JPH10173262A - エキシマレーザ装置のガス供給制御装置およびガス供給制御方法 - Google Patents
エキシマレーザ装置のガス供給制御装置およびガス供給制御方法Info
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- JPH10173262A JPH10173262A JP8332192A JP33219296A JPH10173262A JP H10173262 A JPH10173262 A JP H10173262A JP 8332192 A JP8332192 A JP 8332192A JP 33219296 A JP33219296 A JP 33219296A JP H10173262 A JPH10173262 A JP H10173262A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】均一なパルス光出力を得ることができるように
する。 【解決手段】ハロゲンガスを含むレーザガスをレーザチ
ャンバ内に封入し、このレーザチャンバ内でパルス放電
を行うことにより前記レーザガスを励起してパルスレー
ザ発振を行うエキシマレーザ装置において、前記レーザ
チャンバに前記レーザガスを補給するガス補給手段と、
前記各パルスレーザ発振光の出力エネルギーのばらつき
が略最小となるハロゲンガス分圧値を予め設定するハロ
ゲンガス分圧設定手段と、前記レーザチャンバ内のハロ
ゲンガス分圧を検出するハロゲンガス分圧検出手段と、
このハロゲンガス分圧検出手段の検出値が前記ハロゲン
ガス分圧設定手段の設定値となるように前記ガス補給手
段を制御してハロゲンガスを補給制御する制御手段とを
具える。
する。 【解決手段】ハロゲンガスを含むレーザガスをレーザチ
ャンバ内に封入し、このレーザチャンバ内でパルス放電
を行うことにより前記レーザガスを励起してパルスレー
ザ発振を行うエキシマレーザ装置において、前記レーザ
チャンバに前記レーザガスを補給するガス補給手段と、
前記各パルスレーザ発振光の出力エネルギーのばらつき
が略最小となるハロゲンガス分圧値を予め設定するハロ
ゲンガス分圧設定手段と、前記レーザチャンバ内のハロ
ゲンガス分圧を検出するハロゲンガス分圧検出手段と、
このハロゲンガス分圧検出手段の検出値が前記ハロゲン
ガス分圧設定手段の設定値となるように前記ガス補給手
段を制御してハロゲンガスを補給制御する制御手段とを
具える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ステッパ方式や
ステップ＆スキャン方式の縮小投影露光装置の光源など
として用いられるエキシマレーザ装置に関し、特にその
レーザチャンバ内にハロゲンガスを含むレーザガスを充
填してレーザパルス発振を行うエキシマレーザ装置のガ
ス供給制御装置及び方法に関する。
ステップ＆スキャン方式の縮小投影露光装置の光源など
として用いられるエキシマレーザ装置に関し、特にその
レーザチャンバ内にハロゲンガスを含むレーザガスを充
填してレーザパルス発振を行うエキシマレーザ装置のガ
ス供給制御装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
ハロゲンガスを用いてエキシマレーザ装置を運転する場
合、運転にしたがって電極材料の蒸発、レーザチャンバ
構成材料との化学反応によりハロゲンガスが消費され
る。したがって、従来はハロゲンガスの消耗によるレー
ザ出力の低下を補うために次のような制御を行うように
していた。
ハロゲンガスを用いてエキシマレーザ装置を運転する場
合、運転にしたがって電極材料の蒸発、レーザチャンバ
構成材料との化学反応によりハロゲンガスが消費され
る。したがって、従来はハロゲンガスの消耗によるレー
ザ出力の低下を補うために次のような制御を行うように
していた。
【０００３】すなわち、レーザの出力はレーザを励起す
るためにコンデンサに蓄積しておいた電気エネルギーを
放電空間に投入してレーザ媒質ガス中で放電することに
より得るが、このコンデンサの充電電圧を大きくすると
レーザ出力は増加する。従って、従来においてはレーザ
出力を検出し、この検出にしたがって充電電圧値を制御
することでレーザ出力を安定化するようにしている。な
お、この制御は通常パワーロック制御という。
るためにコンデンサに蓄積しておいた電気エネルギーを
放電空間に投入してレーザ媒質ガス中で放電することに
より得るが、このコンデンサの充電電圧を大きくすると
レーザ出力は増加する。従って、従来においてはレーザ
出力を検出し、この検出にしたがって充電電圧値を制御
することでレーザ出力を安定化するようにしている。な
お、この制御は通常パワーロック制御という。
【０００４】しかしながら、この制御によっても長時間
の運転を続けているとハロゲンガスの消耗によって発振
効率が低下し、次第に充電電圧（パワーロック電圧）を
高くしていかないと所定の出力を維持できなくなる。
の運転を続けているとハロゲンガスの消耗によって発振
効率が低下し、次第に充電電圧（パワーロック電圧）を
高くしていかないと所定の出力を維持できなくなる。
【０００５】係る不具合を解消すべく特開平３−１６６
７８３号公報においては、各充電電圧値毎に発振効率
（投入電力に対する出力レーザエネルギーの割合）を最
大にするレーザガス圧力値が各別に存在することに着目
し、レーザ発振の進行に対応して充電電圧が上昇してい
くに伴い、発振効率が最大値を維持するように充電電圧
及びレーザガス圧力を制御するようにしている。
７８３号公報においては、各充電電圧値毎に発振効率
（投入電力に対する出力レーザエネルギーの割合）を最
大にするレーザガス圧力値が各別に存在することに着目
し、レーザ発振の進行に対応して充電電圧が上昇してい
くに伴い、発振効率が最大値を維持するように充電電圧
及びレーザガス圧力を制御するようにしている。
【０００６】すなわちこの従来技術は、レーザの発振効
率を主眼とし、この発振効率が常に最大値を維持するよ
うに充電電圧及びレーザガス圧力を制御しようとするも
のである。
率を主眼とし、この発振効率が常に最大値を維持するよ
うに充電電圧及びレーザガス圧力を制御しようとするも
のである。
【０００７】この従来技術による手法は、エキシマレー
