JPH0364483A - めっき液の濃度調整方法およびめっき方法 - Google Patents
めっき液の濃度調整方法およびめっき方法Info
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- Investigating And Analyzing Materials By Characteristic Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はめっき液の濃度測定方法と濃度調整方法および
濃度調整装置に関する。
濃度調整装置に関する。
[従来の技術]
一般的に、金めつきは、はんだ付は性、ワイヤボンディ
ング性等の接続性、耐エツチング性、防錆性、電気伝導
性に優れているところから、配線基板の製造において極
めて重要な技術とされている。
ング性等の接続性、耐エツチング性、防錆性、電気伝導
性に優れているところから、配線基板の製造において極
めて重要な技術とされている。
無電解めっきに使用される金めつき液は、通%’<’、
めっき液の安定性に優れているという理由から、シアン
系めっき液が用いられていた。しかし、シアン系めっき
液には公害対策−1−問題があるため、近年、金属成分
として金イオンと、金イオンと部体を形成する配位子と
してチオロft酸イオンおよび亜硫酸イオンと、還元剤
であるチオ尿素とを含む、非シアン系無電解金めっき液
が提案されている。
めっき液の安定性に優れているという理由から、シアン
系めっき液が用いられていた。しかし、シアン系めっき
液には公害対策−1−問題があるため、近年、金属成分
として金イオンと、金イオンと部体を形成する配位子と
してチオロft酸イオンおよび亜硫酸イオンと、還元剤
であるチオ尿素とを含む、非シアン系無電解金めっき液
が提案されている。
上記非シアン系めっき液を用いてめっきを行なった場合
の、ra分濃度の経時変化およびめっき速度について、
第6図および第7図を用いて説明する。
の、ra分濃度の経時変化およびめっき速度について、
第6図および第7図を用いて説明する。
第6図はめっき液を構成する成分を補充液どして加えず
にめっきを進行させた場合の成分濃度変化を示す。一方
、第7図はめっきの進行と共に減少していく成分を補充
液として加え、めっき液成分の濃度を一定に保った場合
の成分濃度変化およびめっき速度を示す。
にめっきを進行させた場合の成分濃度変化を示す。一方
、第7図はめっきの進行と共に減少していく成分を補充
液として加え、めっき液成分の濃度を一定に保った場合
の成分濃度変化およびめっき速度を示す。
第6図は縦軸に成分濃度を、横軸にめっき時間を取って
いる。
いる。
第6図より明らかなように、めっきが進行するにつれて
、亜硫酸イオンとチオ硫酸イオンの濃度は変化しないが
、金イオンとチオ尿素の濃度が低下していることがわか
る。このために、めっき速度は、次第に低下していく。
、亜硫酸イオンとチオ硫酸イオンの濃度は変化しないが
、金イオンとチオ尿素の濃度が低下していることがわか
る。このために、めっき速度は、次第に低下していく。
第7図もまた縦軸に成分濃度を、横軸にめっき時間を取
っている。さらに、めっき時間の経過と共にめっき速度
の変化も示している。
っている。さらに、めっき時間の経過と共にめっき速度
の変化も示している。
第7図に示したように、一定時間毎に、めっきの進行に
ともなう金およびチオ尿素の消費量を測定して、消費量
分を補充すると、長時間めっき速度を一定範囲内に維持
することができる。
ともなう金およびチオ尿素の消費量を測定して、消費量
分を補充すると、長時間めっき速度を一定範囲内に維持
することができる。
以上のように、無電解めっきは、めっきの進行に伴い、
めっき液成分のうちの金属成分と還元剤− 成分の両方が消費される。しかも、無電解めっき速度は
めっき液成分の濃度に大きく依存することから、めっき
速度を−・定に維持するためには、金属成分と還元剤成
分の両方について濃度を測定し、その消費量分を逐次補
充する必要がある。
めっき液成分のうちの金属成分と還元剤− 成分の両方が消費される。しかも、無電解めっき速度は
めっき液成分の濃度に大きく依存することから、めっき
速度を−・定に維持するためには、金属成分と還元剤成
分の両方について濃度を測定し、その消費量分を逐次補
充する必要がある。
ここで、各成分の濃度の測定は、例えば、金属成分は原
子吸光光度計を使用し、還元剤のチオ尿素はニトロプル
シドナ1〜リウム広を使用し、亜硫酸イオンとチオ硫酸
イオンはイオンクロマト法を使用して行なうことができ
る。
子吸光光度計を使用し、還元剤のチオ尿素はニトロプル
シドナ1〜リウム広を使用し、亜硫酸イオンとチオ硫酸
イオンはイオンクロマト法を使用して行なうことができ
る。
(以下余白)
[発明が解決しようとする課題]
しかし、前記非シアン系めっき液成分の定量分析方法は
、原子吸光法が高感度のために試料溶液を1回毎に希釈
する必要かあり、また、チオ尿素を分析する二1〜口プ
ルシドナトリウムが分解しゃすい。このため、測定に時
間がかかり、実験室レベルの解析には用いられるが、製
造工程の解析には適さない。
、原子吸光法が高感度のために試料溶液を1回毎に希釈
する必要かあり、また、チオ尿素を分析する二1〜口プ
ルシドナトリウムが分解しゃすい。このため、測定に時
間がかかり、実験室レベルの解析には用いられるが、製
造工程の解析には適さない。
また、無電解めっき液中の金属成分の濃度測定について
は、特開昭63−121668号公報に提案されている
ように、金属イオン自身の着色を利用して、吸光光度法
で測定する方法、または、特開昭60164239号公
報記載のように、蛍光X線分析法を用いる方法、あるい
は、特開昭62−14053号公報に記載されているよ
うに、電位差滴定を利用する方法などがある。
は、特開昭63−121668号公報に提案されている
ように、金属イオン自身の着色を利用して、吸光光度法
で測定する方法、または、特開昭60164239号公
報記載のように、蛍光X線分析法を用いる方法、あるい
は、特開昭62−14053号公報に記載されているよ
うに、電位差滴定を利用する方法などがある。
そして、無電解めっき液中のホルマリン等の還元剤成分
の濃度測定に関しては、特開11&53−9235号公
報に記載されているように、還元剤の酸化に要する電流
量から測定する方法がある。
の濃度測定に関しては、特開11&53−9235号公
報に記載されているように、還元剤の酸化に要する電流
量から測定する方法がある。
しかし、上述した従来技術のうち、金属成分の着色を利
用する方法や電位差滴定を利用する方法は、適用できる
無電解めっき液の種類は限られており、汎用性に乏しい
という問題がある。
用する方法や電位差滴定を利用する方法は、適用できる
無電解めっき液の種類は限られており、汎用性に乏しい
という問題がある。
一方、還元剤成分の濃度測定方法に関しては、還元剤の
他に、亜硫酸イオン、チオ硫酸イオン等の還元性イオン
を錯化剤として多量に含む無電解めっき液に対する配慮
が全くなされていない。
他に、亜硫酸イオン、チオ硫酸イオン等の還元性イオン
を錯化剤として多量に含む無電解めっき液に対する配慮
が全くなされていない。
例えば、還元剤の濃度を、還元剤の酸化に要する電流量
から測定する場合には、亜硫酸イオン。
から測定する場合には、亜硫酸イオン。
チオ硫酸イオンも同時に酸化されるために、還元剤の成
分濃度を正確に測定することができない。
分濃度を正確に測定することができない。
このように、従来、めっき技術、特に、無電解めっき技
術においては、めっき液の成分濃度を、製造工程におい
て正確に測定できる技術がなく、従って、成分濃度制御
も適切に行なえないという問題があった。
術においては、めっき液の成分濃度を、製造工程におい
て正確に測定できる技術がなく、従って、成分濃度制御
も適切に行なえないという問題があった。
本発明の第1の目的は、めっき液の成分濃度の測定方法
、および、めっき液の1戊分濃度を一定範囲内に制御す
る方法とその装置とを提供すること月 にある。
、および、めっき液の1戊分濃度を一定範囲内に制御す
る方法とその装置とを提供すること月 にある。
本発明の第2の目的は、めっき液の成分濃度を一定範囲
内に制御できるめっき装置を提供することにある。
内に制御できるめっき装置を提供することにある。
本発明の第3の目的は、溶液中に含まれる金属成分濃度
と非金属成分濃度とを測定し、溶液中の溶液の濃度を一
定範囲内に制御できる装置を提供することにある。
と非金属成分濃度とを測定し、溶液中の溶液の濃度を一
定範囲内に制御できる装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明の第1の目的は、
金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液の成分
濃度の測定方法であって、前記陰イオンを、前記還元剤
の濃度測定に妨害を与えない他の陰イオン種に置換した
後、前記還元剤濃度を測定することを特徴とするめっき
液の成分濃度測定法によって達成される。
濃度の測定方法であって、前記陰イオンを、前記還元剤
の濃度測定に妨害を与えない他の陰イオン種に置換した
後、前記還元剤濃度を測定することを特徴とするめっき
液の成分濃度測定法によって達成される。
金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液のI成
分濃度の測定方法であって、前記陰イオンを、前記還元
剤の濃度測定に妨害を与えない他の陰イオン種に置換し
た後、前記還元剤濃度を測定2− し、さらに、原子吸光法またはプラスマ発光分析法によ
って、前記金属成分の濃度を測定することを特徴とする
めっき液の成分19度測定ノア法によって達成される。
分濃度の測定方法であって、前記陰イオンを、前記還元
剤の濃度測定に妨害を与えない他の陰イオン種に置換し
た後、前記還元剤濃度を測定2− し、さらに、原子吸光法またはプラスマ発光分析法によ
って、前記金属成分の濃度を測定することを特徴とする
めっき液の成分19度測定ノア法によって達成される。
前記還元剤濃度を、紫外1及収検、゛(1法または電気
化学定量法で測定することを特徴とすることが好ましい
。
化学定量法で測定することを特徴とすることが好ましい
。
金属成分と、還元性イオンと、非イオン性還元剤とを含
むめっき液の成分濃度側)上方法であって、前記還元性
イオンを非還元性イオンに置換した後、前記非イオン性
還元剤の濃度測定および前記金属成分の濃度測定を行な
うことを特徴とするめつき液の成分濃度測定方法によっ
ても達成される。
むめっき液の成分濃度側)上方法であって、前記還元性
イオンを非還元性イオンに置換した後、前記非イオン性
還元剤の濃度測定および前記金属成分の濃度測定を行な
うことを特徴とするめつき液の成分濃度測定方法によっ
ても達成される。
めっき液中の金属成分濃度の測定およびこの測定に用い
る金属成分濃度測定手段の較正と、めっき液中の還元M
m度の測定およびこの測定に用いる還元剤濃度測定手段
の較正と、めっき液中の陰イオンを前記還元剤の濃度測
定に妨害をiiえない他の陰イオン種に置換する操作と
を、予め設定したシーケンスプログラムに従って、シー
ケンス制御で行ない、さらに、前記測定によって求めら
れた測定値と前記較正によって求められた較正値とから
、めっき液中の金属成分濃度と還元剤濃度を演算によっ
て求めることを特徴とするめっき液の成分濃度測定方法
によっても達成される。
る金属成分濃度測定手段の較正と、めっき液中の還元M
m度の測定およびこの測定に用いる還元剤濃度測定手段
の較正と、めっき液中の陰イオンを前記還元剤の濃度測
定に妨害をiiえない他の陰イオン種に置換する操作と
を、予め設定したシーケンスプログラムに従って、シー
ケンス制御で行ない、さらに、前記測定によって求めら
れた測定値と前記較正によって求められた較正値とから
、めっき液中の金属成分濃度と還元剤濃度を演算によっ
て求めることを特徴とするめっき液の成分濃度測定方法
によっても達成される。
金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液の濃度
調整方法であって、めっき液中の陰イオンを前記還元剤
の濃度測定に妨害を与えない他の陰イオン種に置換した
後、前記金属成分を測定する金属成分濃度測定手段の較
正および前記還元剤成分を測定する還元剤濃度測定手段
の較正と、前記金属成分濃度測定手段による金属成分濃
