JPH07321389A - エキシマレーザ - Google Patents
エキシマレーザInfo
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- JPH07321389A JPH07321389A JP10985394A JP10985394A JPH07321389A JP H07321389 A JPH07321389 A JP H07321389A JP 10985394 A JP10985394 A JP 10985394A JP 10985394 A JP10985394 A JP 10985394A JP H07321389 A JPH07321389 A JP H07321389A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 エキシマレーザにおいて、任意のタイミング
でハロゲンガスを注入する。 【構成】 レーザ媒質を放電励起してレーザ発振させる
レーザ管２と、放電励起用に出力されるパルス電圧のパ
ルス数をカウントするカウンタ７と、予め１回の発振パ
ルスで消費されるハロゲンガスの量が記憶される記憶装
置８と、ハロゲンガス注入実行を指令する実行指令部９
と、前記実行指令部９からのハロゲンガス注入実行指令
を受けた場合に、前記カウンタ７においてカウントされ
たパルス数と前記記憶装置８に記憶された１回の発振パ
ルスで消費されるハロゲンガスの量とに基づいて注入す
べきハロゲンガスの供給量を算出する演算装置１０と、
前記演算装置１０から出力されたハロゲンガスの供給量
に基づいて前記レーザ管２にハロゲンガスを供給するガ
ス供給部５とを有する。
でハロゲンガスを注入する。 【構成】 レーザ媒質を放電励起してレーザ発振させる
レーザ管２と、放電励起用に出力されるパルス電圧のパ
ルス数をカウントするカウンタ７と、予め１回の発振パ
ルスで消費されるハロゲンガスの量が記憶される記憶装
置８と、ハロゲンガス注入実行を指令する実行指令部９
と、前記実行指令部９からのハロゲンガス注入実行指令
を受けた場合に、前記カウンタ７においてカウントされ
たパルス数と前記記憶装置８に記憶された１回の発振パ
ルスで消費されるハロゲンガスの量とに基づいて注入す
べきハロゲンガスの供給量を算出する演算装置１０と、
前記演算装置１０から出力されたハロゲンガスの供給量
に基づいて前記レーザ管２にハロゲンガスを供給するガ
ス供給部５とを有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、エキシマレーザに関
し、特にレーザ発振動作の繰返しによってレーザ出力が
低下するのを補うために行うハロゲンガスの注入を制御
する手段を有するエキシマレーザに関する。
し、特にレーザ発振動作の繰返しによってレーザ出力が
低下するのを補うために行うハロゲンガスの注入を制御
する手段を有するエキシマレーザに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のエキシマレーザにおいては、ハロ
ゲンガスの注入を前回のハロゲンガス注入時から一定の
パルス回数だけレーザ発振を行った直後に一定の供給量
を注入するという方法であった。
ゲンガスの注入を前回のハロゲンガス注入時から一定の
パルス回数だけレーザ発振を行った直後に一定の供給量
を注入するという方法であった。
【０００３】また、特開平２ー２２８０８６号公報に
は、エキシマレーザ装置において、レーザ管内に供給す
るフッ素ガス量を制御する技術が開示されている。図６
は、この特開平２ー２２８０８６号公報で開示されたエ
キシマレーザ装置の構成を示すブロック図であり、エキ
シマレーザ装置１は、レーザ管２、電源回路３、トリガ
回路４およびガス供給部５を有している。
は、エキシマレーザ装置において、レーザ管内に供給す
るフッ素ガス量を制御する技術が開示されている。図６
は、この特開平２ー２２８０８６号公報で開示されたエ
キシマレーザ装置の構成を示すブロック図であり、エキ