ザをレーザ出力をできるだけ大きくする事が最も重要で
ある加工に用いる場合は、有効な方法となる。
ザをレーザ出力をできるだけ大きくする事が最も重要で
ある加工に用いる場合は、有効な方法となる。
【０００８】しかしながら、エキシマレーザをステッパ
方式やステップ＆スキャン方式の縮小投影露光装置に利
用する場合は、各パルスのレーザ出力をいかに大きくす
る（発振効率を上げる）かということが問題になるので
はなく、いかに均一な出力のパルス光を得るようにする
ことが、最も大きな目的となる。
方式やステップ＆スキャン方式の縮小投影露光装置に利
用する場合は、各パルスのレーザ出力をいかに大きくす
る（発振効率を上げる）かということが問題になるので
はなく、いかに均一な出力のパルス光を得るようにする
ことが、最も大きな目的となる。
【０００９】すなわち、上記従来技術によれば、均一な
レーザ出力を得ることを主眼として、充電電圧制御及び
レーザガス供給制御が行われていないために、露光精度
を今１つ向上させることが不可能である。
レーザ出力を得ることを主眼として、充電電圧制御及び
レーザガス供給制御が行われていないために、露光精度
を今１つ向上させることが不可能である。
【００１０】この発明はこのような実情に鑑みてなされ
たもので、均一なパルス光出力を得ることができるエキ
シマレーザ装置のガス供給制御装置及び方法を提供する
ことを目的とする。
たもので、均一なパルス光出力を得ることができるエキ
シマレーザ装置のガス供給制御装置及び方法を提供する
ことを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段及び作用効果】この発明で
は、ハロゲンガスを含むレーザガスをレーザチャンバ内
に封入し、このレーザチャンバ内でパルス放電を行うこ
とにより前記レーザガスを励起してパルスレーザ発振を
行うエキシマレーザ装置において、前記レーザチャンバ
に前記レーザガスを補給するガス補給手段と、 前記各
パルスレーザ発振光の出力エネルギーのばらつきが略最
小となるハロゲンガス分圧値を予め設定するハロゲンガ
ス分圧設定手段と、前記レーザチャンバ内のハロゲンガ
ス分圧を検出するハロゲンガス分圧検出手段と、このハ
ロゲンガス分圧検出手段の検出値が前記ハロゲンガス分
圧設定手段の設定値となるように前記ガス補給手段を制
御してハロゲンガスを補給制御する制御手段とを具える
ようにする。
は、ハロゲンガスを含むレーザガスをレーザチャンバ内
に封入し、このレーザチャンバ内でパルス放電を行うこ
とにより前記レーザガスを励起してパルスレーザ発振を
行うエキシマレーザ装置において、前記レーザチャンバ
に前記レーザガスを補給するガス補給手段と、 前記各
パルスレーザ発振光の出力エネルギーのばらつきが略最
小となるハロゲンガス分圧値を予め設定するハロゲンガ
ス分圧設定手段と、前記レーザチャンバ内のハロゲンガ
ス分圧を検出するハロゲンガス分圧検出手段と、このハ
ロゲンガス分圧検出手段の検出値が前記ハロゲンガス分
圧設定手段の設定値となるように前記ガス補給手段を制
御してハロゲンガスを補給制御する制御手段とを具える
ようにする。
【００１２】係る発明によれば、各パルス発振光の出力
エネルギーを優先させるのではなく、各出力エネルギー
のばらつきの抑制を最優先させてハロゲンガス供給制御
を行うようにする。すなわち、レーザ出力のばらつきが
略最小となるハロゲンガス分圧を目指してハロゲンガス
供給制御を行うようにする。
エネルギーを優先させるのではなく、各出力エネルギー
のばらつきの抑制を最優先させてハロゲンガス供給制御
を行うようにする。すなわち、レーザ出力のばらつきが
略最小となるハロゲンガス分圧を目指してハロゲンガス
供給制御を行うようにする。
【００１３】したがって、この発明では、各パルス発振
光の出力ばらつきが最小限に抑制させることができ、本
発明のエキシマレーザ装置を半導体の縮小投影露光を行
う縮小投影露光装置用など光源に適用するようにすれ
ば、高精度の露光処理をなし得ることが可能になる。
光の出力ばらつきが最小限に抑制させることができ、本
発明のエキシマレーザ装置を半導体の縮小投影露光を行
う縮小投影露光装置用など光源に適用するようにすれ
ば、高精度の露光処理をなし得ることが可能になる。
【００１４】またこの発明では、ハロゲンガスを含むレ
ーザガスをレーザチャンバ内に封入し、このレーザチャ
ンバ内でパルス放電を行うことにより前記レーザガスを
励起してパルスレーザ発振を行うエキシマレーザ装置に
おいて、前記レーザチャンバに前記レーザガスを補給す
るガス補給手段と、 前記パルスレーザ発振光の発振回
数を計数する発振回数計数手段と、この発振回数の計数
値が予め設定された所定値に達すると前記ガス補給手段
を制御してハロゲンガスを補給制御する制御手段とを具
えるようにする。
ーザガスをレーザチャンバ内に封入し、このレーザチャ
ンバ内でパルス放電を行うことにより前記レーザガスを
励起してパルスレーザ発振を行うエキシマレーザ装置に
おいて、前記レーザチャンバに前記レーザガスを補給す
るガス補給手段と、 前記パルスレーザ発振光の発振回
数を計数する発振回数計数手段と、この発振回数の計数
値が予め設定された所定値に達すると前記ガス補給手段
を制御してハロゲンガスを補給制御する制御手段とを具
えるようにする。
【００１５】かかる発明によれば、ハロゲンガス減少量
と正の相関を有するパルス発振回数を計数し、この計数
値が所定値に達した場合にハロゲンガスを補給するよう
にしてレーザ出力のばらつきが略最小となるハロゲンガ
ス分圧値を所定の許容限界範囲内で維持するようにして
いる。
と正の相関を有するパルス発振回数を計数し、この計数
値が所定値に達した場合にハロゲンガスを補給するよう
にしてレーザ出力のばらつきが略最小となるハロゲンガ
ス分圧値を所定の許容限界範囲内で維持するようにして
いる。
【００１６】したがって、この発明によれば、各パルス
発振光の出力ばらつきが最小値近くの許容範囲内に抑制
することができ、本発明のエキシマレーザ装置を半導体
の縮小投影露光を行う縮小投影露光装置用など光源に適
用するようにすれば、高精度の露光処理をなし得ること
が可能になる。
発振光の出力ばらつきが最小値近くの許容範囲内に抑制
