JPH1090129A - 半導体水質分析設備用標準溶液の製造装置 - Google Patents
半導体水質分析設備用標準溶液の製造装置Info
- Publication number
- JPH1090129A JPH1090129A JP9112767A JP11276797A JPH1090129A JP H1090129 A JPH1090129 A JP H1090129A JP 9112767 A JP9112767 A JP 9112767A JP 11276797 A JP11276797 A JP 11276797A JP H1090129 A JPH1090129 A JP H1090129A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- standard solution
- line
- tank
- water quality
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/18—Water
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水質分析設備に使用するために、高度に清浄
な希釈された標準溶液を製造することができる半導体水
質分析設備用標準溶液の製造装置を提供する。 【解決手段】 本発明は、上部に複数個の貫通孔を有す
る標準溶液の製造タンク１０、前記貫通孔のいずれか１
つ２０と密封結合され、パージガスを供給することがで
きるように構成された第１ライン２６、前記貫通孔の他
の孔１８と密封結合され、濃い標準溶液及び溶媒を供給
することができるように構成された第２ライン３６、及
び前記貫通孔のまた他の孔１６と密封結合され、希釈さ
れた標準溶液を外部に放出することができるように、前
記タンクの底面に隣接して挿入設置される第３ライン４
２を備えることを特徴とする。
な希釈された標準溶液を製造することができる半導体水
質分析設備用標準溶液の製造装置を提供する。 【解決手段】 本発明は、上部に複数個の貫通孔を有す
る標準溶液の製造タンク１０、前記貫通孔のいずれか１
つ２０と密封結合され、パージガスを供給することがで
きるように構成された第１ライン２６、前記貫通孔の他
の孔１８と密封結合され、濃い標準溶液及び溶媒を供給
することができるように構成された第２ライン３６、及
び前記貫通孔のまた他の孔１６と密封結合され、希釈さ
れた標準溶液を外部に放出することができるように、前
記タンクの底面に隣接して挿入設置される第３ライン４
２を備えることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体水質分析設
備用標準溶液の製造装置に関するもので、より詳細に
は，高度に清浄な標準溶液を製造することができる半導
体水質分析設備用標準溶液の製造装置に関する。
備用標準溶液の製造装置に関するもので、より詳細に
は，高度に清浄な標準溶液を製造することができる半導
体水質分析設備用標準溶液の製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子の製造工程で、工程用の純水
(Deionized Water)は、ウェーハ上に付着された不純物
を除去するための洗浄液として使用されたり、ウェーハ
上に形成された膜から不必要な部分を除去するエッジ液
を製造するために用いられたりする。例えば、ウェーハ
と直接接触する工程用純水が汚染されると、ウェーハも
汚染されやすいので、使用される工程用純水に対して、
定期的に水質を分析する作業が行われている。
(Deionized Water)は、ウェーハ上に付着された不純物
を除去するための洗浄液として使用されたり、ウェーハ
上に形成された膜から不必要な部分を除去するエッジ液
を製造するために用いられたりする。例えば、ウェーハ
と直接接触する工程用純水が汚染されると、ウェーハも
汚染されやすいので、使用される工程用純水に対して、
定期的に水質を分析する作業が行われている。
【０００３】半導体素子の製造工程に使用される工程用
純水の水質に対する分析作業は、通常、重量法による炭
素の定量分析や、高速イオンクロマトグラフィー等の分
析設備を利用したりして行う。
純水の水質に対する分析作業は、通常、重量法による炭
素の定量分析や、高速イオンクロマトグラフィー等の分
析設備を利用したりして行う。