シマレーザ装置１は、レーザ管２、電源回路３、トリガ
回路４およびガス供給部５を有している。
【０００４】レーザ管２は、供給されたフッ素ガスを含
むレーザ媒体を図示せぬ励起手段により励起し、レーザ
を発振させる。電源回路３は、トリガ回路４から発生さ
れるパルスに基づいて、前記レーザ管２におけるレーザ
媒体を励起させる手段に電圧を出力する。ガス供給部５
は、フッ素ガス容器１６内のフッ素ガスを演算装置１４
から出力される制御信号に基づいて前記レーザ管２内に
供給する。フッ素ガス分析装置１５は、前記レーザ管２
内のフッ素ガスの濃度を測定し、その測定値を演算装置
１４に出力する。演算部１４は、前記フッ素ガス分析装
置１５から出力される測定値の変化から消費されたフッ
素ガスの量を算出し、所定時間ごとに、この消費された
量のフッ素ガスが前記レーザ管２内に供給されるように
前記ガス供給部５を制御する。
むレーザ媒体を図示せぬ励起手段により励起し、レーザ
を発振させる。電源回路３は、トリガ回路４から発生さ
れるパルスに基づいて、前記レーザ管２におけるレーザ
媒体を励起させる手段に電圧を出力する。ガス供給部５
は、フッ素ガス容器１６内のフッ素ガスを演算装置１４
から出力される制御信号に基づいて前記レーザ管２内に
供給する。フッ素ガス分析装置１５は、前記レーザ管２
内のフッ素ガスの濃度を測定し、その測定値を演算装置
１４に出力する。演算部１４は、前記フッ素ガス分析装
置１５から出力される測定値の変化から消費されたフッ
素ガスの量を算出し、所定時間ごとに、この消費された
量のフッ素ガスが前記レーザ管２内に供給されるように
前記ガス供給部５を制御する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この従来のエキシマレ
ーザでは、ハロゲンガスの注入を実施するタイミング
が、レーザの発振パルス数により予め決められているた
めに、このエキシマレーザの利用者の都合の良いタイミ
ングでハロゲンガスの注入を実施することができなかっ
た。このために、ハロゲンガスを注入する際には、レー
ザの発振を停止させるか、または、ハロゲンガスを注入
することによりレーザ出力が不安定な状態のままレーザ
の発振を継続せざるを得ないという問題点があった。
ーザでは、ハロゲンガスの注入を実施するタイミング
が、レーザの発振パルス数により予め決められているた
めに、このエキシマレーザの利用者の都合の良いタイミ
ングでハロゲンガスの注入を実施することができなかっ
た。このために、ハロゲンガスを注入する際には、レー
ザの発振を停止させるか、または、ハロゲンガスを注入
することによりレーザ出力が不安定な状態のままレーザ
の発振を継続せざるを得ないという問題点があった。
【０００６】また、特開平２ー２２８０８６号公報に開
示されたエキシマレーザにおいては、レーザ管にフッ素
ガスを注入するタイミングは予め定められているので、
前述の問題点を解消するには至らず、さらに、このエキ
シマレーザにおいては、レーザ管内のフッ素濃度を測定
する手段が必要であるために、装置構成が複雑になり、
また、コストも高く、実用性にかけるという問題点があ
った。
示されたエキシマレーザにおいては、レーザ管にフッ素
ガスを注入するタイミングは予め定められているので、
前述の問題点を解消するには至らず、さらに、このエキ
シマレーザにおいては、レーザ管内のフッ素濃度を測定
する手段が必要であるために、装置構成が複雑になり、
また、コストも高く、実用性にかけるという問題点があ
った。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明のエキシマレーザは、稀ガスとハロゲンガ
スとの混合ガスからなるレーザ媒質を放電励起してレー
ザ発振させるレーザ管と、前記レーザ管に対し、放電用
のパルス電圧を出力するパルス電圧出力部と、前記パル
ス電圧出力手段におけるレーザ発振パルスをカウントす
るカウンタと、予め１回のパルスで消費されるハロゲン
ガスの量が記憶される記憶部と、ハロゲンガスの注入を
実行するように指令を出す実行指令部と、前記実行指令