度の測定および前記還元剤濃度測定手段による還元剤濃
度の測定とから求められた較正値および測定値により、
金属成分と還元剤成分との消費量を演算によって求め、
さらに、前記消費量に相当する還元剤および金属成分を
含む補充液をめっき液に補充することを特徴とするめっ
き液の濃度調整方法によっても達成される。
調整方法であって、めっき液中の陰イオンを前記還元剤
の濃度測定に妨害を与えない他の陰イオン種に置換した
後、前記金属成分を測定する金属成分濃度測定手段の較
正および前記還元剤成分を測定する還元剤濃度測定手段
の較正と、前記金属成分濃度測定手段による金属成分濃
度の測定および前記還元剤濃度測定手段による還元剤濃
度の測定とから求められた較正値および測定値により、
金属成分と還元剤成分との消費量を演算によって求め、
さらに、前記消費量に相当する還元剤および金属成分を
含む補充液をめっき液に補充することを特徴とするめっ
き液の濃度調整方法によっても達成される。
金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液の成分
濃度の調整装置であって、前記陰イオンを、還元剤の濃
度測定を妨害しない陰イオン種に置換するイオン交換手
段と、前記陰イオン種を含む溶液を用いて前記イオン交
換手段を再生する再生手段と、前記還元剤濃度を測定す
るための還元剤濃度測定手段と、前記金属成分濃度を測
定する金属成分濃度測定手段と、前記還元剤濃度測定手
段および前記金属成分濃度測定手段の較正と、還元剤濃
度測定手段および前記金属成分濃度測定手段によるめっ
き液成分の測定とを制御するシーケンス制御手段と、さ
らに、前記測定によって求められた測定値と前記較正に
よって求められた較正値とから、めっき液中の金属成分
濃度と還元剤濃度濃度を演算する演算制御手段とを有す
ることを特徴とするめっき液の成分濃度測定装置によっ
ても達成される。
濃度の調整装置であって、前記陰イオンを、還元剤の濃
度測定を妨害しない陰イオン種に置換するイオン交換手
段と、前記陰イオン種を含む溶液を用いて前記イオン交
換手段を再生する再生手段と、前記還元剤濃度を測定す
るための還元剤濃度測定手段と、前記金属成分濃度を測
定する金属成分濃度測定手段と、前記還元剤濃度測定手
段および前記金属成分濃度測定手段の較正と、還元剤濃
度測定手段および前記金属成分濃度測定手段によるめっ
き液成分の測定とを制御するシーケンス制御手段と、さ
らに、前記測定によって求められた測定値と前記較正に
よって求められた較正値とから、めっき液中の金属成分
濃度と還元剤濃度濃度を演算する演算制御手段とを有す
ることを特徴とするめっき液の成分濃度測定装置によっ
ても達成される。
金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液の成分
濃度の調整装置であって、前記陰イオンを、還元剤の濃
度測定を妨害しない陰イオン種に置換するイオン交換手
段と、前記陰イオン種を含5 6 む溶液を用いて前記イオン交換手段を再生する再生手段
と、前記還元剤濃度を測定するための還元剤濃度測定手
段と、前記金属成分濃度を測定する金属成分濃度測定手
段と、前記還元剤濃度測定手段および前記金属成分濃度
測定手段の動作を制御するシーケンス制御手段と、前記
還元剤濃度および前記金属成分濃度の測定値と、それぞ
れの設定濃度との差から還元剤および金属成分の消費量
を算出する算出手段、および、前記消費量に相当する還
元剤および金属成分を含む補充液を、めっき槽へ供給す
るO(結手段を備えた演算制御手段とを有することを特
徴とするめっき液の成分濃度調整装置によっても達成さ
れる。
濃度の調整装置であって、前記陰イオンを、還元剤の濃
度測定を妨害しない陰イオン種に置換するイオン交換手
段と、前記陰イオン種を含5 6 む溶液を用いて前記イオン交換手段を再生する再生手段
と、前記還元剤濃度を測定するための還元剤濃度測定手
段と、前記金属成分濃度を測定する金属成分濃度測定手
段と、前記還元剤濃度測定手段および前記金属成分濃度
測定手段の動作を制御するシーケンス制御手段と、前記
還元剤濃度および前記金属成分濃度の測定値と、それぞ
れの設定濃度との差から還元剤および金属成分の消費量
を算出する算出手段、および、前記消費量に相当する還
元剤および金属成分を含む補充液を、めっき槽へ供給す
るO(結手段を備えた演算制御手段とを有することを特
徴とするめっき液の成分濃度調整装置によっても達成さ
れる。
本発明の第2の[]的は、
金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液を用い
てめっきを行なうめっき装置であって、前記めっき装置
は、めっき槽とめっき液濃度測定手段、めっき液補充手
段、シーケンス制御手段および演算制御手段を含み、前
記めっき液濃度測定手段は、前記陰イオンを還元剤の濃
度測定を妨害しない他の陰イオン種に置換するイオン交
換手段と、前記還元剤濃度を測定する還元剤濃度測定手
段と、前記金属成分濃度を測定する金属濃度測定手段と
を備え、前記シーケンス制御手段は、前記めっき液濃度
測定手段の動作を制御し、前記演算制御手段は、前記還
元剤濃度および金属成分濃度の測定値と、それぞれの設
定濃度との差から還元剤および金属成分の消費量を算出
する算出手段と、前記消費量に相当する還元剤および金
属成分を含む補充液を、前記めっき液補充部からめっき
槽へ(1を給する供給手段とを備えたことを特徴とする
めっき装置によって達成される。
てめっきを行なうめっき装置であって、前記めっき装置
は、めっき槽とめっき液濃度測定手段、めっき液補充手
段、シーケンス制御手段および演算制御手段を含み、前
記めっき液濃度測定手段は、前記陰イオンを還元剤の濃
度測定を妨害しない他の陰イオン種に置換するイオン交
換手段と、前記還元剤濃度を測定する還元剤濃度測定手
段と、前記金属成分濃度を測定する金属濃度測定手段と
を備え、前記シーケンス制御手段は、前記めっき液濃度
測定手段の動作を制御し、前記演算制御手段は、前記還
元剤濃度および金属成分濃度の測定値と、それぞれの設
定濃度との差から還元剤および金属成分の消費量を算出
する算出手段と、前記消費量に相当する還元剤および金
属成分を含む補充液を、前記めっき液補充部からめっき
槽へ(1を給する供給手段とを備えたことを特徴とする
めっき装置によって達成される。
本発明の第3の目的は、
溶液中に含まれる金属成分の濃度を測定する金属成分濃
度測定手段と、叫゛金属成分濃度を測定する非金属成分
濃度測定手段とを備え、さらに、前記金属成分濃度測定
手段および前記非金属成分濃度測定手段の動作を制御す
る制御機能と、前記金属成分の濃度および前記非金属成
分の濃度の測定値と、それぞれの設定濃度との差から金
属成分と非金属成分の消費量に相当する、金属成分を含
む補充液と非金属成分を含む補充液を供給する供給機能
とを備えたことを特徴とする濃度管理装置によって達1
反される。
度測定手段と、叫゛金属成分濃度を測定する非金属成分
濃度測定手段とを備え、さらに、前記金属成分濃度測定
手段および前記非金属成分濃度測定手段の動作を制御す
る制御機能と、前記金属成分の濃度および前記非金属成
分の濃度の測定値と、それぞれの設定濃度との差から金
属成分と非金属成分の消費量に相当する、金属成分を含
む補充液と非金属成分を含む補充液を供給する供給機能
とを備えたことを特徴とする濃度管理装置によって達1
反される。
」二層金属成分濃度測定手段は、原子吸光光度計または
プラズマ発光分光光度計であることを特徴とすることが
好ましい。
プラズマ発光分光光度計であることを特徴とすることが
好ましい。
上記非金属濃度測定手段は、陰イオン交換器、および、
紫外吸収検出器または電気化学的定量装置を有すること
を特徴とすることがさらに好ましし)。
紫外吸収検出器または電気化学的定量装置を有すること
を特徴とすることがさらに好ましし)。
[作 用]
陰イオン交換器内の陰イオン交換物質を、再生液、例え
ば、KCQ<塩化カリウム)溶液を用いて塩素イオン型
に再生し、その中に一定量の無電解めっき液試料を流し
た場合、めっき液中の亜硫酸イオン、チオ硫酸イオンや
、それらが金属イオンに配位した錯イオン等は、塩素イ
オンに比べて陰イオン交換物質に対する親和性が太きい
ために、陰イオン交換物質に捕捉され、代りにそれと等
当量の塩素イオンが流出する。
ば、KCQ<塩化カリウム)溶液を用いて塩素イオン型
に再生し、その中に一定量の無電解めっき液試料を流し
た場合、めっき液中の亜硫酸イオン、チオ硫酸イオンや
、それらが金属イオンに配位した錯イオン等は、塩素イ
オンに比べて陰イオン交換物質に対する親和性が太きい
ために、陰イオン交換物質に捕捉され、代りにそれと等
当量の塩素イオンが流出する。
一方、無電解めっき液に含まれるチオ尿素、ホルマリン
等の還元剤は、非イオン性のために、陰イオン交換物質
に捕捉されず、そのまま陰イオン交換器から溶出する。
等の還元剤は、非イオン性のために、陰イオン交換物質
に捕捉されず、そのまま陰イオン交換器から溶出する。
こうして、めっき液中に含まれる還元性イオンを除去す
ることができる。
ることができる。
めっき液に含まれる還元剤が、例えば、チオ尿素のよう
に紫外吸収を示す物質の場合には、陰イオン交換器の後
に設けた紫外吸収検出器てチオ尿素の濃度を測定するこ
とができる。また、還元剤が、例えばホリマリンのよう
に紫外吸収を示さない物質の場合には、ホルマリンの酸
化に要する電流量から濃度を算出することができる。
に紫外吸収を示す物質の場合には、陰イオン交換器の後
に設けた紫外吸収検出器てチオ尿素の濃度を測定するこ
とができる。また、還元剤が、例えばホリマリンのよう
に紫外吸収を示さない物質の場合には、ホルマリンの酸
化に要する電流量から濃度を算出することができる。
陰イオン交換物質としては、陰イオン交換樹脂カラム、
陰イオン交換膜等を用いることができる。
陰イオン交換膜等を用いることができる。
陰イオン交換物質の再生液としては、KCl2溶液以外
に塩素イオンの他の塩、すなわち、N a CQ +N
H、CQ溶液を使用することもできる。また、塩素イ
オン以外にも陰イオン交換物質に対する親9 2〇− 相性の小さい陰イオンの溶液、例えばNa1−ICO3
やKHCO3溶液を用いてHCO2型に再生して使用す
ることも可能である。
に塩素イオンの他の塩、すなわち、N a CQ +N
H、CQ溶液を使用することもできる。また、塩素イ
オン以外にも陰イオン交換物質に対する親9 2〇− 相性の小さい陰イオンの溶液、例えばNa1−ICO3
やKHCO3溶液を用いてHCO2型に再生して使用す
ることも可能である。
=一方、めっき液に含まれる金属成分濃度は、原子吸光
光度計により測定される。
光度計により測定される。
上記測定方法により、めっきの進行に伴い濃度低下を起
こす金属イオンおよび還元剤の濃度を測定することがで
きる。
こす金属イオンおよび還元剤の濃度を測定することがで
きる。
演算制御手段は、測定されためっき液の濃度と、前もっ
て設定されためっき液の管理濃度との差から、めっきの
進行に伴う、成分の消費量を求めて補充量を算出する。
て設定されためっき液の管理濃度との差から、めっきの
進行に伴う、成分の消費量を求めて補充量を算出する。
そして、消耗成分量の情報に従い、補充液槽から消費量
を逐次補給することにより、めっき液の成分濃度を常に
一定範囲内に管理する。この結果、めっき速度を一定に
保つことができる。
を逐次補給することにより、めっき液の成分濃度を常に
一定範囲内に管理する。この結果、めっき速度を一定に
保つことができる。
[実施例]
以下に本発明の実施例を挙げ、図面に基づいて、さらに
詳細に説明する。なお、本発明はこれに限定されるもの
ではない。
詳細に説明する。なお、本発明はこれに限定されるもの
ではない。
実施例−1
第1図は、KAuCQ 、、Na、S O3,Na、S
、03およびチオ尿素を主成分とする無電解めっき液中
のチオ尿素濃度の測定に用いる装置の一例を示す説明図
である。
、03およびチオ尿素を主成分とする無電解めっき液中
のチオ尿素濃度の測定に用いる装置の一例を示す説明図
である。
本実施例の濃度測定は、第1図に示すように、キャリヤ
液である水(I■20)を貯留する水槽1、再生液であ
る0、2N−KCU、溶液を貯留する再生液槽2、定量
ポンプ3,4、六方バルブ5、サンプリングループ6、
サンプル注入IXj 36、陰イオン交換器7、陰イオ
ン交換膜チューブ8、紫外吸収検出器9および記録計3