することができ、本発明のエキシマレーザ装置を半導体
の縮小投影露光を行う縮小投影露光装置用など光源に適
用するようにすれば、高精度の露光処理をなし得ること
が可能になる。
【００１７】またこの発明では、ハロゲンガスを含むレ
ーザガスをレーザチャンバ内に封入し、このレーザチャ
ンバ内でパルス放電を行うことにより前記レーザガスを
励起してパルスレーザ発振を行うエキシマレーザ装置に
おいて、前記レーザチャンバに前記レーザガスを補給す
るガス補給手段と、パルス発振開始後、予め設定された
所定の時間間隔でガス補給信号を出力する計時手段と、
前記計時手段からガス補給信号が出力される度に、前記
ガス補給手段を制御してハロゲンガスを補給制御する制
御手段とを具えるようにしている。また、ハロゲンガス
を補給する際に、 前回ハロゲンガスを補給してから今
回ハロゲンガスを補給する迄の間のレーザパルスの発振
回数を計数し、この計数値に応じてハロゲンガスの補給
量を調整することもできる。
ーザガスをレーザチャンバ内に封入し、このレーザチャ
ンバ内でパルス放電を行うことにより前記レーザガスを
励起してパルスレーザ発振を行うエキシマレーザ装置に
おいて、前記レーザチャンバに前記レーザガスを補給す
るガス補給手段と、パルス発振開始後、予め設定された
所定の時間間隔でガス補給信号を出力する計時手段と、
前記計時手段からガス補給信号が出力される度に、前記
ガス補給手段を制御してハロゲンガスを補給制御する制
御手段とを具えるようにしている。また、ハロゲンガス
を補給する際に、 前回ハロゲンガスを補給してから今
回ハロゲンガスを補給する迄の間のレーザパルスの発振
回数を計数し、この計数値に応じてハロゲンガスの補給
量を調整することもできる。
【００１８】係る発明によれば、ハロゲンガス減少量と
正の相関を有するレーザ発振時間を計時し、この計時値
が所定値に達する度にハロゲンガスを補給するようにし
てレーザ出力のばらつきが略最小となるハロゲンガス分
圧値を所定の許容範囲内で維持するようにしている。
正の相関を有するレーザ発振時間を計時し、この計時値
が所定値に達する度にハロゲンガスを補給するようにし
てレーザ出力のばらつきが略最小となるハロゲンガス分
圧値を所定の許容範囲内で維持するようにしている。
【００１９】したがって、この発明によれば、各パルス
発振光の出力ばらつきが最小値近くの許容範囲内に抑制
することができ、本発明のエキシマレーザ装置を半導体
の縮小投影露光を行う縮小投影露光装置用など光源に適
用するようにすれば、高精度の露光処理をなし得ること
が可能になる。
発振光の出力ばらつきが最小値近くの許容範囲内に抑制
することができ、本発明のエキシマレーザ装置を半導体
の縮小投影露光を行う縮小投影露光装置用など光源に適
用するようにすれば、高精度の露光処理をなし得ること
が可能になる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施例を添付図
面に従って詳細に説明する。
面に従って詳細に説明する。
【００２１】まず、図２を用いて本発明の要部の概略に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００２２】図２は、ＫｒＦエキシマレーザにおいて、
レーザ電源電圧を一定にした状態でのフッ素ガス分圧Ｐ
F2に対応する出力レーザ光エネルギーＥおよび出力レー
ザ光エネルギーのばらつき（標準偏差）σを示したもの
である。すなわち、フッ素ガス分圧ＰF2（レーザチャン
バ内のＦ2ガスのモル濃度に比例）を横軸にして、出力
レーザ光エネルギーＥおよび出力レーザ光エネルギーの
ばらつき（標準偏差）σを縦軸に示している。
レーザ電源電圧を一定にした状態でのフッ素ガス分圧Ｐ
F2に対応する出力レーザ光エネルギーＥおよび出力レー
ザ光エネルギーのばらつき（標準偏差）σを示したもの
である。すなわち、フッ素ガス分圧ＰF2（レーザチャン
バ内のＦ2ガスのモル濃度に比例）を横軸にして、出力
レーザ光エネルギーＥおよび出力レーザ光エネルギーの
ばらつき（標準偏差）σを縦軸に示している。
【００２３】この図２によれば、レーザ出力Ｅは、Ｆ2
分圧がＰ1のときに最大値をとり（効率が最大）、この
分圧値Ｐ1よりも低い分圧では単調増加で、この分圧値
Ｐ1より高い分圧では単調減少となる。
分圧がＰ1のときに最大値をとり（効率が最大）、この
分圧値Ｐ1よりも低い分圧では単調増加で、この分圧値
Ｐ1より高い分圧では単調減少となる。
【００２４】一方、レーザ出力のばらつきσは、Ｆ2分
圧がＰ2のときに最小値をとり、この分圧値Ｐ2よりも低
い分圧では単調減少で、この分圧値Ｐ2より高い分圧で
は単調増加となる。
圧がＰ2のときに最小値をとり、この分圧値Ｐ2よりも低
い分圧では単調減少で、この分圧値Ｐ2より高い分圧で
は単調増加となる。
【００２５】この図２において、本願発明者が着目した
現象はＰ1≠Ｐ2となる点であり、本願発明では、レーザ
出力（発振効率）は多少犠牲にしても、出力ばらつきσ
を最小にするフッ素分圧値Ｐ2を最優先の目標値として
Ｆ2ガス供給制御を行うようにする。
現象はＰ1≠Ｐ2となる点であり、本願発明では、レーザ
出力（発振効率）は多少犠牲にしても、出力ばらつきσ
を最小にするフッ素分圧値Ｐ2を最優先の目標値として
Ｆ2ガス供給制御を行うようにする。
【００２６】ここで、図２において、σcは出力ばらつ
きの許容限界値（許容上限値）であり、この許容限界値
σcに対応するＦ2分圧には、ＰMIN及びＰMAXの２つの値
がある。従って、出力ばらつきσが常にσcより小さく
なるように制御するためには、Ｆ2分圧値ＰF2がＰMINと
ＰMAXの間の値となるように制御する必要がある。
きの許容限界値（許容上限値）であり、この許容限界値
σcに対応するＦ2分圧には、ＰMIN及びＰMAXの２つの値
がある。従って、出力ばらつきσが常にσcより小さく
なるように制御するためには、Ｆ2分圧値ＰF2がＰMINと
ＰMAXの間の値となるように制御する必要がある。
【００２７】しかし、図２に示す出力ばらつきσはリニ
アな関係ではないため、前記制御の際に、出力ばらつき
値σがσcに近い値になった場合、この状態がフッ素分
圧がＰMIN及びＰMAXの何れに近い状態であるかを判断し
ないことには、Ｆ2ガスを供給すべきか否かを決定する