部からのハロゲンガス注入実行指令を受けた場合に、前
記カウンタにおいてカウントされたパルス数と前記記憶
部に記憶された１回の発振パルスで消費されるハロゲン
ガスの量とに基づいて注入すべきハロゲンガスの供給量
を算出する演算部と、前記演算部から出力されたハロゲ
ンガスの供給量に基づいて前記レーザ管にハロゲンガス
を供給する供給部とを有する。
めに、本発明のエキシマレーザは、稀ガスとハロゲンガ
スとの混合ガスからなるレーザ媒質を放電励起してレー
ザ発振させるレーザ管と、前記レーザ管に対し、放電用
のパルス電圧を出力するパルス電圧出力部と、前記パル
ス電圧出力手段におけるレーザ発振パルスをカウントす
るカウンタと、予め１回のパルスで消費されるハロゲン
ガスの量が記憶される記憶部と、ハロゲンガスの注入を
実行するように指令を出す実行指令部と、前記実行指令
部からのハロゲンガス注入実行指令を受けた場合に、前
記カウンタにおいてカウントされたパルス数と前記記憶
部に記憶された１回の発振パルスで消費されるハロゲン
ガスの量とに基づいて注入すべきハロゲンガスの供給量
を算出する演算部と、前記演算部から出力されたハロゲ
ンガスの供給量に基づいて前記レーザ管にハロゲンガス
を供給する供給部とを有する。
【０００８】
【実施例】次に、本発明の第一の実施例について図面を
参照して詳細に説明する。
参照して詳細に説明する。
【０００９】図１は、第一の実施例の構成を示すブロッ
ク図であり、エキシマレーザ装置１は、レーザ管２、電
源回路３、トリガ回路４およびガス供給部を有する。
ク図であり、エキシマレーザ装置１は、レーザ管２、電
源回路３、トリガ回路４およびガス供給部を有する。
【００１０】レーザ管２は、供給されたハロゲンガスと
稀ガス等とを含むレーザ媒体を図示せぬ励起手段により
励起し、レーザを発振させる。
稀ガス等とを含むレーザ媒体を図示せぬ励起手段により
励起し、レーザを発振させる。
【００１１】電源回路３は、トリガ回路４から発生され
るパルスに基づいて、前記レーザ管２における前記レー
ザ媒体を励起させる手段に電圧を出力する。
るパルスに基づいて、前記レーザ管２における前記レー
ザ媒体を励起させる手段に電圧を出力する。
【００１２】ガス供給部５は、ハロゲンガス容器１１内
のハロゲンガスを制御手段から出力される制御信号に基
づいて前記レーザ管２内に供給する。
のハロゲンガスを制御手段から出力される制御信号に基
づいて前記レーザ管２内に供給する。
【００１３】また、前記レーザ管２に供給されるハロゲ
ンガスの供給量および供給タイミングを制御する制御部
は、カウンタ７、記憶装置８、実行指令部９および演算
装置１０を有する。
ンガスの供給量および供給タイミングを制御する制御部
は、カウンタ７、記憶装置８、実行指令部９および演算
装置１０を有する。
【００１４】カウンタ７は、前記トリガ回路４から発生
されるパルスをカウントし、実行指令部９においてハロ
ゲンガス注入の実行指令が出力された場合に、そのカウ
ントされたパルス数カウント値を演算装置１０に出力す
る。
されるパルスをカウントし、実行指令部９においてハロ
ゲンガス注入の実行指令が出力された場合に、そのカウ
ントされたパルス数カウント値を演算装置１０に出力す
る。
【００１５】記憶装置８は、予め、１パルスで消費され
るハロゲンガスの消費量ｋが格納されており、また、実
行指令部９においてハロゲンガス注入の実行指令が出力
された場合に、前記カウンタ７においてカウントされた
パルス数カウント値を記憶する。
るハロゲンガスの消費量ｋが格納されており、また、実
行指令部９においてハロゲンガス注入の実行指令が出力
された場合に、前記カウンタ７においてカウントされた
パルス数カウント値を記憶する。
【００１６】実行指令部９は、任意のタイミングでハロ
ゲンガス注入の実行を指令する。
ゲンガス注入の実行を指令する。
【００１７】演算装置１０は、前記実行指令部９からハ
ロゲンガス注入の実行指令を受けると、前記カウンタ７
からパルス数カウント値を読み出すとともに、このパル
ス数カウント値を前記記憶装置９に記憶させ、さらに、