7を備えた測定装置を用いて行なわれる。
液である水(I■20)を貯留する水槽1、再生液であ
る0、2N−KCU、溶液を貯留する再生液槽2、定量
ポンプ3,4、六方バルブ5、サンプリングループ6、
サンプル注入IXj 36、陰イオン交換器7、陰イオ
ン交換膜チューブ8、紫外吸収検出器9および記録計3
7を備えた測定装置を用いて行なわれる。
陰イオン交換器7は、陰イオン交換膜チューブ8を内側
に備えた二重管になっている。陰イオン交換膜チューブ
8は、定量ポンプ4を用いて、2mQ1分の流速で、0
.2N−KCQ、の再生液が再生液槽2から陰イオン交
換膜チューブ8の外筒部分に送られて、常時塩素イオン
型に再生されている。キャリヤ液(1−(。○)は水槽
1から2mfl /分の流速で、常時、陰イオン交換膜
チューブ8内から、紫外吸収検出器9へと送られている
。
に備えた二重管になっている。陰イオン交換膜チューブ
8は、定量ポンプ4を用いて、2mQ1分の流速で、0
.2N−KCQ、の再生液が再生液槽2から陰イオン交
換膜チューブ8の外筒部分に送られて、常時塩素イオン
型に再生されている。キャリヤ液(1−(。○)は水槽
1から2mfl /分の流速で、常時、陰イオン交換膜
チューブ8内から、紫外吸収検出器9へと送られている
。
六方バルブ5が、第工図に示す実線の接続状態である時
に、サンプル注入口36から50倍に希釈されためっき
液試料を注入すると、サンプリングループ6内に一定量
のめっき液試料が採取される。
に、サンプル注入口36から50倍に希釈されためっき
液試料を注入すると、サンプリングループ6内に一定量
のめっき液試料が採取される。
次に、六方バルブ5を切換えて、同図に示す点線状態に
接続すると、キャリヤ液(H20)は、サンブリンクル
ープ6内を流れ、サンプリングループ6内に採取されて
いためっき液試料は陰イオン交換膜チューブ8から紫外
吸収検出器9へと運ばれる。
接続すると、キャリヤ液(H20)は、サンブリンクル
ープ6内を流れ、サンプリングループ6内に採取されて
いためっき液試料は陰イオン交換膜チューブ8から紫外
吸収検出器9へと運ばれる。
めっき液試料中の亜硫酸イオン、チオ硫酸イオンや[A
u(S203)2] 等の金の錯イオン類は、陰イオン
交換膜上に捕捉され、代りに塩素イオンが溶出されてキ
ャリヤ液により紫外吸収検出器9へ送られる。還元剤で
あるチオ尿素は、非イオン性物質であるため、陰イオン
交換膜チューブ8内で捕捉されることなく紫外吸収検出
器9に運ばれる。
u(S203)2] 等の金の錯イオン類は、陰イオン
交換膜上に捕捉され、代りに塩素イオンが溶出されてキ
ャリヤ液により紫外吸収検出器9へ送られる。還元剤で
あるチオ尿素は、非イオン性物質であるため、陰イオン
交換膜チューブ8内で捕捉されることなく紫外吸収検出
器9に運ばれる。
紫外吸収検出器9の測定波長は、240nmに設定され
ている。この紫外吸収検出器9を用いて、以下に述べる
原理に基づき、めっき液中のチオ尿素濃度を測定するこ
とができる。
ている。この紫外吸収検出器9を用いて、以下に述べる
原理に基づき、めっき液中のチオ尿素濃度を測定するこ
とができる。
すなわち、チオ尿素の紫外吸収は第2図に示す吸収曲線
から明らかなように、235nmに極大吸収を示すのに
対して、亜硫酸イオン、チオ硫酸イオン等のイオン交換
により溶出される塩素イオンは紫外吸収を示さない。
から明らかなように、235nmに極大吸収を示すのに
対して、亜硫酸イオン、チオ硫酸イオン等のイオン交換
により溶出される塩素イオンは紫外吸収を示さない。
また、めっきの進行に伴いチオ尿素が酸化されて尿素が
生l戊されるが、この尿素も第2図に示すように、紫外
吸収を示さない。
生l戊されるが、この尿素も第2図に示すように、紫外
吸収を示さない。
したがって、紫外吸収検出器9の波長を235〜24.
Onmに設定すれば、めっき液中のチオ尿素のみの吸光
度を測定することができろ。
Onmに設定すれば、めっき液中のチオ尿素のみの吸光
度を測定することができろ。
なお、めっき液中のチオ尿素濃度の算出は、設定濃度の
チオ尿素標準液を用いて、−1−記と同様の3− 4 操作で吸光度を測定し、それをもとに比例計算で求める
ことができる。
チオ尿素標準液を用いて、−1−記と同様の3− 4 操作で吸光度を測定し、それをもとに比例計算で求める
ことができる。
また、陰イオン交換器7は、陰イオン交換膜チューブ8
を利用する方法の他に、平膜状の陰イオン交換膜を二層
重ね、内側に濃度を測定するめっき液試料、外側に再生
液であるKCQ溶液を流す構造のものであってもよい。
を利用する方法の他に、平膜状の陰イオン交換膜を二層
重ね、内側に濃度を測定するめっき液試料、外側に再生
液であるKCQ溶液を流す構造のものであってもよい。
実施例−2
第3図は、無電解めっき波装置に適用した成分濃度調整
装置の一例の構成を示す。
装置の一例の構成を示す。
本実施例は、上記装置を用いて、KAuCfl、。
Na25o3.Na2S2O3,チオ尿素などを主成分
とする無電解めっき液の成分濃度の調整を行なっている
。
とする無電解めっき液の成分濃度の調整を行なっている
。
本実施例の成分濃度調整装置は、第3図に示すように、
キャリヤ液である水を貯留する水槽1、再生液である0
、2N−KCQ溶液を貯留する再生液槽2、定量ポンプ
3,4、六方バルブ5、サンプリングループ6、陰イオ
ン交換器7、陰イオン交換膜チューブ8および紫外吸収
検出器9を有する。なお、これらは、」二連の第1図に
示した還元剤の濃度測定装置とほぼ同様の構成である。
キャリヤ液である水を貯留する水槽1、再生液である0
、2N−KCQ溶液を貯留する再生液槽2、定量ポンプ
3,4、六方バルブ5、サンプリングループ6、陰イオ
ン交換器7、陰イオン交換膜チューブ8および紫外吸収
検出器9を有する。なお、これらは、」二連の第1図に
示した還元剤の濃度測定装置とほぼ同様の構成である。
本実施例の成分濃度調整装置は、さらに、めっき液の金
成分濃度の測定手段として原子吸光光度計35と、後述
する演算制御部10とを設けている。
成分濃度の測定手段として原子吸光光度計35と、後述
する演算制御部10とを設けている。
本実施例の成分濃度調整装置°は、めっき槽13中のめ
っき液の濃度調整手段として、水槽lと全補充液槽]−
4とチオ尿素補充液槽15とを設けている。また、紫外
吸収検出器9と原子吸光光度言135とを較正するのに
使用される較正液を蓄える全標準液槽11とチオ尿素標
準液槽12とを備えている。
っき液の濃度調整手段として、水槽lと全補充液槽]−
4とチオ尿素補充液槽15とを設けている。また、紫外
吸収検出器9と原子吸光光度言135とを較正するのに
使用される較正液を蓄える全標準液槽11とチオ尿素標
準液槽12とを備えている。
上記各槽と、紫外吸収検出器9および原子吸光光度計3
5とを結ぶ配管系は、定量ポンプ3,4゜25〜27.
33と、サンプリングループ6を備えた六方バルブ5と
、サンプリングループ29を備えた六方バルブ28と、
電磁弁16〜22と、マニホール+:23.24と、弄
釈槽30とを備えて構成される。
5とを結ぶ配管系は、定量ポンプ3,4゜25〜27.
33と、サンプリングループ6を備えた六方バルブ5と
、サンプリングループ29を備えた六方バルブ28と、
電磁弁16〜22と、マニホール+:23.24と、弄
釈槽30とを備えて構成される。
以下、本実施例の配管系について説明する。
水槽1は電磁弁16と結ばれ、全標準液槽11は電磁弁
エフと結ばれ、チオ尿素標準液槽12は電磁弁18と結
ばれ、めっき槽13は電磁弁19と結ばれている。a磁
弁16〜↓9はマニホールド23を介して、定量ポンプ
25の吸引側と接続されている。そして、定量ポンプ2
5の吐出側は六方バルブ28を切換えることにより、六
方バルブ28のサンプルループ29あるいは外部排出口
に通ずるように配管されている。
エフと結ばれ、チオ尿素標準液槽12は電磁弁18と結
ばれ、めっき槽13は電磁弁19と結ばれている。a磁
弁16〜↓9はマニホールド23を介して、定量ポンプ
25の吸引側と接続されている。そして、定量ポンプ2
5の吐出側は六方バルブ28を切換えることにより、六
方バルブ28のサンプルループ29あるいは外部排出口
に通ずるように配管されている。
六方バルブ28の−っのポートは定量ポンプ27の吐出
側と接続されている。定量ポンプ27の吐出側は六方バ
ルブ28を切換えることにより、六方バルブ28のサン
プルループ29あるいは希釈槽30に通ずるように配管
されている。そして、定量ポンプ27の吸引側には水槽
lが接続されている。
側と接続されている。定量ポンプ27の吐出側は六方バ
ルブ28を切換えることにより、六方バルブ28のサン
プルループ29あるいは希釈槽30に通ずるように配管
されている。そして、定量ポンプ27の吸引側には水槽
lが接続されている。
希釈槽30は、オートサンプラー34を備えた原子吸光
光度計35と結ばれている。さらに、希釈槽30は、電
磁弁3工を介して窒素ボンベ32と結ばれ、希釈槽に送
られた測定液を窒素気流中で撹拌することができる。
光度計35と結ばれている。さらに、希釈槽30は、電
磁弁3工を介して窒素ボンベ32と結ばれ、希釈槽に送
られた測定液を窒素気流中で撹拌することができる。
希釈槽30は、定量ポンプ33の吸引側と接続されてい
る。そして、定量ポンプ33の吐出側は六方バルブ5の
−っのポートと接続されている。
る。そして、定量ポンプ33の吐出側は六方バルブ5の
−っのポートと接続されている。
定量ポンプ33の吐出側は六方バルブ5を切換えること
により、六方バルブ5のサンプルループ6あるいは外部
排出口に通ずるように配管されている。
により、六方バルブ5のサンプルループ6あるいは外部
排出口に通ずるように配管されている。
六方バルブ5の他の一つのボートは定量ポンプ3の吐出
側と接続されている。定量ポンプ3の吐出側は六方バル
ブ5を切換えることにより、六方バルブ5のサンプルル
ープ6あるいは陰イオン交換器7に通しるように配管さ
れている。そして、定量ポンプ3の吸引側には水槽1が
接続されている。
側と接続されている。定量ポンプ3の吐出側は六方バル
ブ5を切換えることにより、六方バルブ5のサンプルル
ープ6あるいは陰イオン交換器7に通しるように配管さ
れている。そして、定量ポンプ3の吸引側には水槽1が
接続されている。
再生液槽2は定量ポンプ4の吸引側と接続され、定量ポ
ンプ4の吐出側は陰イオン交換器7と接続されている。
ンプ4の吐出側は陰イオン交換器7と接続されている。
全補充液槽14は電磁弁20と結ばれ、チオ尿=27
素補充液槽15は電磁弁21と結ばれ、水槽1は電磁弁
22と結ばれている。電磁弁20〜22はマニホールド
24を介して、定量ポンプ26の吸引側と接続されてい
る。そして、定量ポンプ26の吐出側には、めっき槽↓
3が配置されている。
22と結ばれている。電磁弁20〜22はマニホールド
24を介して、定量ポンプ26の吸引側と接続されてい
る。そして、定量ポンプ26の吐出側には、めっき槽↓
3が配置されている。
すなわち、全補充液槽j4およびチオ尿素補充液槽15
に蓄えられる多液は、定量ポンプ26により、めっき槽
13に供給されるように配管されている。
に蓄えられる多液は、定量ポンプ26により、めっき槽
13に供給されるように配管されている。
演算制御装置10は、定量ポンプ3,4..2.5〜2
7および33のオン・オフ制御、電磁弁16〜22およ
び3工の開閉制御、六方バルブ5゜28の切換制御、紫
外吸収検出器9および原子吸光光度計35からのデータ
信号の採取、濃度算出、補充する補充液の液量の算出等
の演算操作を行う。
7および33のオン・オフ制御、電磁弁16〜22およ
び3工の開閉制御、六方バルブ5゜28の切換制御、紫
外吸収検出器9および原子吸光光度計35からのデータ
信号の採取、濃度算出、補充する補充液の液量の算出等
の演算操作を行う。
さらに、演算制御装置10は、めっき槽13に、全補充
液槽14、チオ尿素補充液槽15から必要量の補充液を
供給し、めっき液の成分濃度を設定の範囲に調整する。
液槽14、チオ尿素補充液槽15から必要量の補充液を
供給し、めっき液の成分濃度を設定の範囲に調整する。
この演算制御装置は、図示しないが、例えば、8
中央処理装置(CP U)と、このCPUII、’)動
作プログラムや、演算データ等を格納するメモリ、演算
結果を可視表示する出力装置、データ、制御信号等の入
出力処理を行なう■/○、インターフェース、外部から