ことができない。すなわち、Ｆ2分圧がＰMINより小さい
ときにはＦ2ガスを供給する必要があり、Ｆ2分圧がＰMA
Xより大きいときはＦ2ガスを供給する必要はない。
アな関係ではないため、前記制御の際に、出力ばらつき
値σがσcに近い値になった場合、この状態がフッ素分
圧がＰMIN及びＰMAXの何れに近い状態であるかを判断し
ないことには、Ｆ2ガスを供給すべきか否かを決定する
ことができない。すなわち、Ｆ2分圧がＰMINより小さい
ときにはＦ2ガスを供給する必要があり、Ｆ2分圧がＰMA
Xより大きいときはＦ2ガスを供給する必要はない。
【００２８】このように、出力ばらつきσをモニタして
いたのでは、現在のＦ2分圧の状態を把握することがで
きないので、本装置においては、Ｆ2ガス分圧をモニタ
するようにする。なお、Ｆ2ガス分圧は実際にはモニタ
不可能なので、本実施例ではＦ2分圧と正の相関を有す
る発振レーザのスペクトル幅Δλを代替モニタパラメー
タとして採用するようにしている。
いたのでは、現在のＦ2分圧の状態を把握することがで
きないので、本装置においては、Ｆ2ガス分圧をモニタ
するようにする。なお、Ｆ2ガス分圧は実際にはモニタ
不可能なので、本実施例ではＦ2分圧と正の相関を有す
る発振レーザのスペクトル幅Δλを代替モニタパラメー
タとして採用するようにしている。
【００２９】すなわち、図３はフッ素分圧ＰF2とスペク
トル幅Δλの関係を示すもので、スペクトル幅Δλはフ
ッ素分圧ＰF2とほぼ比例関係となっている。したがっ
て、図２のＰMIN値およびＰMAX値に対応するスペクトル
幅Δλ1およびΔλ2を予め実験などで調べてこれを登録
しておき、スペクトル幅の検出値Δλが上記下限値Δλ
1と上限値Δλ2の間に入るようにハロゲンガスの供給制
御を行うようにして、出力ばらつきσを許容範囲内に維
持するようにする。
トル幅Δλの関係を示すもので、スペクトル幅Δλはフ
ッ素分圧ＰF2とほぼ比例関係となっている。したがっ
て、図２のＰMIN値およびＰMAX値に対応するスペクトル
幅Δλ1およびΔλ2を予め実験などで調べてこれを登録
しておき、スペクトル幅の検出値Δλが上記下限値Δλ
1と上限値Δλ2の間に入るようにハロゲンガスの供給制
御を行うようにして、出力ばらつきσを許容範囲内に維
持するようにする。
【００３０】図４はこの発明を適用する狭帯域化エキシ
マレーザを示すものである。
マレーザを示すものである。
【００３１】図４において、エキシマレーザ１のレーザ
チャンバ２は図示しない放電電極等を有し、レーザチャ
ンバ２内には、Ｆ2などのハロゲンガス、Ｋｒなどの稀
ガス、Ｎｅなどのバッファガスが封入されており、これ
らレーザガスを放電電極間の放電によって励起させてレ
ーザパルス発振を行う。発光したパルス光は狭帯域化ユ
ニット６（この場合はプリズムビームエキスパンダ３，
４、グレーティング５が含まれる）によって狭帯域化さ
れて、再びレーザチャンバ２に戻って増幅され、部分透
過ミラー７を介して発振レーザ光Ｌとして出力される。
出力された一部の光は再びレーザチャンバ２に戻りレー
ザ発振が起こる。
チャンバ２は図示しない放電電極等を有し、レーザチャ
ンバ２内には、Ｆ2などのハロゲンガス、Ｋｒなどの稀
ガス、Ｎｅなどのバッファガスが封入されており、これ
らレーザガスを放電電極間の放電によって励起させてレ
ーザパルス発振を行う。発光したパルス光は狭帯域化ユ
ニット６（この場合はプリズムビームエキスパンダ３，
４、グレーティング５が含まれる）によって狭帯域化さ
れて、再びレーザチャンバ２に戻って増幅され、部分透
過ミラー７を介して発振レーザ光Ｌとして出力される。
出力された一部の光は再びレーザチャンバ２に戻りレー
ザ発振が起こる。
【００３２】例えば、ガス補給またはガス交換の際に、
レーザチャンバ内のＦ2分圧をＰMAXよりも若干低い分圧
値に設定するようにしておけば、レーザ発振回数の増加
にともなってハロゲンガスは減少するので、これに対応
してばらつき値σは図２のσ曲線上を矢印Ｆにそって移
動することになる。すなわち、σはＰMAXよりも若干低
い分圧値に対応する値から減少し続けて極小値σMINに
達した後、増加し始めるので、その後にσ＝σcに達し
たときに、Ｆ2ガスを供給するようにすれば、出力ばら
つき値σをσc以下に制御することができる。
レーザチャンバ内のＦ2分圧をＰMAXよりも若干低い分圧
値に設定するようにしておけば、レーザ発振回数の増加
にともなってハロゲンガスは減少するので、これに対応
してばらつき値σは図２のσ曲線上を矢印Ｆにそって移
動することになる。すなわち、σはＰMAXよりも若干低
い分圧値に対応する値から減少し続けて極小値σMINに
達した後、増加し始めるので、その後にσ＝σcに達し
たときに、Ｆ2ガスを供給するようにすれば、出力ばら
つき値σをσc以下に制御することができる。
【００３３】発振されたレーザ光Ｌは、ビームスプリッ
タ８によってその一部がサンプリングされた後、エタロ
ン分光器９に入射され、ラインセンサなどで構成される
受光素子１０に入射され、同心円状のフリンジパターン
を形成する。エタロン分光器９には、予め波長が既知の
基準光も入射されており、ＣＰＵ１１は受光素子１０に
形成される基準光及びレーザ光Ｌのフリンジパターンを
比較することにより、出力レーザ光Ｌの波長及びスペク
トル幅Δλなどを計測する。ＣＰＵ１１は、該計測した
波長およびスペクトル幅データを波長コントローラ１２
に出力する。波長コントローラ１２は、入力された波長
およびスペクトル幅データに基づいてグレーティング５
の角度を変えることにより、波長選択素子であるグレー
ティング５への光入射角度を変えて、レーザ発振波長を
調整制御する。また、ＣＰＵ１１は、計測したスペクト
ル幅Δλを前述した２つの閾値Δλ1，Δλ2と比較し、
この比較結果に基づきガス補給装置１７によるハロゲン
ガス補給制御を実行させる。
タ８によってその一部がサンプリングされた後、エタロ
ン分光器９に入射され、ラインセンサなどで構成される
受光素子１０に入射され、同心円状のフリンジパターン
を形成する。エタロン分光器９には、予め波長が既知の
基準光も入射されており、ＣＰＵ１１は受光素子１０に
形成される基準光及びレーザ光Ｌのフリンジパターンを
比較することにより、出力レーザ光Ｌの波長及びスペク