【０００４】作業者は、前記の分析作業により、半導体
素子の製造工程に用いられる工程用純水に含まれる炭
素、カリウムイオン（Ｋ+）、塩素イオン（Ｃｌ-）、ナ
トリウムイオン(Ｎａ+)等を定量してイオン性不純物を
含む工程用純水の伝導度(Conductivity)を知ることがで
きる。特定濃度の標準溶液が有する各イオンの伝導度を
測定して、各イオンの伝導度と標準溶液の汚染度の関係
を示す検量線(Calibration curve)をあらかじめ作成し
ておく。作成された検量線を通じて、作業者は半導体製
造工程に用いられる工程用純水の汚染程度を確認するこ
とができる。
素子の製造工程に用いられる工程用純水に含まれる炭
素、カリウムイオン（Ｋ+）、塩素イオン（Ｃｌ-）、ナ
トリウムイオン(Ｎａ+)等を定量してイオン性不純物を
含む工程用純水の伝導度(Conductivity)を知ることがで
きる。特定濃度の標準溶液が有する各イオンの伝導度を
測定して、各イオンの伝導度と標準溶液の汚染度の関係
を示す検量線(Calibration curve)をあらかじめ作成し
ておく。作成された検量線を通じて、作業者は半導体製
造工程に用いられる工程用純水の汚染程度を確認するこ
とができる。
【０００５】工程用純水の水質分析設備のために、現在
用いられている特定濃度標準溶液の製造は、高濃度の標
準溶液が入れてあるフラスコ(Flask)の内部に、マイク
ロピペット(Micro pippet)を利用し、溶媒すなわち高純
度の純水を添加してなる。
用いられている特定濃度標準溶液の製造は、高濃度の標
準溶液が入れてあるフラスコ(Flask)の内部に、マイク
ロピペット(Micro pippet)を利用し、溶媒すなわち高純
度の純水を添加してなる。
【０００６】しかし、現在の標準溶液の製造方法は、空
気中に開放された容器を使用するので、作業者及び工程
環境に標準溶液がさらされやすい。従って、汚染によっ
て正確に標準溶液が標準液としての役割を果たしにくい
という問題点があった。
気中に開放された容器を使用するので、作業者及び工程
環境に標準溶液がさらされやすい。従って、汚染によっ
て正確に標準溶液が標準液としての役割を果たしにくい
という問題点があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、標準
溶液を製造する時に、標準溶液が作業者及び工程環境に
よって汚染されることを防止することができる半導体水
質分析設備用標準溶液の製造装置を提供するにある。
溶液を製造する時に、標準溶液が作業者及び工程環境に
よって汚染されることを防止することができる半導体水
質分析設備用標準溶液の製造装置を提供するにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めの、本発明による半導体水質分析設備用標準溶液の製
造装置は、上部に複数個の貫通孔を有する半導体水質分
析設備用標準溶液の製造タンクと、前記貫通孔のいずれ
か１つとの密封結合が可能で、パージガスを前記製造タ
ンクに供給することができるように構成された第１ライ
ンと、前記貫通孔の他の孔との密封結合が可能であり、
濃い標準溶液及び前記の標準溶液を希釈する溶媒を供給
することができるように構成された第２ラインと、前記
貫通孔のまた他の孔との密封結合が可能で、前記溶媒に
よって希釈された標準溶液を外部に放出することができ
るように、前記タンクの底面に隣接して挿入設置される
第３ラインとを備えてなることを特徴とする。
めの、本発明による半導体水質分析設備用標準溶液の製
造装置は、上部に複数個の貫通孔を有する半導体水質分
析設備用標準溶液の製造タンクと、前記貫通孔のいずれ
か１つとの密封結合が可能で、パージガスを前記製造タ
ンクに供給することができるように構成された第１ライ
ンと、前記貫通孔の他の孔との密封結合が可能であり、
濃い標準溶液及び前記の標準溶液を希釈する溶媒を供給
することができるように構成された第２ラインと、前記
貫通孔のまた他の孔との密封結合が可能で、前記溶媒に
よって希釈された標準溶液を外部に放出することができ
るように、前記タンクの底面に隣接して挿入設置される
第３ラインとを備えてなることを特徴とする。
【０００９】前記の各ライン上には、通路の開閉または
流量調節のためのバルブが設置され、供給または放出さ
れる流量の遮断及び調節をすることが好ましい。
流量調節のためのバルブが設置され、供給または放出さ
