JPH07310897A - ガス容器の使用方法 - Google Patents

ガス容器の使用方法

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JPH07310897A
JPH07310897A JP12680094A JP12680094A JPH07310897A JP H07310897 A JPH07310897 A JP H07310897A JP 12680094 A JP12680094 A JP 12680094A JP 12680094 A JP12680094 A JP 12680094A JP H07310897 A JPH07310897 A JP H07310897A
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JP
Japan
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gas
container
valve
container valve
atmosphere
Prior art date
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Pending
Application number
JP12680094A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanori Inoko
正憲 猪子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tsurumi Soda Co Ltd
Original Assignee
Tsurumi Soda Co Ltd
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Publication date
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  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ガス容器からガスを消費した後、ガス容器へ
ガスを充填するまでの間、容器弁を大気へ開放しないよ
うにすることにより、不純物の侵入を防ぐガス容器の使
用方法を提供すること。 【構成】 金属部分がハステロイにより構成された容器
弁では、ハステロイは酸化性環境における耐食性に優れ
ているため、腐食性ガスの消費後容器弁内を洗浄せずに
腐食性ガスを充填しても腐食は起こりにくい。この容器
弁が装着されたガス容器において、腐食性ガス消費後、
一部腐食性ガスを残留させた状態で容器弁内を減圧雰囲
気とするか又は不活性ガスでパージし、この後再び腐食
性ガスを充填すると、容器弁を大気に開放することなく
腐食性ガスを充填することができる。このため大気と容
器弁内部との接触を防いで、大気中に含まれる水分や重
金属類が容器弁内部へ侵入することを防ぐことができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガス容器の使用方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造プロセス等において、無水塩
化水素が使用されており、この無水塩化水素は通常鉄製
のガス容器に充填されている。従来ガス容器は、図3に
示すように、ガス容器Gとガス容器の開口部に装着され
た例えばステンレス製の容器弁91とから構成されてお
り、容器弁91は、ガス流路93及びガス流出口94を
備えた容器弁本体92と、ハンドル95に取り付けられ
たプラグ96とから構成され、ガス流出口94にはアウ
トレットキャップ97が配設されている。
【0003】このようなガス容器Gに塩化水素を充填す
る際には、容器弁91を開いておき、ガスの充填後に容
器弁91を閉じ、アウトレットキャップ97によりガス
流出口94を塞ぐようにしている。またガス容器内の塩
化水素ガスを使用する際には、容器弁91のアウトレッ
トキャップ97を外して、ガス流出口94に配管を接続
し、容器弁91のガス流路93を介してガス容器Gから
塩化水素ガスを消費するようにしており、ガス容器G内