前記実行指令部９における前回の実行指令が出力された
時点で前記記憶装置９に記憶させておいたパルス数カウ
ント値を読みだし、これら各パルス数カウント値の差分
値を算出する。さらに、前記記憶装置９に予め記憶され
た１回の発振パルスで消費されるハロゲンガスの量ｋを
読みだし、この１回の発振パルスで消費されるハロゲン
ガスと前記差分値とを掛け合わせることで、前記実行指
令部９における前回の実行指令から今回の実行指令まで
の間にレーザ発振により消費されたハロゲンガスの量を
演算し、この消費量を前記ガス供給部５に出力する。
ロゲンガス注入の実行指令を受けると、前記カウンタ７
からパルス数カウント値を読み出すとともに、このパル
ス数カウント値を前記記憶装置９に記憶させ、さらに、
前記実行指令部９における前回の実行指令が出力された
時点で前記記憶装置９に記憶させておいたパルス数カウ
ント値を読みだし、これら各パルス数カウント値の差分
値を算出する。さらに、前記記憶装置９に予め記憶され
た１回の発振パルスで消費されるハロゲンガスの量ｋを
読みだし、この１回の発振パルスで消費されるハロゲン
ガスと前記差分値とを掛け合わせることで、前記実行指
令部９における前回の実行指令から今回の実行指令まで
の間にレーザ発振により消費されたハロゲンガスの量を
演算し、この消費量を前記ガス供給部５に出力する。
【００１８】次に、レーザガス交換後Ｎ回目のハロゲン
ガス注入の実行指令がなされた場合の本実施例の動作を
図１を参照して説明する。
ガス注入の実行指令がなされた場合の本実施例の動作を
図１を参照して説明する。
【００１９】まず、実行指令部９において、レーザガス
交換後Ｎ回目のハロゲンガス注入の実行指令が出力され
る。ここで、この実行指令部９における実行指令は、レ
ーザ装置の操作者による指令、図示せぬ外部装置からの
遠隔指令、レーザ装置内部の図示せぬタイマによる指令
およびレーザ装置内部の他の制御部からの指令等を用い
ることができる。
交換後Ｎ回目のハロゲンガス注入の実行指令が出力され
る。ここで、この実行指令部９における実行指令は、レ
ーザ装置の操作者による指令、図示せぬ外部装置からの
遠隔指令、レーザ装置内部の図示せぬタイマによる指令
およびレーザ装置内部の他の制御部からの指令等を用い
ることができる。
【００２０】次に、演算装置１０は、このＮ回目の実行
指令を受けると、まず、カウンタ７においてカウントさ
れたパルス数カウント値Ｃ（ｎ）を取り込むとともに、
このカウント値Ｃ（ｎ）を記憶装置８に記憶させる。
指令を受けると、まず、カウンタ７においてカウントさ
れたパルス数カウント値Ｃ（ｎ）を取り込むとともに、
このカウント値Ｃ（ｎ）を記憶装置８に記憶させる。
【００２１】さらに、この演算装置１０は、前記実行指
令部９からＮ−１回目のハロゲンガス注入の実行指令を
受け取った際に前記記憶装置８に記憶しておいたパルス
数カウント値Ｃ（ｎ−１）を読みだし、前記Ｃ（ｎ）と
このＣ（ｎ−１）との差Ｐ（ｎ）を算出する。
令部９からＮ−１回目のハロゲンガス注入の実行指令を
受け取った際に前記記憶装置８に記憶しておいたパルス
数カウント値Ｃ（ｎ−１）を読みだし、前記Ｃ（ｎ）と
このＣ（ｎ−１）との差Ｐ（ｎ）を算出する。
【００２２】さらに、この演算装置１０は、前記記憶装
置８から１回の発振パルスで消費されるハロゲンガスの
量ｋを読みだし、前記Ｐ（ｎ）とこの１回の発振パルス
で消費されるハロゲンガスｋを掛け合わせることによ
り、Ｎ−１回目の実行指令からＮ回目の実行指令までの
間にレーザ発振によって消費されたハロゲンガス量Ｈ
（ｎ）を算出する。
置８から１回の発振パルスで消費されるハロゲンガスの
量ｋを読みだし、前記Ｐ（ｎ）とこの１回の発振パルス
で消費されるハロゲンガスｋを掛け合わせることによ
り、Ｎ−１回目の実行指令からＮ回目の実行指令までの
間にレーザ発振によって消費されたハロゲンガス量Ｈ
（ｎ）を算出する。
【００２３】次に、前記演算装置１０において算出され
たハロゲンガスの消費量Ｈ（ｎ）がガス供給部５に出力