れる流量の遮断及び調節をすることが好ましい。
【００１０】また、本発明の装置に、製造タンクに入れ
てある前記標準溶液の量を確認することができる手段を
前記標準溶液の製造タンクに付加設置すると、作業者
が、製造した標準溶液の実際量を確認することもでき
る。
てある前記標準溶液の量を確認することができる手段を
前記標準溶液の製造タンクに付加設置すると、作業者
が、製造した標準溶液の実際量を確認することもでき
る。
【００１１】また、前記第１ライン上には、圧力調節器
を設置して、移送される流量を調節することができるよ
うにするのが好ましく、前記第３ライン上には、ポンプ
を設置して、放出される標準溶液の流量を一定に保持し
得るようにすることもできる。
を設置して、移送される流量を調節することができるよ
うにするのが好ましく、前記第３ライン上には、ポンプ
を設置して、放出される標準溶液の流量を一定に保持し
得るようにすることもできる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。
を、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】本実施形態で、洗浄液で洗浄された標準溶
液の製造タンク１０は、外部タンク１２に挿入された
後、蓋１４で覆われて固定された状態をとっている。標
準溶液の製造タンク１０の上部には、窒素（Ｎ2）、ア
ルゴン（Ａｒ）、ヘリウム（Ｈｅ）等の非活性パージガ
ス(Purge gas)が供給されるパージガス供給口２０、計
量済みの高濃度標準溶液及び高純度の純水等の溶媒が供
給される標準溶液供給口１８、溶媒によって希釈され
て、特定濃度を有する標準溶液がタンク外部に放出され
る標準溶液放出口１６が、製造タンク１０上に突出形成
されている。
液の製造タンク１０は、外部タンク１２に挿入された
後、蓋１４で覆われて固定された状態をとっている。標
準溶液の製造タンク１０の上部には、窒素（Ｎ2）、ア
ルゴン（Ａｒ）、ヘリウム（Ｈｅ）等の非活性パージガ
ス(Purge gas)が供給されるパージガス供給口２０、計
量済みの高濃度標準溶液及び高純度の純水等の溶媒が供
給される標準溶液供給口１８、溶媒によって希釈され
て、特定濃度を有する標準溶液がタンク外部に放出され
る標準溶液放出口１６が、製造タンク１０上に突出形成
されている。
【００１４】前記標準溶液の製造タンク１０は、耐薬品
性に優れたフッ素樹脂から製作され、外部タンク１２及
び蓋１４は、耐蝕性に優れたステンレススチール(Stain
lesssteel)材質から製作されている。外部タンク１２
は、標準溶液の製造タンク１０を収容することができる
ように製作される。蓋１４の上部には、突出された孔が
３個形成され、標準溶液の製造タンク１０に形成された
パージガス供給口２０と、標準溶液供給口１８及び標準
溶液放出口１６が挿入されている。
性に優れたフッ素樹脂から製作され、外部タンク１２及
び蓋１４は、耐蝕性に優れたステンレススチール(Stain
lesssteel)材質から製作されている。外部タンク１２
は、標準溶液の製造タンク１０を収容することができる
ように製作される。蓋１４の上部には、突出された孔が
３個形成され、標準溶液の製造タンク１０に形成された
パージガス供給口２０と、標準溶液供給口１８及び標準
溶液放出口１６が挿入されている。
【００１５】パージガス供給源２４と連結した第１ライ
ン２６は、パージガス供給口２０に挿入され、パッキン
グ３２によって密封結合されて固定部材３４と外部タン
ク１２とのネジ結合によって固定されている。第１ライ
ン２６上には、パージガスの流れを基準として、圧力調
節器２８及びバルブ３０が順次位置している。バルブ３
０は、コントロールバルブからなっており、前記の圧力
調節器２８によって供給される流量が調節され得るよう
に設置されている。
ン２６は、パージガス供給口２０に挿入され、パッキン
グ３２によって密封結合されて固定部材３４と外部タン
ク１２とのネジ結合によって固定されている。第１ライ
ン２６上には、パージガスの流れを基準として、圧力調
節器２８及びバルブ３０が順次位置している。バルブ３
０は、コントロールバルブからなっており、前記の圧力
調節器２８によって供給される流量が調節され得るよう
に設置されている。
【００１６】第２ライン３６も、標準溶液供給口１８に
挿入されて、パッキング３２によって密封結合されて固