の塩化水素ガスを消費した後は、ガス流出口94から配
管を外して、アウトレットキャップ97を取付け、この
後ガス容器G内に再び塩化水素ガスを充填するようにし
ていた。
【0004】塩化水素ガスは吸水性が強く水分が存在す
るとこの水分を吸収し塩酸となるが、この塩酸はステン
レスを腐食させる原因となることが知られている。ここ
で塩化水素ガスを消費した後の容器弁91内には塩化水
素ガスが残留しており、また上述のように容器弁91か
ら配管を外してアウトレットキャップ97を取付ける際
には大気が容器弁91内へ侵入する。従って、容器弁9
1内に残留する塩化水素ガスが大気中の水分を吸収して
塩酸となり、この塩酸により容器弁91内が腐食されて
しまうため、この腐食を抑えるため、新たに塩化水素を
充填する前に、容器弁91内を洗浄することが必要とな
る。
【0005】従って従来は、例えば工場等において塩化
水素ガスが消費された後は、ガス容器Gを回収し、ガス
容器Gから容器弁91を外して容器弁91を分解し、ガ
ス容器G内部と容器弁91内部を洗浄する等整備を行っ
てから、再び容器弁91をガス容器Gに装着し、アウト
レットキャップ97を外して、ガス流出口94に例えば
真空ポンプ等を接続して容器内部を真空引きした後、塩
化水素ガスを充填していた。
【0006】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら上述
のようにガス容器の整備を行うと、容器内部や容器弁内
部と空気とが接触するが、空気中には微量ながら水分や
重金属類が含まれているため、この接触によりこれらが
容器や容器弁内部に入り込むことになる。ここで水分は
上述のように容器や容器弁内部の腐食の原因となり、ま
たこの腐食は、水分がステンレス中の鉄の表面上に水和
して形成した薄い皮膜と、塩化水素の電離により生じた
塩化物イオンとが反応し、塩化第一鉄を生成するもので
あるため、この生成した塩化第一鉄がガス中の不純物と
なる。このように塩化水素ガス中に重金属類や腐食によ
り生じた塩化第一鉄の不純物が存在すると、半導体製造
プロセスにおいては汚染の原因となっていた。
【0007】本発明は、このような事情の下になされた
ものであり、その目的は、容器弁内部と大気との接触を
防ぐことにより、不純物混入を抑えたガス容器の使用方
法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、容器
弁が装着されたガス容器にガスを充填する方法におい
て、前記ガス容器内のガスを消費した後、前記容器弁を
閉じたまま、当該容器弁内を減圧雰囲気とするか又は不
活性ガスによりパージする工程と、前記容器弁の配管側
のバルブを閉じる工程と、前記のバルブ及び容器弁を通
じてガス容器内にガスを充填する工程と、を含み、ガス
容器内のガスをガスの一部がガス容器内に残留する状態
で消費した後、このガス容器内へガスを充填するまでの
間、容器弁を大気に開放しないようにしたことを特徴と
する。
【0009】請求項2の発明は、請求項1の発明におい
て、ガス容器内へガスを充填した後、バルブを容器弁に
装着したまま当該バルブを通じてガス容器からガスを消
費することを特徴とする。
【0010】請求項3の発明は、容器弁が装着されたガ
ス容器において、前記容器弁のガス流出口側にバルブを
接続し、このバルブに配管系を接続して、前記のバルブ
及び容器弁を通じて、ガス容器内のガスをガスの一部が
ガス容器内に残留する状態で消費する工程と、ガスを消
費した後、前記容器弁を閉じたまま、前記配管系よりバ
ルブを通じて容器弁内を減圧雰囲気とするか又は不活性
ガスによりパージする工程と、前記バルブを閉じた後、
前記配管系を切り離し、ガス充填用の配管系を当該バル
ブに接続する工程と、このガス充填用の配管系から前記
のバルブ及び容器弁を通じてガス容器内へガスを充填す
る工程と、を含むことを特徴とする。
【0011】請求項4の発明は、請求項1、2又は3記
載の発明において、前記容器弁の金属部分はハステロイ
により構成されることを特徴とする。
【0012】
【作用】請求項1の発明では、ガスの一部を残留させる
状態でガス容器内のガスを消費した後、容器弁内を減圧
雰囲気とするか又は不活性ガスによりパージし、容器弁
の配管側のバルブを閉じると、容器弁内が減圧雰囲気又