指示や評価をダ、える入力装置等を備えて構成される。
作プログラムや、演算データ等を格納するメモリ、演算
結果を可視表示する出力装置、データ、制御信号等の入
出力処理を行なう■/○、インターフェース、外部から
指示や評価をダ、える入力装置等を備えて構成される。
次に、めっき槽↓3内のめっき液成分濃度を調整する際
の各部の動作について説明する。
の各部の動作について説明する。
まず、演算制御装置10からの指令により、電磁弁19
を開き、定量ポンプ25を開動させて、めっき槽13か
らめっき液の一部を、六方バルブ28のサンプリングル
ープ29内に採取する。定量ポンプ27は、一定時開陳
動して希釈槽30に一定量のH2O(水)を送入するが
、途中、六方バルブ28の切換えにより、サンプリング
ループ29内に採取しためっき液試料も同時に希釈槽3
0に送り込む。
を開き、定量ポンプ25を開動させて、めっき槽13か
らめっき液の一部を、六方バルブ28のサンプリングル
ープ29内に採取する。定量ポンプ27は、一定時開陳
動して希釈槽30に一定量のH2O(水)を送入するが
、途中、六方バルブ28の切換えにより、サンプリング
ループ29内に採取しためっき液試料も同時に希釈槽3
0に送り込む。
その後、電磁弁31を開いて、短時間窒素ガスを希釈槽
30に流して液の撹拌を行い、めっき液を希釈槽30内
で所定倍率に希釈する。希釈めっき液試料の一部は、オ
ートサンプラー34で原子吸光光度計35に送られ、め
っき液中の全濃度の測定が行われる。
30に流して液の撹拌を行い、めっき液を希釈槽30内
で所定倍率に希釈する。希釈めっき液試料の一部は、オ
ートサンプラー34で原子吸光光度計35に送られ、め
っき液中の全濃度の測定が行われる。
一方、定量ポンプ33の開動により、希釈めっき液試料
の一部は、六方バルブ5のサンプリングループ6内に分
取され、以下、第1図に示した還元剤の濃度測定装置に
おける方法と同様の方法でめっき液中のチオ尿素の濃度
が測定される。
の一部は、六方バルブ5のサンプリングループ6内に分
取され、以下、第1図に示した還元剤の濃度測定装置に
おける方法と同様の方法でめっき液中のチオ尿素の濃度
が測定される。
なお、これら六方バルブの切換えおよび定量ポンプの開
動等は、演算制御装置10を用いて自動制御によって行
われる。
動等は、演算制御装置10を用いて自動制御によって行
われる。
原子吸光光度計35および紫外吸収検出器9の較正は、
金標準液槽工1に蓄えられた金の標準液およびチオ尿素
標準液槽12に蓄えられたチオ尿素の標準液を、めっき
液中の金、チオ尿素の管理(設定)濃度と等濃度に調整
し、最低1口上回、上記めっき液の成分濃度測定の場合
と同様の操作で実施する。
金標準液槽工1に蓄えられた金の標準液およびチオ尿素
標準液槽12に蓄えられたチオ尿素の標準液を、めっき
液中の金、チオ尿素の管理(設定)濃度と等濃度に調整
し、最低1口上回、上記めっき液の成分濃度測定の場合
と同様の操作で実施する。
標準液を用いて得られた較正値を、演算制御装置10に
記憶させておき、それとの比例計算により、めっき液中
の金、チオ尿素濃度を算出し、さらに、管理濃度からの
ずれをもとに、それらの補充量を算出する。
記憶させておき、それとの比例計算により、めっき液中
の金、チオ尿素濃度を算出し、さらに、管理濃度からの
ずれをもとに、それらの補充量を算出する。
そして、定量ポンプ26を用いて、金補充液槽工4およ
びチオ尿素補充液槽15から、それぞれの補充液を−1
−記算出した補充量分、めっき槽13に補充する。
びチオ尿素補充液槽15から、それぞれの補充液を−1
−記算出した補充量分、めっき槽13に補充する。
すなわち、」二層の方法で測定した金、チオ尿素の濃度
、金、チオ尿素の補充液の濃度、めっき槽13の液量、
定量ポンプ26の流速をもとに、金。
、金、チオ尿素の補充液の濃度、めっき槽13の液量、
定量ポンプ26の流速をもとに、金。
チオ尿素の補充時間を算出し、電rclLJf”20お
よび21を順次所定時間開放することにより、必要量の
補充液を補充することができる。
よび21を順次所定時間開放することにより、必要量の
補充液を補充することができる。
なお、全補充後およびチオ尿素補充後には、電磁弁22
を開いて配管系を水で洗浄する。
を開いて配管系を水で洗浄する。
(以下余白)
1−
2
実施例−3
第4図は、第3図とは異なる濃度管理装置の一実施例を
示す。
示す。
本実施例は、第3図で示す実施例と同様に、測定装置と
して原子吸光光度計と紫外吸収検出器とを使用している
が、本実施例はあらたにpH電極を設け、さらに、原子
吸光光度計の較正方法と配管系とが異なる。
して原子吸光光度計と紫外吸収検出器とを使用している
が、本実施例はあらたにpH電極を設け、さらに、原子
吸光光度計の較正方法と配管系とが異なる。
金成分としてKAuCQ、を含み、還元性を有するNa
、、5703.Na2S○3.チオ尿素を含む無電解め
っき液の濃度を管理する例を説明する。
、、5703.Na2S○3.チオ尿素を含む無電解め
っき液の濃度を管理する例を説明する。
本実施例の濃度管理装置は、めっき液中の金の成分濃度
を測定する原子吸光光度計102と、亜硫酸イオンとチ
オ硫酸イオンなどの還元性の陰イオンを、非還元性のイ
オンに交換するイオン交換膜チューブ201を備えた陰
イオン交換器202と、めっき液中で還元剤として働く
、チオ尿素の成分濃度を測定する紫外吸収検出器203
と、pH電極302およびpHメーター303と、各測
定装置の較正およびめっき液成分の濃度測定を行なわせ
る制御機能を備えたシーケンサ501と、めっき$成分
の消費量を算出する演算機能および?y4費された成分
の供給を制御する供給制御機能とを備えた演算制御手段
401どを有する。
を測定する原子吸光光度計102と、亜硫酸イオンとチ
オ硫酸イオンなどの還元性の陰イオンを、非還元性のイ
オンに交換するイオン交換膜チューブ201を備えた陰
イオン交換器202と、めっき液中で還元剤として働く
、チオ尿素の成分濃度を測定する紫外吸収検出器203
と、pH電極302およびpHメーター303と、各測
定装置の較正およびめっき液成分の濃度測定を行なわせ
る制御機能を備えたシーケンサ501と、めっき$成分
の消費量を算出する演算機能および?y4費された成分
の供給を制御する供給制御機能とを備えた演算制御手段
401どを有する。
演算制御装置40↓は、前辻した実施例−2に示す演算
制御装置10とほぼ同様に構成される。
制御装置10とほぼ同様に構成される。
シーケンサ50.1は、あらかしめ設定したプログラム
制御手順をプログラムとして格納するメモリと、このメ
モリに格納されるプロクラ11に従って、電磁弁、定量
ポンプ、六方バルブ等の動作を、逐次、制御するCPU
とを備えて構成される。
制御手順をプログラムとして格納するメモリと、このメ
モリに格納されるプロクラ11に従って、電磁弁、定量
ポンプ、六方バルブ等の動作を、逐次、制御するCPU
とを備えて構成される。
シーケンサ50↓は、演算制御手段40]、の指示によ
り作動する。
り作動する。
なお、第4図において、実線は配管系であり、破線は信
号の伝達路である。シーケンサ50↑の伝達路は図示し
ていない。
号の伝達路である。シーケンサ50↑の伝達路は図示し
ていない。
さらに、本実施例の濃度管理装置は、原子吸光光度計1
02を較正する標準液に用いられる金属成分標準液槽6
10ならびに還元剤添加液槽618と、紫外吸収検出器
203を較正する標準液を蓄える還元剤標準液槽611
と、p I−I電極302を較正する標準液を蓄えるp
H緩衝液槽612と、めっきによって消費された金属イ
オンを補充する金属成分補充液槽614と、めっきによ
って消費された還元剤を補充する還元剤補充液槽615
と、p Hを調整するpH調整液補充液槽6]6とを有
する。
02を較正する標準液に用いられる金属成分標準液槽6
10ならびに還元剤添加液槽618と、紫外吸収検出器
203を較正する標準液を蓄える還元剤標準液槽611
と、p I−I電極302を較正する標準液を蓄えるp
H緩衝液槽612と、めっきによって消費された金属イ
オンを補充する金属成分補充液槽614と、めっきによ
って消費された還元剤を補充する還元剤補充液槽615
と、p Hを調整するpH調整液補充液槽6]6とを有
する。
陰イオン交換器202に流される陰イオンを供給する再
生溶液は、再生液槽619に蓄えられる。
生溶液は、再生液槽619に蓄えられる。
また、iI!L!管の洗浄および試料溶液の希釈に使用
される水は、水槽617に蓄え!:)れる。
される水は、水槽617に蓄え!:)れる。
演算制御手段401の指令により、めっき槽61〜65
に補充される補充液には、金属成分補充液槽614、還
元剤補充液槽615およびp H調整液補充液#l16
16に蓄えられる液が使用される。
に補充される補充液には、金属成分補充液槽614、還
元剤補充液槽615およびp H調整液補充液#l16
16に蓄えられる液が使用される。
第4図に図示されているめっき槽61〜65は、本実施
例の装置の中に組み込まれても、あるいは、装置外から
配管系によって結ばれていてもよい。
例の装置の中に組み込まれても、あるいは、装置外から
配管系によって結ばれていてもよい。
また、めっき槽の数は5個に限定されるものではない。
前記各測定装置および前記各溶液槽は配管系によって結
ばれており、各配管系には目的に応して、電磁弁、マニ
ホールド、三方バルブ、六j)バルブおよび定量ポンプ
が設けられている。
ばれており、各配管系には目的に応して、電磁弁、マニ
ホールド、三方バルブ、六j)バルブおよび定量ポンプ
が設けられている。
めっき槽61〜65には、その−・方に、各々、電磁弁
626〜630が接続されている。電磁弁625の一方
は水槽617と接続している。電磁弁625〜630の
他方はマユホールl; 64 ]を介して三方バルブ6
50の一方に接続している。
626〜630が接続されている。電磁弁625の一方
は水槽617と接続している。電磁弁625〜630の
他方はマユホールl; 64 ]を介して三方バルブ6
50の一方に接続している。
前記金属成分標l(1+液槽6 、L Oと、還元剤標
ン(0液槽61]と、pH緩衝液槽612と、後込する
Na2S2O3溶液槽613とは、その一方に、各々、
電磁弁621〜624が接続されている。電磁弁620
の−・方は水槽617と接続している。電磁弁620〜
624の他方は、マニホールド 640を介して三方バ
ルブ650の一方に接続している。
ン(0液槽61]と、pH緩衝液槽612と、後込する
Na2S2O3溶液槽613とは、その一方に、各々、
電磁弁621〜624が接続されている。電磁弁620
の−・方は水槽617と接続している。電磁弁620〜
624の他方は、マニホールド 640を介して三方バ
ルブ650の一方に接続している。
三方バルブ650の残る一方は、試料採取用の定量ポン
プ651の吸入側に接続されており、試料採取用の定量
ポンプ651の吐出側は、ザンプ5 ルループ661を持っ六方バルブ660の1つのボート
・に接続している。六方バルブ660の別のボートには
pH電極302が挿入されたフローセル301が接続し
ている。フローセル301には、pH電極302が押入
されており、そこで測定されるp Hは、pHメータ3
03に表示される。
プ651の吸入側に接続されており、試料採取用の定量
ポンプ651の吐出側は、ザンプ5 ルループ661を持っ六方バルブ660の1つのボート
・に接続している。六方バルブ660の別のボートには
pH電極302が挿入されたフローセル301が接続し
ている。フローセル301には、pH電極302が押入
されており、そこで測定されるp Hは、pHメータ3
03に表示される。
吸引側が水槽61.7に接続している定量ポンプ652
は、その吐出側を六方バルブ660を介して希釈槽67
0に接続している。希釈槽670内には、窒素ガスボン
ベ680から電磁弁681を介して窒素ガスが送り込ま
れる。電磁弁67]は希釈槽670内の溶液を廃棄する
際に用いられる。
は、その吐出側を六方バルブ660を介して希釈槽67
0に接続している。希釈槽670内には、窒素ガスボン
ベ680から電磁弁681を介して窒素ガスが送り込ま
れる。電磁弁67]は希釈槽670内の溶液を廃棄する
際に用いられる。
定量ポンプ656の吸引側は、希釈槽670から、サン
プルループ665を持つ六方バルブ664、および、サ
ンプルループ667を持つ六方バルブ666を通る希釈
試料採取用の配管がつながっている。