され、このガス供給部５では、ハロゲンガス消費量Ｈ
（ｎ）に基づいてレーザ管２内にハロゲンガスの注入を
行う。
たハロゲンガスの消費量Ｈ（ｎ）がガス供給部５に出力
され、このガス供給部５では、ハロゲンガス消費量Ｈ
（ｎ）に基づいてレーザ管２内にハロゲンガスの注入を
行う。
【００２４】次に、本発明の第二の実施例について図面
を参照して詳細に説明する。
を参照して詳細に説明する。
【００２５】図２は、第二の実施例の構成を示すブロッ
ク図であり、前述の第一の実施例と同様の構成部分に
は、同一の符号を付しており、この重複部分の説明は省
略する。
ク図であり、前述の第一の実施例と同様の構成部分に
は、同一の符号を付しており、この重複部分の説明は省
略する。
【００２６】出力制御部１３は、レーザ管２から出力さ
れるレーザ出力を検知し、その出力の変化を電源回路３
にフィードバックする。
れるレーザ出力を検知し、その出力の変化を電源回路３
にフィードバックする。
【００２７】電源回路３は、前記出力制御部１３から出
力されるレーザ出力を一定の変動範囲内に保つように出
力電圧を調整する。
力されるレーザ出力を一定の変動範囲内に保つように出
力電圧を調整する。
【００２８】測定部１２は、前記電源回路３から出力さ
れる電圧値を測定し、その電圧値が所定の値に達した場
合に実行指令部９に信号を出力する。
れる電圧値を測定し、その電圧値が所定の値に達した場
合に実行指令部９に信号を出力する。
【００２９】前記実行制御部９は、前記測定部１２から
出力された信号を受信すると、演算装置１０にハロゲン
ガス注入の実行指令を行う。
出力された信号を受信すると、演算装置１０にハロゲン
ガス注入の実行指令を行う。
【００３０】次に、本実施例の動作について図２および
図３を参照して説明する。
図３を参照して説明する。
【００３１】エキシマレーザ装置１は、出力制御部１３
が発振されたレーザ出力を電源回路３にフィードバック
することでパワーロック制御されており、ここで、電源
回路３はレーザ出力を制御するために出力電圧値を調整
している。
が発振されたレーザ出力を電源回路３にフィードバック
することでパワーロック制御されており、ここで、電源
回路３はレーザ出力を制御するために出力電圧値を調整
している。
【００３２】測定部１２において、前記電源回路３にお
ける出力電圧値が測定されており、その測定結果を図３
に示す。図３に示すように、ハロゲンガス交換後、電源
回路３は一定のレーザ出力を維持するためにその出力電
圧を少しずつ大きくしていく。ここで、前記測定部１２
は、この出力電圧値が所定の上限値に達した場合に、実
行指令部９に信号を出力する。
ける出力電圧値が測定されており、その測定結果を図３
に示す。図３に示すように、ハロゲンガス交換後、電源
回路３は一定のレーザ出力を維持するためにその出力電
圧を少しずつ大きくしていく。ここで、前記測定部１２
は、この出力電圧値が所定の上限値に達した場合に、実
行指令部９に信号を出力する。
【００３３】この実行指令部９では、前記測定部１２か
ら出力された信号を受信すると、直ちに、演算装置１０
にハロゲンガス注入の実行指令を行う。
ら出力された信号を受信すると、直ちに、演算装置１０
にハロゲンガス注入の実行指令を行う。
【００３４】以降、制御部６からガス供給部５に制御信
号を出力するまでの処理は、前述の第一の実施例と同様
であるので説明は省略する。
号を出力するまでの処理は、前述の第一の実施例と同様
であるので説明は省略する。
【００３５】また、図３に示すように、１回目のハロゲ
ンガス注入が実行された直後は、レーザ管２内のハロゲ
ンガスの濃度が初期のレベルに戻るので、前記電源回路
３における出力電力値は一旦小さくなり、以降、この電
源回路３における出力電圧値に基づいて、ハロゲンガス
注入の実行指令が行われることになる。
ンガス注入が実行された直後は、レーザ管２内のハロゲ
ンガスの濃度が初期のレベルに戻るので、前記電源回路
３における出力電力値は一旦小さくなり、以降、この電
源回路３における出力電圧値に基づいて、ハロゲンガス