トル幅Δλなどを計測する。ＣＰＵ１１は、該計測した
波長およびスペクトル幅データを波長コントローラ１２
に出力する。波長コントローラ１２は、入力された波長
およびスペクトル幅データに基づいてグレーティング５
の角度を変えることにより、波長選択素子であるグレー
ティング５への光入射角度を変えて、レーザ発振波長を
調整制御する。また、ＣＰＵ１１は、計測したスペクト
ル幅Δλを前述した２つの閾値Δλ1，Δλ2と比較し、
この比較結果に基づきガス補給装置１７によるハロゲン
ガス補給制御を実行させる。
【００３４】一方、前記ビームスプリッタ８を透過した
レーザ光は、ビームスプリッタ１３でさらのその一部が
サンプリングされて受光素子１４に入射される。ＣＰＵ
１５では、受光素子１４の受光出力に基づいて各パルス
発振の光エネルギーＰiを検出し、この出力Ｐiに基づい
てレーザ電源回路１６を制御する。レーザ電源回路１６
では電源電圧Ｖiが制御される。
レーザ光は、ビームスプリッタ１３でさらのその一部が
サンプリングされて受光素子１４に入射される。ＣＰＵ
１５では、受光素子１４の受光出力に基づいて各パルス
発振の光エネルギーＰiを検出し、この出力Ｐiに基づい
てレーザ電源回路１６を制御する。レーザ電源回路１６
では電源電圧Ｖiが制御される。
【００３５】図５はガス補給装置１７の各種具体例を示
すものである。
すものである。
【００３６】以下、この発明の実施例を添付図面に従っ
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００３７】図５(a)〜(d)においては、２つのガスボン
ベ２０，２１が用いられ、一方のガスボンベ２０には、
Ｆ2，Ｋｒ，Ｎｅが、α：ｂ：ｃ（α＝ｎ・ａ，ｎ＞
１）のモル比で充填されており、他方のガスボンベ２１
にはＫｒ，Ｎｅがｂ：ｃのモル比で充填されている。
ベ２０，２１が用いられ、一方のガスボンベ２０には、
Ｆ2，Ｋｒ，Ｎｅが、α：ｂ：ｃ（α＝ｎ・ａ，ｎ＞
１）のモル比で充填されており、他方のガスボンベ２１
にはＫｒ，Ｎｅがｂ：ｃのモル比で充填されている。
【００３８】すなわち、レーザチャンバ２へレーザガス
を注入する際には（真空状態のレーザチャンバへガスを
初期充填するとき、または出力ばらつきσが許容範囲外
となってガスを途中補給するとき）、２つのガスボンベ
２０、２１から所定量のガスをレーザチャンバ２へ注入
することで、ガスボンベ２０から注入されるＦ2ガスが
他方のボンベ２１から注入されるガスによって希釈され
て、結果的にレーザチャンバ２内の混合ガスが理想的な
混合比ａ：ｂ：ｃとなるようにしている。なお、ガスを
途中補給する際に、ガスボンベ２０のみから補給するよ
うにしても同様の効果を得ることができる。
を注入する際には（真空状態のレーザチャンバへガスを
初期充填するとき、または出力ばらつきσが許容範囲外
となってガスを途中補給するとき）、２つのガスボンベ
２０、２１から所定量のガスをレーザチャンバ２へ注入
することで、ガスボンベ２０から注入されるＦ2ガスが
他方のボンベ２１から注入されるガスによって希釈され
て、結果的にレーザチャンバ２内の混合ガスが理想的な
混合比ａ：ｂ：ｃとなるようにしている。なお、ガスを
途中補給する際に、ガスボンベ２０のみから補給するよ
うにしても同様の効果を得ることができる。
【００３９】また、ガス補給の際、レーザチャンバ内ガ
スの全圧が上昇し過ぎた際には、排気バルブ２２を開い
てガスの一部を排気してレーザチャンバ内の全圧が所定
圧を維持できるように調整するようにしている。
スの全圧が上昇し過ぎた際には、排気バルブ２２を開い
てガスの一部を排気してレーザチャンバ内の全圧が所定
圧を維持できるように調整するようにしている。
【００４０】図５(a)においては、オンオフバルブ２
３，２４によってガスの供給制御を行うようにしており
オンオフバルブ２３，２４の開閉時間を調整することに
より、ガス流量を調整するようにしている。
３，２４によってガスの供給制御を行うようにしており
オンオフバルブ２３，２４の開閉時間を調整することに
より、ガス流量を調整するようにしている。
【００４１】図５(b)においては、ガスの供給路にサブ
タンク２５，２６を設けるとともに、サブタンク２５，
２６の下流側にオンオフバルブ２７，２８を設けるよう
にしている。
タンク２５，２６を設けるとともに、サブタンク２５，
２６の下流側にオンオフバルブ２７，２８を設けるよう
にしている。
【００４２】図５(c)においては、ガスの供給路にマス
フローコントローラ（質量流量制御装置）２９，３０を
設けるようにしている。このマスフローコントローラ２
９，３０は、質量流量が所望の一定値になるように通過
するガス量を制御するものである。この図５(c)の構成
の場合、マスフローコントローラ２９，３０の流量を一
定に設定しておいてオンオフバルブ２３，２４の開閉時
間を調整することによりガス流量を高精度に制御するこ
とが可能になる。なお、オンオフバルブ２３，２４を省
略してマスフローコントローラ２９，３０のみによてガ
ス流量を制御するようにしてもよい。
フローコントローラ（質量流量制御装置）２９，３０を
設けるようにしている。このマスフローコントローラ２
９，３０は、質量流量が所望の一定値になるように通過
するガス量を制御するものである。この図５(c)の構成
の場合、マスフローコントローラ２９，３０の流量を一
定に設定しておいてオンオフバルブ２３，２４の開閉時
間を調整することによりガス流量を高精度に制御するこ
とが可能になる。なお、オンオフバルブ２３，２４を省
略してマスフローコントローラ２９，３０のみによてガ
ス流量を制御するようにしてもよい。
【００４３】なお、ガス補給の際、ガスボンベ２１内の
ハロゲンガス分圧値が１％程度と小さい場合は、ガスボ
ンベ２１のみからレーザチャンバ２にハロゲンガスを含
むレーザガスを供給するようにしてもよい。この場合
は、ハロゲンガス濃度が薄いので、比較的大量のガスを
供給する必要があるので、レーザチャンバ２内の全圧の
上昇分が大きくなるので、排気を行うことで全圧の調整
を行う。
ハロゲンガス分圧値が１％程度と小さい場合は、ガスボ
ンベ２１のみからレーザチャンバ２にハロゲンガスを含
むレーザガスを供給するようにしてもよい。この場合