プルループ665を持つ六方バルブ664、および、サ
ンプルループ667を持つ六方バルブ666を通る希釈
試料採取用の配管がつながっている。
定量ポンプ654の吸引側は、サンプルループ663を
持つ六方バルブ662を介して還元剤添加液槽618に
接れ“εされている。定量ポンプ36 655の吸引側は水槽617に接続されており、定量ポ
ンプ655の吐出側は六方バルブ6 G 2 t;よび
664を介して希釈槽672に接続されている。
持つ六方バルブ662を介して還元剤添加液槽618に
接れ“εされている。定量ポンプ36 655の吸引側は水槽617に接続されており、定量ポ
ンプ655の吐出側は六方バルブ6 G 2 t;よび
664を介して希釈槽672に接続されている。
希釈槽672からは、オー1〜サンプラー↓01によっ
て、測定試料が原子吸3’G光度計102に送られる。
て、測定試料が原子吸3’G光度計102に送られる。
希釈槽672内には、電磁弁682を介して窒素ガスが
送られる。電磁弁673ば、溶液廃棄用の電磁j↑であ
る。
送られる。電磁弁673ば、溶液廃棄用の電磁j↑であ
る。
定量ポンプ657の吸引側は、水槽617に接続してい
る。そして、定量ポンプ657の吐出側からは、六方バ
ルブ666を介してイオン交換膜チューブ201から紫
外吸収検出器203へと、キャリヤー液(I−I 20
)が定速で送られる1、定量ポンプ658は、再生液槽
619から、再生溶液をイオン交換器202の外筒に送
る。
る。そして、定量ポンプ657の吐出側からは、六方バ
ルブ666を介してイオン交換膜チューブ201から紫
外吸収検出器203へと、キャリヤー液(I−I 20
)が定速で送られる1、定量ポンプ658は、再生液槽
619から、再生溶液をイオン交換器202の外筒に送
る。
金属成分補充液槽614は、電磁弁636を介して、還
元剤補充液槽61Sは、電磁j↑、637を介して、p
H調整液補充液槽弓1Gは、1゛h、磁製638を介
して、水槽617は、′?U5.磁弁63磁製介して、
マニホールド643と結ばれている。そして、マニホー
ルド643は、補充用の定量ポンプ653の吸引側に接
続している。補充用の定量ポンプ653の吐出側は、マ
ニホールド642を介して電磁弁631〜635の一方
に接続しており、各fI!磁弁磁製めっき槽61〜65
に接続している。
元剤補充液槽61Sは、電磁j↑、637を介して、p
H調整液補充液槽弓1Gは、1゛h、磁製638を介
して、水槽617は、′?U5.磁弁63磁製介して、
マニホールド643と結ばれている。そして、マニホー
ルド643は、補充用の定量ポンプ653の吸引側に接
続している。補充用の定量ポンプ653の吐出側は、マ
ニホールド642を介して電磁弁631〜635の一方
に接続しており、各fI!磁弁磁製めっき槽61〜65
に接続している。
PHメータの較正、原子吸光光度計102の較正、紫外
吸光検出器203の較正、めっき液のpH測定、めっき
液の還元剤成分の濃度測定およびめっき液の金成分の濃
度測定に必要な各操作は、演算制御手段401の指令に
よりシーケンサ501によって行なわれる。
吸光検出器203の較正、めっき液のpH測定、めっき
液の還元剤成分の濃度測定およびめっき液の金成分の濃
度測定に必要な各操作は、演算制御手段401の指令に
よりシーケンサ501によって行なわれる。
すなオ〕ち、電磁弁620〜630,671゜673.
681,682、定量ポンプ651゜652.654〜
658、三方バルブ650、六方バルブ660,662
,664,666が、シーケンサ50↓からの指令によ
って順次作動する。
681,682、定量ポンプ651゜652.654〜
658、三方バルブ650、六方バルブ660,662
,664,666が、シーケンサ50↓からの指令によ
って順次作動する。
シーケンサ501および演算制御手段401の操作の流
れを示す第5図を用いて、測定装置の較正法およびめっ
き液成分の濃度測定法について説明する。第5図におい
て、二重枠で囲まれた操作は演算制御手段4.01が行
ない、他はシーケンサ501か行なう。
れを示す第5図を用いて、測定装置の較正法およびめっ
き液成分の濃度測定法について説明する。第5図におい
て、二重枠で囲まれた操作は演算制御手段4.01が行
ない、他はシーケンサ501か行なう。
p T−Iメータの較正は、以下のようにして行なわれ
る。
る。
電磁弁623と三方バルブ650と六方バルブ660と
を経て、フローセル301内に送りこむ流路を形成し、
定量ポンプ651を駆動させて、緩衝液槽612に入っ
たホウ酸すトリウム緩衝液(pH約9.2)を、フロー
セル301内に流し込む。定量ポンプ651を一定時間
暉動後に停止して、pH緩衝液のpHを、フローセル3
01に押入されたpH電極302を用いて測定する。
を経て、フローセル301内に送りこむ流路を形成し、
定量ポンプ651を駆動させて、緩衝液槽612に入っ
たホウ酸すトリウム緩衝液(pH約9.2)を、フロー
セル301内に流し込む。定量ポンプ651を一定時間
暉動後に停止して、pH緩衝液のpHを、フローセル3
01に押入されたpH電極302を用いて測定する。
pH測定後、電磁バルブ6.20を開き、定量ポンプ6
51を駆動させ、p I−I電極セル等の洗浄を行う。
51を駆動させ、p I−I電極セル等の洗浄を行う。
演算制御手段401には、予めくり返しの予備実験によ
り求めた較正値の変動許容範囲を記憶させておき、求め
た較正値の異常イ直検定を行う。
り求めた較正値の変動許容範囲を記憶させておき、求め
た較正値の異常イ直検定を行う。
9
許容範囲は、予めくり返しの予備実験により較正値の変
動巾を求め、適切な範囲に設定する。
動巾を求め、適切な範囲に設定する。
p I(メータの較正、および、後述する紫外吸収検出
器203の較正、原子吸光光度計102の較正、めっき
液成分の濃度測定では、pHメータ303、p I−1
電極302、原子吸光光度計1−02、紫外吸収検出器
203の異常やイオン交換器のイオン交換能の低下、各
定量ポンプの異常、各配管系の液漏れ、配管途中での気
泡の発生などが直ちに測定器の較正値、めっき液成分の
濃度測定値に影響を与える。
器203の較正、原子吸光光度計102の較正、めっき
液成分の濃度測定では、pHメータ303、p I−1
電極302、原子吸光光度計1−02、紫外吸収検出器
203の異常やイオン交換器のイオン交換能の低下、各
定量ポンプの異常、各配管系の液漏れ、配管途中での気
泡の発生などが直ちに測定器の較正値、めっき液成分の
濃度測定値に影響を与える。
較正値が後述する許容範囲をはずれたときは、警報で作
業者に知らせ、再び測定をするか、あるいは、測定を終
了するかの確認を行なう。こうして、誤った測定値をも
とでの、誤った管理を防ぐ。
業者に知らせ、再び測定をするか、あるいは、測定を終
了するかの確認を行なう。こうして、誤った測定値をも
とでの、誤った管理を防ぐ。
紫外吸光光度計203の較正は、以下のようにして行な
われる。
われる。
定量ポンプ65↓により、還元剤標準液槽6]、1に蓄
えられた還元剤標準液をサンプルループ661に取り込
んだ後、定量ポンプ652を一4〇− 定時間駆動することにより、水槽617から、希釈槽6
70に一定量の水を送入する。その途中で六方バルブ6
60を切り換えて、サンプルループ661内の還元剤標
準液を同時に希釈槽670に送り込み、希釈槽670内
で還元剤標準液を、例えば50倍に希釈する。さらに、
定量ポンプ656を駆動して、サンプルループ667内
に希釈標準液を採取する。
えられた還元剤標準液をサンプルループ661に取り込
んだ後、定量ポンプ652を一4〇− 定時間駆動することにより、水槽617から、希釈槽6
70に一定量の水を送入する。その途中で六方バルブ6
60を切り換えて、サンプルループ661内の還元剤標
準液を同時に希釈槽670に送り込み、希釈槽670内
で還元剤標準液を、例えば50倍に希釈する。さらに、
定量ポンプ656を駆動して、サンプルループ667内
に希釈標準液を採取する。
」二層希釈標準液は、イオン交換膜チューブ201を経
て、測定波長が240 n mに設定されている紫外吸
収検出器203で測定される。
て、測定波長が240 n mに設定されている紫外吸
収検出器203で測定される。
50倍に希釈された還元剤標準液を、2回サンプリング
して測定を行なう。
して測定を行なう。
演算制御手段40丁は、2回の測定の平均値を算出し、
異常値検定を行う。
異常値検定を行う。
異常値検定は、2回くり返して測定された債の平均値お
よびばらつき(差の絶対値)の両方で行う。平均値又は
ばらつきのいずれか一方が、あらかじめ入力された許容
範囲をはずれた場合は、警報で作業者に知らせ、再び測
定をするか、あるいは、測定を終了するかの確認を行な
う。
よびばらつき(差の絶対値)の両方で行う。平均値又は
ばらつきのいずれか一方が、あらかじめ入力された許容
範囲をはずれた場合は、警報で作業者に知らせ、再び測
定をするか、あるいは、測定を終了するかの確認を行な
う。
このため、これら装置の異常を早急に発見できるように
、許容範囲は、予めくり返しの予備実験により適切な範
囲に設定する。
、許容範囲は、予めくり返しの予備実験により適切な範
囲に設定する。
原子吸光光度計1.02の較正は、以下のようにして行
なわれる。
なわれる。
標準液は、本実施例で使用するめっき液から還元剤であ
るチオ尿素を除去した金属成分標準液と、チオ尿素溶液
からなる還元剤添加液とを混合した液を用いて行なわれ
る。
るチオ尿素を除去した金属成分標準液と、チオ尿素溶液
からなる還元剤添加液とを混合した液を用いて行なわれ
る。
金属成分標準液槽610に蓄えられた全標準液を希釈槽
670内で、紫外吸収検出器の標準液の作成と同様にし
て、例えば50倍希釈する。
670内で、紫外吸収検出器の標準液の作成と同様にし
て、例えば50倍希釈する。
定量ポンプ656を開動して、サンプルループ665内
に上記希釈標準液を採取する。この時、同時に定量ポン
プ654を開動して、サンプルループ663内に、還元
剤添加液槽618からチオ尿素溶液を採取する。そして
、定量ポンプ655を一定時間開動し、その途中で、六
方バルブ664と六方バルブ662とを同時に切換えて
、サンプルループ663内のチオ尿素溶液と、サンプル
ループ665内の希釈槽7<f!温溶液同時に希釈槽6
72に送り、希釈槽672の混合溶液を、例えば、10
0倍希釈する。
に上記希釈標準液を採取する。この時、同時に定量ポン
プ654を開動して、サンプルループ663内に、還元
剤添加液槽618からチオ尿素溶液を採取する。そして
、定量ポンプ655を一定時間開動し、その途中で、六
方バルブ664と六方バルブ662とを同時に切換えて
、サンプルループ663内のチオ尿素溶液と、サンプル
ループ665内の希釈槽7<f!温溶液同時に希釈槽6
72に送り、希釈槽672の混合溶液を、例えば、10
0倍希釈する。
標準液は、チオ尿素添加液濃度とサンプルループ663
の容積とを調整して、めっき液管理濃度の組成化に近い
ものにする。
の容積とを調整して、めっき液管理濃度の組成化に近い
ものにする。
」二層の方法で得られた標準液は、オー1〜サンプラー
101により採取された後、原子吸光光度計102で測
定される。再び、希釈槽672内の標準液をサンブリン
クして測定を行なう。
101により採取された後、原子吸光光度計102で測
定される。再び、希釈槽672内の標準液をサンブリン
クして測定を行なう。
H1!l定後は、電磁弁67↓、673を開いて希釈試
料を廃棄し、定量ポンプ652,655てH2Oを送っ
て、希釈槽670,672の洗浄を行う。
料を廃棄し、定量ポンプ652,655てH2Oを送っ
て、希釈槽670,672の洗浄を行う。
また、電磁バルブ620を開いて定量ポンプ651を開
動させ、標準液採取用の配管系の水洗を行う。
動させ、標準液採取用の配管系の水洗を行う。
演算制御手段401は、2回の測定の平均値を算出し、
前述した紫外吸収検出器の異常検定と同様にして異常値
検定を行う。
前述した紫外吸収検出器の異常検定と同様にして異常値
検定を行う。
3−
4−
異常値が測定された場合には、警報装置が鳴り作業者に
異常を知らせ、再び測定をするか、あるいは、測定を終
了するかの確認を行なう。
異常を知らせ、再び測定をするか、あるいは、測定を終
了するかの確認を行なう。
p )(メータ303、原子吸光光度計102、紫外吸
収検出器203は、最低1日1回転正を行うとよい。