は不活性ガスによりパージされた状態で保たれる。この
後ガス充填用の配管系にバルブを接続し、バルブを開い
てバルブ及び容器弁を通じて容器内にガスを充填する
と、ガス容器内のガスを消費した後、ガスの一部が残留
している状態のガス容器内へガスを充填するまでの間、
容器弁を大気に開放せずにガス容器内へガスを充填する
ことができ、この結果大気中に含まれる水分や重金属類
が容器弁内部へ侵入することを防ぐことができる。
【0013】また請求項2の発明では、ガス容器内へガ
スを充填した後、このバルブに配管系を接続することに
より、バルブを装着したまま、このバルブを通してガス
容器内のガスが消費されるので、ガス容器内へガスを充
填した後、このガスを消費するまでの間、容器弁を大気
に開放することなくガスを消費することができる。
【0014】さらに請求項3の発明では、容器弁のガス
流出口側にバルブを接続し、このバルブにガス消費用の
配管系やガス充填用の配管系を接続して、バルブ及び容
器弁を介してガス容器内のガスの消費や充填が行われて
いるので、容器弁を大気に開放することなく、ガス容器
内のガスの消費や充填を繰り返すことができる。
【0015】さらにまた請求項4の発明では、容器弁の
金属部分をハステロイにより構成しており、このハステ
ロイは酸化性環境における耐食性に優れているため、例
えば腐食性ガスをガス容器に充填する際に容器弁内を洗
浄しなくても容器弁内部の腐食は起こりにくい。
【0016】
【実施例】以下本発明について説明する。図1は本発明
を実施するためのガス容器の一例を示す断面図であり、
図中Gは腐食性ガス例えば塩化水素ガスを充填するガス
容器であって、1はガス容器Gの開口部に装着される容
器弁である。容器弁本体2は内部に第1のガス流路21
とこれに直交する第2のガス流路22が形成されたT字
状構造を有し、その上部側はシリンダ部23を構成して
いる。このシリンダ部23にはプラグ31が螺合して設
けられており、このプラグ31の昇降により第1のガス
流路21が開閉される。また第2のガス流路22にはバ
ルブ4が設けられており、このバルブ4の開閉により、
第2のガス流路22が開閉される。なお第1のガス流路
21の端部及び第2のガス流路22の端部は、夫々ガス
容器Gの開口部及び図示しない配管の接続口に連通す
る。
【0017】前記シリンダ部23の上端部にはこれを外
側から覆うようにボンネット32が螺合されており、ボ
ンネット32の中央にはシリンダ部23内に連通する貫
通孔33がシリンダ部23の長さ方向に形成されてい
る。この貫通孔33内には、上部にハンドル34が係合
されたスピンドル35がシリンダ部23内に突入するよ
うに気密に嵌入されており、スピンドル35の下端部
は、プラグ31を回動させかつプラグ31に対して相対
的に上下動できるように、プラグ31の上端部に係合し
ている。
【0018】そしてこのようなガス容器及び容器弁の金
属部分は全てハステロイ例えばハステロイC22で構成
されている。このハステロイC22の成分は、Crが2
2%、Moが13%、Teが5%、Wが3%、残部がほ
とんどNiであり、この材質は酸化性環境において非常
に耐食性が優れている。
【0019】このような構成の容器弁1では、ハンドル
34を操作してスピンドル35を回動することにより、
プラグ31が回動しながらシリンダ部23内を上下動
し、これにより第1のガス流路21の開閉動作が行われ
る。またバルブ4を開閉することにより第2のガス流路
22の開閉動作が行われる。
【0020】次に上述のガス容器を開いて行われる本発
明方法について図2により説明する。図2(a)はガス
容器から塩化水素ガスを消費する際のガス容器の使用状
態の一例を説明する図である。この図において容器弁1
の第2のガス流路22はバルブ4を介して3本に分岐す
る配管51に接続されており、1本目の配管はバルブ6
1を介して塩化水素ガス供給用の配管に接続されてい
て、バルブ61の開閉により塩化水素ガス供給の開始及
び停止が制御されている。また2本目の配管はバルブ6
2を介して例えば真空ポンプからなる減圧手段に接続さ
れており、3本目の配管はバルブ63を介して不活性ガ
ス供給源に接続されている。
【0021】このような状態で塩化水素ガスを使用する
