JPH04334079A - エキシマレーザ装置のガス供給方法 - Google Patents

エキシマレーザ装置のガス供給方法

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JPH04334079A
JPH04334079A JP10302191A JP10302191A JPH04334079A JP H04334079 A JPH04334079 A JP H04334079A JP 10302191 A JP10302191 A JP 10302191A JP 10302191 A JP10302191 A JP 10302191A JP H04334079 A JPH04334079 A JP H04334079A
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JP
Japan
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gas
laser
halogen
rare
cylinder
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JP10302191A
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Tadao Minagawa
忠郎 皆川
Shungo Tsuboi
俊吾 坪井
Yoshifumi Matsushita
松下 嘉文
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はエキシマレーザ装置にレ
ーザガスを供給する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は、たとえば実開平1−14656
5号に示された従来のエキシマレーザ用ガス供給装置の
構造を示す説明図である。図中、1はレーザ筐体、2は
圧力計、3〜6、9〜17はいずれもバルブ、18はハ
ロゲンガスボンベ、19は第1の希ガスボンベ、20、
21は第2の希ガスボンベである。
【0003】この従来のガス供給装置においては、18
〜21の各ガスボンベから混合ガスの各成分ガスを別々
に供給し、圧力計2で調整して所定の濃度のガス混合比
になるようにガス充填が行なわれる。
【0004】その例としてKrF エキシマレーザのば
あいについて説明する。KrF エキシマレーザは、た
とえば表1に示されるガス混合比で運転される。この例
では、ハロゲンガスとしてF2 ガス、第1の希ガスと
してKrガス、第2の希ガスとしてNeガス(またはH
eガス)がそれぞれ用いられている。これらのガスを供
給するガス源の一例としては、(一般に)表2に示され
るガスが充填されたボンベが使用される。表2に示され
るガスボンベを使用するばあい、ボンベ18のガスを5
〜25%、ボンベ19のガスを1〜5%、バッファとし
てボンベ20のガスを充填すると表1に示した混合比に
なる。これらのガスの混合、充填は圧力計2の指示値に
したがって行なわれる。
【0005】
【表1】
【0006】
【表2】 以上のようにガスが充填されたのちに、レーザの定常運
転が行なわれる。
【0007】エキシマレーザは活性なハロゲンガスを含
むガス中で放電を行なうことによりレーザ光をえている
ので、定常運転にともなってハロゲンガスがレーザ装置
の部材と反応して減少する。このようにハロゲンガスが
減少した際には、ボンベ18のガスのみを再添加して、
減少したハロゲンガスの補充を行なうことによって適切
なガス混合比に回復させるという操作が行なわれる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来のガ
ス供給方法においては、レーザガス中の数種類のガス成
分をそれぞれ別のガスボンベから供給していたので、ガ
スの種類の数だけのガスボンベが必要であり、装置が非
常に複雑であった。さらにガスの混合は圧力計の指示値
にしたがって行なっていたので、各ガスを精度よく混合
するためには、非常に複雑な制御が必要であった。
【0009】またハロゲンガスは活性であり、ガスボン
ベ内で反応して濃度低下をおこしやすいが、従来のガス
供給方法ではガスボンベのガス濃度を不変とみなして圧
力のみを考慮して充填していたため、ボンベ内でガス濃
度が変化したばあいには精度がわるくなってしまうとい
う問題点があった。
【0010】さらには、前記のようにレーザの運転によ
りハロゲンガスが減少した際にハロゲンガスの補充を行
なうが、従来のように希ガスで2〜20%程度に希釈し
たガスボンベを使用すると、ハロゲンガス補充と同時に
希釈に用いた希ガスも添加され、結果的に希ガスの濃度
が適切な濃度を超過してしまい、最適条件からはずれ、
出力が充分に回復しなくなる。そのような状態がより顕
著になると全ガスの交換をしなければならないという問
題点もあった。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、ハロゲンガス