収検出器203は、最低1日1回転正を行うとよい。
めっき液の成分濃度の測定および補給量の算出について
説明する。
説明する。
めっき液のpH測定は、以下のようにする。
例えばめっき槽61からめっき液を、定量ポンプ651
を開動して、電磁弁626と三方バルブ650と六方バ
ルブ660とを経て、フローセル301へ送る。定量ポ
ンプ651を停止後、フローセル301内のめっき液の
pHを、pH電極302て測定する。その後、配管系の
洗浄を行う。
を開動して、電磁弁626と三方バルブ650と六方バ
ルブ660とを経て、フローセル301へ送る。定量ポ
ンプ651を停止後、フローセル301内のめっき液の
pHを、pH電極302て測定する。その後、配管系の
洗浄を行う。
めっき液の還元剤成分の濃度測定は、以下のようにする
。
。
例えばめっき槽61からめっき液を、定量ポンプ65」
を開動して、電磁弁626と三方バルブ650とを経て
、六方バルブ660のサンプルループ661内に流し込
む。
を開動して、電磁弁626と三方バルブ650とを経て
、六方バルブ660のサンプルループ661内に流し込
む。
定量ポンプ652を開動して、水槽6↓7から、希釈槽
670に一定量の水を送入する。その途中、上述したサ
ンプルループ661内のめっき液試料を、同時に希釈槽
670に送り込み、50倍に希釈する。
670に一定量の水を送入する。その途中、上述したサ
ンプルループ661内のめっき液試料を、同時に希釈槽
670に送り込み、50倍に希釈する。
電磁弁681を開いて短時間、窒素ガスを希釈槽670
に流して液の撹押を行う。
に流して液の撹押を行う。
希釈槽670内の50倍希釈試料の−・部を、サンプル
ループ667に送りこめるように、六方バルブ666を
切換え、定量ポンプ656を開動して、希釈試料をサン
プルループ667に送る。
ループ667に送りこめるように、六方バルブ666を
切換え、定量ポンプ656を開動して、希釈試料をサン
プルループ667に送る。
陰イオン交換膜チューブ201には、定量ポンプ657
により2 m Q /分の流速でFr2Oが常時送られ
ている。また、六方バルブ666の切換えにより、サン
プルループ667内に採取された希釈試料が、陰イオン
交換膜チューブ201に送られる。
により2 m Q /分の流速でFr2Oが常時送られ
ている。また、六方バルブ666の切換えにより、サン
プルループ667内に採取された希釈試料が、陰イオン
交換膜チューブ201に送られる。
陰イオン交換器202の陰イオン交換膜チューブ20王
の外側には、定量ポンプ658により、再生液槽619
に蓄えられている例えば0.2N−I<CQ溶液が、例
えば2mQ/分の流速で送られ、陰イオン交換膜チュー
ブ201は常に塩素イオン型に再生されている。この陰
イオン交換膜チューブ201内にめっき液試料が送られ
ると、めっき液中の亜硫酸イオンとチオ硫酸イオンと全
錯体等とは、陰イオン交換膜」二に捕捉され、代りに塩
素イオンが溶出する。
の外側には、定量ポンプ658により、再生液槽619
に蓄えられている例えば0.2N−I<CQ溶液が、例
えば2mQ/分の流速で送られ、陰イオン交換膜チュー
ブ201は常に塩素イオン型に再生されている。この陰
イオン交換膜チューブ201内にめっき液試料が送られ
ると、めっき液中の亜硫酸イオンとチオ硫酸イオンと全
錯体等とは、陰イオン交換膜」二に捕捉され、代りに塩
素イオンが溶出する。
一方、還元剤であるチオ尿素は、非イオン性物質のため
、陰イオン交換膜チューブ20↓内で捕捉されることな
く、溶出した塩素イオンと共に紫外吸収検出器203に
送られる。
、陰イオン交換膜チューブ20↓内で捕捉されることな
く、溶出した塩素イオンと共に紫外吸収検出器203に
送られる。
紫外吸収検出器203の測定波長は、チオ尿素が吸収を
示す240nmに設定されている。塩素イオンは24.
0 n mで吸収を示さないため、チオ尿素のみによる
吸光度が測定される。
示す240nmに設定されている。塩素イオンは24.
0 n mで吸収を示さないため、チオ尿素のみによる
吸光度が測定される。
再び、定量ポンプ657を駆動して、サンプルループ6
67内に50倍希釈試料を採取し、同様の操作をくり返
し、吸光度を2回測定する。
67内に50倍希釈試料を採取し、同様の操作をくり返
し、吸光度を2回測定する。
めっき液の金成分の濃度測定は、以下のようにする。
上記希釈槽670内にある50倍希釈試料の一部を、サ
ンプルループ665に送りこむように六方バルブ664
を接続し、定量ポンプ656を駆動して、希釈試料をサ
ンプルループ665に送る。
ンプルループ665に送りこむように六方バルブ664
を接続し、定量ポンプ656を駆動して、希釈試料をサ
ンプルループ665に送る。
定量ポンプ655を一定時間原動して、一定量の水を希
釈槽672に挿入する。その途中で六方バルブ664を
切換えて、サンプルループ665内の希釈試料を希釈槽
672内に送りこみ、例えば100倍に希釈する。電磁
−)(、6a 2を開いて、窒素ガスで撹拌を行う。2
段希釈された希釈槽672内の試料の一部は、オートサ
ンプラー101で原子吸光光度計102に送られ、全濃
度の測定が行われる。
釈槽672に挿入する。その途中で六方バルブ664を
切換えて、サンプルループ665内の希釈試料を希釈槽
672内に送りこみ、例えば100倍に希釈する。電磁
−)(、6a 2を開いて、窒素ガスで撹拌を行う。2
段希釈された希釈槽672内の試料の一部は、オートサ
ンプラー101で原子吸光光度計102に送られ、全濃
度の測定が行われる。
再び、オートサンプラー101を稼動し希釈液のサンプ
リングを行ない、全濃度測定を行なう。
リングを行ない、全濃度測定を行なう。
測定後は、電磁弁671,673を開いて希釈試料を廃
棄し、定量ポンプ652,655でH2Oを送って希釈
槽670,672の洗浄を行う。また、電磁バルブ62
5を開いて定量ポンプ7 65]を開動させ、めっき液採取用の配管系の水洗を行
う。
棄し、定量ポンプ652,655でH2Oを送って希釈
槽670,672の洗浄を行う。また、電磁バルブ62
5を開いて定量ポンプ7 65]を開動させ、めっき液採取用の配管系の水洗を行
う。
演算制御手段4 0 1は、2回の測定で得られためっ
き液中の金成分濃度の測定値およびめっき液中の還元剤
成分濃度の測定値の平均値と、前記標l(f!液を2回
くり返して測定した較正値の平均値との比例引算を、(
1)式のようにして行ない、めっき液中の金およびチオ
尿素濃度を算出する。
き液中の金成分濃度の測定値およびめっき液中の還元剤
成分濃度の測定値の平均値と、前記標l(f!液を2回
くり返して測定した較正値の平均値との比例引算を、(
1)式のようにして行ない、めっき液中の金およびチオ
尿素濃度を算出する。
求めるめっき液の濃度
測定俯×標準液濃度
較正値 ・・・・・・(1)測定装置にバッ
クグランドがある場合でも、標準液と目標管理濃度とが
ほぼ同し濃度であれば、この近傍での誤差は極めて小さ
い。
クグランドがある場合でも、標準液と目標管理濃度とが
ほぼ同し濃度であれば、この近傍での誤差は極めて小さ
い。
もちろん、濃度測定方法は上記方法に限ることはなく、
濃度違いの標準液を数種類用いて検量線を作成してもよ
い。
濃度違いの標準液を数種類用いて検量線を作成してもよ
い。
演算制御手段401は、算出されためっき液の濃度およ
びp I−1値が設定濃度の許容範囲に入っているかを
検定する。許容範囲からはずれている場合には、警報で
作業者に知らせ、再び測定をするか、あるいは、測定を
終了するかの確認を行なう。
びp I−1値が設定濃度の許容範囲に入っているかを
検定する。許容範囲からはずれている場合には、警報で
作業者に知らせ、再び測定をするか、あるいは、測定を
終了するかの確認を行なう。
こうして、誤った測定値をもとでの、誤った管理を防く
。
。
さらに、演算制御手段401は、算出されためっき液の
濃度と設定濃度との斧から、めっきの進行に伴う、成分
の消費量を求めて、補給量を算出する。補充は、補充量
に応して、電磁弁の開閉時間およびポンプの開動時間を
変える必要があるので、演算制御手段401がその制御
を行なう。
濃度と設定濃度との斧から、めっきの進行に伴う、成分
の消費量を求めて、補給量を算出する。補充は、補充量
に応して、電磁弁の開閉時間およびポンプの開動時間を
変える必要があるので、演算制御手段401がその制御
を行なう。
前記金属成分補充液槽61/I、還元剤補充液槽6↓5
からめっき液槽への補充は、電磁バルブ631〜635
を開き、定量ポンプ653を稼動して行なわれる。
からめっき液槽への補充は、電磁バルブ631〜635
を開き、定量ポンプ653を稼動して行なわれる。
金、チオ尿素の補充液の濃度、めっき槽の液量、定量ポ
ンプ653の流速などかノ5金、チオ尿素の補給時間を
算出し、電磁弁636および637を順次所定時間開放
して、必要量を補充する。
ンプ653の流速などかノ5金、チオ尿素の補給時間を
算出し、電磁弁636および637を順次所定時間開放
して、必要量を補充する。
pH調整液の補充は、めっき液のpH測定値に応じて、
予め設定した補充時間だけ電磁弁638を開いてp I
−(調整液の補給を行う。
予め設定した補充時間だけ電磁弁638を開いてp I
−(調整液の補給を行う。
各補充液の補充後には、その都度電磁弁639を一定時
間開いて、配管系を水で洗浄する。
間開いて、配管系を水で洗浄する。
さらに、本実施例の演算制御手段は、陰イオン交換器2
02のイオン交換能をチエツクするプログラムを備えて
いる。
02のイオン交換能をチエツクするプログラムを備えて
いる。
めっき液中のチオ尿素濃度のみが許容巾を上回った場合
、その原因として、陰イオン交換器202のイオン交換
能の低下が考えられる。この時、作業者のプログラム選
択により、以下の操作(自動)でチエツクを行うことが
できる。
、その原因として、陰イオン交換器202のイオン交換
能の低下が考えられる。この時、作業者のプログラム選
択により、以下の操作(自動)でチエツクを行うことが
できる。
このプログラム選択は、演算制御手段4.01のキーボ
ード(図示せず)等の入力装置から指示することができ
る。
ード(図示せず)等の入力装置から指示することができ
る。
即ち、電磁弁624を開いて定量ポンプ65↓によりN
a2S、03溶液をサンプルループ661に採取し、そ
れを希釈槽670内で希釈した後に、チオ尿素濃度測定
と同様の方法で、紫外吸光光度計203による吸光度の
測定を行う。
a2S、03溶液をサンプルループ661に採取し、そ
れを希釈槽670内で希釈した後に、チオ尿素濃度測定
と同様の方法で、紫外吸光光度計203による吸光度の
測定を行う。
もし、陰イオン交換器202のイオン交換能が正常であ
れば、チオ硫酸イオンはす人て陰イオン交換膜上に捕捉
され、代りに塩素イオンが溶出するため、紫外吸光度は
ゼロとなる。しがし、陰イオン交換能が低下した場合、
チオ硫酸イオンの一部または全部がそのまま紫外吸収検
出器203に送られるため、何らかの吸光度を示し、容
易に異常を発見することができる。
れば、チオ硫酸イオンはす人て陰イオン交換膜上に捕捉
され、代りに塩素イオンが溶出するため、紫外吸光度は
ゼロとなる。しがし、陰イオン交換能が低下した場合、
チオ硫酸イオンの一部または全部がそのまま紫外吸収検
出器203に送られるため、何らかの吸光度を示し、容
易に異常を発見することができる。
以下、これまで述べた実施例の作用について説明する。
亜硫酸イオンやチオ硫酸イオン等の還元性イオンと、亜
硫酸イオンやチオ硫酸イオンを配位子とする全錯体とを
含むめっき液を、塩素イオンを吸着した陰イオン交換膜
に通すと、陰イオン交換物質に対する親和性の大きい亜
硫酸イオンやチオ硫酸イオンが陰イオン交換物質に捕捉
され、代りに等当量の塩素イオンが溶出される。
硫酸イオンやチオ硫酸イオンを配位子とする全錯体とを
含むめっき液を、塩素イオンを吸着した陰イオン交換膜
に通すと、陰イオン交換物質に対する親和性の大きい亜
硫酸イオンやチオ硫酸イオンが陰イオン交換物質に捕捉
され、代りに等当量の塩素イオンが溶出される。
こうして、めっき液中に含まれる還元性イオンを、めっ
き液中に含まれる還元剤の定量分析の測定妨害をしない
陰イオンに交換する。
き液中に含まれる還元剤の定量分析の測定妨害をしない
陰イオンに交換する。
しかし、チオ尿素は、非イオン性のために陰イ1
オン交換膜には捕捉されず、そのまま陰イオン交換器か