は、ハロゲンガス濃度が薄いので、比較的大量のガスを
供給する必要があるので、レーザチャンバ２内の全圧の
上昇分が大きくなるので、排気を行うことで全圧の調整
を行う。
【００４４】以下、図１のフローチャートにしたがって
ハロゲンガスの補給制御について説明する。
ハロゲンガスの補給制御について説明する。
【００４５】まず、ばらつきσの許容最大値σcに対応
するスペクトル幅Δλの下限値Δλ1およびΔλ2を適当
なる値に設定しこれを記憶させる。
するスペクトル幅Δλの下限値Δλ1およびΔλ2を適当
なる値に設定しこれを記憶させる。
【００４６】パルス発振が開始されると、ＣＰＵ１１は
パルス発振の度にスペクトル幅Δλを計測し、この計測
値Δλが前記設定した上下限値Δλ1，Δλ2の範囲に入
っているか否かを判定する（ステップ１３０）。そし
て、この判定によってΔλ1＜Δλ＜Δλ2が成立した場
合は、ハロゲンガス補給は必要ないので、手順をステッ
プ１２０に移行して次のパルス発振のスペクトル幅Δλ
を計測する。
パルス発振の度にスペクトル幅Δλを計測し、この計測
値Δλが前記設定した上下限値Δλ1，Δλ2の範囲に入
っているか否かを判定する（ステップ１３０）。そし
て、この判定によってΔλ1＜Δλ＜Δλ2が成立した場
合は、ハロゲンガス補給は必要ないので、手順をステッ
プ１２０に移行して次のパルス発振のスペクトル幅Δλ
を計測する。
【００４７】しかし、ステップ１３０の判定において、
Δλ≧Δλ2またはΔλ≦Δλ1が成立した場合は、次
に、Δλ≦Δλ1が成立するか否かを判定し（ステップ
１４０）、否である場合は（Δλ≧Δλ2の場合）、ハ
ロゲンガス補給を行わずに、手順をステップ１２０に移
行させてこれ以降次のパルス発振のスペクトル幅Δλを
計測する。
Δλ≧Δλ2またはΔλ≦Δλ1が成立した場合は、次
に、Δλ≦Δλ1が成立するか否かを判定し（ステップ
１４０）、否である場合は（Δλ≧Δλ2の場合）、ハ
ロゲンガス補給を行わずに、手順をステップ１２０に移
行させてこれ以降次のパルス発振のスペクトル幅Δλを
計測する。
【００４８】すなわち、Δλ≧Δλ2の場合はＦ2分圧が
ＰMAX以上であるという事であるので、Ｆ2ガス補給を行
わずにパルス発振を継続させることで、Ｆ2ガスを図２
の矢印Ｆにそって自然減少させ（レーザ発振によってＦ
2ガスがレーザ電極などの材料と反応してフッ化物とな
りＦ2ガス自体が減少する）、該Ｆ2ガスの自然減少によ
って出力ばらつきσを設定値σcより小さくするのであ
る。
ＰMAX以上であるという事であるので、Ｆ2ガス補給を行
わずにパルス発振を継続させることで、Ｆ2ガスを図２
の矢印Ｆにそって自然減少させ（レーザ発振によってＦ
2ガスがレーザ電極などの材料と反応してフッ化物とな
りＦ2ガス自体が減少する）、該Ｆ2ガスの自然減少によ
って出力ばらつきσを設定値σcより小さくするのであ
る。
【００４９】なお、Δλ≧Δλ2の場合の場合にハロゲ
ンガス補給を行うようにすれば、Ｆ2分圧は増大するの
で、出力ばらつきσは図２の矢印Ｒにそってさらに大き
くなることになる。
ンガス補給を行うようにすれば、Ｆ2分圧は増大するの
で、出力ばらつきσは図２の矢印Ｒにそってさらに大き
くなることになる。
【００５０】次に、Δλ≦Δλ1が成立した場合は、ガ
ス補給装置１７を制御してガス補給制御を実行すること
により、ハロゲンガスを補給することにより、出力ばら
つきσを図２の矢印Ｓにそって減少させる。ガス補給制
御においては、先の図５に示したガス補給装置１７によ
ってＦ2，Ｋｒ，Ｎｅの混合ガスをレーザチャンバ２内
に所定量補給する（ステップ１５０）。なお、この補給
の後、レーザチャンバ内の全圧ＰTが所定の設定圧Ｐth
より大きくなった場合は（ステップ１６０）、レーザチ
ャンバ２内のガスを排気するようにする（ステップ１７
０）。
ス補給装置１７を制御してガス補給制御を実行すること
により、ハロゲンガスを補給することにより、出力ばら
つきσを図２の矢印Ｓにそって減少させる。ガス補給制
御においては、先の図５に示したガス補給装置１７によ
ってＦ2，Ｋｒ，Ｎｅの混合ガスをレーザチャンバ２内
に所定量補給する（ステップ１５０）。なお、この補給
の後、レーザチャンバ内の全圧ＰTが所定の設定圧Ｐth
より大きくなった場合は（ステップ１６０）、レーザチ
ャンバ２内のガスを排気するようにする（ステップ１７
０）。
【００５１】このようにしてＦ2ガスの供給が終了する
と、手順をステップ１２０に移行させて再度次のパルス
発振のスペクトル幅Δλを計測するようにする。
と、手順をステップ１２０に移行させて再度次のパルス
発振のスペクトル幅Δλを計測するようにする。
【００５２】このようにこの実施例では、Δλ1＜Δλ
＜Δλ2が成立する場合は、Ｆ2ガスを供給しない。ま
た、Δλ≧Δλ2が成立したときも、Ｆ2ガスを供給しな
いでＦ2ガスの自然減少を待つ。しかし、Δλ＜Δλ1が
成立したときには、Ｆ2ガスの供給制御を実行する。
＜Δλ2が成立する場合は、Ｆ2ガスを供給しない。ま
た、Δλ≧Δλ2が成立したときも、Ｆ2ガスを供給しな
いでＦ2ガスの自然減少を待つ。しかし、Δλ＜Δλ1が
成立したときには、Ｆ2ガスの供給制御を実行する。
【００５３】なお、上記実施例では、ハロゲンガス分圧
を検出するためののパラメータとしてスペクトル幅Δλ
を採用するようにしたが、ハロゲンガス分圧と相関を有
するパラメータであれば他のパラメータを用いるように
してもよい。
を検出するためののパラメータとしてスペクトル幅Δλ
を採用するようにしたが、ハロゲンガス分圧と相関を有
するパラメータであれば他のパラメータを用いるように
してもよい。
【００５４】また、Ｆ2ガス量はレーザパルス発振の進
行にともなって減少するので、パルス発振回数またはパ
ルス発振時間をモニタし、そのモニタ結果によってハロ
ゲンガスの供給制御を行うようにしても良い。
行にともなって減少するので、パルス発振回数またはパ
ルス発振時間をモニタし、そのモニタ結果によってハロ
ゲンガスの供給制御を行うようにしても良い。
【００５５】すなわち、ガス補給を行った時点からのパ
ルス発振回数Ｎを計数し、この計数値Ｎが予め設定され
た所定値Ｎcに達した時に、その減少分のハロゲンガス
を補給することによってハロゲンガス分圧ＰF2をＰMAX