と第1の希ガスと第2の希ガスとからなり、それらの混
合比がa/b/cの混合ガスをレーザ媒質として用いる
エキシマレーザ装置にレーザガスを供給する方法であっ
て、ハロゲンガスと第1の希ガスと第2の希ガスとの混
合比が(n×a)/b/c(nは1<n<100 を満
たす数)の3成分混合ガスと、第1の希ガスと第2の希
ガスとの混合比がb/cの2成分混合ガスとを用いてレ
ーザガスを供給することを特徴とするエキシマレーザ装
置のガス供給方法および前記エキシマレーザ装置にハロ
ゲンガスを補給する方法であって、ハロゲンガスと第1
の希ガスと第2の希ガスとの混合比が(n×a)/b/
c(nは1<n<100を満たす数)の3成分混合ガス
を用いてハロゲンガスの補給を行なうことを特徴とする
エキシマレーザ装置のガス供給方法に関する。
【0012】
【作用】本発明におけるエキシマレーザ装置のガス供給
方法においては、3成分混合ガスのボンベと2成分混合
ガスのボンベの2種類のガスボンベからそれぞれ所定の
量のガスを供給することにより、レーザガスとして適切
な混合比が容易にえられる。
【0013】また、ハロゲンガス濃度を測定しながらガ
スを充填するので、ハロゲンガスの入っているボンベの
ハロゲンガス濃度が変動しても常に安定した混合比のレ
ーザガスを供給することができる。
【0014】
【実施例】以下本発明の一実施例を図1を用いて説明す
る。図中、1はレーザ筐体、2はレーザ筐体内に接続さ
れ、充填されたガスの圧力を指示する圧力計、3〜6は
いずれもレーザ筐体にガスを導入するためのバルブ、7
はレーザガスを構成するハロゲンガスと第1の希ガスと
第2の希ガスとからなる3成分混合ガスボンベ、8は同
じく第1の希ガスと第2の希ガスとからなる2成分混合
ガスボンベである。
【0015】本発明の方法では、レーザ筐体1にハロゲ
ンガス/第1の希ガス/第2の希ガスがa/b/cの混
合比(モル比、以下同様)のレーザガスを充填するため
に、ハロゲンガス/第1の希ガス/第2の希ガスが(n
×a)/b/c(nは1<n<100 を満たす数)の
混合比の3成分混合ガスが充填されたボンベ7と、第1
の希ガス/第2の希ガスがb/cの混合比の2成分混合
ガスが充填されたボンベ8が使用される。
【0016】前記nはボンベ7の3成分混合ガス中のハ
ロゲンガス濃度と、最終的な混合ガスであるレーザガス
中のハロゲンガス濃度の比を示す係数である。すなわち
、ボンベ7の3成分混合ガス中においては、その構成成
分であるハロゲンガス、第1の希ガス、第2の希ガスの
うち、ハロゲンガスのみがレーザガス中の濃度のn倍に
なっている。本発明においては1<n<100であるの
で、ボンベ7の3成分混合ガス中のハロゲンガス濃度は
レーザガス中のハロゲンガス濃度の設定値よりも高くな
っている。このようにボンベ7の3成分混合ガスはハロ
ゲンガスのみが高濃度になっているので、レーザ筐体に
ガスを充填して所定のガス混合比をうるために、レーザ
ガス中のハロゲンガス以外の構成成分である第1の希ガ
ス、第2の希ガスからなるボンベ8の2成分混合ガスに
よって希釈を行ない、最終的なレーザガスとしてはn=
1、つまりa/b/cとするものである。なお、このと
きボンベ7の3成分混合ガス、ボンベ8の2成分混合ガ
スのどちらにおいても、第1の希ガスと第2の希ガスの
混合比はb/cと一定であるので、ハロゲン濃度のみを
制御すればいかなるnであっても目的とする混合比のレ
ーザガスをうることができる。
【0017】前記の3成分混合ガスと2成分混合ガスに
よるガス充填におけるnの設定方法の詳細を以下に示す
【0018】ここでは説明を容易にするため、レーザガ
スに対する3成分混合ガスの比率を示す希釈率mを用い
る。mは次式にて表わされる。
【0019】
【数1】 レーザ装置のように、定温、定容であれば充填モル数は
充填圧力に比例するので、充填モル数を充填圧力として
もよい。実際の例で示すと、3成分混合ガス0.3at
m、2成分混合ガス2.7atmを充填して全圧3at
mとしたときには希釈率は
【0020】
【数2】 である。
【0021】ハロゲンガス/第1の希ガス/第2の希ガ
スの混合比がa/b/cであるレーザガスをうるために
、同じく混合比がna/b/cである3成分混合ガスと
混合比がb/cである2成分混合ガスを希釈率mにて充
填するばあいについて説明する。ここで、レーザガスの
全圧をPT、ハロゲンの分圧をPa、第1の希ガスの分
圧をPb、第2の希ガスの分圧をPcとする。
【0022】 PT=Pa+Pb+Pc Pa/Pb/Pc=a/b/c (上述したように、定温、定容ではモル比と分圧比は等
価である。)3成分混合ガスの充填比率すなわち希釈率
がmであるので、3成分混合ガスの充填圧力はPT・m
となる。一方、2成分混合ガスの充填圧力はPT・(1
−m)である。したがってレーザ筐体に充填されたレー
ザガス中における各ガスの分圧は
【0023】
【数3】 となる。よってPbとPcの比はPb/Pc=b/cと
なりn,m,a,b,c,PTにどのような値を用いて