場合には、容器弁1のバルブ4を開けると共に、バルブ
61を開け、配管51を介してガス容器より塩化水素ガ
スを供給するが、ガス容器内の塩化水素ガスがガスの一
部をガス容器内に残留させた状態で消費されたときには
以下の操作を行う。即ち容器弁1の第1のガス流路21
とバルブ61を閉じ、この後バルブ62を開くと共に、
減圧手段を作動させ、配管51を介して容器弁1内を減
圧雰囲気とする。次にバルブ62を閉じた後、バルブ6
3を開いて不活性ガス供給手段より容器弁1内に不活性
ガス例えばN2ガスを供給する。このようにして容器弁
1内部をN2 ガスでパージした後、バルブ4とバルブ6
3を閉じ、この状態でバルブ4から配管51側を取り外
して、バルブ4を装着したままガス容器Gに塩化水素ガ
スを充填する工場へ運搬する。
【0022】そして塩化水素ガスを充填する場合には、
図2(b)に示すように、ガス容器Gのバルブ4と塩化
水素ガス充填用の配管71とを接続する。この配管71
は3本に分岐しており、1本目の配管はバルブ81を介
して塩化水素ガス供給源に接続されており、2本目の配
管はバルブ82を介して例えば真空ポンプよりなる減圧
手段に接続されていて、3本目の配管はバルブ83を介
して不活性ガス供給源に接続されている。
【0023】このような状態では、先ずバルブ4とバル
ブ82とを開け、減圧手段を作動させて、配管72を介
して容器弁1内部を減圧し、これにより容器弁1内を置
換しているN2 ガスを除去する。この後容器弁1の第1
のガス流路21を開き、またバルブ82を閉じてバルブ
81を開き、塩化水素ガス供給手段より配管71を介し
てガス容器G内部に塩化水素ガスを供給する。そしてガ
ス容器G内に塩化水素ガスが充填された段階でプラグ3
1より第1のガス流路21を閉じて、バルブ4とバルブ
81を閉じて塩化水素ガスの供給を停止し、ガス容器へ
の塩化水素ガスの充填を終了する。この後ただちにバル
ブ82を解放して容器弁内に残留している塩化水素ガス
を減圧手段によりパージした後バルブ82を閉じ、次い
でバルブ83を解放し容器弁内を不活性ガスで置換して
おく。
【0024】以上のガス充填方法では、容器弁1に第2
のガス流路21を開閉するバルブ4を設けたガス容器を
用いているため、ガスを消費した後バルブを装着したま
ま容器弁内にN2 ガスをパージした状態で、ガス容器を
ガスを充填する工場へ運搬することができ、容器弁を大
気に開放することなくガス容器にガスを充填することが
できる。またガスを充填した後は、バルブを装着したま
ま例えば半導体製造工場へ送られ、このバルブを通じて
工場内の配管系へガス容器が接続されるので、容器弁を
大気に開放することなくガスを消費することができる。
【0025】以上のガス容器の使用方法では、容器弁の
金属部分を酸化性環境における耐食性に優れたハステロ
イにより構成し、しかも容器弁の出口側にバルブを設け
て、ガスの消費後充填までの間、及びガスの充填後消費
までの間、容器弁の内部を大気に開放しないようにして
いるため、塩化水素ガスと大気中の水分との接触を避け
ることができ、従って酸化性の強い塩化水素ガスを充填
しても容器弁内部の腐食が起こりにくい。このため塩化
水素ガスを消費した後のガス容器に新たにガスを充填す
る際に、容器弁内の洗浄が不要となり、この結果ガスを
消費してから再びガスを充填するまで、容器弁を大気に
開放することなく、容器弁内部と大気の接触を防いだ状
態で、ガスの消費と充填とを繰返すことができる。この
ため大気中に含まれる水分や重金属類が容器弁内部に侵
入することを抑えられ、これにより大気中の水分が原因
となる容器弁内部の腐食を防止でき、この腐食により生
じる塩化第一鉄や重金属類等の不純物の侵入を抑えるこ
とができる。
【0026】またガス容器内にガスの一部を残留させた
状態でガスを消費し、さらにガス容器へガスを充填して
いるので、ガス容器を減圧雰囲気としたり、ガス容器内
を不活性ガスでパージしたり等の操作を行わなくてよ
く、このためガス容器のリークや不活性ガス自体に混入
する不純物によるコンタミが防止でき、ガス容器に充填
するガスの純度の低下が防止できる。
【0027】以上において本発明方法では、不活性ガス
をパージする場合にはN2 ガス以外の例えばArガス等
の不活性ガスを用いてもよい。また本発明方法は塩化水