定部材３４と外部タンク１２のネジ結合によって固定さ
れている。第２ライン３６上にも、ラインを開閉するこ
とができるバルブ３８が設置されている。また、第２ラ
イン３６上のバルブ３８の後段に、パージガスを排出す
るためのバイパスライン（図示せず）が設けられてい
る。
挿入されて、パッキング３２によって密封結合されて固
定部材３４と外部タンク１２のネジ結合によって固定さ
れている。第２ライン３６上にも、ラインを開閉するこ
とができるバルブ３８が設置されている。また、第２ラ
イン３６上のバルブ３８の後段に、パージガスを排出す
るためのバイパスライン（図示せず）が設けられてい
る。
【００１７】第３ライン４２も、標準溶液放出口１６に
挿入されパッキング３２によって密封結合されて、固定
部材３４と外部タンク１２とのネジ結合によって固定さ
れている。第３ライン４２上に、標準溶液の放出の流れ
を基準としてバルブ４４及びポンプ４０が順次位置す
る。外部タンク１２の一側壁には、製造タンク１０に入
れてある標準溶液の流量を確認することができる流量確
認装置４６が備えられている。流量確認装置４６は、タ
ンク内の溶液の全量を確認するもので、標準溶液のタン
ク１０内に設置されているレベルセンサー又は浮き等の
感知部とタンク１０の外に設置されて溶液の全量を確認
できるアナログ信号又はデジタル信号により表される表
示部とを備える。
挿入されパッキング３２によって密封結合されて、固定
部材３４と外部タンク１２とのネジ結合によって固定さ
れている。第３ライン４２上に、標準溶液の放出の流れ
を基準としてバルブ４４及びポンプ４０が順次位置す
る。外部タンク１２の一側壁には、製造タンク１０に入
れてある標準溶液の流量を確認することができる流量確
認装置４６が備えられている。流量確認装置４６は、タ
ンク内の溶液の全量を確認するもので、標準溶液のタン
ク１０内に設置されているレベルセンサー又は浮き等の
感知部とタンク１０の外に設置されて溶液の全量を確認
できるアナログ信号又はデジタル信号により表される表
示部とを備える。
【００１８】以下、本実施形態による水質分析設備用標
準溶液の製造装置を利用して、半導体水質分析設備用標
準溶液を製造する方法を説明する。
準溶液の製造装置を利用して、半導体水質分析設備用標
準溶液を製造する方法を説明する。
【００１９】まず、第１ライン２６に設置された圧力調
節器２８を制御しパージガス供給源２４から供給される
窒素ガス等のパージガスの圧力を調整することにより、
バルブ３０を通じて、標準溶液の製造タンク１０にパー
ジガスは供給される。標準溶液の製造タンク１０に供給
されたパージガスは、標準溶液の製造タンク１０の内部
に流入した反応性気体及び微細粉塵等の汚染物質を標準
溶液放出口１６を通って外部に放出し取り除く。
節器２８を制御しパージガス供給源２４から供給される
窒素ガス等のパージガスの圧力を調整することにより、
バルブ３０を通じて、標準溶液の製造タンク１０にパー
ジガスは供給される。標準溶液の製造タンク１０に供給
されたパージガスは、標準溶液の製造タンク１０の内部
に流入した反応性気体及び微細粉塵等の汚染物質を標準
溶液放出口１６を通って外部に放出し取り除く。
【００２０】次いで、計量済みの高濃度の標準溶液を、
第２ライン３６上に設置されたバルブ３８を通じて、標
準溶液の製造タンク１０に供給する。そして、特定濃度
の標準溶液を製造するために、既に計量された一定量の
溶媒、すなわち純水を第２ライン３６を通って標準溶液
の製造タンク１０に供給する。高濃度の標準溶液及び純
水を供給する時は、外部タンク１２の外壁に取り付けら
れた流量確認装置４６によって流量を確認する。そのた
め、作業者は標準溶液が正確に製造されたかを確認する
ことができる。
第２ライン３６上に設置されたバルブ３８を通じて、標
準溶液の製造タンク１０に供給する。そして、特定濃度
の標準溶液を製造するために、既に計量された一定量の
溶媒、すなわち純水を第２ライン３６を通って標準溶液
の製造タンク１０に供給する。高濃度の標準溶液及び純
水を供給する時は、外部タンク１２の外壁に取り付けら
れた流量確認装置４６によって流量を確認する。そのた
め、作業者は標準溶液が正確に製造されたかを確認する
ことができる。
【００２１】また、高濃度の標準溶液及び純水を、標準
溶液の製造タンク１０に供給する時、周辺環境によって
二酸化炭素（ＣＯ2）等の外部ガスと、埃等のパーティ