も一定となる。つぎにnがどのように表わせるかを示す
【0024】ハロゲンガスの分圧Paは
【0025】
【数4】 であり、またレーザガス中のハロゲンガスの濃度比は

0026】
【数5】 であるので、nは
【0027】
【数6】 となる。
【0028】このようにa,b,c,mからnが求めら
れるので、レーザガスの組成と希釈率mを決めればnが
決まる。このときnを先に求めて希釈率mを求めてもよ
い。
【0029】つぎにnの範囲について説明する。
【0030】本発明においては1<n<100であるが
、nがこの範囲をはずれると下記のようになる。
【0031】n=1のばあい、ボンベ7の3成分混合ガ
スとレーザガスの組成がどちらもa/b/cとなりボン
ベ8の2成分混合ガスを加えなくとも、すでに所定のガ
ス濃度となっている(もし2成分混合ガスを加えると、
逆にハロゲンガス濃度が所定値より低くなってしまう)
。したがって2成分混合ガスは不要となり、3成分混合
ガスと2成分混合ガスを用いる本発明の効果がえられな
い。
【0032】n<1のばあい、3成分混合ガス中のハロ
ゲンガス濃度の方がレーザガス中のハロゲンガス濃度よ
り低くなるため、別途ハロゲンガスの注入を行なわない
限り所定の濃度比をえられない。したがってこのばあい
も本発明の効果がえられない。
【0033】n>100のばあい、本発明の方法にてガ
ス充填を行なうとボンベ7の3成分混合ガスをボンベ8
の2成分混合ガスで希釈することになる。nが大きくな
るとm(希釈率)≒nとなってくるので、3成分混合ガ
スの希釈率も約100以上となる。すると、3成分混合
ガスは充填量自体が少なくなるため充填量の制御の精度
がわるくなってしまう。圧力、流量、どちらの制御で3
成分ガスを充填してもm≒nが100以上では精度が著
しくわるくなる。
【0034】本発明の方法では、以上のような混合ガス
が充填されたボンベから、バルブを介してレーザガスの
供給が行なわれる。ガスの供給は圧力計2の指示値を読
み取り、レーザ筐体内のレーザガス濃度が適切になるよ
うに行なわれる。
【0035】具体例として、レーザ筐体1にF2 /K
r/Neが0.2 /2.0 /97.8(バッファ)
の混合比(以下、組成1という)のレーザガスを3at
mのガス圧で充填するばあいで、希釈率mを1/10に
設定したばあいについて説明する。このとき、3成分混
合ガスは
【0036】
【数7】 2成分混合ガスは 3(atm)−0.3(atm)=2.7(atm)で
ある。
【0037】この例では、前述の式よりnは
【0038
【数8】 となり、3成分混合ガスとして
【0039】
【数9】 の混合比のガスが用いられる。
【0040】前記操作の結果、筐体1中のF2 の分圧
は式:
【0041】
【数10】 で求められるように0.006 atmになり、Krの
分圧は式:
【0042】
【数11】 で求められるように0.06 atmになり、Neの分
圧は式:
【0043】
【数12】 で求められるように2.934 atmになる。
【0044】したがって、レーザ筐体1中のレーザガス
の組成は、F2 /Kr/Ne=0.006 /0.0
6/2.934 =0.2 /2.0 /97.8=a
/b/cとなる。
【0045】このように、本発明の方法によれば3種の
ガスからなるレーザガスを供給するために必要なボンベ
は2つになる。
【0046】つぎにハロゲンガスを補給する方法を説明
する。
【0047】すでに述べたように、従来のガス供給方法
ではハロゲンガスが減少した際にハロゲンガス濃度が適
切になるようにガスの補充を行なうと、希ガスも同時に
添加されてしまい、期待するガス混合比がえられないと
いう問題点があるが、本発明のガス供給方法によればそ
のようなことなく、ハロゲンガスの補充ができる。
【0048】たとえば前記組成1の混合比で3atm 
ガス充填してレーザの運転し、ハロゲンガス濃度が1/
2 になった時点でハロゲンガスの補充を行ない、補充
後も運転を続行して、再度ハロゲンガスが1/2 にな
ればハロゲンガスの補充を行なうばあい、このハロゲン
ガス補充を10回行なったときのレーザ筐体内のガス混
合比はつぎのようになる。なお、ガス補充によりレーザ
筐体内の圧力が上昇するので、補充後3atm までガ
スを筐体から放出する。
【0049】すなわち、前記組成1のレーザガスをレー
ザ媒質とするエキシマレーザ装置を運転し、ハロゲンガ
スが減少し、圧力計2が2.997atmを示すように
なった時点(ハロゲンガスが1/2 になり、F2 /
Kr/Neが0.1 /2.0 /97.8になった時
点)で、ガスボンベ7からF2 /Kr/Neが
【0050】
【数13】 の混合比のガスをレーザ筐体1内の圧力が3.165 
atmになるように補給し、そののちガスを抜いて3a
tmにする。この操作によりレーザ筐体1内のレーザガ
スの組成は、最初の組成1になる。これはハロゲンガス
の補給を何度繰返しても同じである。
【0051】これに対し、従来のようにハロゲンガスが
1/2 になり、F2 /Kr/Neが0.1 /2.