注入の実行指令が行われることになる。
【００３６】また、この第二の実施例においては、ハロ
ゲンガス注入実行直後の前記電源回路３の出力電圧値の
極小値の変化から、記憶装置８に予め記憶された１回の
発振パルスで消費されるハロゲンガスの量ｋを補正して
いくことも可能である。
ゲンガス注入実行直後の前記電源回路３の出力電圧値の
極小値の変化から、記憶装置８に予め記憶された１回の
発振パルスで消費されるハロゲンガスの量ｋを補正して
いくことも可能である。
【００３７】つまり、図４（ａ）に示すように前記電源
回路３の出力電圧の極小値がハロゲンガス注入が実行さ
れるにつれて、次第に増加していき、その極小値を結ぶ
エンベロープが右上がりならば、前記１回の発振パルス
で消費されるハロゲンガスの量ｋをｋ＋△ｋに増加し、
また、図４（ｂ）に示すように、前記電源回路３の出力
電圧の極小値がハロゲンガス注入が実行されるにつれ
て、次第に減少していき、その極小値を結ぶエンベロー
プが右下がりならば、前記１回の発振パルスで消費され
るハロゲンガスの量ｋをｋ−△ｋに減少するようにそれ
ぞれ補正する。これにより、実際の１回の発振パルスで
消費されるハロゲンガスの変化に対応した値が得られる
ことになる。なお、前記△ｋの値が小さすぎると補正し
たことによる効果が現れるまで何度も補正を行う必要が
生じる。
回路３の出力電圧の極小値がハロゲンガス注入が実行さ
れるにつれて、次第に増加していき、その極小値を結ぶ
エンベロープが右上がりならば、前記１回の発振パルス
で消費されるハロゲンガスの量ｋをｋ＋△ｋに増加し、
また、図４（ｂ）に示すように、前記電源回路３の出力
電圧の極小値がハロゲンガス注入が実行されるにつれ
て、次第に減少していき、その極小値を結ぶエンベロー
プが右下がりならば、前記１回の発振パルスで消費され
るハロゲンガスの量ｋをｋ−△ｋに減少するようにそれ
ぞれ補正する。これにより、実際の１回の発振パルスで
消費されるハロゲンガスの変化に対応した値が得られる
ことになる。なお、前記△ｋの値が小さすぎると補正し
たことによる効果が現れるまで何度も補正を行う必要が
生じる。
【００３８】また、前述の各実施例ともに、エキシマレ
ーザ装置１における実際の１回の発振パルスで消費され
るハロゲンガスの量ｋは、レーザ管２の形状、材質、構
造およびこのレーザ管２内のガス組成等が同じ条件であ
る場合には、レーザ管２内に空気を混入させるような事
態が生じないかぎり前記エキシマレーザ装置１の総稼動
時間に応じて変化するので、記憶装置８に予め記憶させ
る１回の発振パルスで消費されるハロゲンガスｋは、図
５に示すように前記エキシマレーザ装置１の総稼動時間
に応じて段階的に記憶しておき、カウンタ７もしくは図
示せぬタイマ等により総稼動時間を計測し、その総稼動
時間に応じて、段階的に、この１回の発振パルスで消費
されるハロゲンガスの量ｋを補正していくことも可能で
ある。
ーザ装置１における実際の１回の発振パルスで消費され
るハロゲンガスの量ｋは、レーザ管２の形状、材質、構
造およびこのレーザ管２内のガス組成等が同じ条件であ
る場合には、レーザ管２内に空気を混入させるような事
態が生じないかぎり前記エキシマレーザ装置１の総稼動
時間に応じて変化するので、記憶装置８に予め記憶させ
る１回の発振パルスで消費されるハロゲンガスｋは、図
５に示すように前記エキシマレーザ装置１の総稼動時間
に応じて段階的に記憶しておき、カウンタ７もしくは図
示せぬタイマ等により総稼動時間を計測し、その総稼動
時間に応じて、段階的に、この１回の発振パルスで消費
されるハロゲンガスの量ｋを補正していくことも可能で
ある。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のエキシマ
レーザは、Ｎ回目のハロゲンガス注入量を、Ｎ−１回目
のハロゲンガス注入時から今回の注入実行指令が出力さ
れるまでになされた発振パルス数と、予め記憶された１
回の発振パルスで消費されるハロゲンガスとに基づいて
算出されるために、簡単な構成で、任意のタイミングの