クル(Particle)が、標準溶液の製造タンク１０の内部
に、標準溶液供給口１８を通って流入することもあるの
で、前記パージガスの供給源２４から供給されるパージ
ガスを、第１ライン２６を通じて標準溶液の製造タンク
１０に供給し標準溶液の製造タンク１０を充分に洗浄し
た後、第２ライン３６上に設置されたバルブ３８を開放
し、バルブ３８の後段に設置されるバイパスライン（図
示せず）を通じて外部に放出させる。
溶液の製造タンク１０に供給する時、周辺環境によって
二酸化炭素（ＣＯ2）等の外部ガスと、埃等のパーティ
クル(Particle)が、標準溶液の製造タンク１０の内部
に、標準溶液供給口１８を通って流入することもあるの
で、前記パージガスの供給源２４から供給されるパージ
ガスを、第１ライン２６を通じて標準溶液の製造タンク
１０に供給し標準溶液の製造タンク１０を充分に洗浄し
た後、第２ライン３６上に設置されたバルブ３８を開放
し、バルブ３８の後段に設置されるバイパスライン（図
示せず）を通じて外部に放出させる。
【００２２】第１ライン２６上に設置された圧力調節器
２８を通過するパージガスは、圧力調節器２８の制御に
よって、圧力が下降した状態で標準溶液の製造タンク１
０に供給されなければならない。それは、高い圧力のパ
ージガスを標準溶液の製造タンク１０に供給すると、高
濃度の標準溶液及び溶媒を標準溶液の製造タンク１０に
容易に供給することができないからである。
２８を通過するパージガスは、圧力調節器２８の制御に
よって、圧力が下降した状態で標準溶液の製造タンク１
０に供給されなければならない。それは、高い圧力のパ
ージガスを標準溶液の製造タンク１０に供給すると、高
濃度の標準溶液及び溶媒を標準溶液の製造タンク１０に
容易に供給することができないからである。
【００２３】次に、第３ライン４２上に設置されたバル
ブ４４及び、第２ライン３６上に設置されたバルブ３８
を締め、パージガスの供給源２４から供給されるパージ
ガスを、第１ライン２６上に設置された圧力調節器２８
及びバルブ３０を通じて、標準溶液の製造タンク１０に
充分に供給する。その後、第１ライン２６上に設置され
たバルブ３０も締める。
ブ４４及び、第２ライン３６上に設置されたバルブ３８
を締め、パージガスの供給源２４から供給されるパージ
ガスを、第１ライン２６上に設置された圧力調節器２８
及びバルブ３０を通じて、標準溶液の製造タンク１０に
充分に供給する。その後、第１ライン２６上に設置され
たバルブ３０も締める。
【００２４】このとき、パージガスは圧力調節器２８を
通過し、高圧に調整されて標準溶液の製造タンク１０に
供給されるので、標準溶液の製造タンク１０内部は高圧
となる。
通過し、高圧に調整されて標準溶液の製造タンク１０に
供給されるので、標準溶液の製造タンク１０内部は高圧
となる。
【００２５】次に、第３ライン４２上に設置されたバル
ブ４４を開いて、標準溶液の製造タンク１０に入れてあ
る標準溶液を、気圧差によって外部に供給する。外部に
放出される標準溶液に作用する内部圧力が落ちる場合
は、ポンプ４０を稼動させて、更に高い圧力にして、標
準溶液を外部に供給するようになる。
ブ４４を開いて、標準溶液の製造タンク１０に入れてあ
る標準溶液を、気圧差によって外部に供給する。外部に
放出される標準溶液に作用する内部圧力が落ちる場合
は、ポンプ４０を稼動させて、更に高い圧力にして、標
準溶液を外部に供給するようになる。
【００２６】そして、洗浄液で充分に洗浄された標準溶
液の製造タンク１０を複数個準備しておけば、標準溶液
の製造装置に異常が発生する毎に、迅速に交替して使用
することができる。
液の製造タンク１０を複数個準備しておけば、標準溶液
の製造装置に異常が発生する毎に、迅速に交替して使用
することができる。
【００２７】
【発明の効果】前記のような本発明は、汚染されないで
希釈された標準溶液を得ることができるので、精密度を
有する水質分析を行えるという効果がある。
希釈された標準溶液を得ることができるので、精密度を
有する水質分析を行えるという効果がある。
【図１】本発明による、半導体水質分析設備用標準溶液
の製造装置の一実施形態を示す断面図である。
の製造装置の一実施形態を示す断面図である。
１０： 標準溶液の製造タンク １２： 外部タンク １４： 蓋 １６： 標準溶液放出口 １８： 標準溶液供給口 ２０： パージガス供給口 ２４： パージガス供給源 ２６： 第１ライン ２８： 圧力調節器 ３０、３８、４４： バルブ ３２： パッキング ３４： 固定部材 ３６： 第２ライン ４０： ポンプ ４２： 第３ライン ４６： 流量確認装置