0 /97.8になった時点で、F2 /Neが2/9
8の混合比の混合ガスをレーザ筐体1内の圧力が3.1
65 気圧になるように補給し、そののちガスを抜いて
3気圧にすると、F2 の分圧は0.006 気圧、K
rの分圧は0.057 気圧、Neの分圧は2.934
 気圧になり、F2 /Kr/Neが0.2 /1.9
 /97.8になる。この操作をたとえば10回繰返す
とF2 /Kr/Neが0.2 /1.3 /98.5
になり、Krの割合が小さくなってしまう。
【0052】つぎに本発明の別の実施例を図2を用いて
説明する。図中、9はレーザ筐体1に接続され、レーザ
筐体1内のレーザガス中のハロゲンガス濃度を測定する
ハロゲンガス濃度測定装置であり、その他の部材は図1
と同様である。
【0053】前記実施例においては、ガスの混合比の制
御は圧力計の指示値にしたがって行なわれるが、本実施
例においては、ハロゲンガス濃度をハロゲンガス測定装
置9で測定することによって行なわれる。なお、圧力計
は使用してもよく、使用しなくてもよい。したがって、
ハロゲンガスがボンベ内で反応して濃度が減少しても、
常に正確なガス混合比で充填することができる。また、
最初にレーザガスを充填する際にもハロゲンガス濃度を
測定しながら充填することにより、正確なガス混合比で
充填することができる。
【0054】本発明に用いられるハロゲンガス、第1の
希ガス、第2の希ガスは、いずれも従来からエキシマレ
ーザ装置に用いられているものであり、とくに限定はな
い。また、レーザ筐体、圧力計、ハロゲンガス濃度測定
装置などにもとくに限定はない。
【0055】
【発明の効果】以上のように、供給するガスとして3成
分混合ガスと2成分混合ガスを用いる本発明の方法によ
ればガスボンベの数を少なくすることができ、レーザ装
置に最初にガスを充填する際の混合比の制御が非常に容
易となる。さらにハロゲンガスの補充に際しては、希ガ
スの混合比を変化させずに補充することができる。
【0056】さらにガスを充填、補充する際にハロゲン
ガスの濃度を測定するばあいには、高精度に制御された
混合比のレーザガスがえられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のエキシマレーザ装置のガス供給方法を
示す説明図である。
【図2】本発明のエキシマレーザ装置のガス供給方法を
示す説明図である。
【図3】従来のエキシマレーザ装置のガス供給方法を示
す説明図である。
【符号の説明】
1  レーザ筐体 2  圧力計 3  バルブ 4  バルブ 5  バルブ 6  バルブ 7  3成分混合ガスボンベ 8  2成分混合ガスボンベ 9  ハロゲンガス濃度測定装置

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  ハロゲンガスと第1の希ガスと第2の
    希ガスとの混合比がa/b/cの混合ガスをレーザ媒質
    として用いるエキシマレーザ装置にレーザガスを供給す
    る方法であって、ハロゲンガスと第1の希ガスと第2の
    希ガスとの混合比が(n×a)/b/c(nは1<n<
    100 を満たす数)の3成分混合ガスと、第1の希ガ
    スと第2の希ガスとの混合比がb/cの2成分混合ガス
    とを用いてレーザガスを供給することを特徴とするエキ
    シマレーザ装置のガス供給方法。
  2. 【請求項2】  レーザガスの供給がハロゲンガス濃度
    を測定しながら行なわれる請求項1記載のガス供給方法
  3. 【請求項3】  ハロゲンガスと第1の希ガスと第2の
    希ガスとの混合比がa/b/cの混合ガスをレーザ媒質
    として用いるエキシマレーザ装置にハロゲンガスを補給
    する方法であって、ハロゲンガスと第1の希ガスと第2
    の希ガスとの混合比が(n×a)/b/c(nは1<n
    <100 を満たす数)の3成分混合ガスを用いてハロ
    ゲンガスの補給を行なうことを特徴とするエキシマレー
    ザ装置のガス供給方法。
  4. 【請求項4】  ハロゲンガスの補給がハロゲンガス濃
    度を測定しながら行なわれる請求項3記載のガス供給方
    法。
JP10302191A 1991-05-09 1991-05-09 エキシマレーザ装置のガス供給方法 Pending JPH04334079A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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