ハロゲンガス注入を行うことができる。これにより、本
発明のエキシマレーザの使用者は、例えば、レーザ加工
装置のワーク交換時等のレーザ発振を停止させるといっ
た都合の良いタイミングでハロゲンガスの注入を行うこ
とができるために、ハロゲンガス注入中の不安定なレー
ザ出力を使用することを避けることができる。
レーザは、Ｎ回目のハロゲンガス注入量を、Ｎ−１回目
のハロゲンガス注入時から今回の注入実行指令が出力さ
れるまでになされた発振パルス数と、予め記憶された１
回の発振パルスで消費されるハロゲンガスとに基づいて
算出されるために、簡単な構成で、任意のタイミングの
ハロゲンガス注入を行うことができる。これにより、本
発明のエキシマレーザの使用者は、例えば、レーザ加工
装置のワーク交換時等のレーザ発振を停止させるといっ
た都合の良いタイミングでハロゲンガスの注入を行うこ
とができるために、ハロゲンガス注入中の不安定なレー
ザ出力を使用することを避けることができる。
【００４０】また、第二の実施例においては、レーザ出
力の安定化を簡単な構成のハロゲンガス注入制御手段で
実現することができるという効果もある。
力の安定化を簡単な構成のハロゲンガス注入制御手段で
実現することができるという効果もある。
【図１】第一の実施例の構成を示す図。
【図２】第二の実施例の構成を示す図。
【図３】電源電圧の出力値を示す図。
【図４】電源電圧の出力値を示す図。
【図５】記憶装置に記憶された１回の発振パルスで消費
されるハロゲンガスの量を示す図。
されるハロゲンガスの量を示す図。
【図６】従来のエキシマレーザを示す図。
１ エキシマレーザ装置 ２ レーザ管 ３ 電源回路 ４ トリガ回路 ５ ガス供給部 ６ 制御部 ７ カウンタ ８ 記憶装置 ９ 実行指令部 １０ 演算装置 １１ ハロゲンガス容器 １２ 測定部 １３ 出力制御部 １４ 演算装置 １５ フッ素ガス分析装置 １６ フッ素ガス容器
Claims (5)
- 【請求項１】 稀ガスとハロゲンガスとの混合ガスから
なるレーザ媒質を放電励起してレーザ発振させるレーザ
管と、 前記レーザ管に放電用のパルス電圧を出力するパルス電
圧出力部と、 前記パルス電圧出力部におけるレーザ発振パルスをカウ
ントするカウンタと、 １回の発振パルスで消費されるハロゲンガスの量が予め
記憶される記憶部と、 ハロゲンガスの注入を実行するように指令を出す実行指
令部と、 前記実行指令部からのハロゲンガス注入実行指令を受け
た場合に、前記カウンタにおいてカウントされたパルス
数と前記記憶部に記憶された１回の発振パルスで消費さ
れるハロゲンガスの量とに基づいて注入すべきハロゲン
ガスの供給量を算出する演算部と、 前記演算部から出力されたハロゲンガスの供給量に基づ
いて前記レーザ管にハロゲンガスを供給する供給部とを
有することを特徴とするエキシマレーザ。 - 【請求項２】 前記実行指令部においてハロゲンガス注
入実行指令は任意のタイミングで出力されることを特徴
とする前記請求項１に記載のエキシマレーザ。 - 【請求項３】 前記レーザ管からのレーザ出力に基づい
て、前記パルス電圧出力部から出力される電圧値を調整
する手段と、 前記パルス電圧出力部から出力される電圧値を測定し、
この電圧値が所定の値に達した場合に、前記実行指令部
に実行指令を出力するように信号を出力する手段とを有
することを特徴とする前記請求項１に記載のエキシマレ
ーザ。 - 【請求項４】 前記パルス電圧出力部から出力される電
圧値に基づいて、前記記憶部に予め記憶された１回の発
振パルスで消費されるハロゲンガスの量を補正すること
を特徴とする前記請求項３に記載のエキシマレーザ。 - 【請求項５】 エキシマレーザの総稼動時間を計測する
手段を有し、 この総稼動時間に基づいて、前記記憶部に予め記憶され
た１回の発振パルスで消費されるハロゲンガスの量を段
階的に補正していくことを特徴とする前記請求項１に記
