から調製されたにもかかわらず、触媒HおよびIの触媒
能力は、触媒FおよびGよりも優れている。触媒Hおよ
びIは触媒テストの管状反応器内で直接調製された。
Claims (19)
- 【請求項1】 少なくとも一つの担体と、白金と、ゲル
マニウム、錫、鉛、ガリウム、インジウム、レニウム、
タングステンおよびタリウムからなる群より選ばれる少
なくとも一つの付加金属Mと、ハロゲンとを含む触媒の
存在下での水素化改質方法であって、触媒は、少なくと
も一つの担体と白金とを含む、カ焼され活性化された予
備触媒と呼ばれる触媒物質中に、少なくとも一つの付加
金属Mの少なくとも一つの有機化合物を導入することに
よって得られるものであり、この付加金属Mは、純粋な
まままたは希釈されて、現場で(in situ) 、前記触媒の
存在下に仕込物の処理が行われる反応帯域において、ま
たは、反応帯域と直接接触している予備反応帯域におい
て導入される、水素化改質方法。 - 【請求項2】 触媒は、以下の連続した工程: a)前記調製の第一工程において、少なくとも一つの前
記担体と白金とを含む予備触媒を、現場外で(hors sit
e) 調製し、予備触媒はこの工程で、場合によっては乾
燥、および場合によってはカ焼に付され、 b)予備触媒を、前記触媒により処理すべき仕込物が送
られる反応帯域に、または前記反応帯域に直接つながっ
た予備反応帯域に導入し、 c)不活性雰囲気下または還元雰囲気下で、予備触媒を
活性化処理に付し、かつ、 d)前記調製の第二工程において、前記付加金属Mを、
不活性雰囲気下または還元雰囲気下に、付加金属Mの少
なくとも一つの有機化合物を接触させることによって予
備触媒中に導入する、 を含む方法により調製される、請求項1による方法。 - 【請求項3】 予備触媒はまたVIII族の金属を含んでい
てもよい、請求項1または2による方法。 - 【請求項4】 予備触媒は少なくとも一つのハロゲンま
たはハロゲン化合物を含む、請求項1〜3のうちの1つ
による方法。 - 【請求項5】 付加金属Mの有機化合物は液相または気
相で導入される、請求項1〜4のうちの1つによる方
法。 - 【請求項6】 付加金属Mの有機化合物は、炭化水素溶
液である少なくとも一つの含浸溶媒中で触媒に導入され
る、請求項1〜5のうちの1つによる方法。 - 【請求項7】 予備触媒の活性化は、300 〜600 ℃に水
素の存在下に、還元雰囲気で行われる、請求項1〜6の
うちの1つによる方法。 - 【請求項8】 触媒の調製の後に、(処理すべき仕込物
を触媒と接触させる前に)付加金属Mの含浸溶媒の除去
を行い、次いで熱処理を行う、請求項7による方法。 - 【請求項9】 前記熱処理は、水素流量下、温度300 〜
600 ℃で行われる、請求項8による方法。 - 【請求項10】 付加金属Mは、少なくとも一つの有機
金属化合物またはアルコラート化合物の形態で予備触媒
中に導入される、請求項1〜9のうちの1つによる方
法。 - 【請求項11】 前記有機化合物またはアルコラート化
合物は、金属Mのカルボニル錯体またはポリケトン錯体
と、アルキル、シクロアルキル、アリール、アルキルア
リールおよびアリールアルキルのような金属Mの金属炭
化水素とからなる群より選ばれる、請求項10による方
法。 - 【請求項12】 前記金属Mの有機化合物は、テトラブ
チル錫、テトラメチル錫、テトラプロピルゲルマニウ
ム、ジフェニル錫、テトラエチル鉛、アセチルアセトナ
ートインジウム、アセチルセトナートタリウム、タリウ
ムエタノラートおよびトリエチルガリウムからなる群か
ら選ばれる、請求項1〜10のうちの1つによる方法。 - 【請求項13】 前記金属Mの前記含浸溶媒は、1分子
当たり炭素原子2 〜8 個の酸化有機溶媒、1分子当たり
炭素原子6〜15個のパラフィン系、ナフテン系および芳
香族炭化水素、および1分子当たり炭素原子1〜15のハ
ロゲン化有機化合物からなる群より選ばれる、請求項6
〜12のうちの1つによる方法。 - 【請求項14】 含浸溶媒は、エタノール、テトラヒド
ロフラン、n-ヘプタン、メチルシクロヘキサン、トルエ
ンおよびクロロホルムからなる群より選ばれる、請求項
13による方法。 - 【請求項15】 水素化改質は、温度400 〜600 ℃、圧
力0.1 〜3.5 MPa、時速触媒1容量当たり液体仕込物
0.1 〜10容量で行われ、炭化水素に対する水素の比率は
1〜20である、請求項1〜14のうちの1つによる方
法。 - 【請求項16】 温度は480 〜580 ℃、圧力0.2 〜1.8
MPa 、時速触媒1容量当たり液体仕込物1〜10容量、
およびリサイクル率は仕込物1モル当たり水素1〜6モ
ルである、請求項1〜15のうちの1つによる方法。 - 【請求項17】 圧力は0.3 〜3MPa に設定される、
請求項16による方法。 - 【請求項18】 触媒はまた少なくとも一つのVIII属の
元素を含んでいる、請求項1〜17のうちの1つによる
方法。 - 【請求項19】 触媒はまた白金属の少なくとも一つの
元素を含んでいる、請求項1〜18のうちの1つによる
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9305553 | 1993-05-06 | ||
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