ら流出する。チオ尿素の濃度は、塩素イオンが紫外吸収
を示さないために、陰イオン交換器の後に設けた紫外吸
収検出器で、正確に測定することができる。
ら流出する。チオ尿素の濃度は、塩素イオンが紫外吸収
を示さないために、陰イオン交換器の後に設けた紫外吸
収検出器で、正確に測定することができる。
もし、還元剤が、例えばホルムアルデヒドのように紫外
吸収を示さない物質の場合には、紫外吸収検出器ではな
く、電気化学的定量装置、例えば電位差滴定装置を設け
ると、ホルムアルデヒドの酸化に要する酸化剤量から濃
度を算出することができる。この時にも、塩素イオンは
測定の妨害を行なわない。電気化学的定量装置としては
、クーロメトり装置やポルタンメトリ装置等も使用でき
る。
吸収を示さない物質の場合には、紫外吸収検出器ではな
く、電気化学的定量装置、例えば電位差滴定装置を設け
ると、ホルムアルデヒドの酸化に要する酸化剤量から濃
度を算出することができる。この時にも、塩素イオンは
測定の妨害を行なわない。電気化学的定量装置としては
、クーロメトり装置やポルタンメトリ装置等も使用でき
る。
金成分の定量分析を行なうためには、原子吸光法ではな
くプラズマ発光分光分析等の分析装置を用いてもよい。
くプラズマ発光分光分析等の分析装置を用いてもよい。
但し、−殻内にプラズマ発光分光分析は原子吸光法に比
べ、測定装置が大型化してしまう。
べ、測定装置が大型化してしまう。
特に、実施例−3の濃度管理装置では、原子吸2
光光度計の標準液として、金属成分のみでなく、金属成
分と還元剤成分を混合した標準液を用いて、原子吸光法
で生じがちな測定値の変動を防11―する。
分と還元剤成分を混合した標準液を用いて、原子吸光法
で生じがちな測定値の変動を防11―する。
さらに、金属成分と還元剤成分を測定直前に混合するこ
とにより、液分解を起こしていない標準液を作り、精度
の良い測定を行なうことができる。
とにより、液分解を起こしていない標準液を作り、精度
の良い測定を行なうことができる。
p I−Iの測定は、1日1−回行なオ)れるが、複数
回行なわれてもよい。
回行なわれてもよい。
本実施例では、測定装置による測定および較正をシーケ
ンサを用いて制御して、自動化を行なっているが、シー
ケンサを用いることなく、演算制御手段を使用して、測
定装置による測定および較正の制御を行なってもよい。
ンサを用いて制御して、自動化を行なっているが、シー
ケンサを用いることなく、演算制御手段を使用して、測
定装置による測定および較正の制御を行なってもよい。
演算制御手段は、測定装置から送られる測定値と較正値
とを取り込み、上述した(1)式に従い、濃度計算を行
なう。求められためっき液の濃度と設定濃度との差から
、めっきの進行に伴う、成分の消費量を求めて補充量を
算出する。そして、消耗成分量の情報に従い、補充液槽
から消費量分を逐次補給することにより、めっき液の成
分濃度を常に一定範囲内に管理する。この結果、めっき
速度を一定に保つことができる。
とを取り込み、上述した(1)式に従い、濃度計算を行
なう。求められためっき液の濃度と設定濃度との差から
、めっきの進行に伴う、成分の消費量を求めて補充量を
算出する。そして、消耗成分量の情報に従い、補充液槽
から消費量分を逐次補給することにより、めっき液の成
分濃度を常に一定範囲内に管理する。この結果、めっき
速度を一定に保つことができる。
さらに、演算制御手段は、較正値の異常検定およびめっ
き液の成分濃度の測定値の異常検定を行ない、較正値お
よび測定値によっては、再測定や装置のチエツクを直ち
に行う。こうして、測定値の信頼4生を向]ニさせる。
き液の成分濃度の測定値の異常検定を行ない、較正値お
よび測定値によっては、再測定や装置のチエツクを直ち
に行う。こうして、測定値の信頼4生を向]ニさせる。
実施例−3の濃度管理装置を用いて、1時間毎にpHお
よび金、チオ尿素の濃度を測定し、pH調整液、金およ
びチオ尿素補充液の補充を行いつつ、ldm2/Qの負
荷で約20時間のめっきを行った。
よび金、チオ尿素の濃度を測定し、pH調整液、金およ
びチオ尿素補充液の補充を行いつつ、ldm2/Qの負
荷で約20時間のめっきを行った。
この時、pHは9〜9.1、全濃度は設定濃度±5%、
チオ尿素濃度は設定濃度±3%の範囲内に自動制御でき
たために、めっき速度を1.0〜0.85μm/時間の
範囲に調整することができた。
チオ尿素濃度は設定濃度±3%の範囲内に自動制御でき
たために、めっき速度を1.0〜0.85μm/時間の
範囲に調整することができた。
はぼ同様な結果を、実施例−2の濃度管理装置でも得た
。
。
以上のように、本発明の濃度管理装置は、めっき進行中
、めっき速度を一定に保つので、ムラのない均一なめっ
きを行なうことができる。即ち、本実施例の濃度管理装
置は、優れためっき装置として使用することができる。
、めっき速度を一定に保つので、ムラのない均一なめっ
きを行なうことができる。即ち、本実施例の濃度管理装
置は、優れためっき装置として使用することができる。
さらに、本発明の濃度管理装置は、非シアン系無電解め
っき液以外の各種めっき液でも、補充液と標準液とを、
用いるめっき液成分によって適宜変更することにより、
めっき液成分の濃度を管理することができる。また、同
様に、非シアン系無電解めっき装置にも適用することも
できる。
っき液以外の各種めっき液でも、補充液と標準液とを、
用いるめっき液成分によって適宜変更することにより、
めっき液成分の濃度を管理することができる。また、同
様に、非シアン系無電解めっき装置にも適用することも
できる。
実施例−2,3の濃度管理装置は、金成分の濃度分析に
原子吸光光度計を使用しているが、測定する金属成分に
合った分析装置を選択した金属成分濃度測定手段を設け
ることができる。同様に、還元剤成分の濃度分析に紫外
吸収検出器を使用しているが、還元剤以外の非金属成分
濃度を測定できるような非金属成分測定手段を設けるこ
とができる。
原子吸光光度計を使用しているが、測定する金属成分に
合った分析装置を選択した金属成分濃度測定手段を設け
ることができる。同様に、還元剤成分の濃度分析に紫外
吸収検出器を使用しているが、還元剤以外の非金属成分
濃度を測定できるような非金属成分測定手段を設けるこ
とができる。
上記のような金属成分測定手段および非金属成分測定手
段を備えた濃度管理装置の演算制御手段は、実施例−2
,3て述べたような演算制御手段55− を使用することができる。
段を備えた濃度管理装置の演算制御手段は、実施例−2
,3て述べたような演算制御手段55− を使用することができる。
例えば、金属成分測定手段としてポーラログラフを、例
えば、非金属成分測定手段として液体クロマトグラフを
備えた濃度管理装置は、めっき槽ではなく、例えば、工
場排水等の廃液槽に連結することにより、金属成分測定
手段が、例えばカドミウムの濃度を、非金属成分測定手
段が、例えばケ1−ン等の有機物の濃度を測定して、工
場排水の水質管理ができる。この時、工場排水に含まれ
る金属成分や非金属成分に従って、用いる標準液および
補充液は適宜変更される。
えば、非金属成分測定手段として液体クロマトグラフを
備えた濃度管理装置は、めっき槽ではなく、例えば、工
場排水等の廃液槽に連結することにより、金属成分測定
手段が、例えばカドミウムの濃度を、非金属成分測定手
段が、例えばケ1−ン等の有機物の濃度を測定して、工
場排水の水質管理ができる。この時、工場排水に含まれ
る金属成分や非金属成分に従って、用いる標準液および
補充液は適宜変更される。
さらに、本発明の濃度測定方法は、例えば、河川等の水
質検査などにも使用できる。
質検査などにも使用できる。
(以下余白)
6
[発明の効果]
以」二詳細に説明したごとく、本発明のめっき液の成分
濃度の測定方法によれば、めっき液中に共存する陰イオ
ンを還元剤の測定に妨害を示さない他の陰イオン種に変
換して還元剤の濃度を測定することができるので、めっ
き液中の還元剤の濃度の高精度測定ができる。
濃度の測定方法によれば、めっき液中に共存する陰イオ
ンを還元剤の測定に妨害を示さない他の陰イオン種に変
換して還元剤の濃度を測定することができるので、めっ
き液中の還元剤の濃度の高精度測定ができる。
さらに、」1記方法を用いた装置に、めっき液の消費量
を演算し、補給する機能を備えると、めっき液の成分濃
度を、常に一定範囲内に調整することができ、めっき液
の自動管理を達成することができる。
を演算し、補給する機能を備えると、めっき液の成分濃
度を、常に一定範囲内に調整することができ、めっき液
の自動管理を達成することができる。
また、金属成分濃度測定部と非金属或づす濃度測定部と
演算制御部とを有する本発明の濃度管理装置は、溶液中
の金属成分の濃度と非金属成分の濃度を測定できる。各
測定値が前もって決められている管理範囲をはずれてい
るときには、演算制御部が働き、補充液槽に蓄えられた
補充液が添加されることにより、溶液の各成分濃度を管
理範囲に納めることができる。
演算制御部とを有する本発明の濃度管理装置は、溶液中
の金属成分の濃度と非金属成分の濃度を測定できる。各
測定値が前もって決められている管理範囲をはずれてい
るときには、演算制御部が働き、補充液槽に蓄えられた
補充液が添加されることにより、溶液の各成分濃度を管
理範囲に納めることができる。
第1図は本発明の濃度測定方法に用いられる濃度測定装
置の一実施例の構成を示す系統図、第2図はチオ尿素、
尿素およびKCRの紫外吸収スペクトル図、第3図は本
発明の濃度調整に用いられる濃度調整装置の一実施例の
構成を示す系統図、第4図は本発明を適用してめっき液
の調整を行なうめっき装置の一実施例を示す系統図、第
5図は第4図に示した実施例に用いられる演算制御手段
の動作を示すフローチャート、第6図は補充液を加えず
に非シアン系めっき液を用いてめっきを行なった場合の
成分の経時変化を示すグラフ、第7図はめっきの進行と
共に補充液を加えて非シアン系めっき液を用いてめっき
を行なった場合の成分の経時変化とめっき速度の経時変
化を示すグラフである。 11・・全標準液槽、]2・チオ尿素標増液セ(V、1
3・・・めっき槽、14 金補補充槽、]5・・・チオ
尿素補充液槽、35・・・原子吸光光度計、6】−0金
属酸分標準液槽、6]−1・・還元剤標準液槽、612
・−pH緩衝液槽、613− Na2S2O3溶液槽
、614・・金属成分補充液槽、6↓5・・還元剤補充
液槽、6]−6・・pH調整液補充液槽、618・還元
剤添加液槽、619・・・再生液槽、10↓オー1〜サ
ンプラー、102・・原子吸光光度計、201・・陰イ
オン交換膜チューブ、202・・・陰イオン交換器、2
03・紫外吸収検出器、301フローセル、302・・
pH電極、303 ・pHメータ、401・・・演算制
御手段。
置の一実施例の構成を示す系統図、第2図はチオ尿素、
尿素およびKCRの紫外吸収スペクトル図、第3図は本
発明の濃度調整に用いられる濃度調整装置の一実施例の
構成を示す系統図、第4図は本発明を適用してめっき液
の調整を行なうめっき装置の一実施例を示す系統図、第
5図は第4図に示した実施例に用いられる演算制御手段
の動作を示すフローチャート、第6図は補充液を加えず
に非シアン系めっき液を用いてめっきを行なった場合の
成分の経時変化を示すグラフ、第7図はめっきの進行と
共に補充液を加えて非シアン系めっき液を用いてめっき
を行なった場合の成分の経時変化とめっき速度の経時変
化を示すグラフである。 11・・全標準液槽、]2・チオ尿素標増液セ(V、1
3・・・めっき槽、14 金補補充槽、]5・・・チオ
尿素補充液槽、35・・・原子吸光光度計、6】−0金
属酸分標準液槽、6]−1・・還元剤標準液槽、612
・−pH緩衝液槽、613− Na2S2O3溶液槽
、614・・金属成分補充液槽、6↓5・・還元剤補充
液槽、6]−6・・pH調整液補充液槽、618・還元
剤添加液槽、619・・・再生液槽、10↓オー1〜サ
ンプラー、102・・原子吸光光度計、201・・陰イ
オン交換膜チューブ、202・・・陰イオン交換器、2
03・紫外吸収検出器、301フローセル、302・・
pH電極、303 ・pHメータ、401・・・演算制
御手段。
Claims (12)
- 1.金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液の
成分濃度の測定方法であって、 前記陰イオンを、前記還元剤の濃度測定に妨害を与えな
い他の陰イオン種に置換した後、前記還元剤濃度を測定