載のエキシマレーザ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6109853A JP2663864B2 (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | エキシマレーザ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6109853A JP2663864B2 (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | エキシマレーザ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07321389A true JPH07321389A (ja) | 1995-12-08 |
| JP2663864B2 JP2663864B2 (ja) | 1997-10-15 |
Family
ID=14520854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6109853A Expired - Lifetime JP2663864B2 (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | エキシマレーザ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2663864B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10173262A (ja) * | 1996-12-12 | 1998-06-26 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置のガス供給制御装置およびガス供給制御方法 |
| JP2000294857A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-10-20 | Lambda Physik G Zur Herstellung Von Lasern Mbh | ガス放電レーザシステム及びその制御方法 |
| JP2002198603A (ja) * | 2001-12-11 | 2002-07-12 | Cymer Inc | エキシマレーザ用のガス補充の方法と装置 |
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| JP2019501532A (ja) * | 2016-01-08 | 2019-01-17 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | ガス放電光源におけるガス混合物制御 |
Citations (1)
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| JPH06177461A (ja) * | 1992-12-04 | 1994-06-24 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置およびその制御方法 |
-
1994
- 1994-05-24 JP JP6109853A patent/JP2663864B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPWO2018047280A1 (ja) * | 2016-09-08 | 2019-06-24 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置 |
| US10971886B2 (en) | 2016-09-08 | 2021-04-06 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2663864B2 (ja) | 1997-10-15 |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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