Claims (9)
- 【請求項１】 上部に複数個の貫通孔を有する、半導体
水質分析設備用標準溶液の製造タンクと、前記貫通孔の
いずれか１つとの密封結合が可能で、パージガスを前記
製造タンクに供給することができるように構成された第
１ラインと、前記貫通孔の他の孔との密封結合が可能で
あり、濃い標準溶液及び前記の標準溶液を希釈させる溶
媒を供給することができるように構成された第２ライン
と、前記貫通孔のまた他の孔との密封結合が可能で、前
記溶媒によって希釈された標準溶液を外部に放出するこ
とができるように、前記タンクの底面に隣接して挿入設
置される第３ラインとを備えることを特徴とする半導体
水質分析設備用標準溶液の製造装置。 - 【請求項２】 前記各ライン上に、通路の開閉または流
量調節のためのバルブが設置されることを特徴とする請
求項１記載の半導体水質分析設備用標準溶液の製造装
置。 - 【請求項３】 前記標準溶液の製造タンクを挿入して固
定させることができるステンレススチール(Stainless s
teel)材質の外部タンクを更に含むことを特徴とする請
求項１記載の半導体水質分析設備用標準溶液の製造装
置。 - 【請求項４】 製造タンクの内部に流入した前記標準溶
液の量を確認することができる流量確認手段が、前記の
製造タンクに付加されてなることを特徴とする請求項３
記載の半導体水質分析設備用標準溶液の製造装置。 - 【請求項５】 前記標準溶液の製造タンクの内部への流
入量を確認することができる流量確認手段が、前記の製
造タンクに付加されてなることを特徴とする請求項１記
載の半導体水質分析設備用標準溶液の製造装置。 - 【請求項６】 前記第１ライン上には、供給されるパー
ジガスの流量調節のための圧力調節器が設置されること
を特徴とする請求項１記載の半導体水質分析設備用標準
溶液の製造装置。 - 【請求項７】 前記第３ライン上には、前記標準溶液の
排出のためのポンプが設置されることを特徴とする請求
項１記載の半導体水質分析設備用標準溶液の製造装置。 - 【請求項８】 前記第１ライン、第２ライン、第３ライ
ンが、前記製造タンクの貫通孔と結合される所に、機密
維持のためのパッキングが設置されることを特徴とする
請求項１記載の半導体水質分析設備用標準溶液の製造装
置。 - 【請求項９】 前記標準溶液の製造タンクは、フッ素樹
脂から製作されることを特徴とする請求項１記載の半導
体水質分析設備用標準溶液の製造装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960036583A KR100187521B1 (ko) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 반도체 수질분석설비용 표준용액 제조장치 |
| KR1996-36583 | 1996-08-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1090129A true JPH1090129A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=19471524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9112767A Pending JPH1090129A (ja) | 1996-08-29 | 1997-04-30 | 半導体水質分析設備用標準溶液の製造装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1090129A (ja) |
| KR (1) | KR100187521B1 (ja) |
| TW (1) | TW343351B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040003432A (ko) * | 2002-07-03 | 2004-01-13 | 기아자동차주식회사 | 차량의 연료증발가스 제어 시스템 |
| KR102373773B1 (ko) * | 2021-10-16 | 2022-03-14 | 엔비스아나(주) | 케미컬 내압용기 |