することを特徴とするめっき液の成分濃度測定法。 - 2.金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液の
成分濃度の測定方法であって、 前記陰イオンを、前記還元剤の濃度測定に妨害を与えな
い他の陰イオン種に置換した後、前記還元剤濃度を測定
し、 さらに、原子吸光法またはプラズマ発光分析法によって
、前記金属成分の濃度を測定することを特徴とするめっ
き液の成分濃度測定方法。 - 3.前記還元剤濃度を、紫外吸収検出法または電気化学
的定量法で測定することを特徴とする請求項1または2
記載のめっき液の成分濃度測定方法。 - 4.金属成分と、還元性イオンと、非イオン性還元剤と
を含むめっき液の成分濃度測定方法であって、 前記還元性イオンを非還元性イオンに置換した後、前記
非イオン性還元剤の濃度測定および前記金属成分の濃度
測定を行なうことを特徴とするめっき液の成分濃度測定
方法。 - 5.めっき液中の金属成分濃度の測定およびこの測定に
用いる金属成分濃度測定手段の較正と、めっき液中の還
元剤濃度の測定およびこの測定に用いる還元剤濃度測定
手段の較正と、めっき液中の陰イオンを前記還元剤の濃
度測定に妨害を与えない他の陰イオン種に置換する操作
とを、予め設定したシーケンスプログラムに従って、シ
ーケンス制御で行ない、 さらに、前記測定によって求められた測定値と前記較正
によって求められた較正値とから、めっき液中の金属成
分濃度と還元剤濃度を演算によって求めることを特徴と
するめっき液の成分濃度測定方法。 - 6.金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液の
濃度調整方法であって、 めっき液中の陰イオンを前記還元剤の濃度測定に妨害を
与えない他の陰イオン種に置換した後、 前記金属成分を測定する金属成分濃度測定手段の較正お
よび前記還元剤成分を測定する還元剤濃度測定手段の較
正と、前記金属成分濃度測定手段による金属成分濃度の
測定および前記還元剤濃度測定手段による還元剤濃度の
測定とから求められた較正値および測定値により、金属
成分および還元剤成分の消費量を演算によって求め、 さらに、前記消費量に相当する還元剤および金属成分を
含む補充液をめっき液に補充することを特徴とするめっ
き液の濃度調整方法。 - 7.金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液の
成分濃度の調整装置であって、 前記陰イオンを、還元剤の濃度測定を妨害しない陰イオ
ン種に置換するイオン交換手段と、前記陰イオン種を含
む溶液を用いて前記イオン交換手段を再生する再生手段
と、 前記還元剤濃度を測定するための還元剤濃度測定手段と
、 前記金属成分濃度を測定する金属成分濃度測定手段と、 前記還元剤濃度測定手段および前記金属成分濃度測定手
段の較正と、還元剤濃度測定手段および前記金属成分濃
度測定手段によるめっき液成分の測定とを制御するシー
ケンス制御手段と、さらに、前記測定によって求められ
た測定値と前記較正によって求められた較正値とから、
めっき液中の金属成分濃度と還元剤濃度を演算する演算
制御手段とを有することを特徴とするめっき液の成分濃
度測定装置。 - 8.金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液の
成分濃度の調整装置であって、 前記陰イオンを、還元剤の濃度測定を妨害しない陰イオ
ン種に置換するイオン交換手段と、前記陰イオン種を含
む溶液を用いて前記イオン交換手段を再生する再生手段
と、 前記還元剤濃度を測定するための還元剤濃度測定手段と
、 前記金属成分濃度を測定する金属成分濃度測定手段と、 前記還元剤濃度測定手段および前記金属成分濃度測定手
段の動作を制御するシーケンス制御手段と、 前記還元剤濃度および前記金属成分濃度の測定値と、そ
れぞれの設定濃度との差から還元剤および金属成分の消
費量を算出する算出手段、および、前記消費量に相当す
る還元剤および金属成分を含む補充液を、めっき槽へ供
給する供給手段を備えた演算制御手段とを有することを
特徴とするめっき液の成分濃度調整装置。 - 9.金属成分、陰イオンおよび還元剤を含むめっき液を
用いてめっきを行なうめっき装置であって、 前記めっき装置は、めっき槽とめっき液濃度測定手段、
めっき液補充手段、シーケンス制御手段および演算制御
手段を含み、 前記めっき液濃度測定手段は、前記陰イオンを還元剤の
濃度測定を妨害しない他の陰イオン種に置換するイオン
交換手段と、前記還元剤濃度を測定する還元剤濃度測定
手段と、前記金属成分濃度を測定する金属濃度測定手段
とを備え、前記シーケンス制御手段は、前記めっき液濃
度測定手段の動作を制御し、 前記演算制御手段は、前記還元剤濃度および金属成分濃
度の測定値と、それぞれの設定濃度との差から還元剤お
よび金属成分の消費量を算出する算出手段と、前記消費
量に相当する還元剤および金属成分を含む補充液を、前
記めっき液補充部からめっき槽へ供給する供給手段とを
備えたことを特徴とするめっき装置。 - 10.溶液中に含まれる金属成分の濃度を測定する金属
成分濃度測定手段と、非金属成分濃度を測定する非金属
成分濃度測定手段とを備え、 さらに、前記金属成分濃度測定手段および前記非金属成
分濃度測定手段の動作を制御する制御機能と、前記金属
成分の濃度および前記非金属成分の濃度の測定値と、そ
れぞれの設定濃度との差から金属成分と非金属成分の消
費量に相当する、金属成分を含む補充液と非金属成分を
含む補充液を供給する供給機能とを備えたことを特徴と
する濃度管理装置。 - 11.上記金属成分濃度測定手段は、原子吸光光度計ま
たはプラズマ発光分光光度計であることを特徴とする請
求項10記載の濃度管理装置。 - 12.上記非金属濃度測定手段は、陰イオン交換器、お
よび、紫外吸収検出器または電気化学的定量装置を有す
ることを特徴とする請求項10または11記載の濃度管
理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/649,697 US5106413A (en) | 1990-02-01 | 1991-02-01 | Measurement method, adjustment method and adjustment system for the concentrations of ingredients in electroless plating solution |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1-100007 | 1989-04-21 | ||
JP10000789 | 1989-04-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0364483A true JPH0364483A (ja) | 1991-03-19 |
JP2742128B2 JP2742128B2 (ja) | 1998-04-22 |
Family
ID=14262507
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1323213A Pending JPH0364482A (ja) | 1989-04-21 | 1989-12-13 | めっき液の濃度測定方法と濃度調整方法および濃度調整装置 |
JP2023467A Expired - Lifetime JP2742128B2 (ja) | 1989-04-21 | 1990-02-01 | めっき液の濃度調整方法およびめっき方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1323213A Pending JPH0364482A (ja) | 1989-04-21 | 1989-12-13 | めっき液の濃度測定方法と濃度調整方法および濃度調整装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPH0364482A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06316769A (ja) * | 1993-01-26 | 1994-11-15 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 化学浴から金属イオンおよび混入物の間欠的除去装置および方法 |
US6224899B1 (en) | 1997-03-18 | 2001-05-01 | Kobayashi Pharmaceutical Co., Ltd. | Adhesive cooling composition and process for its preparation |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5723339A (en) * | 1996-04-15 | 1998-03-03 | International Business Machines Corporation | Method of analyzing gold electroplating solutions for arsenic(III) |
CA2798710C (en) | 2010-05-11 | 2019-08-27 | Venkat R. Garigapati | Organophosphorous, multivalent metal compounds, & polymer adhesive interpenetrating network compositions & methods |
JP6863170B2 (ja) * | 2016-12-21 | 2021-04-21 | 住友金属鉱山株式会社 | 無電解めっき液のめっき処理時間の測定方法、無電解めっき液を評価するための試料を作製する試料作製方法、および無電解めっき液の評価方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6361620A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-17 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | 作業車両のラムロツク制御装置 |
-
1989
- 1989-12-13 JP JP1323213A patent/JPH0364482A/ja active Pending
-
1990
- 1990-02-01 JP JP2023467A patent/JP2742128B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06316769A (ja) * | 1993-01-26 | 1994-11-15 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 化学浴から金属イオンおよび混入物の間欠的除去装置および方法 |
US6224899B1 (en) | 1997-03-18 | 2001-05-01 | Kobayashi Pharmaceutical Co., Ltd. | Adhesive cooling composition and process for its preparation |
US6228376B1 (en) | 1997-03-18 | 2001-05-08 | Kobayashi Pharmaceutical Co., Ltd. | Adhesive cooling composition and process for its preparation |
US6524612B2 (en) | 1997-03-18 | 2003-02-25 | Kobayashi Pharmaceutical Co., Ltd. | Adhesive cooling composition and process for its preparation |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2742128B2 (ja) | 1998-04-22 |
JPH0364482A (ja) | 1991-03-19 |
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