とＰMINの範囲内に維持するようにする。ハロゲンガス
の補給量は設定された値Ｎcに応じて適当なる値を設定
する。
ルス発振回数Ｎを計数し、この計数値Ｎが予め設定され
た所定値Ｎcに達した時に、その減少分のハロゲンガス
を補給することによってハロゲンガス分圧ＰF2をＰMAX
とＰMINの範囲内に維持するようにする。ハロゲンガス
の補給量は設定された値Ｎcに応じて適当なる値を設定
する。
【００５６】また、パルス発振時間Ｔに基づいてハロゲ
ンガス補給制御を行う場合には、パルス発振開始後、所
定の時間間隔Ｔをもってハロゲンガス補給を行うように
する。すなわち、ＣＰＵ１１では、パルス発振開始後予
め設定された所定の時間間隔Ｔでガス補給信号をガス補
給装置１７に出力するようにするとともに、ガス補給装
置１７はＣＰＵ１１からガス補給信号が出力される度に
ハロゲンガスを補給するようにする。また、この制御の
際、前回ハロゲンガスを補給してから今回ハロゲンガス
を補給する迄の間のレーザパルスの発振回数Ｎを計数
し、この計数値Ｎの大小に応じてハロゲンガスの補給量
を調整するようにすれば、より高精度のハロゲンガス補
給制御をなし得る。
ンガス補給制御を行う場合には、パルス発振開始後、所
定の時間間隔Ｔをもってハロゲンガス補給を行うように
する。すなわち、ＣＰＵ１１では、パルス発振開始後予
め設定された所定の時間間隔Ｔでガス補給信号をガス補
給装置１７に出力するようにするとともに、ガス補給装
置１７はＣＰＵ１１からガス補給信号が出力される度に
ハロゲンガスを補給するようにする。また、この制御の
際、前回ハロゲンガスを補給してから今回ハロゲンガス
を補給する迄の間のレーザパルスの発振回数Ｎを計数
し、この計数値Ｎの大小に応じてハロゲンガスの補給量
を調整するようにすれば、より高精度のハロゲンガス補
給制御をなし得る。
【００５７】なお、本発明は、ステッパ方式の縮小投影
露光装置およびステップ＆スキャン方式の縮小投影露光
装置の何れにも適用可能である。
露光装置およびステップ＆スキャン方式の縮小投影露光
装置の何れにも適用可能である。
【図１】この発明の実施例を示すフローチャート。
【図２】この発明の発想を説明するためのグラフ。
【図３】レーザスペクトル幅とハロゲンガス分圧値との
関係を示す図。
関係を示す図。
【図４】エキシマレーザ装置の構成例を示すブロック
図。
図。
【図５】ガス補給装置の各種構成例を示すブロック図。
１…エキシマレーザ装置 ２…レーザチャンバ ３、４…プリズムビームエキスパンダ ５…グレーティング ６…狭帯域化ユニット ７…部分透過ミラー ８，１３…ビームスプリッタ ９…エタロン分光器 １０，１４…受光素子 １１，１５…ＣＰＵ １２…波長コントローラ １７…ガス補給装置 ２０，２１…ガスボンベ ２３，２４…オンオフバルブ ２５，２６…サブタンク ２９，３０…マスフローコントローラ
Claims (13)
- 【請求項１】ハロゲンガスを含むレーザガスをレーザチ
ャンバ内に封入し、このレーザチャンバ内でパルス放電
を行うことにより前記レーザガスを励起してパルスレー
ザ発振を行うエキシマレーザ装置において、 前記レーザチャンバ内に前記レーザガスを補給するガス
補給手段と、 前記各パルスレーザ発振光の出力エネルギーのばらつき
が略最小となるハロゲンガス分圧値を予め設定するハロ
ゲンガス分圧設定手段と、 前記レーザチャンバ内のハロゲンガス分圧を検出するハ
ロゲンガス分圧検出手段と、 このハロゲンガス分圧検出手段の検出値が前記ハロゲン
ガス分圧設定手段の設定値となるように前記ガス補給手
段を制御してハロゲンガスを補給制御する制御手段と、 を具えるエキシマレーザ装置のガス供給制御装置。 - 【請求項２】ハロゲンガス分圧検出手段は、前記パルス
レーザ発振光のスペクトル幅を検出するものであり、 前記ハロゲンガス分圧設定手段は、各パルスレーザ発振
光の出力エネルギーのばらつきが略最小となるスペクト
ル幅を予め設定するものである請求項１記載のエキシマ
レーザ装置のガス供給制御装置。 - 【請求項３】ハロゲンガスを含むレーザガスをレーザチ
ャンバ内に封入し、このレーザチャンバ内でパルス放電
を行うことにより前記レーザガスを励起してパルスレー
ザ発振を行うエキシマレーザ装置において、 前記レーザチャンバに前記レーザガスを補給するガス補
給手段と、 前記パルスレーザ発振光の発振回数を計数する発振回数
計数手段と、 この発振回数の計数値が予め設定された所定値に達する
と前記ガス補給手段を制御してハロゲンガスを補給制御
する制御手段と、 を具えるエキシマレーザ装置のガス供給制御装置。 - 【請求項４】ハロゲンガスを含むレーザガスをレーザチ
ャンバ内に封入し、このレーザチャンバ内でパルス放電
を行うことにより前記レーザガスを励起してパルスレー
ザ発振を行うエキシマレーザ装置において、 前記レーザチャンバに前記レーザガスを補給するガス補
給手段と、 パルス発振開始後、予め設定された所定の時間間隔でガ
ス補給信号を出力する計時手段と、 前記計時手段からガス補給信号が出力される度に、前記
ガス補給手段を制御してハロゲンガスを補給制御する制
御手段と、 を具えるエキシマレーザ装置のガス供給制御装置。 - 【請求項５】前回ハロゲンガスを補給してから今回ハロ
ゲンガスを補給する迄の間のレーザパルスの発振回数を
計数する発振回数計数手段を具え、 前記制御手段は、前記発振回数計数手段の計数値に応じ
てハロゲンガスの補給量を調整する請求項４記載のエキ
シマレーザ装置のガス供給制御装置。 - 【請求項６】前記ガス補給手段は、ハロゲンガス、希ガ
ス及びバッファガスを含むガス供給源を有し、このガス
供給源内のハロゲンガスの分圧はレーザチャンバ内のハ
ロゲンガス分圧より大きな値に設定されるとともに、前
記ガス供給源内の希ガスとバッファガスの分圧比はレー
ザチャンバ内の希ガスとバッファガスの分圧比とほぼ同
じ値に設定されている請求項１または請求項３または請
求項４記載のエキシマレーザ装置のガス供給制御装置。 - 【請求項７】前記ガス補給手段は、ハロゲンガス、希ガ
ス及びバッファガスを含む第１のガス供給源と、希ガス
及びバッファガスを含む第２のガス供給源とを有し、第
１のガス供給源内のハロゲンガスの分圧はレーザチャン
バ内のハロゲンガス分圧より大きな値に設定されるとと