| KR102664579B1 (ko) * | 2024-02-08 | 2024-05-10 | 블루센 주식회사 | 수질 측정 시료수 안정화 장치 |
-
1996
- 1996-08-29 KR KR1019960036583A patent/KR100187521B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-04-08 TW TW086104408A patent/TW343351B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-04-30 JP JP9112767A patent/JPH1090129A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19980016888A (ko) | 1998-06-05 |
| KR100187521B1 (ko) | 1999-04-15 |
| TW343351B (en) | 1998-10-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102280026B1 (ko) | 혼합 가스 공급 장치 | |
| US20090084409A1 (en) | Cleaning apparatus, cleaning system using cleaning apparatus, cleaning method of substrate-to-be-cleaned | |
| TWI308602B (en) | Fluorine gas generator | |
| US7357115B2 (en) | Wafer clamping apparatus and method for operating the same | |
| JPH1090129A (ja) | 半導体水質分析設備用標準溶液の製造装置 | |
| JPH048749B2 (ja) | ||
| JP2020118662A (ja) | 容器の乾燥及び分析試験のためのシステム及び方法 | |
| JPH09298137A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP5198187B2 (ja) | 液処理装置および処理液供給方法 | |
| KR20070093696A (ko) | 반도체 제조설비의 진공 시스템 | |
| EP1068373A1 (en) | Automated chemical process control system | |
| KR102485042B1 (ko) | 변압기의 유중가스 측정을 위한 가스센서 프로브 | |
| US20110123400A1 (en) | Apparatus for detecting metal concentration in an atmosphere | |
| JP2005175183A (ja) | 液体加圧機構及びこれを用いた液体制御装置と液体制御方法 | |
| KR101872761B1 (ko) | 운송 인클로저 내부 오염도 측정 장치 및 이를 이용한 오염도 측정 방법 | |
| US5597464A (en) | Flow-through cell with a hanging mercury drop electrode | |
| TWI765415B (zh) | 過濾系統和清洗過濾裝置的方法 | |
| JP3300213B2 (ja) | 気中不純物監視装置および気中不純物監視方法 | |
| KR20060073833A (ko) | 고압 가스 내 이온성 오염 분석 장치 및 분석 방법 | |
| KR20190016887A (ko) | 운송 인클로저 내부 오염도 측정 장치 및 이를 이용한 오염도 측정 방법 | |
| KR101915012B1 (ko) | 운송 인클로저 내부 오염도 측정 장치 및 이를 이용한 오염도 측정 방법 | |
| JPH09318497A (ja) | 試料容器、超純水製造管理システムおよび超純水分析方法 | |
| JPH0364483A (ja) | めっき液の濃度調整方法およびめっき方法 | |
| KR100378408B1 (ko) | 용기밸브 | |
| JPH06101774A (ja) | ダイヤフラムバルブ |