素ガス以外の例えば臭化水素ガスや塩素ガス等の腐食ガ
スに適用することができる。なお塩化水素ガスを消費し
た後、容器弁を配管から外して一旦容器弁の出口側を大
気に開放し、その後容器弁のガス流出口にアウトレット
キャップを装着し、ガス容器をガス製造工場まで運搬し
てもよい。また容器弁の金属部分はハステロイ以外の金
属を用いてもよい。
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、ガス容器内のガスをガ
スの一部がガス容器内に残留する状態で消費した後、ガ
ス容器弁内を減圧雰囲気とするかまたは不活性ガスでパ
ージしておき、容器弁を大気に開放することなくガスを
充填しているので、容器弁やガス容器内部と大気との接
触が抑えられ、大気中に含まれる水分や重金属類の不純
物の侵入が防止できると共に、大気中の水分が原因とな
る容器弁内部の腐食を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明方法を実施するためのガス容器の一例を
示す断面図である。
【図2】本発明方法のプロセスを説明するための説明図
である。
【図3】従来のガス容器を示す断面図である。
【符号の説明】 G ガス容器 1 容器弁 2 容器弁本体 21 第1のガス流路 22 第2のガス流路 4、61〜63、81、82 バルブ 51、71 配管

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 容器弁が装着されたガス容器にガスを充
    填する方法において、 前記ガス容器内のガスを消費した後、前記容器弁を閉じ
    たまま、当該容器弁内を減圧雰囲気とするか又は不活性
    ガスによりパージする工程と、 前記容器弁の配管側のバルブを閉じる工程と、 前記のバルブ及び容器弁を通じてガス容器内にガスを充
    填する工程と、 を含み、 ガス容器内のガスをガスの一部がガス容器内に残留する
    状態で消費した後、このガス容器内へガスを充填するま
    での間、容器弁を大気に開放しないようにしたことを特
    徴とするガス容器の使用方法。
  2. 【請求項2】 ガス容器内へガスを充填した後、バルブ
    を容器弁に装着したまま当該バルブを通じてガス容器か
    らガスを消費することを特徴とする請求項1記載のガス
    容器の使用方法。
  3. 【請求項3】 容器弁が装着されたガス容器において、 前記容器弁のガス流出口側にバルブを接続し、このバル
    ブに配管系を接続して、前記のバルブ及び容器弁を通じ
    て、ガス容器内のガスをガスの一部がガス容器内に残留
    する状態で消費する工程と、 ガスを消費した後、前記容器弁を閉じたまま、前記配管
    系よりバルブを通じて容器弁内を減圧雰囲気とするか又
    は不活性ガスによりパージする工程と、 前記バルブを閉じた後、前記配管系を切り離し、ガス充
    填用の配管系を当該バルブに接続する工程と、 このガス充填用の配管系から前記のバルブ及び容器弁を
    通じてガス容器内へガスを充填する工程と、 を含むことを特徴とするガス容器の使用方法。
  4. 【請求項4】 前記容器弁の金属部分はハステロイによ
    り構成されることを特徴とする請求項1、2又は3記載
    のガス容器の使用方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE20017383U1 (de) 2000-10-10 2000-12-28 Plattner Schweißtechnik und Gase GmbH, 94550 Künzing Chlorgasflaschenventil

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE20017383U1 (de) 2000-10-10 2000-12-28 Plattner Schweißtechnik und Gase GmbH, 94550 Künzing Chlorgasflaschenventil

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Effective date: 20040525