もに、第１及び第２のガス供給源内の希ガスとバッファ
ガスの分圧比は夫々レーザチャンバ内の希ガスとバッフ
ァガスの分圧比とほぼ同じ値に設定されている請求項１
または請求項３または請求項４記載のエキシマレーザ装
置のガス供給制御装置。 - 【請求項８】前記ガス補給手段は、ガス供給源からレー
ザチャンバへのガス供給路中にマスフローコントローラ
を有し、前記制御手段はこのマスフローコントローラを
制御してハロゲンガスを補給する請求項６または７記載
のエキシマレーザ装置のガス供給制御装置。 - 【請求項９】前記ガス補給手段は、ガス供給源からレー
ザチャンバへのガス供給路中にオンオフバルブを有し、
前記制御手段はこのオンオフバルブを制御してハロゲン
ガスを補給する請求項６または７記載のエキシマレーザ
装置のガス供給制御装置。 - 【請求項１０】前記ガス補給手段は、ガス供給源からレ
ーザチャンバへのガス供給路中にマスフローコントロー
ラおよびオンオフバルブを有し、前記制御手段は前記マ
スフローコントローラおよびオンオフバルブを制御して
ハロゲンガスを補給する請求項６または７記載のエキシ
マレーザ装置のガス供給制御装置。 - 【請求項１１】前記ガス補給手段は、ガス供給源からレ
ーザチャンバへのガス供給路中にサブタンクを具え、こ
のサブタンクからレーザチャンバにレーザガスを供給す
る請求項６または７記載のエキシマレーザ装置のガス供
給制御装置。 - 【請求項１２】前記ガス補給手段は、ガス供給源からレ
ーザチャンバへのガス供給路中にサブタンクを具え、こ
のサブタンクからレーザチャンバにレーザガスを供給す
る請求項８または請求項９または請求項１０記載のエキ
シマレーザ装置のガス供給制御装置。 - 【請求項１３】ハロゲンガスを含むレーザガスをレーザ
チャンバ内に封入し、このレーザチャンバ内でパルス放
電を行うことにより前記レーザガスを励起してパルスレ
ーザ発振を行うエキシマレーザ装置のガス供給制御方法
において、 前記各パルスレーザ発振光の出力エネルギーのばらつき
が略最小となるハロゲンガス分圧値を予め設定し、検出
したハロゲンガス分圧値が前記設定されたハロゲンガス
分圧値となるようにハロゲンガスの供給を行うようにし
たことを特徴とするエキシマレーザ装置のガス供給制御
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33219296A JP3779010B2 (ja) | 1996-12-12 | 1996-12-12 | エキシマレーザ装置のガス供給制御装置およびガス供給制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33219296A JP3779010B2 (ja) | 1996-12-12 | 1996-12-12 | エキシマレーザ装置のガス供給制御装置およびガス供給制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10173262A true JPH10173262A (ja) | 1998-06-26 |
| JP3779010B2 JP3779010B2 (ja) | 2006-05-24 |
Family
ID=18252209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33219296A Expired - Lifetime JP3779010B2 (ja) | 1996-12-12 | 1996-12-12 | エキシマレーザ装置のガス供給制御装置およびガス供給制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3779010B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017094459A1 (ja) * | 2015-12-01 | 2017-06-08 | ギガフォトン株式会社 | エキシマレーザ装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101523673B1 (ko) * | 2013-12-27 | 2015-05-28 | 에이피시스템 주식회사 | 레이저 조사 방법 및 레이저 조사 모듈 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03276686A (ja) * | 1990-03-27 | 1991-12-06 | Toshiba Corp | ガスレーザ装置 |
| JPH04334079A (ja) * | 1991-05-09 | 1992-11-20 | Mitsubishi Electric Corp | エキシマレーザ装置のガス供給方法 |
| JPH07183593A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-21 | Komatsu Ltd | エキシマレ−ザ装置のガス補給方法 |
| JPH07321389A (ja) * | 1994-05-24 | 1995-12-08 | Nec Corp | エキシマレーザ |
-
1996
- 1996-12-12 JP JP33219296A patent/JP3779010B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| WO2017094459A1 (ja) * | 2015-12-01 | 2017-06-08 | ギガフォトン株式会社 | エキシマレーザ装置 |
| JPWO2017094459A1 (ja) * | 2015-12-01 | 2018-09-27 | ギガフォトン株式会社 | エキシマレーザ装置 |
| US10673200B2 (en) | 2015-12-01 | 2020-06-02 | Gigaphoton Inc. | Excimer laser apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3779010B2 (ja) | 2006-05-24 |
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